JP2003055337A - ポリマー化可能な基を有するスルホン酸型液晶材料、その製造方法、プロトン輸送材料および液晶状態による分子配列を利用したプロトン輸送方法 - Google Patents
ポリマー化可能な基を有するスルホン酸型液晶材料、その製造方法、プロトン輸送材料および液晶状態による分子配列を利用したプロトン輸送方法Info
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Abstract
規な材料を提供することを目的とする。 【解決手段】 本発明は、下記一般式(1) 【化1】 (式中、R1は水素原子、メチル基、Aはアルキレン
基、−C6H4−CH2−、−CO−O−(CH2)n
−又は−CO−、Bはアルキレン基を示す。)で表され
ることを特徴とするポリマー化可能な基を有するスルホ
ン酸型液晶材料、その製造方法、それを用いるプロトン
輸送材料及びプロトン輸送方法である。
Description
送能を有し、特に燃料電池の電解質膜の原料として有用
なポリマー化可能な基を有するスルホン酸型液晶材料、
その製造方法、それを用いたプロトン輸送材料および液
晶状態による分子配列を利用したプロトン輸送方法に関
するものである。
供給源として特に注目されている。この燃料電池は、例
えば一方の電極に水素等の燃料が供給され、他方の電極
には、酸素等の酸化剤が供給される。これにより、燃料
の酸化に伴う化学エネルギーを電気エネルギーに変換す
る。燃料電池の電解質は、水素イオンを通す一方、反応
ガス(水素及び酸素)を通さない機能を持つ。燃料電池
は、複数の単セルを有しており、その単セルの各々が、
電解質と電解質に隔てられた一対の電極を有する。燃料
電池の電解質としては、高分子電解質等の固体、リン酸
等の液体が用いられており、近年、燃料電池の電解質と
して、高分子電解質膜が好適に用いられている。
ルオロカーボンスルホン酸ポリマーが提案されている。
このポリマー中のスルホン酸基は、水素イオンを解離し
てアニオンとなることができることから、優れたプロト
ン導電性を示す。また、ポリベンズイミダドールのアル
キルリン酸(特開平9−110982号公報)、ポリサ
イラミン(高分子、第44巻、623頁、1995年)
やポリベンゾイミダゾール等の塩基性ポリマーとリン
酸、硫酸等の強酸との複合体(米国特許5,525,4
36号公報)、ポリサイラミンと強酸との複合体(特開
平11−323137号公報)等が提案されている。
トン輸送は、例えば、ペルフルオロスルホン酸系プロト
ン膜を例にとると、膜中にSO3H基からなるかなり大
きなイオンチャンネル(クラスター径数ナノメートル)
を形成し、ここに取りこまれた水分子とチャンネル壁面
のSO3H基の間のH+ホッピングにより、イオン導電
性が得られる。この場合、SO3H基は、ランダムな位
置に存在することから、かなり不規則なH +ホッピング
が起こることが考えられる。
しては、イオンチャンネルがより微細で高密度に分布し
たものであること等の要望がある。これは、イオン導電
性を高める上で特に重要な課題となっている。従って、
本発明は、優れたプロトン輸送能を有する新規な液晶材
料、その製造方法、それを用いるプロトン輸送材料及び
優れたプロトン輸送能を発現させるためのプロトン輸送
方法を提供することを目的とする。
料として種々の機器で応用され、例えば、時計、電卓、
テレビ、パソコン、携帯電話等で利用されている。液晶
物質には、相転移を与える手段に基づいて、サーモトロ
ピック液晶(温度転移型液晶)とリオトロピック液晶
(濃度転移型液晶)に分類される。これらの液晶は分子
配列的に見ると、スメクチック液晶、ネマチック液晶お
よびコレスチック液晶の三種類に分類される。
る化合物は、そのスメクチック相の液晶状態において、
スメクチック相という分子の重なりが密な液晶状態で重
ねることができることは興味深く、先に、本発明者ら
は、このスメクチック相の分子配向に着目し、その特性
を利用した電荷の輸送方法(特願2000−16805
7号)を提案した。
の性質を利用した新規な機能性材料について鋭意研究を
進める中に、前記一般式(1)で表されるポリマー化可
能な基を有するスルホン酸型液晶材料が優れたプロトン
輸送能を有し、更に、このスルホン酸型液晶材料の中、
液晶相としてスメクチック相を有する液晶性化合物を用
いた場合において、スメクチック相の液晶状態で、スル
ホン酸基のイオン導電性部位を密な状態に重ねることが
でき、この分子配向を維持したままの状態で該スルホン
酸型液晶材料を用いることにより特に優れたプロトン輸
送能を有することを知見し本発明を完成するに至った。
(1)
基、−C6H4−CH 2−、−CO−O−(CH2)n
−又は−CO−、Bはアルキレン基を示す。)で表され
ることを特徴とするポリマー化可能な基を有するスルホ
ン酸型液晶材料を提供するものである。
(2)
基、−C6H4−CH 2−、−CO−O−(CH2)n
−又は−CO−、Xはハロゲン原子)で表されるハロゲ
ン化物と、下記一般式(3)
記一般式(4)
ール誘導体を得た後、次いで、得られた前記一般式
(4)で表されるフェノール誘導体と、下記一般式
(5)
ルカリ金属原子を示す。)で表されるハロゲン化スルホ
ン酸塩とを反応させて、下記一般式(6)
ポリマー化可能な基を有するスルホン酸塩を得、次いで
得られた前記一般式(6)で表されるポリマー化可能な
