JP2002201040A - アルミノホウケイ酸ガラス - Google Patents
アルミノホウケイ酸ガラスInfo
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- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
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- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/076—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight
- C03C3/11—Glass compositions containing silica with 40% to 90% silica, by weight containing halogen or nitrogen
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Abstract
(57)【要約】
【課題】泡の削減が可能なアルミノホウケイ酸ガラスの
提供。 【解決手段】質量百分率表示で、ＳｉＯ2： ４５〜７８
％、Ａｌ2Ｏ3：２〜２２％、Ｂ2Ｏ3：４〜１５％、Ｌｉ
2Ｏ：０〜２％、Ｎａ2Ｏ： ０〜１０％、Ｋ2Ｏ：０〜３
％、ＭｇＯ：０〜５％、ＣａＯ：０〜８％、ＳｒＯ：０
〜１０％、ＢａＯ：０〜１７％、ＺｎＯ：０〜１０％、
Ｆｅ2Ｏ3：０〜０．１５％、ＳＯ3：０〜０．０１５
％、Ｃｌ：０〜１％、Ｆ：０〜０．５％、からなり、Ｃ
ｌ＋Ｆが０．０５％以上であるアルミノホウケイ酸ガラ
ス。
提供。 【解決手段】質量百分率表示で、ＳｉＯ2： ４５〜７８
％、Ａｌ2Ｏ3：２〜２２％、Ｂ2Ｏ3：４〜１５％、Ｌｉ
2Ｏ：０〜２％、Ｎａ2Ｏ： ０〜１０％、Ｋ2Ｏ：０〜３
％、ＭｇＯ：０〜５％、ＣａＯ：０〜８％、ＳｒＯ：０
〜１０％、ＢａＯ：０〜１７％、ＺｎＯ：０〜１０％、
Ｆｅ2Ｏ3：０〜０．１５％、ＳＯ3：０〜０．０１５
％、Ｃｌ：０〜１％、Ｆ：０〜０．５％、からなり、Ｃ
ｌ＋Ｆが０．０５％以上であるアルミノホウケイ酸ガラ
ス。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、アンプル、液晶デ
ィスプレイ用基板、フォトマスク用基板、磁気ディスク
用基板等に好適なアルミノホウケイ酸ガラスに関する。
ィスプレイ用基板、フォトマスク用基板、磁気ディスク
用基板等に好適なアルミノホウケイ酸ガラスに関する。
【０００２】
【従来の技術】化学的耐久性および耐熱性に優れるアル
ミノホウケイ酸ガラスは、アンプル、液晶ディスプレイ
用基板等の基板、等に広く用いられており、ガラス溶融
窯による生産が行われている。
ミノホウケイ酸ガラスは、アンプル、液晶ディスプレイ
用基板等の基板、等に広く用いられており、ガラス溶融
窯による生産が行われている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来、アルミノホウケ
イ酸ガラスには、その脱泡のためにＣｌ、Ａｓ2Ｏ3およ
びＳｂ2Ｏ3のいずれか１種が添加されている。しかし、
近年、アルミノホウケイ酸ガラス中に残存する泡の一層
の削減が求められている。本発明は、泡の削減が可能な
アルミノホウケイ酸ガラスの提供を目的とする。
イ酸ガラスには、その脱泡のためにＣｌ、Ａｓ2Ｏ3およ
びＳｂ2Ｏ3のいずれか１種が添加されている。しかし、
近年、アルミノホウケイ酸ガラス中に残存する泡の一層
の削減が求められている。本発明は、泡の削減が可能な
