JP4756856B2 - ガラス組成物およびその製造方法 - Google Patents
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Description
・高低差を設けた複雑な構造の熔解炉が必要であること
・熔解する高い温度で気密を保つ必要があること
・高価な白金類による内張りが必要であること
・耐火物の目地を塞ぐための特殊な構造や作業が必要であること
・特殊な構造を維持するための頻繁な補修が必要であること
・熔解炉の稼働率が低いこと
などの問題点である。
SiO2 70〜88%,
B2O3 6〜18%,
Al2O3 0.5〜4.5%,
Li2O 0〜0.5%,
Na2O 0〜0.5%,
K2O 2〜10%,
MgO+CaO+SrO+BaO 0〜2%,
を含み、所定の含有率の範囲の塩素を含むことを特徴とするガラス組成物からなるガラス板を用いた情報表示装置用ガラス基板である。
SiO2 75〜82%,
B2O3 10〜15%,
Al2O3 0.5〜3%,
Li2O 0〜0.5%,
Na2O 0〜0.5%,
K2O 4〜8%,
Li2O+Na2O+K2O 5〜8%,
を含むガラス組成物からなるガラス板を用いた情報表示装置用ガラス基板である。
SiO2 75〜82%,
B2O3 10〜15%,
Al2O3 0.5〜3%,
K2O 5〜8%,
を含み、実質的にLi2OおよびNa2Oを含まないガラス組成物からなるガラス板を用いた情報表示装置用ガラス基板である。
SiO2 70〜88%,
B2O3 6〜18%,
Al2O3 0.5〜4.5%,
Li2O 0〜0.5%,
Na2O 0〜0.5%,
K2O 2〜10%,
MgO+CaO+SrO+BaO 0〜2%,
を含み、所定の範囲の塩素を含むガラス組成物からなるガラス板を製造することを特徴とする情報表示装置用ガラス基板の製造方法である。
SiO2 75〜82%,
B2O3 10〜15%,
Al2O3 0.5〜3%,
Li2O 0〜0.5%,
Na2O 0〜0.5%,
K2O 4〜8%,
Li2O+Na2O+K2O 5〜8%,
を含むガラス組成物からなるガラス板を製造する、情報表示装置用ガラス基板の製造方法である。
SiO2 75〜82%,
B2O3 10〜15%,
Al2O3 0.5〜3%,
K2O 5〜8%,
を含み、実質的にLi2OおよびNa2Oを含まないガラス組成物からなるガラス板を製造する、情報表示装置用ガラス基板の製造方法である。
SiO2は、ガラスの骨格を形成する必須成分である。SiO2の含有率が70%未満では、ガラス組成物の耐熱性が低くなる。一方、SiO2の含有率が88%を超えると、ガラス融液の粘性が上昇し、熔解清澄が困難になる。したがって、SiO2の含有率は、70%〜88%である必要があり、75〜82%がより好ましい。
B2O3は、ガラス組成物からのアルカリ溶出を増やさずに、ガラスの熔解性を改善する必須成分である。B2O3の含有率が6%未満では、ガラスバッチの熔解やガラス融液の清澄が困難になる。一方、B2O3はガラスの分相を促進する成分であるので、その含有率が18%を超えると、分相による化学的耐久性の悪化や乳白化を起こしやすくなり、耐熱性も低下する。したがって、B2O3の含有率は、6〜18%である必要があり、10〜15%がより好ましい。
Al2O3はガラス組成物の耐熱性を高め、分相を抑制する必須成分である。分相を抑制する効果は、Al2O3の含有率が0.5%以上であるときに顕著である。しかし、Al2O3は熔解が困難であり、4.5%を超えるとガラス中に未溶解の異物として残存し、さらにガラス融液中の気泡を抜けにくくする。そのため、Al2O3の含有率は、0.5〜4.5%である必要があり、0.5%〜3%がより好ましい。