基を有するスルホン酸塩と酸とを反応させることを特徴
とする下記一般式(1)
マー化可能な基を有するスルホン酸型液晶材料の製造方
法を提供するものである。
(1)で表されるポリマー化可能な基を有するスルホン
酸型液晶材料又はそれから誘導される化合物を含有する
ことを特徴とするプロトン輸送材料を提供するものであ
る。また、本発明の第4の発明は、前記一般式(1)で
表されるポリマー化可能な基を有するスルホン酸型液晶
材料又はそれらから誘導される化合物をスメクチック相
の液晶状態で用いることを特徴とする液晶状態による分
子配列を利用したプロトン輸送方法を提供するものであ
る。また、本発明の第5の発明は、前記一般式(1)で
表されるポリマー化可能な基を有するスルホン酸型液晶
材料又はそれらから誘導される化合物をスメクチック相
からの相転移で生じる固体状態で用いることを特徴とす
る液晶状態による分子配列を利用したプロトン輸送方法
を提供するものである。
表されるポリマー化可能な基を有するスルホン酸型液晶
材料(以下、化合物(1)という)の式中、R1は水素
原子又はメチル基であり、Aはアルキレン基、−C6H
4−CH2−、−CO−O−(CH2)n−又は−CO
−で表わされる基で、アルキレン基は直鎖状または分岐
状のどちらでもよい。このアルキレン基としては具体的
には炭素数1〜18のものが好ましく、例えばメチレン
基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、
ペンタメチレン基、エチルエチレン基、プロピレン基、
ブチレン基、ヘキシレン基、オクタデシレン基、ノニレ
ン基、デシレン基、ドデシレン基等が挙げられ、この
中、炭素数6〜10のアルキレン基が特に好ましい。ま
た、−CO−O−(CH2)n−のnは1〜18のもの
が特に好ましい。
キレン基を表し、直鎖状又は分岐状のどちらでもよい。
具体的には炭素数1〜18のものが好ましく、例えばメ
チレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレ
ン基、ペンタメチレン基、エチルエチレン基、プロピレ
ン基、ブチレン基、ヘキシレン基、オクタデシレン基、
ノニレン基、デシレン基、ドデシレン基等が挙げられ、
この中、炭素数3〜10のアルキレン基が特に好まし
い。A及びBは同じアルキレン基であってもよいし、異
なるアルキレン基であってもよい。
3−[6−(6−ヘプテニルオキシ)ビフェニルオキシ]
プロピルスルホン酸、4−[6−(6−ヘプテニルオキ
シ)ビフェニルオキシ]ブチルスルホン酸、5−[6−
(6−ヘプテニルオキシ)ビフェニルオキシ]ペンチル
スルホン酸、6−[6−(6−ヘプテニルオキシ)ビフ
ェニルオキシ]ヘキシルスルホン酸、7−[6−(6−ヘ
プテニルオキシ)ビフェニルオキシ]ヘプチルスルホン
酸8−[6−(6−ヘプテニルオキシ)ビフェニルオキ
シ]オクチルスルホン酸9−[6−(6−ヘプテニルオキ
シ)ビフェニルオキシ]ノニルスルホン酸、10−[6−
(6−ヘプテニルオキシ)ビフェニルオキシ]デシルス
ルホン酸、3−[6−(7−オクテニルオキシ)ビフェ
ニルオキシ]プロピルスルホン酸、4−[6−(7−オク
テニルオキシ)ビフェニルオキシ]ブチルスルホン酸、
5−[6−(7−オクテニルオキシ)ビフェニルオキシ]
ヘプチルスルホン酸、6−[6−(7−オクテニルオキ
シ)ビフェニルオキシ]ヘキシルスルホン酸、7−[6−
(7−オクテニルオキシ)ビフェニルオキシ]ヘプチル
スルホン酸8−[6−(7−オクテニルオキシ)ビフェ
ニルオキシ]オクチルスルホン酸9−[6−(7−オクテ
ニルオキシ)ビフェニルオキシ]ノニルスルホン酸、1
0−[6−(7−オクテニルオキシ)ビフェニルオキシ]
デシルスルホン酸、3−[6−(8−ノネニルオキシ)
ビフェニルオキシ]プロピルスルホン酸、4−[6−(8
−ノネニルオキシ)ビフェニルオキシ]ブチルスルホン
酸、5−[6−(8−ノネニルオキシ)ビフェニルオキ
シ]ヘプチルスルホン酸、6−[6−(8−ノネニルオキ
シ)ビフェニルオキシ]ヘキシルスルホン酸、7−[6−
(8−ノネニルオキシ)ビフェニルオキシ]ヘプチルス
ルホン酸8−[6−(8−ノネニルオキシ)ビフェニル
オキシ]オクチルスルホン酸9−[6−(8−ノネニルオ
キシ)ビフェニルオキシ]ノニルスルホン酸、10−[6
−(8−ノネニルオキシ)ビフェニルオキシ]デシルス
ルホン酸、3−[6−(9−デセニルオキシ)ビフェニ
ルオキシ]プロピルスルホン酸、4−[6−(9−デセニ
ルオキシ)ビフェニルオキシ]ブチルスルホン酸、5−
[6−(9−デセニルオキシ)ビフェニルオキシ]ペンチ
ルスルホン酸6−[6−(9−デセニルオキシ)ビフェ
ニルオキシ]ヘキシルスルホン酸、7−[6−(9−デセ
ニルオキシ)ビフェニルオキシ]ヘプチルスルホン酸8
−[6−(9−デセニルオキシ)ビフェニルオキシ]オク
チルスルホン酸、9−[6−(9−デセニルオキシ)ビ
フェニルオキシ]ノニルスルホン酸、10−[6−(9−
デセニルオキシ)ビフェニルオキシ]デシルスルホン
酸、3−[6−(10−ウンデセニルオキシ)ビフェニル
オキシ]プロピルスルホン酸、4−[6−(10−ウンデ
セニルオキシ)ビフェニルオキシ]ブチルスルホン酸、
5−[6−(10−ウンデセニルオキシ)ビフェニルオキ
シ]ヘプチルスルホン酸、6−[6−(10−ウンデセニル
オキシ)ビフェニルオキシ]ヘキシルスルホン酸、7−