アルミノホウケイ酸ガラスの提供を目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記成分基準
の質量百分率表示で、本質的に、 ＳｉＯ2 ４５〜７８％、 Ａｌ2Ｏ3 ２〜２２％、 Ｂ2Ｏ3 ４〜１５％、 Ｌｉ2Ｏ ０〜２％、 Ｎａ2Ｏ ０〜１０％、 Ｋ2Ｏ ０〜３％、 ＭｇＯ ０〜５％、 ＣａＯ ０〜８％、 ＳｒＯ ０〜１０％、 ＢａＯ ０〜１７％、 ＺｎＯ ０〜１０％、 Ｆｅ2Ｏ3 ０〜０．１５％、 ＳＯ3 ０〜０．０１５％、 Ｃｌ ０〜１％、 Ｆ ０〜０．５％、 からなり、Ｃｌ＋Ｆが０．０５％以上であるアルミノホ
ウケイ酸ガラスを提供する。
の質量百分率表示で、本質的に、 ＳｉＯ2 ４５〜７８％、 Ａｌ2Ｏ3 ２〜２２％、 Ｂ2Ｏ3 ４〜１５％、 Ｌｉ2Ｏ ０〜２％、 Ｎａ2Ｏ ０〜１０％、 Ｋ2Ｏ ０〜３％、 ＭｇＯ ０〜５％、 ＣａＯ ０〜８％、 ＳｒＯ ０〜１０％、 ＢａＯ ０〜１７％、 ＺｎＯ ０〜１０％、 Ｆｅ2Ｏ3 ０〜０．１５％、 ＳＯ3 ０〜０．０１５％、 Ｃｌ ０〜１％、 Ｆ ０〜０．５％、 からなり、Ｃｌ＋Ｆが０．０５％以上であるアルミノホ
ウケイ酸ガラスを提供する。
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明のアルミノホウケイ酸ガラ
ス（以下本発明のガラスという。）の歪点は５２０〜７
００℃であることが好ましい。５２０℃未満では耐熱性
が低すぎるおそれがある。７００℃超では成形が困難に
なるおそれがある。より好ましくは６６０℃以下、さら
に好ましくは５７０℃以下、特に好ましくは５６０℃以
下、最も好ましくは５５０℃以下である。
ス（以下本発明のガラスという。）の歪点は５２０〜７
００℃であることが好ましい。５２０℃未満では耐熱性
が低すぎるおそれがある。７００℃超では成形が困難に
なるおそれがある。より好ましくは６６０℃以下、さら
に好ましくは５７０℃以下、特に好ましくは５６０℃以
下、最も好ましくは５５０℃以下である。
【０００６】本発明のガラスは、下記成分基準の質量百
分率表示で、本質的に、 ＳｉＯ2 ４５〜７８％、 Ａｌ2Ｏ3 ２〜２０％、 Ｂ2Ｏ3 ４〜１５％、 Ｌｉ2Ｏ ０〜２％、 Ｎａ2Ｏ ０〜１０％、 Ｋ2Ｏ ０〜３％、 ＭｇＯ ０〜５％、 ＣａＯ ０〜６％、 ＳｒＯ ０〜１０％、 ＢａＯ ０〜１７％、 ＺｎＯ ０〜１０％、 Ｆｅ2Ｏ3 ０〜０．１５％、 ＳＯ3 ０．００１〜０．０１５％、 Ｃｌ ０．０５〜０．８％、 Ｆ ０〜０．３％、 からなることが好ましい。
分率表示で、本質的に、 ＳｉＯ2 ４５〜７８％、 Ａｌ2Ｏ3 ２〜２０％、 Ｂ2Ｏ3 ４〜１５％、 Ｌｉ2Ｏ ０〜２％、 Ｎａ2Ｏ ０〜１０％、 Ｋ2Ｏ ０〜３％、 ＭｇＯ ０〜５％、 ＣａＯ ０〜６％、 ＳｒＯ ０〜１０％、 ＢａＯ ０〜１７％、 ＺｎＯ ０〜１０％、 Ｆｅ2Ｏ3 ０〜０．１５％、 ＳＯ3 ０．００１〜０．０１５％、 Ｃｌ ０．０５〜０．８％、 Ｆ ０〜０．３％、 からなることが好ましい。
【０００７】次に、本発明のガラスの組成について、質
量百分率表示を用いて説明する。ＳｉＯ2はネットワー
クフォーマであり、必須である。７８％超ではガラスの
溶解性が低下する、または失透しやすくなる。好ましく
は７６％以下である。４５％未満では耐酸性または耐ア
ルカリ性が低下する。好ましくは４８％以上、より好ま
しくは６１％以上である。
量百分率表示を用いて説明する。ＳｉＯ2はネットワー
クフォーマであり、必須である。７８％超ではガラスの
溶解性が低下する、または失透しやすくなる。好ましく
は７６％以下である。４５％未満では耐酸性または耐ア