K2Oはガラスの熔解性を高める必須成分であり、その含有率が2%未満ではガラスの熔解が困難になる。また、ガラス融液中に塩化物イオンが存在するときは、1400℃以上で塩化カリウムとして気化し、ガラス中の泡を拡大浮上させるとともに、その流動でガラス融液を均質化させる。さらに、Kイオンは、LiやNaイオンと比較してイオン半径が大きいために、ガラス物品中での移動速度が小さく、ガラス物品からのKイオンの溶出量は、ごく少量である。そのため、本発明のガラス組成物からなるガラス物品を用いた製品の性能が、溶出したKイオンによって損なわれる虞がない。
Na2OおよびLi2Oは共にガラスの熔解性を高める成分であり、さらにK2Oと共存することで、ガラス組成物の化学的耐久性を高める効果を持つ。しかし、LiやNaイオンは、Kイオンと比較してイオン半径が小さいために、ガラス中での移動速度が大きい。そのためにガラス融液の分相を起こしやすい。さらに、本発明のガラス組成物からなるガラス物品を用いた製品において、徐々にガラス物品からLiやNaイオンが溶出し、製品の性能を損なう虞がある。また、Na2OやLi2Oは、K2Oと同じく熔解中にガラス融液表面からホウ酸塩として揮発しやすい。ホウ酸塩が揮発すると、ホウ酸カリウムの揮発と同様に、Na2OやLi2O,B2O3の含有率がガラス融液の表面と、表面以外の内部とで一致しなくなる。すると、ガラス融液の不均質が大きくなり、脈理の大きな原因となる。さらに、LiやNaイオンはガラス融液中における移動速度が大きいので、それらのイオンは上述の含有率の差を駆動力として拡散する。この拡散によって、ガラス融液の表面以外の内部において、Na2OやLi2O,B2O3の含有率が不均一になる。したがって、Na2O,Li2Oの含有率は、それぞれ0.5%以下である必要があり、さらには、実質的にNa2O,Li2Oを含有しないのが好ましい。
さらに、熔解を容易にするためにはLi2O,Na2OおよびK2Oのいわゆるアルカリ酸化物の含有率を、合計で5〜8%とするのが好ましい。
MgO,CaO,SrO,BaOなどのアルカリ土類は、ガラスの耐熱性を高め、ガラス中のアルカリの移動を妨げることにより分相を防ぎ、化学的耐久性を高める成分である。しかし、その含有率が合計で2%を超えると、熔解時の塩化物の揮発による清澄を妨げ、泡品質を悪化させる。したがって、アルカリ土類の含有率は、2%以下である必要があり、0.5%以下が好ましい。
本発明のガラス組成物は、塩素(以下、Clと表記することがある)を含有するので、泡の残留の少ないガラス物品を得ることが容易である。塩素は、塩化物、特にアルカリ金属塩化物またはアルカリ土類塩化物を添加したガラス原料バッチを熔融することで、ガラス組成物に含有させることが好ましい。このようにすることで、ガラス融液に対する、塩素の効果的な清澄効果を実現することができる。
本発明のガラス組成物においては、実質的にPb,Sb,As,V,Ti,およびCeの何れの酸化物を含まないことが、さらに好ましい。なぜなら、本発明のガラス組成物がこれらの化合物を含む場合、上述した塩素による清澄の効果が、阻害されてしまうことがあるからである。
本発明のガラス組成物は、屈折率の制御,温度粘性特性の制御,失透性の向上などを目的として、その他の成分として、上述の成分以外の成分を含有することができる。その他の成分として、Y2O3,La2O3,Ta2O5,Nb2O5,GeO2,またはGa2O5などの成分が、合計で3%を上限として含有されていてもよい。
表1および2に示した組成になるように、ガラス体を以下の手順に従って作製し、得られたガラス体のガラス転移温度、線膨張係数、密度を測定した。
まず、純水を浸液として用いたアルキメデス法により、試料ガラスの密度を測定した。
さらに、この試料ガラスに通常のガラス加工技術を用い、φ5mm、長さ15mmの円柱形状とし、ガラス試片とした。このガラス試片に対して示差熱膨張計(理学株式会社製サーモフレックス TMA8140型)を用い、熱膨張係数およびガラス転移点を測定した。