[6−(10−ウンデセニルオキシ)ビフェニルオキシ]ヘ
プチルスルホン酸8−[6−(10−ウンデセニルオキ
シ)ビフェニルオキシ]オクチルスルホン酸、9−[6−
(10−ウンデセニルオキシ)ビフェニルオキシ]ノニル
スルホン酸、10−[6−(10−ウンデセニルオキシ)
ビフェニルオキシ]デシルスルホン酸、3−[6−(4−ビ
ニルベンジルオキシ)ビフェニルオキシ]プロピルスル
ホン酸、4−[6−(4−ビニルベンジルオキシ)ビフ
ェニルオキシ]ブチルスルホン酸、5−[6−(4−ビニル
ベンジルオキシ)ビフェニルオキシ]ヘプチルスルホン
酸、6−[6−(4−ビニルベンジルオキシ)ビフェニル
オキシ]ヘキシルスルホン酸、7−[6−(4−ビニルベ
ンジルオキシ)ビフェニルオキシ]ヘプチルスルホン酸
8−[6−(4−ビニルベンジルオキシ)ビフェニルオキ
シ]オクチルスルホン酸、9−[6−(4−ビニルベンジ
ルオキシ)ビフェニルオキシ]ノニルスルホン酸、10−
[6−(4−ビニルベンジルオキシ)ビフェニルオキシ]
デシルスルホン酸、等を例示することができる。
法について説明する。本発明の製造方法は、基本的に下
記の三つの反応工程からなるものである。
(A)
により、前記一般式(4)で示されるフェノール誘導体
を製造する工程である。
で表されるハロゲン化物は公知の方法で製造することが
でき、その一例を示せば、下記反応式(B)
す。)で示させる反応により、前記一般式(7)で表さ
れるアルコール類と、前記一般式(8)で表されるハロ
ゲン化燐とを等モルで、ピリジン等の塩基の存在下にベ
ンゼン等の溶媒中で室温で反応させることにより容易に
目的とする前記一般式(2)で表されるハロゲン化物を
製造することができる。また、例えば、ビニルベンジル
クロライドは東京化成工業から市販されている。
されるハロゲン化物と前記一般式(3)で表される4,
4’−ビフェノールとを塩基及び所望により重合禁止剤
の存在下に反応させる。
トリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
カリウム、炭酸水素カリウム、水酸化カルシウム、炭酸
カルシウム、水酸化バリウム、水酸化カルシウム等の無
機塩基類、トリメチルアミン、N,N−ジメチルシクロ
ヘキシルアミン、N,N−ジエチルシクロヘキシルアミ
ン、N,N−ジメチルベンジルアミン、N,N’−ジメ
チルピペラジン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−
ジエチルアニリン,N,N,N’,N’−テトラメチル
−1,3−プロパンジアミン、ピリジン、α−ピコリ
ン、β−ピコリン、γ−ピコリン、4−エチルモルホリ
ン、トリエチレンジアミン、1,3−ジアザビシクロ
[5,4,0]ウンデセン、1,8−ジアザビシクロ
[5,4,0]−7−ウンデセン、N−エチルピペリジ
ン、キノリン、イソキノリン、N,N−ジメチルピペラ
ジン、N,N−ジエチルピペラジン、キナルジン、2−
エチルピリジン、4−エチルピリジン、3,5−ルチジ
ン、2,6−ルチジン、4−メチルモルホリン、2,
4,6−コリジン等の有機塩基類、ピリジル基やジメチ
ルアミノベンジル基を有するイオン交換樹脂等の1種又
は2種以上で用いられるが、特にこれらに限定されるも
のではない。これら塩基の添加量は、4,4’−ビスフ
ェノールに対して通常1〜2倍モル、好ましくは1〜
1.2倍モルである。
ノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチア
ジン、2、6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾー
ル、チオ尿素、尿素、N−フェニル−N’−イソプロピ
ル−p−フェニルンジアミン等の1種又は2種以上で用
いられるが、特にこれらの種類に制限されるものではな
い。また、重合禁止剤の添加量は、得られる目的物に対
して100〜10000ppm、好ましくは500〜5
000ppm程度であるが、これらの添加量は特に制限
されるものではない。
テトラヒドロフラン、ジブチルエーテル等のエーテル
類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル
類、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジメチ
ルホルムアミド、アセトン、水等の1種又は2種以上で
用いられる。前記一般式(3)で表される4,4’−ビ
スフェノールの添加量は、前記一般式(2)で表される
ハロゲン化物に対して、1〜1.5倍モル、好ましくは
1〜1.2倍モルである。
℃、好ましくは20〜50℃であり、反応時間が0.5
〜50時間、好ましくは10〜30時間で反応を行う。
反応終了後、所望により常法により酸で洗浄し、抽出、
洗浄、脱水、再結晶、カラムクロマトグラフィー等の精
製の諸操作を経て前記一般式(4)で表されるフェノー
ル誘導体を得る。
(C)
れる反応により、前記一般式(6)で表されるポリマー
化可能な基を有するスルホン酸塩を製造する工程であ
る。
で表されるハロゲン化スルホン酸塩は、公知の方法によ
り製造することができ、その一例を示せば、下記反応式
(D)
す。)で表される反応により、目的とする前記一般式
(5)で表されるハロゲン化スルホン酸塩を容易に製造
することができる(J.Med.Chem.,Vol.