ルカリ性が低下する。好ましくは４８％以上、より好ま
しくは６１％以上である。
【０００８】Ａｌ2Ｏ3は、ガラスの分相を抑制する、ま
たは歪点を高くする成分であり、必須である。２２％超
では失透しやすくなる、または耐酸性が低下する。好ま
しくは２０％以下、より好ましくは１９％以下である。
２％未満ではガラスが分相しやすくなる、または歪点が
低下する。好ましくは３％以上である。ＳｉＯ2の含有
量が６１％以上の場合、Ａｌ2Ｏ3の含有量は１０％以下
であることが好ましい。
たは歪点を高くする成分であり、必須である。２２％超
では失透しやすくなる、または耐酸性が低下する。好ま
しくは２０％以下、より好ましくは１９％以下である。
２％未満ではガラスが分相しやすくなる、または歪点が
低下する。好ましくは３％以上である。ＳｉＯ2の含有
量が６１％以上の場合、Ａｌ2Ｏ3の含有量は１０％以下
であることが好ましい。
【０００９】Ｂ2Ｏ3は、化学的耐久性を高くする、ガラ
スの溶解性を高くする、またはガラスを失透しにくくす
る成分であり、必須である。１５％超では歪点が低下す
る、耐酸性が低下する、またはガラス溶融時のＢ2Ｏ3の
揮散に起因するガラスの不均質性が顕著になる。好まし
くは１３％以下である。４％未満では化学的耐久性が低
下する、ガラスの溶解性が低下する、またはガラスが失
透しやすくなる。好ましくは５％以上、より好ましくは
７％以上である。
スの溶解性を高くする、またはガラスを失透しにくくす
る成分であり、必須である。１５％超では歪点が低下す
る、耐酸性が低下する、またはガラス溶融時のＢ2Ｏ3の
揮散に起因するガラスの不均質性が顕著になる。好まし
くは１３％以下である。４％未満では化学的耐久性が低
下する、ガラスの溶解性が低下する、またはガラスが失
透しやすくなる。好ましくは５％以上、より好ましくは
７％以上である。
【００１０】Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏはいずれも
必須ではないが、膨張係数を大きくするためにそれぞ
れ、２％、１０％、３％まで含有してもよい。これを超
えて含有すると化学的耐久性または歪点が低下する。５
０〜３５０℃における平均線膨張係数αを５０×１０-7
／℃以上にしたい場合、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏ
の含有量の合計は１％以上であることが好ましい。
必須ではないが、膨張係数を大きくするためにそれぞ
れ、２％、１０％、３％まで含有してもよい。これを超
えて含有すると化学的耐久性または歪点が低下する。５
０〜３５０℃における平均線膨張係数αを５０×１０-7
／℃以上にしたい場合、Ｌｉ2Ｏ、Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏ
の含有量の合計は１％以上であることが好ましい。
【００１１】ＭｇＯは必須ではないが、ガラスの溶解性
を高くするために５％まで含有してもよい。５％超では
ガラスが分相しやすくなる、またはガラスが失透しやす
くなる。ＣａＯは必須ではないが、ガラスの溶解性を高
くするために、またはガラスを失透しにくくするために
８％まで含有してもよい。８％超ではかえって失透しや
すくなる。好ましくは６％以下である。
を高くするために５％まで含有してもよい。５％超では
ガラスが分相しやすくなる、またはガラスが失透しやす
くなる。ＣａＯは必須ではないが、ガラスの溶解性を高
くするために、またはガラスを失透しにくくするために
８％まで含有してもよい。８％超ではかえって失透しや
すくなる。好ましくは６％以下である。
