JP2003110381A - 半導体装置 - Google Patents
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Abstract
る。 【解決手段】 半導体チップ上に3つ以上のMESFE
T2を並べて形成し、そのMESFET2が並んでいる
領域と同程度の幅の伝送線路1をMESFET2の列と
並べて形成して、MESFET2と伝送線路1が、伝送
線路1の一端を構成する辺上で接続されるようにする。
さらに調整回路3を伝送線路1に並列接続して、伝送線
路1と調整回路3とにより整合をとりながら出力を合成
する。
Description
IC(Microwave Monolithic Integrated Circuit)な
ど、高周波信号向けの電力増幅器に関する。詳しくは、
半導体チップ上に形成される電力合成回路に関する。
出力化が進んでいる。20〜40GHzの帯域で動作す
るMMICの中には、出力レベルが1Wを超えるものも
ある。このような高出力高周波電力増幅器では、並列接
続される能動素子の数は、最終出力段で4個以上とな
る。図9は、従来の電力増幅器の出力合成部分を示す図
であり、4つの能動素子2を伝送線路により接続して、
出力を合成している。この図に示すように、能動素子の
出力を合成する手法としては、能動素子を伝送線路によ
りトーナメント方式で接続するタイプが主流である。
の通信機器などに用いられるMMICの場合、チップサ
イズを小さくして、コストを抑えることは重要である。
しかし、図9に示すようなトーナメント方式の接続で
は、回路を小型化することは難しい。また、図9では図
示を省略したが、実際の回路では各能動素子2にバイア
スを印加する必要がある。通常、バイアス回路は、信号
周波数をλとするとλ/4の長さのショートスタブとす
ることが知られている。このため、バイアスを1つの外
部端子から印加できるように配線を共通化しようとする
と、回路面積が増加する上に、配線が複雑になる。特
に、多段増幅器の段間回路の場合には、前段の電力合
成、バイアスの共通化回路のほかに、次段への入力分配
回路も必要となる。このため、回路はさらに複雑にな
り、回路面積も大きくならざるを得なかった。
に、小型で、かつ回路構成がシンプルな電力増幅器を提
供する。
能動素子により電力を増幅する3以上の増幅回路と、そ
の増幅回路の出力を合成する合成回路とを備えた半導体
装置であって、合成回路は、一体の分布定数線路と、そ
の分布定数線路に並列に接続された複数の調整回路とか
らなり、各増幅回路は、分布定数線路の一端を構成する
辺上で分布定数線路に接続されていることを特徴とす
る。
されることが好ましい。調整回路はショートスタブとす
ることが好ましい。能動素子がMESFET(MEtal-Se
miconductor Field Effect Transistor)やHEMT(H
igh Electron Mobility Transistor)である場合には、
MESFETやHEMTのゲート幅は、そのMESFE
TやHEMTが分布定数線路に接続されている辺上の接
続点から、分布定数線路の側辺までの距離に基づいて決
定された幅とすることが好ましい。
路と増幅回路からなる電力増幅器を複数組み合わせたも
のであってもよい。例えば2つの電力増幅器を並列接続
する構成や直列接続する構成、あるいは3つ以上の電力
増幅器を直列・並列に接続する構成などが考えられる。
一実施の形態における半導体装置の回路構成を示す図で
ある。この回路は、複数の並列に配置されたMESFE
T2と、そのMESFET2が配置されている領域の幅
と同程度の幅を有する一体の幅広い伝送線路1と(但
し、図の縦方向が幅、横方向が長さである)、その伝送
線路に並列接続された調整回路3とにより構成されてい
る。MESFET2と伝送線路1は、図に示すように、
伝送線路の一端を構成する辺上で接続されている。一般
に、100μm厚のガリウム砒素(GaAs)基板上に
形成される50Ωの標準的な伝送線路の幅は約70μm
であるが、伝送線路1の幅は、数百μm〜千数百μmで
ある。例えば標準的なサイズのMESFET2を4個並
べて配置した場合、伝送線路1の幅は約800μmとな
る。