35,224143−4149,1992)。また、例
えば、BrCH2SO3Na、Br(CH2) 3SO3
Na、Br(CH2)4SO3Na等は東京化成工業
(株)で市販されている。
されるフェノール誘導体と前記一般式(5)で表される
ハロゲン化スルホン酸塩とを塩基及び所望により重合禁
止剤の存在下に反応させる。
トリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
カリウム、炭酸水素カリウム、水酸化カルシウム、炭酸
カルシウム、水酸化バリウム、水酸化カルシウム等の無
機塩基類、トリメチルアミン、N,N−ジメチルシクロ
ヘキシルアミン、N,N−ジエチルシクロヘキシルアミ
ン、N,N−ジメチルベンジルアミン、N,N’−ジメ
チルピペラジン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−
ジエチルアニリン,N,N,N’,N’−テトラメチル
−1,3−プロパンジアミン、ピリジン、α−ピコリ
ン、β−ピコリン、γ−ピコリン、4−エチルモルホリ
ン、トリエチレンジアミン、1,3−ジアザビシクロ
[5,4,0]ウンデセン、1,8−ジアザビシクロ
[5,4,0]−7−ウンデセン、N−エチルピペリジ
ン、キノリン、イソキノリン、N,N−ジメチルピペラ
ジン、N,N−ジエチルピペラジン、キナルジン、2−
エチルピリジン、4−エチルピリジン、3,5−ルチジ
ン、2,6−ルチジン、4−メチルモルホリン、2,
4,6−コリジン等の有機塩基類、ピリジル基やジメチ
ルアミノベンジル基を有するイオン交換樹脂等の1種又
は2種以上で用いられるが、特にこれらに限定されるも
のではない。これら塩基の添加量は、前記一般式(4)
で表されるフェノール誘導体に対して通常2〜8倍モ
ル、好ましくは3〜5倍モルである。
ノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチア
ジン、2、6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾー
ル、チオ尿素、尿素、N−フェニル−N’−イソプロピ
ル−p−フェニルンジアミン等の1種又は2種以上を挙
げることができるが、特にこれらに制限されるものでは
ない。また、重合禁止剤の添加量は、得られる目的物に
対して100〜10000ppm、好ましくは500〜
5000ppm程度であるが、特にこれらの添加量に制
限されるものではない。
テトラヒドロフラン、ジブチルエーテル等のエーテル
類、アセトニトリル、プロピオニトリル等のニトリル
類、メタノール、エタノール等のアルコール類、ジメチ
ルホルムアミド、アセトン、水等の1種又は2種以上で
用いられる。
スホン酸塩の添加量は、前記一般式(4)で表されるフ
ェノール誘導体に対して、2〜8倍モル、好ましくは3
〜5倍モルである。反応条件としては、反応温度が0〜
100℃、好ましくは20〜80℃であり、反応時間が
0.5〜100時間、好ましくは10〜50時間で反応
を行う。反応終了後、所望により再結晶、洗浄等の常法
の精製手段により精製後、乾燥して目的とする前記一般
式(6)で表されるポリマー化可能な基を有するスルホ
ン酸塩を得る。
(E)
反応により、前記一般式(1)で表されるポリマー化可
能な基を有するスルホン酸誘導体を製造する工程であ
る。
されるポリマー化可能な基を有するスルホン酸塩と酸と
を、所望により重合禁止剤の存在下に反応させる。酸と
しては、特に制限はなく、例えば、塩酸、硝酸、燐酸、
硫酸等の通常用いられる酸を用いることができる。酸の
添加量は、前記一般式(6)で表されるポリマー化可能
な基を有するスルホン酸塩に対して、1倍モル以上であ
る。
ノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、フェノチア
ジン、2、6−ジ−tert−ブチル−p−クレゾー
ル、チオ尿素、尿素、N−フェニル−N’−イソプロピ
ル−p−フェニルンジアミン等の1種又は2種以上を挙
げることができるが、特にこれらの種類に制限されるも
のではない。また、重合禁止剤の添加量は、得られる目
的物に対して100〜10000ppm、好ましくは5
00〜5000ppm程度であるが、特にこれらの添加
量に制限されるものではない。
ール、エタノール又はこれらの混合溶媒が用いられる。
反応条件としては、反応温度が0〜100℃、好ましく
は20〜50℃であり、反応時間が0.5〜50時間、
好ましくは10〜30時間で反応を行う。反応終了後、