【００１２】ＳｒＯは必須ではないが、ガラスの分相を
抑制するために、またはガラスを失透しにくくするため
に１０％まで含有してもよい。１０％超ではかえって失
透しやすくなる。ＢａＯは必須ではないが、ガラスの分
相を抑制するために、またはガラスを失透しにくくする
ために１７％まで含有してもよい。１７％超ではかえっ
て失透しやすくなる。ＺｎＯは必須ではないが、化学的
耐久性を高くするために、１０％まで含有してもよい。
１０％超ではかえって化学的耐久性、特に耐酸性が低下
する。
抑制するために、またはガラスを失透しにくくするため
に１０％まで含有してもよい。１０％超ではかえって失
透しやすくなる。ＢａＯは必須ではないが、ガラスの分
相を抑制するために、またはガラスを失透しにくくする
ために１７％まで含有してもよい。１７％超ではかえっ
て失透しやすくなる。ＺｎＯは必須ではないが、化学的
耐久性を高くするために、１０％まで含有してもよい。
１０％超ではかえって化学的耐久性、特に耐酸性が低下
する。
【００１３】Ｆｅ2Ｏ3は必須ではないが、ガラス溶融窯
内の溶融ガラスの熱対流を制御するために、または脱泡
促進のために０．１５％まで含有してもよい。０．１５
％超では前記熱対流が抑制されかえって脱泡しにくくな
る、または均質性が低下する。
内の溶融ガラスの熱対流を制御するために、または脱泡
促進のために０．１５％まで含有してもよい。０．１５
％超では前記熱対流が抑制されかえって脱泡しにくくな
る、または均質性が低下する。
【００１４】ＳＯ3は必須ではないが、脱泡またはガラ
ス原料の溶解を促進するために０．０１５％まで含有し
てもよい。０．０１５％超では撹拌時に再沸する。好ま
しくは０．０１２％以下、より好ましくは０．０１％以
下である。脱泡またはガラス原料の溶解をより促進した
い場合はＳＯ3を０．００１％以上含有することが好ま
しい。より好ましくは０．００１２％以上である。ＳＯ
3含有は、通常、ボウ硝等の硫酸塩をガラス原料に添加
することによって行われるが、その他に、たとえば重油
燃焼窯においては重油のＳ含有不純物にも起因する。
ス原料の溶解を促進するために０．０１５％まで含有し
てもよい。０．０１５％超では撹拌時に再沸する。好ま
しくは０．０１２％以下、より好ましくは０．０１％以
下である。脱泡またはガラス原料の溶解をより促進した
い場合はＳＯ3を０．００１％以上含有することが好ま
しい。より好ましくは０．００１２％以上である。ＳＯ
3含有は、通常、ボウ硝等の硫酸塩をガラス原料に添加
することによって行われるが、その他に、たとえば重油
燃焼窯においては重油のＳ含有不純物にも起因する。
【００１５】ＣｌおよびＦは脱泡のための成分であり、
少なくともいずれか一方を含有しなければならない。Ｃ
ｌおよびＦの含有量の合計Ｃｌ＋Ｆが０．０５％未満で
は脱泡が不充分になる。また、Ｃｌ＋Ｆは１％以下であ
ることが好ましい。
少なくともいずれか一方を含有しなければならない。Ｃ
ｌおよびＦの含有量の合計Ｃｌ＋Ｆが０．０５％未満で
は脱泡が不充分になる。また、Ｃｌ＋Ｆは１％以下であ
ることが好ましい。
【００１６】Ｃｌは、脱泡または前記再沸抑制のために
１％まで含有してもよい。１％超ではかえってＣｌに起
因する再沸が起る。好ましくは０．８％以下、より好ま
しくは０．５％以下である。脱泡または前記ＳＯ3に起
因する再沸抑制をより促進したい場合は０．０５％以上
含有することが好ましい。より好ましくは０．１％以上
である。
１％まで含有してもよい。１％超ではかえってＣｌに起
因する再沸が起る。好ましくは０．８％以下、より好ま
しくは０．５％以下である。脱泡または前記ＳＯ3に起