まず、上述した試料ガラスを粉砕して、失透温度測定用試料とした。つまり、メノウ乳鉢を用いて試料ガラスを粉砕し、2380μmの篩を通過し、1000μmの篩上に留まったガラス粒を篩い分けた。そのガラス粒をエタノールに浸漬し、超音波洗浄した後、恒温槽で乾燥させて、失透温度測定用試料とした。
耐酸性は、フッ酸に曝したときのエッチングレート(侵食速度)で評価した。まず、上述の試料ガラスを切断、研削して基板状に加工した後に表面を光学研磨し、その光学研磨面の一部に耐酸性樹脂でマスキングを施して、耐酸性評価試片とした。次に、この試片を、60℃に加温した0.2%のフッ酸水溶液に浸漬し、エッチングした。試片のマスキングされた部分はエッチングされないが、マスキングされていない部分はフッ酸によりエッチングされるので、マスキングされた部分とされなかった部分との間に段差ができる。その段差を表面凹凸計で測定し、単位時間当りの侵食速度を計算することにより、耐フッ酸性を評価した。
上述の試料ガラスを、倍率40倍の光学顕微鏡で観察し、厚み、視野面積と観察された泡の数からガラス1cm3当りの泡数を算出した。この方法はルツボを用いた簡易な熔解なので、算出した泡数は、実際に商業規模で生産されるガラス体に含まれる泡数と比較して、非常に多い。しかし、この方法で算出した泡数が少ない程、商業規模で生産したガラス体に含まれる泡数も少ないことが分かっている。したがって、この方法は、清澄性の指標として利用できる。
比較例1は、一般的に液晶用基板として用いられるガラス組成物と同じ組成のガラス体である。比較例1は、泡数が5000個/cm3と非常に多いので、比較例1の組成物は清澄性が悪い。さらに、比較例1のエッチングレートは590nm/minと非常に大きい。したがって、比較例1の組成のガラス基板を、製造,使用時に酸性の薬品,ガスによる処理が必要な用途に用いることは、好ましくない。
比較例2のガラス体も、実施例と比較して泡が多く、清澄性に劣る。さらに、ガラス中での移動速度が高いナトリウムを含むため、ガラス体には揮発による脈理が生じていた。また、比較例2の組成のガラス基板を液晶表示装置用基板に用いると、ガラス基板からナトリウムが溶出し、電極や液晶の機能を阻害する虞がある。さらに、比較例2のエッチングレートは68nm/minと大きいので、比較例2の組成のガラス基板を、製造,使用時に酸性の薬品,ガスによる処理が必要な用途に用いることは、好ましくない。
比較例3のガラス体は、泡数が実施例に近く、清澄性が高いといえる。しかし、ガラス中での移動速度が高いナトリウムを含むため、ガラス体には揮発と相分離による強い脈理が生じ、また膨張係数が51×10-7℃-1と大きい。したがって、比較例3の組成のガラス基板を液晶表示装置用基板に用いると、ガラス基板からナトリウムが溶出し、電極や液晶の機能を阻害するとともに、シリコンとの熱膨張差によって表示装置に反りを生じる虞がある。さらに、比較例3のエッチングレートは46nm/minと大きいので、比較例3の組成のガラス基板を、酸性の薬品やガスに曝すことが必要な用途に用いることは好ましくない。
Claims (15)
- 質量%で示して、
SiO2 70〜88%,
B2O3 6〜18%,
Al2O3 0.5〜4.5%,
Li2O 0〜0.5%,
Na2O 0〜0.5%,
K2O 2〜10%,
MgO+CaO+SrO+BaO 0〜2%,
を含み、所定の範囲の塩素を含むことを特徴とするガラス組成物からなるガラス板を用いた情報表示装置用ガラス基板。 - 請求項1に記載の情報表示装置用ガラス基板であって、
前記ガラス組成物は、質量%で示して、
SiO2 75〜82%,
B2O3 10〜15%,
Al2O3 0.5〜3%,
Li2O 0〜0.5%,
Na2O 0〜0.5%,
K2O 4〜8%,
Li2O+Na2O+K2O 5〜8%,