濾過、洗浄、乾燥して目的とする前記一般式(1)で表
されるポリマー化可能な基を有するスルホン酸誘導体を
得る。なお本発明の製造方法において用いるハロゲン化
物のハロゲンとして、塩素、臭素等が挙げられる。
れるポリマー化可能な基を有するスルホン酸型液晶材料
は、優れたプロトン輸送能を有するものであり、例え
ば、電池の電解質、表示素子、エレクトクロミック素
子、各種センサーの電解質、燃料電池の電解質膜の原料
として好適に用いることができる。
トン輸送材料について説明する。本発明にかかるプロト
ン輸送材料は、化合物(1)又はそれから誘導される化
合物を含有する。ここで、化合物(1)から誘導される
化合物とは、化合物(1)のホモ重合体、共重合体、架
橋剤により架橋されている高分子量の化合物、或いは、
ヒドロシリル基を有する高分子化合物に化合物(1)を
付加反応させて得られる高分子量の化合物をいう(以
下、重合体という)。
(11)又は下記一般式(12)
返し単位を含有する。
酸、メタクリル酸又はスチレン等から誘導される繰り返
し単位を有していてもよい。共重合体の場合、上記一般
式(11)で表される繰り返し単位は、共重合体中50
モル%、好ましくは70モル%、さらに好ましくは80
モル%である。重合体の分子量は、数平均分子量が10
00〜数千万の範囲、好ましくは数万〜数百万の範囲で
ある。重合体は以下の方法で製造することができる。例
えば化合物(1)のホモ重合体、共重合体、或いは架橋
剤により架橋されている高分子量の化合物を製造するに
は、所望のモノマー又は所望のモノマーと架橋剤とを重
合開始剤の存在下に、溶液重合法、懸濁重合法、乳化重
合法、バルク重合法等のラジカル重合法により重合反応
を行なうことにより製造することができる。また、ヒド
ロシリル基を有する高分子化合物に化合物(1)を付加
反応させて得られる高分子量の化合物を製造するには、
ヒドロシリル基を有する高分子化合物と化合物(1)と
を、塩化白金酸、塩化白金酸のアルコール溶液、白金と
オレフィンの錯体、白金とビニルシロキサン錯体等の白
金系触媒、ウィルキンソン錯体、ロジウムとカルボニル
の錯体等のロジウム系触媒等の存在下に反応を行なうこ
とにより製造することができる。
トン輸送材料の一態様として化合物(1)を含有する組
成物が挙げられる。かかる組成物は、化合物(1)を少
なくとも30重量%、好ましくは50重量%、さらに好
ましくは90重量%含有する。かかる組成物中他の成分
としては、スメクチック相あるいはネマチック相を示す
液晶化合物、アルキルスルホン酸、ナフィオン膜系の構
造を持つ化合物、アルキルカルボン酸、アルキルホスホ
ン酸等が挙げられる。組成物は、以下のように調製する
ことができる。即ち、化合物(1)と所望の上記成分を
溶媒に溶解した後、溶媒を加熱、減圧等で除去するか、
化合物(1)と所望の上記成分を混合し、加熱溶融する
か、又はスパッタリング、真空蒸着等を行なうことによ
り調製することができる。
送材料の他の態様として重合体含有組成物が挙げられ
る。重合体含有組成物は、重合体を、少なくとも30重
量%、好ましくは50重量%、さらに好ましくは80重
量%含有する。かかる組成物中他の成分としては、スメ
クチック相あるいはネマチック相を示す液晶化合物、ア
ルキルスルホン酸、ナフィオン膜系の構造を持つ化合
物、アルキルカルボン酸、アルキルホスホン酸等が挙げ
られる。組成物は、以下のように調製することができ
る。即ち、化合物(1)と所望の上記成分を溶媒に溶解
した後、溶媒を加熱、減圧等で除去するか、化合物
(1)と所望の上記成分を混合し、加熱溶融するか、又
はスパッタリング、真空蒸着等を行なうことにより調製
することができる。
相としてスメクチック相を有する液晶性の化合物(1)
が特に好ましく、このような化合物としては、化合物
(1)のなかでも、R1が水素原子又はメチル基であ
り、Aが炭素数6〜10のアルキレン基、Bが炭素数3
〜10のアルキレン基である化合物が特に好ましく、本
発明において、このスメクチック相は、A、B、C、
D、E、F、G相の何れであってもよい。
クチック相を有する好ましい化合物としては、3−[6
−(6−ヘプテニルオキシ)ビフェニルオキシ]プロピ
ルスルホン酸、4−[6−(6−ヘプテニルオキシ)ビ
フェニルオキシ]ブチルスルホン酸、5−[6−(6−ヘ
プテニルオキシ)ビフェニルオキシ]ペンチルスルホン
酸、6−[6−(6−ヘプテニルオキシ)ビフェニルオ
キシ]ヘキシルスルホン酸、7−[6−(6−ヘプテニル