因する再沸抑制をより促進したい場合は０．０５％以上
含有することが好ましい。より好ましくは０．１％以上
である。
【００１７】Ｆは、溶融ガラスの表面張力を低下させ、
溶融ガラス表面に存在する泡を破れやすくする効果、ま
たは溶融ガラス中の微小な泡を削減する効果があり、
０．５％まで含有してもよい。０．５％超では揮散が多
くなってガラスの均質性が低下する。好ましくは０．３
％以下である。
溶融ガラス表面に存在する泡を破れやすくする効果、ま
たは溶融ガラス中の微小な泡を削減する効果があり、
０．５％まで含有してもよい。０．５％超では揮散が多
くなってガラスの均質性が低下する。好ましくは０．３
％以下である。
【００１８】本発明のガラスにおいては、Ａｌ2Ｏ3が２
〜２０％、ＣａＯが０〜６％、ＳＯ 3が０．００１〜
０．０１５％、Ｃｌが０．０５〜０．８％、Ｆが０〜
０．３％、であることが好ましい。
〜２０％、ＣａＯが０〜６％、ＳＯ 3が０．００１〜
０．０１５％、Ｃｌが０．０５〜０．８％、Ｆが０〜
０．３％、であることが好ましい。
【００１９】本発明のガラスは本質的に上記成分からな
るが、その他の成分、たとえばＴｉＯ2、ＺｒＯ2等を本
発明の目的を損なわない範囲で含有してもよい。前記そ
の他の成分の含有量の合計は１０％以下であることが好
ましい。より好ましくは５％以下である。
るが、その他の成分、たとえばＴｉＯ2、ＺｒＯ2等を本
発明の目的を損なわない範囲で含有してもよい。前記そ
の他の成分の含有量の合計は１０％以下であることが好
ましい。より好ましくは５％以下である。
【００２０】なお、本発明のガラスはＡｓ2Ｏ3を含有し
ないことが好ましい。また、Ｓｂ2Ｏ3も含有しないこと
が好ましい。Ａｓ2Ｏ3およびＳｂ2Ｏ3のいずれも含有し
ないことがより好ましい。なお、本明細書でいう「含有
しない」とは「不純物レベルの含有」を包含する。すな
わち、Ａｓ2Ｏ3およびＳｂ2Ｏ3の場合についていえば、
いずれについても０．０５％またはそれ以下の含有が典
型的な不純物レベルであって、本発明のガラスはＡｓ2
Ｏ3またはＳｂ2Ｏ3を含有するとしても不純物レベルで
あることが好ましい。
ないことが好ましい。また、Ｓｂ2Ｏ3も含有しないこと
が好ましい。Ａｓ2Ｏ3およびＳｂ2Ｏ3のいずれも含有し
ないことがより好ましい。なお、本明細書でいう「含有
しない」とは「不純物レベルの含有」を包含する。すな
わち、Ａｓ2Ｏ3およびＳｂ2Ｏ3の場合についていえば、
いずれについても０．０５％またはそれ以下の含有が典
型的な不純物レベルであって、本発明のガラスはＡｓ2
Ｏ3またはＳｂ2Ｏ3を含有するとしても不純物レベルで
あることが好ましい。
【００２１】本発明のガラスは、アンプル、液晶ディス
プレイ用基板等の基板、等に好適である。
プレイ用基板等の基板、等に好適である。
【００２２】本発明のガラスを製造する方法は特に限定
されず、各種製造方法を採用できる。たとえば、目標組
成となるように通常使用される原料を調合し、これをガ
ラス溶融窯中で１５００〜１７００℃に加熱して溶融す
る。バブリングまたは撹拌などによって溶融ガラスの均
質化を行う。
されず、各種製造方法を採用できる。たとえば、目標組
成となるように通常使用される原料を調合し、これをガ
ラス溶融窯中で１５００〜１７００℃に加熱して溶融す
る。バブリングまたは撹拌などによって溶融ガラスの均
質化を行う。
【００２３】また、溶融ガラスの均質化の前工程または
後工程として、公知の溶融ガラス減圧脱泡処理を行い、
一層の泡削減を図ってもよい。撹拌を行う場合、その前
工程として減圧脱泡処理を行うと再沸が抑制され、その
結果、前記撹拌をより強く行える効果がある。ここで、