を含む、情報表示装置用ガラス基板。 - 請求項2に記載の情報表示装置用ガラス基板であって、
前記ガラス組成物は、質量%で示して、
SiO2 75〜82%,
B2O3 10〜15%,
Al2O3 0.5〜3%,
K2O 5〜8%,
を含み、実質的にLi2OおよびNa2Oを含まない、情報表示装置用ガラス基板。 - 請求項1〜3の何れか1項に記載の情報表示装置用ガラス基板であって、
前記ガラス組成物は、前記塩素の含有率が、質量%で示して0.005〜1%である、情報表示装置用ガラス基板。 - 請求項1〜4の何れか1項に記載の情報表示装置用ガラス基板であって、
前記ガラス組成物は、Pb,Sb,As,V,TiおよびCeの何れの酸化物をも実質的に含まない、情報表示装置用ガラス基板。 - 請求項1〜5の何れか1項に記載の情報表示装置用ガラス基板であって、
前記ガラス組成物は、50〜350℃の範囲における平均線熱膨張係数が30〜50×10-7℃-1である、情報表示装置用ガラス基板。 - 請求項1〜6の何れか1項に記載のガラス基板を用いた情報表示装置。
- 所定の組成になるように調合した、塩化物を含有するガラス原料からなるバッチを、熔融することによって、質量%で示して、
SiO2 70〜88%,
B2O3 6〜18%,
Al2O3 0.5〜4.5%,
Li2O 0〜0.5%,
Na2O 0〜0.5%,
K2O 2〜10%,
MgO+CaO+SrO+BaO 0〜2%,
を含み、所定の範囲の塩素を含むガラス組成物からなるガラス板を製造することを特徴とする情報表示装置用ガラス基板の製造方法。 - 請求項8に記載の情報表示装置用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス組成物は、質量%で示して、
SiO2 75〜82%,
B2O3 10〜15%,
Al2O3 0.5〜3%,
Li2O 0〜0.5%,
Na2O 0〜0.5%,
K2O 4〜8%,
Li2O+Na2O+K2O 5〜8%,
を含む、情報表示装置用ガラス基板の製造方法。 - 請求項9に記載の情報表示装置用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス組成物は、質量%で示して、
SiO2 75〜82%,
B2O3 10〜15%,
Al2O3 0.5〜3%,
K2O 5〜8%,
を含み、実質的にLi2OおよびNa2Oを含まない、情報表示装置用ガラス基板の製造方法。 - 請求項8〜10の何れか1項に記載の情報表示装置用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス組成物は、前記塩素の含有率が質量%で示して0.005〜1%である、情報表示装置用ガラス基板の製造方法。 - 請求項8〜11の何れか1項に記載の情報表示装置用ガラス基板の製造方法であって、
前記塩化物がアルカリ金属塩化物またはアルカリ土類塩化物の何れかである、情報表示装置用ガラス基板の製造方法。 - 請求項8〜12の何れか1項に記載の情報表示装置用ガラス基板の製造方法であって、
前記塩化物が塩化カリウムである、情報表示装置用ガラス基板の製造方法。 - 請求項8〜13の何れか1項に記載の情報表示装置用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス組成物は、Pb,Sb,As,V,TiおよびCeの何れの酸化物をも実質的に含まない、情報表示装置用ガラス基板の製造方法。 - 請求項8〜14の何れか1項に記載の情報表示装置用ガラス基板の製造方法であって、
前記ガラス組成物は、50〜350℃の範囲における平均線熱膨張係数が30〜50×10-7℃-1である、情報表示装置用ガラス基板の製造方法。
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