オキシ)ビフェニルオキシ]ヘプチルスルホン酸8−[6
−(6−ヘプテニルオキシ)ビフェニルオキシ]オクチ
ルスルホン酸9−[6−(6−ヘプテニルオキシ)ビフ
ェニルオキシ]ノニルスルホン酸、10−[6−(6−ヘ
プテニルオキシ)ビフェニルオキシ]デシルスルホン
酸、3−[6−(7−オクテニルオキシ)ビフェニルオ
キシ]プロピルスルホン酸、4−[6−(7−オクテニル
オキシ)ビフェニルオキシ]ブチルスルホン酸、5−[6
−(7−オクテニルオキシ)ビフェニルオキシ]ヘプチ
ルスルホン酸、6−[6−(7−オクテニルオキシ)ビ
フェニルオキシ]ヘキシルスルホン酸、7−[6−(7−
オクテニルオキシ)ビフェニルオキシ]ヘプチルスルホ
ン酸8−[6−(7−オクテニルオキシ)ビフェニルオ
キシ]オクチルスルホン酸9−[6−(7−オクテニルオ
キシ)ビフェニルオキシ]ノニルスルホン酸、10−[6
−(7−オクテニルオキシ)ビフェニルオキシ]デシル
スルホン酸、3−[6−(8−ノネニルオキシ)ビフェ
ニルオキシ]プロピルスルホン酸、4−[6−(8−ノネ
ニルオキシ)ビフェニルオキシ]ブチルスルホン酸、5
−[6−(8−ノネニルオキシ)ビフェニルオキシ]ヘプ
チルスルホン酸、6−[6−(8−ノネニルオキシ)ビ
フェニルオキシ]ヘキシルスルホン酸、7−[6−(8−
ノネニルオキシ)ビフェニルオキシ]ヘプチルスルホン
酸8−[6−(8−ノネニルオキシ)ビフェニルオキシ]
オクチルスルホン酸9−[6−(8−ノネニルオキシ)
ビフェニルオキシ]ノニルスルホン酸、10−[6−(8
−ノネニルオキシ)ビフェニルオキシ]デシルスルホン
酸、3−[6−(9−デセニルオキシ)ビフェニルオキ
シ]プロピルスルホン酸、4−[6−(9−デセニルオキ
シ)ビフェニルオキシ]ブチルスルホン酸、5−[6−
(9−デセニルオキシ)ビフェニルオキシ]ペンチルス
ルホン酸6−[6−(9−デセニルオキシ)ビフェニル
オキシ]ヘキシルスルホン酸、7−[6−(9−デセニル
オキシ)ビフェニルオキシ]ヘプチルスルホン酸8−[6
−(9−デセニルオキシ)ビフェニルオキシ]オクチル
スルホン酸、9−[6−(9−デセニルオキシ)ビフェ
ニルオキシ]ノニルスルホン酸、10−[6−(9−デセ
ニルオキシ)ビフェニルオキシ]デシルスルホン酸、3
−[6−(10-ウンデセニルオキシ)ビフェニルオキシ]
プロピルスルホン酸、4−[6−(10−ウンデセニルオ
キシ)ビフェニルオキシ]ブチルスルホン酸、5−[6−
(10−ウンデセニルオキシ)ビフェニルオキシ]ヘプチ
ルスルホン酸、6−[6−(10−ウンデセニルオキシ)
ビフェニルオキシ]ヘキシルスルホン酸、7−[6−(10
−ウンデセニルオキシ)ビフェニルオキシ]ヘプチルス
ルホン酸8−[6−(10−ウンデセニルオキシ)ビフェ
ニルオキシ]オクチルスルホン酸、9−[6−(10−ウン
デセニルオキシ)ビフェニルオキシ]ノニルスルホン
酸、10−[6−(10−ウンデセニルオキシ)ビフェニ
ルオキシ]デシルスルホン酸、等を例示することができ
る。
スメクチック相を有する化合物は、スメクチック相の液
晶状態で用いるか、又はスメクチック相からの降温過程
で相転移で生じる固体状態、具体的には、結晶相、ガラ
ス状態、不定形固体で用いることが特に好ましい。
トン輸送の機構は、図1に示すが如くSO3H基からな
るかなり大きなイオンチャンネル(クラスター径数ナノ
メートル)を形成し、ここに取りこまれた水分子とチャ
ンネル壁面のSO3H基の間のH+ホッピングにより、
イオン導電性が得られるものである。これに対して、本
発明のプロトン輸送材料において、上記した液晶相とし
てスメクチック相を有する化合物を用いた場合には、ス
メクチック相状態において図2に示すが如く層状配列を
持った配向をとり、イオン導電性基となるスルホン酸基
の部分を、液晶状態で蜜に重ねた状態でプロトン輸送を
行うことから効率的なプロトン輸送を行うことができ
る。
の電解質、表示素子、エレクトクロミック素子、各種セ
ンサーの電解質、燃料電池の電解質膜の原料として有用
であり、また、前記一般式(1)で表されるポリマー化
可能な基を有するスルホン酸誘導体から誘導される高分
子化合物は、膜成形することにより、燃料電池の電解質
膜として好適に使用することができる。
が本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例1 <第一工程で用いる原料の9−ブロモ−1−デセンの合
成>500mlの三角フラスコにベンゼン100ml及
びピリジン1.0gを加え9−デセン−1−オール0.