減圧脱泡工程とは、大気圧下で溶融されたガラスを、大
気圧未満の圧力下、典型的には大気圧よりも０．５気圧
以上低い圧力下に保持する工程であって溶融ガラスの脱
泡促進のために設けられるものである。
後工程として、公知の溶融ガラス減圧脱泡処理を行い、
一層の泡削減を図ってもよい。撹拌を行う場合、その前
工程として減圧脱泡処理を行うと再沸が抑制され、その
結果、前記撹拌をより強く行える効果がある。ここで、
減圧脱泡工程とは、大気圧下で溶融されたガラスを、大
気圧未満の圧力下、典型的には大気圧よりも０．５気圧
以上低い圧力下に保持する工程であって溶融ガラスの脱
泡促進のために設けられるものである。
【００２４】液晶ディスプレイ用基板等の基板として使
用する場合は、周知のプレス法、ダウンドロー法、フロ
ート法等の方法により所定の板厚に成形し、徐冷後、研
削、研磨などの加工を行い、所定のサイズ、形状の基板
とする。アンプルとして使用する場合は、周知のダンナ
ー法等の方法によってガラス管に成形し、該ガラス管を
加工してアンプルとする。
用する場合は、周知のプレス法、ダウンドロー法、フロ
ート法等の方法により所定の板厚に成形し、徐冷後、研
削、研磨などの加工を行い、所定のサイズ、形状の基板
とする。アンプルとして使用する場合は、周知のダンナ
ー法等の方法によってガラス管に成形し、該ガラス管を
加工してアンプルとする。
【００２５】
【実施例】表１のＳｉＯ2〜Ｆの欄に質量百分率表示で
示した組成となるように調合した原料を、ガラス溶融窯
で溶解、撹拌後、フロート法で板状に成形後、冷却して
切断して５０ｃｍ×１００ｃｍのガラス板（厚さ：１ｍ
ｍ）を得た。前記撹拌はガラス溶融窯とフロートバスの
間に設けられた均質化槽内で行い、その回転速度は１０
回／分とした。前記ガラス板のα（単位：１０-7／
℃）、歪点（単位：℃）、徐冷点（単位：℃）を表１に
示す。例１〜４は実施例、例５は比較例である。
示した組成となるように調合した原料を、ガラス溶融窯
で溶解、撹拌後、フロート法で板状に成形後、冷却して
切断して５０ｃｍ×１００ｃｍのガラス板（厚さ：１ｍ
ｍ）を得た。前記撹拌はガラス溶融窯とフロートバスの
間に設けられた均質化槽内で行い、その回転速度は１０
回／分とした。前記ガラス板のα（単位：１０-7／
℃）、歪点（単位：℃）、徐冷点（単位：℃）を表１に
示す。例１〜４は実施例、例５は比較例である。
【００２６】また、前記ガラス板に存在する大きさが２
０μｍ以上の泡の数を、暗室中で、ガラス板から５０ｃ
ｍ離れて設置された高輝度点光源（水銀ランプ）からガ
ラス板に光を照射しながら数えた。また、前記ガラス板
に存在する脈理の強さを調べた。ガラス１ｋｇあたりの
泡の数を表１の泡の欄に、脈理の強さを均質度の欄にそ
れぞれ示す。泡の数は０．１個／ｋｇ以下であることが
好ましい。脈理の強さは、液晶ディスプレイ用基板とし
て許容されるものを○、許容されないものを×とした。
０μｍ以上の泡の数を、暗室中で、ガラス板から５０ｃ
ｍ離れて設置された高輝度点光源（水銀ランプ）からガ
ラス板に光を照射しながら数えた。また、前記ガラス板
に存在する脈理の強さを調べた。ガラス１ｋｇあたりの
泡の数を表１の泡の欄に、脈理の強さを均質度の欄にそ
れぞれ示す。泡の数は０．１個／ｋｇ以下であることが
好ましい。脈理の強さは、液晶ディスプレイ用基板とし
て許容されるものを○、許容されないものを×とした。
【００２７】
【表１】
【００２８】また、表２のＳｉＯ2〜Ｆの欄に質量百分
率表示で示した組成となるように調合した原料を白金ル
ツボに入れ、電気炉内で溶解、撹拌後、溶融ガラスをカ
ーボン板上に板状に流し出して冷却した。得られたガラ