として機能し、伝送線路1と調整回路3とが合成回路と
して機能する。増幅回路は、MESFET2とそれに直
列に接続する周辺回路により構成してもよいが、回路面
積の縮小という点からはMESFET2のみとすること
が好ましい。伝送線路1は、その一端において各MES
FET2と接続されることによってMESFET2の出
力を合成するとともに、自らの持つインピーダンスと調
整回路3のインピーダンスとによって、MESFETの
出力の整合をとる役割を果たす。
てのMESFETは出力側において同じ幅の伝送線路に
同じように接続されており、これにより、全MESFE
Tから均一に電力を引き出していた。しかし、図1に示
す構成では、MESFETの出力側の接続状態は、ME
SFETごとに異なる。特に伝送線路1の側辺付近に接
続されたMESFET2と、伝送線路1の中央部付近に
接続されたMESFET2とでは、接続状態は同じとは
いえない。一般に、電子回路においてこのような不均一
を緩和するためには、並列回路を設ければよいことが経
験的に知られている。調整回路3は、このような理由に
より設けられた回路であり、したがって、調整回路3の
詳細な構成は、シミュレーションを行うなどして、各M
ESFETの出力を十分に引き出せるような容量、イン
ダクタ、抵抗を決定すればよい。
上記不均一を緩和するための回路であると同時に、バイ
アス回路としての役割も兼ね備えているため、GND接
地されている。しかし、これは調整回路3が接地されて
いなければならないことを意味するものではなく、調整
回路3が例えばオープンスタブの場合も考えられる。但
し、調整回路3をバイアス回路兼用とすることにより、
回路を構成する要素数を減らすことができるため、回路
面積の縮減という点からは図1のような構成とすること
が好ましい。また、本実施の形態では、能動素子をME
SFETとしているが、HEMTなどでもよい。
2が幅の広い伝送線路1の一端に並列に接続されており
構造がシンプルである。また、従来のように複数の分布
定数線路を組み合わせるのではなく、一体の伝送線路に
より合成を行っているので、回路面積が小さい。また、
MESFETの出力側は伝送線路1によって直接つなが
るため、これが共通配線となり、複雑なバイアス回路を
備える必要もなくなる。合成回路をこのような構造とす
ることにより、全体の回路面積を抑えることができ、小
型の半導体チップを提供することが可能となる。
体の周波数特性の変更が容易であるという利点を有す
る。上記回路構成では、回路全体の周波数特性(中心周
波数)は伝送線路1の特性インピーダンスに強く依存す
る。伝送線路1の特性インピーダンスは、その伝送線路
がパターニングされている誘電体基板の厚みを変更する
ことにより容易に変更できる。基板の厚みの変更は表面
パターンの変更を伴わないので、マスクパターンの変更
は不要である。チップサイズやパッド位置などを変更す
る必要もないのでチップを実装する周辺基板に加える変
更も最小限でよい。
器の最終的な出力を合成する回路であったが、本発明は
多段増幅器の段間の回路にも適用できることはいうまで
もない。図2に示す実施の形態は、2段の多段増幅器の
例であり、1段目は、複数のMESFET2と伝送線路
1と調整回路3とにより構成され、2段目は安定化回路
等4とMESFET2と、伝送線路1と調整回路3とに
より構成されている。多段増幅器の場合、段間には安定
化回路やゲートバイアス印加用回路などが必要となる。
2段目の回路構成では、安定化回路等4とMESFET
2とをあわせた回路が、本発明の増幅回路に相当する。
ESFET2の出力側からみた伝送線路1の反射係数の
違いに着目して、その反射係数の違いから生じる各ME
SFETの出力の不均一を緩和するように調整回路の構
成を定めた例である。
送線路5(スタブ)を、キャパシタおよび抵抗6を介し
て接地してショートスタブ7とする。図中のSii(i=
1〜n)は、MESFET2からみた伝送線路1の反射
係数を表し、伝送線路1の側辺付近と中央部では異な
る。このため、ショートスタブ7が無い状態では、各M
ESFETから引き出される電力は不均一になる。
り、この不均一が緩和されることを示すグラフである。
図4は、図3に示した回路でMESFET数を4とした