16mol(25.0g)を溶解した。次に三臭化リン
0.16mol(43.2g)を溶解させたベンゼン溶
液100mlを氷冷下でゆっくりと滴下した後、室温で
18時間攪拌した。その後、反応液を氷水中に注ぎ、ジ
エチルエーテル300mlで抽出した。ここで得たエー
テル−ベンゼン混合液は無水硫酸ナトリウムで一晩脱水
した。吸引ろ過により硫酸ナトリウムを除き、エーテル
−ベンゼンを減圧除去し、残さを減圧蒸留して目的物9
−ブロモ−1−デセン10.48g(収率29.9%)
を得た。
641(C=C伸縮振動)、993〜910(C-H面外変角) ・1H-NMR(δ、CDCl3):0.8〜2.5(m,14H、−(CH2)
7−)、3.4〜3.6(t,2H、Br−CH2)、3.9〜6.4(m,
3H,CH2=CH−)
0mlのエタノールに溶解させた。この溶液を4,4’
−ビフェノール0.08mol(14.9g)を溶解さ
せた100mlエタノールに少量ずつ加え、エタノール
を減圧除去した。残さを150mlDMFに窒素気流下
で加温して溶解させた(A液)。上記で調製した9−ブ
ロム−1−デセン0.072mol(15.8g)、フ
ェノチアジン0.1gを30mlのDMFに溶解させた
(B液)。窒素雰囲気下でよく攪拌しながらA液にB液
を30分程度かけて加え、40℃で24時間反応させ
た。反応終了後、反応液を冷却し、300mlの10%
冷希塩酸で洗浄した後、300mlのエーテルで抽出
し、次いで100ml冷蒸留水で洗浄した。エーテル層
は無水硫酸ナトリウムで一晩脱水する。硫酸ナトリウム
をろ過により取り除き、エーテルを減圧除去する。残さ
に300mlのヘキサンを加え、ろ過により沈澱物を得
る。次いで200mlベンゼンを加え、ベンゼン可溶部
分をベンゼンを用いたカラムクロマトグラフィーで精製
して4−(9−デセニルオキシフェニル)フェノール
4.19g(収率18.0%)を得た。
73〜3037(C−H伸縮振動(芳香族)),2925〜2852(C
−H伸縮振動)、1610(C=C伸縮振動) ・1H-NMR(δ、d−DMSO):1.0〜2.3(m,14H,
−(CH2)7−)、3.8〜4.2(t,2H,−CH2−O−)、5.0
〜5.7(m,3H,CH2=CH−)、6.7〜7.1(d,4H,aromat
ic)、7.2〜7.6(d,4H,aromatic)、9.6〜9.8(s,
1H,−OH)
プロピルスルホン酸の合成 N,N−ジメチルホルムアミド30ml中に重合禁止剤フ
ェノチアジン0.05gを溶解させた。そこへ、1,8
−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデンセン(D
BU)0.008mol(1.22g)と4−(9−デ
セニルオキシフェニル)フェノール0.002mol
(0.65g)、3−ブロモプロパンスルホン酸ナトリ
ウム(東京化成工業社製)0.008mol(1.8
g)を溶解させ、窒素雰囲気下、50℃で48時間攪拌
した。反応終了後、溶媒を濃縮しジエチルエーテルを加
え、濾過することにより沈澱を得た。次に、沈澱を蒸留
水でよく洗浄した。次に、洗浄後の沈澱を6mol/L
のHCl中で24時間攪拌後、遠心分離機により沈澱を
得て、この沈澱をジエチルエーテルで洗浄後、乾燥して
3−[6−(9−デセニルオキシ)ビフェニルオキシ]プ
ロピルスルホン酸0.4g(収率44.9%)を得た。
族)),2977〜2854(C−H伸縮振動),1643(C=C伸縮振
動)、1247(C-O-C逆対称伸縮振動)、1062(S=O伸縮振
動)、1037(C−H面外変角) ・1H-NMR(δ、d−DMSO):1.0〜2.0(m,16H、
−(CH2)7−、−CH2−)、2.3〜2.5(m,2H,S−C
H2)、3.8〜4.1(t,4H,O−CH2)、4.8〜5.0(m,2H,
CH2=)、5.6〜5.8(m,1H,=CH−)、6.8〜7.5(q,8
H,aromatic)
し、下記の結果が得られた。
o.;等方性液体
合成 50mlDMFに4,4’−ビフェノール0.03mol
(5.59g)及び1,8−ジアザビシクロ[5,4,
0]−7−ウンデンセン(DBU)0.03mol
(4.57g)を溶解した。これに4−ビニルベンジル
クロライド(東京化成工業社製)0.03mol(4.