スを切断・研磨して１０ｃｍ×２０ｃｍのガラス板（厚
さ：６ｍｍ）とした。前記撹拌は、白金製スターラを用
いて３０分間行い、その回転速度は５回／分とした。前
記ガラス板のα（単位：１０-7／℃）、歪点（単位：
℃）、徐冷点（単位：℃）を表２に示す。例６、７は実
施例、例８は比較例である。
率表示で示した組成となるように調合した原料を白金ル
ツボに入れ、電気炉内で溶解、撹拌後、溶融ガラスをカ
ーボン板上に板状に流し出して冷却した。得られたガラ
スを切断・研磨して１０ｃｍ×２０ｃｍのガラス板（厚
さ：６ｍｍ）とした。前記撹拌は、白金製スターラを用
いて３０分間行い、その回転速度は５回／分とした。前
記ガラス板のα（単位：１０-7／℃）、歪点（単位：
℃）、徐冷点（単位：℃）を表２に示す。例６、７は実
施例、例８は比較例である。
【００２９】また、前記ガラス板に存在する大きさが２
０μｍ以上の泡の数を、暗室中で、ガラス板側面から高
輝度点光源（水銀ランプ）からの光を照射しながら数え
た。また、前記ガラス板に存在する脈理の強さを調べ
た。ガラス１ｇあたりの泡の数を表２の泡の欄に、脈理
の強さを均質度の欄にそれぞれ示す。泡の数は０．０２
個／ｇ以下であることが好ましい。脈理の強さは、液晶
ディスプレイ用基板として許容されるものを○とした。
０μｍ以上の泡の数を、暗室中で、ガラス板側面から高
輝度点光源（水銀ランプ）からの光を照射しながら数え
た。また、前記ガラス板に存在する脈理の強さを調べ
た。ガラス１ｇあたりの泡の数を表２の泡の欄に、脈理
の強さを均質度の欄にそれぞれ示す。泡の数は０．０２
個／ｇ以下であることが好ましい。脈理の強さは、液晶
ディスプレイ用基板として許容されるものを○とした。
【００３０】
【表２】
【００３１】
【発明の効果】本発明のガラスは、泡が少なく、かつ均
質性に優れたアルミノホウケイ酸ガラスであり、高品質
のアンプル、液晶ディスプレイ基板、フォトマスク用基
板、磁気ディスク用基板等が得られる。
質性に優れたアルミノホウケイ酸ガラスであり、高品質
のアンプル、液晶ディスプレイ基板、フォトマスク用基
板、磁気ディスク用基板等が得られる。
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Claims (6)
- 【請求項１】下記成分基準の質量百分率表示で、本質的
に、 ＳｉＯ2 ４５〜７８％、 Ａｌ2Ｏ3 ２〜２２％、 Ｂ2Ｏ3 ４〜１５％、 Ｌｉ2Ｏ ０〜２％、 Ｎａ2Ｏ ０〜１０％、 Ｋ2Ｏ ０〜３％、 ＭｇＯ ０〜５％、 ＣａＯ ０〜８％、 ＳｒＯ ０〜１０％、 ＢａＯ ０〜１７％、 ＺｎＯ ０〜１０％、 Ｆｅ2Ｏ3 ０〜０．１５％、 ＳＯ3 ０〜０．０１５％、 Ｃｌ ０〜１％、 Ｆ ０〜０．５％、 からなり、Ｃｌ＋Ｆが０．０５％以上であるアルミノホ
ウケイ酸ガラス。 - 【請求項２】Ａｌ2Ｏ3が２〜２０％、ＣａＯが０〜６
％、ＳＯ3が０．００１〜０．０１５％、Ｃｌが０．０
５〜０．８％、Ｆが０〜０．３％、である請求項１に記
載のアルミノホウケイ酸ガラス。 - 【請求項３】ＳｉＯ2が６１％以上、Ａｌ2Ｏ3が１０％
以下である請求項１または２に記載のアルミノホウケイ
酸ガラス。 - 【請求項４】Ｂ2Ｏ3が７％以上である請求項１、２また
は３に記載のアルミノホウケイ酸ガラス。 - 【請求項５】Ｌｉ2Ｏ＋Ｎａ2Ｏ＋Ｋ2Ｏが１％以上であ
る請求項１、２、３または４に記載のアルミノホウケイ
酸ガラス。 - 【請求項６】歪点が５２０〜７００℃である請求項１〜
５のいずれかに記載のアルミノホウケイ酸ガラス。
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