場合を示している。各MESFETとの接続ポートに着
目した場合、伝送線路1の側辺付近のPORT1におけ
る反射係数S11と、中央部のPORT2の反射係数S
22とは異なる。図5は、図4の回路のPORT1とP
ORT2における反射波の振幅および位相の差を、周波
数を横軸として表したグラフである。実線が振幅の差、
破線が位相の差を示しており、太線がショートスタブを
設けた場合、細線が設けない場合である。グラフに示さ
れているように、ショートスタブ7の付加によって、振
幅の差は約半分に、また位相の差は、ほぼゼロになる。
すなわち、ショートスタブ7によって、出力の不均一が
緩和され、各MESFETから均一に電力を引き出すこ
とが可能となる。
施の形態3と回路構成は同じであるが、各MESFET
のゲート幅が異なる回路である。図6に示すように、伝
送線路1の側辺付近に接続されたMESFETのゲート
幅Wg1と、中央部に接続されたMESFETのゲート
幅Wg2を異ならせて、MESFETの出力波形の位相
を意図的にずらし、MESFET2の、PORT1とP
ORT2における出力の不均一を緩和する。これによ
り、実施の形態3と同様、各MESFETから均一に電
力を引き出すことが可能となる。
形態1から4において説明した電力増幅器を複数組み合
わせた構成を示す図である。前述のように、基本となる
回路の構造がシンプルかつ面積が小さいため、その組み
合わせは、従来に比べて容易である。
並列接続すれば、高出力な電力増幅機能を備え、かつ小
型の半導体装置を実現することができる。また、図8に
示すように電力増幅機を直列接続すれば、より高利得な
電力増幅機能を備え、かつ小型の半導体装置を実現する
ことができる。
の出力を、一体の分布定数線路と複数の調整回路とによ
り整合をとりながら合成するため、能動素子の数が3個
以上の場合でも回路面積を小さく抑えることができ、バ
イアス配線を共通化する必要もないため配線もシンプル
なものとなる。
器の調整回路をショートスタブとしたり、トランジスタ
のゲート幅を調整したりすることによって、すべての能
動素子から均一かつ十分な電力を引き出し、高出力、高
利得な電力増幅機能を提供する。
いことから、この電力増幅器を複数組み合わせることが
容易である。本発明の半導体装置は、複数の電力増幅器
を並列に、または直列に、あるいは3つ以上の電力増幅
器を直列、並列に接続することにより高出力、高利得な
電力増幅機能を提供する。
回路構成を表す図。
を表す図。
を表す図。
を表す図。
を表す図。
(並列接続)を表す図。
(直列接続)を表す図。
(能動素子)、 3調整回路、 4 安定化回路な
ど、 5 伝送線路、 6 キャパシタ・抵抗な
ど、 7ショートスタブ、 8 カプラ。
Claims (6)
- 【請求項1】 能動素子により電力を増幅する3以上の
増幅回路と、該増幅回路の出力を合成する合成回路とを
備えた半導体装置であって、 前記合成回路は、一体の分布定数線路と、該分布定数線
路に並列に接続された複数の調整回路とからなり、 前記各増幅回路は、前記分布定数線路の一端を構成する
辺上で該分布定数線路に接続されていることを特徴とす
る半導体装置。 - 【請求項2】 前記各増幅回路は前記能動素子のみによ
り構成されることを特徴とする請求項1記載の半導体装
置。 - 【請求項3】 前記調整回路はショートスタブであるこ
とを特徴とする請求項1または2記載の半導体装置。 - 【請求項4】 前記能動素子はMESFETまたはHE
MTであることを特徴とする請求項1から3のいずれか
に記載の半導体装置。 - 【請求項5】 前記MESFETまたはHEMTのゲー
ト幅は、該MESFETまたはHEMTが前記分布定数
線路に接続されている前記辺上の接続点から、該分布定
数線路の側辺までの距離に基づいて決定された幅である
ことを特徴とする請求項4記載の半導体装置。 - 【請求項6】 前記合成回路と前記増幅回路からなる電
力増幅器であって、直列および/または並列に接続され
た複数の電力増幅器を備えることを特徴とする請求項1
から5のいずれかに記載の半導体装置。
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