58g)、フェノチアジン0.1gを10mlのDMF
に溶解したものを窒素雰囲気下で少量ずつ滴下し、35
℃で24時間反応させた。反応終了後、冷却し、10%
冷希塩酸300mlで洗浄し、300mlのエーテルで
抽出した後、100ml冷蒸留水で洗浄した。エーテル
層は無水硫酸ナトリウムで脱水後、ろ過により無水硫酸
ナトリウムを除き、エーテルを減圧除去する。残さをヘ
キサンで洗い、エーテルで再結晶して4−(ビニルベン
ジルオキシフェニル)フェノール1.28g(収率1
4.1%)を得た。
3073〜3037(C-H伸縮振動(芳香族)、2925〜2852(C-H
伸縮振動)、1610(C=C伸縮振動) ・1H-NMR(δ、d−DMSO):5.0〜5.1(s,2H,−
CH2−O−)、5.3〜6.9(m,2H,CH2=)、6.6〜6.7
(m,1H,CH−)、6.8〜7.1(m,4H,aromatic)、7.3
〜7.5(m,8H,aromatic)、9.4(s,1H,−OH)
オキシ]プロピルスルホン酸の合成 N,N−ジメチルホルムアミド30ml中に重合禁止剤フ
ェノチアジン0.05gを溶解させた。そこへ、1,8
−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデンセン(D
BU)0.004mol(0.6g)と4−(ビニルベ
ンジルオキシフェニル)フェノール0.001mol
(0.40g)、3−ブロモプロパンスルホン酸ナトリ
ウム(東京化成工業社製)0.004mol(0.9
g)を溶解させ、窒素雰囲気下、60℃で48時間攪拌
した。反応終了後、溶媒を濃縮しジエチルエーテルを加
え、濾過することにより沈澱を得た。次に、この沈澱に
フェノチアジン10mgを加え6mol/LのHCl中
で24時間攪拌後、遠心分離機により沈澱を得て、この
沈澱をテトラヒドロフランで洗浄後、乾燥して3−[6
−(9−デセニルオキシ)ビフェニルオキシ]プロピル
スルホン酸0.06g(収率14.2%)を得た。
族))、2931〜2861(C-H伸縮振動)、1606(C=C伸縮振
動)、1245(C−O−C逆対称伸縮振動)、1064(S=O伸縮振
動) ・1H-NMR(δ、d−DMSO):3.2〜3.3(m、2H,−CH2
−)、3.8〜3.9(t,2H,O−CH2−)、4.8〜5.0(s、2H,−
CH 2−O)、5.0〜5.7(q,2H,CH2=)、6.4〜6.6(t,1H,
=CH−)、6.7〜6.9(q,4H,aromatic)、7.2〜7.4
(q,8H,aromatic)
を備えたセル(電極面積:0.16cm2、電極間距
離:50μm、(株)EHC社製)に実施例1で得られた
3−[6−(9−デセニルオキシ)ビフェニルオキシ]プ
ロピルスルホン酸20mgを134℃以上の温度でセル
中に注入した。次いで、40℃まで徐々に冷却し、セル
に微小電流計((株)アドバンテスト社製R8340)に
て、0.5Vの電圧をかけ、50℃(固体状態)と12
5℃(液晶状態)での単位面積あたりの電流値を測定し
た。その結果を表1に示した。
列を破壊した場合の50℃の単位面積あたりの電流値は
1.5×10−6μA/cm2であった。以上の結果に
より液晶状態では105〜106倍のプロトン移動が、
また徐冷により液晶時の分子配向を保った固体状態では
103〜104倍のプロトン移動が起こったと考えられ
る。
能な基を有するスルホン酸型液晶材料は、優れたプロト
ン輸送能を有する新規な化合物であり、特に、この化合
物の中、液晶相としてスメクチック相を有する液晶性化
合物を用いて、スメクチック液晶相状態又はスメクチッ
ク相からの相転移で生じる固体状態で用いることにより
優れたイオン伝導性を示すことから、本発明のポリマー
化可能な基を有するホスホン酸型液晶材料を高分子化
し、膜成形することにより、燃料電池の電解質膜として
好適に使用することができる。
ン輸送能の機構を示す概略図である。
ン酸型液晶材料をスメクチック相の液晶状態で用いた際
のプロトン輸送能の機構を表す概略図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 下記一般式(1) 【化1】 (式中、R1は水素原子又はメチル基、Aはアルキレン
基、−C6H4−CH2−、−CO−O−(CH2)n
−又は−CO−、Bはアルキレン基を示す。)で表され
ることを特徴とするポリマー化可能な基を有するスルホ
ン酸型液晶材料。 - 【請求項2】 下記一般式(2) 【化2】 (式中、R1は水素原子又はメチル基、Aはアルキレン
基、−C6H4−CH2−、−CO−O−(CH2)n
−又は−CO−、Xはハロゲン原子を示す。)で表され
るハロゲン化物と、下記一般式(3) 【化3】 で表される4,4’−ビフェノールとを反応させて、下
記一般式(4) 【化4】 (式中、R1及びAは前記と同義。)で表されるフェノ
ール誘導体を得た後、次いで、得られた一般式(4)で
表されるフェノール誘導体と、下記一般式(5) 【化5】 (式中、Xはハロゲン原子、Bはアルキレン基、Mはア
ルカリ金属原子を示す。)で表されるハロゲン化スルホ
ン酸塩とを反応させて、下記一般式(6) 【化6】 (式中、R1、A、B、Mは前記と同義。)で表される
ポリマー化可能な基を有するスルホン酸塩を得、次いで
得られた一般式(6)で表されるポリマー化可能な基を
有するスルホン酸塩と酸とを反応させることを特徴とす
る下記一般式(1) 【化7】 (式中、R1、A、Bは前記と同義。)で表されるポリ
マー化可能な基を有するスルホン酸型液晶材料の製造方
法。 - 【請求項3】 前記一般式(1)で表されるポリマー化
可能な基を有するスルホン酸型液晶材料又はそれから誘
導される化合物を含有することを特徴とするプロトン輸
送材料。 - 【請求項4】 前記一般式(1)で表されるポリマー化
可能な基を有するスルホン酸誘導体又はそれらから誘導
される化合物をスメクチック相の液晶状態で用いること
を特徴とする液晶状態による分子配列を利用したプロト
ン輸送方法。 - 【請求項5】 前記一般式(1)で表されるポリマー化
可能な基を有するスルホン酸型液晶材料又はそれらから
誘導される化合物をスメクチック相からの相転移で生じ
る固体状態で用いることを特徴とする液晶状態による分
子配列を利用したプロトン輸送方法。
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