JP2006265001A - ガラスおよびガラス製造方法 - Google Patents

ガラスおよびガラス製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2006265001A
JP2006265001A JP2005081724A JP2005081724A JP2006265001A JP 2006265001 A JP2006265001 A JP 2006265001A JP 2005081724 A JP2005081724 A JP 2005081724A JP 2005081724 A JP2005081724 A JP 2005081724A JP 2006265001 A JP2006265001 A JP 2006265001A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
glass
terms
less
mass percentage
glass substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005081724A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4715258B2 (ja
Inventor
Junichiro Kase
準一郎 加瀬
Mineko Yamamoto
峰子 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP2005081724A priority Critical patent/JP4715258B2/ja
Publication of JP2006265001A publication Critical patent/JP2006265001A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4715258B2 publication Critical patent/JP4715258B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)

Abstract

【課題】TFT−LCD用ガラス基板、有機EL用ガラス基板などとして使用されるガラス中の泡を、ヒ素またはアンチモンを使用せずに低減する。
【解決手段】SiO、Al、B、MgO、CaO、SrOおよびBaOを母組成とし、該母組成の総量に対して、質量百万分率表示または質量百分率表示で硫黄をSO換算で1ppm以上、0.02%未満含有し、質量百分率表示でNaおよび/またはKをRO(Rは、Na、Kを意味する)換算で0.03%以上、0.1%未満含有する。
【選択図】なし

Description

本発明は、ガラスおよびガラス製造方法に関するものである。
フラットパネルディスプレイ用のガラス基板は、その用途から一般的に、アルカリ金属酸化物を質量百分率表示で10%以上含有するアルカリ含有ガラスとアルカリ金属酸化物を実質的に含有しない無アルカリガラスとに大別される。アルカリ含有ガラスは、プラズマ・ディスプレイ(PDP)、プラズマ・アシスト液晶ディスプレイ(PALC)、フィールド・エミッション・ディスプレイ(FED)などのガラス基板に使用され、無アルカリガラスは、薄膜トランジスタ駆動カラー液晶ディスプレイ(TFT−LCD)、エレクトロ・ルミネッセンス・ディスプレイ(EL)などのガラス基板に使用される。
こうしたフラットパネルディスプレイ用のガラス基板では、視認可能な欠点が実質的に存在しないことが要求されている。代表的な欠点のひとつにガラス中の泡があり、特に100μm以上の泡は存在しないことが好ましい。
このような泡に関する要求を満たすために、ガラスの原料は通常、原料を溶解して得られる溶融ガラスから泡を取り除くための清澄剤を含有するものとされる。ガラスに適用される一般的な清澄剤としては、As、Sb等の酸化物系清澄剤、NaSO、KSO、CaSO、BaSO等の硫酸塩系清澄剤、NaCl等が知られている。(例えば、非特許文献1参照。)なお、硫酸塩は、溶融ガラス中ではSO 2−として存在していると考えられるが、本発明では酸化物として表示する場合にはSOと記載する。
例えば、TFT−LCD用ガラス基板や有機EL用ガラス基板には、アルカリ金属酸化物を実質的に含有しない無アルカリガラスが使用され、その清澄剤としてAsやSbが多く用いられている(例えば、特許文献1参照)。
その他に、無アルカリガラスの清澄剤としては、Fe、SnO、Cl、Fなどが知られている(例えば、特許文献2、3参照)。
ガラス中の泡を充分に取り除くためには、原料溶解時の清澄反応による脱泡のみではなく、清澄後に再度発生する泡を抑制することも必要となる。
即ち、溶解、清澄されたガラスは、フロート法等の成形工程に至るまで、スターラーによる均質化工程や各工程を結ぶ導入管を通るが、これらの構造物である白金やレンガとガラスとの界面で発生する泡(以下、リボイル泡という)を抑制する必要がある。
特許第3465238号公報 特開平10−324526号公報 特開平11−4330号公報 山根正之他編「ガラス工学ハンドブック」朝倉書店1999年
フラットパネルディスプレイ用ガラス基板の泡抑制に関する要求は、前述のとおり非常に厳しいものであり、大きさが100μm以上の泡は存在しないことが好ましく、数10μmという小さな泡であっても少ないことが要求される。
前述したように、TFT−LCD用ガラス基板や有機EL用ガラス基板には、従来、アルカリを実質的に含有しない無アルカリガラスが使用され、その清澄剤としてAsやSbが多く用いられている。AsおよびSb、特にAsは溶融ガラスから泡を取り除くという点で極めて優れた清澄剤であるが、環境への負荷が大きくその使用の抑制が求められている。
一方、硫酸塩はAsに比べて環境への負荷が著しく少ないという点で極めて優れた清澄剤である。無アルカリガラスにおいても、Cl等との組み合わせにより硫酸塩が使用されている。しかし、無アルカリガラスにおいては清澄作用が劣り泡の抑制が劣るばかりか、一旦清澄した後にリボイル泡が発生しやすいという問題があった。
本発明はこのような課題を解決する、すなわち、AsおよびSbを実質含有せず、硫酸塩により効果的に泡の発生を抑制するガラスおよびガラス製造方法の提供を目的とする。
本発明は、SiO、Al、B、MgO、CaO、SrOおよびBaOを母組成とし、該母組成の総量に対して、質量百万分率表示または質量百分率表示で硫黄をSO換算で1ppm以上、0.02%未満含有し、質量百分率表示でNaおよび/またはKをRO(Rは、Na、Kを意味する)換算で0.03%以上、0.1%未満含有するガラス基板を提供する。
また本発明は、前記母組成の総量に対して、質量百分率表示でClを0.05〜1%含有する上記ガラス基板を提供する。
また本発明は、前記母組成の総量に対して、質量百分率表示でFeをFe換算で、0.0015%以上含有するガラス基板であって、ガラスの還元度をFeイオンの割合で表して、Fe2+/(Fe2++Fe3+)が0.67以下に相当する還元度である上記ガラス基板を提供する。
また本発明は、前記母組成の総量に対して、質量百分率表示でSnO、CeOおよびTiOからなる群から選ばれる1種以上を、0.01〜2%含有する上記ガラス基板を提供する。
また本発明は、前記母組成が、酸化物基準の質量百分率表示で
SiO 45〜70%
Al 5〜25%
1〜20%
MgO 0〜10%
CaO 0〜15%
SrO 0〜15%
BaO 0〜20%
を含有する上記ガラス基板を提供する。
また本発明は、前記ガラス基板が、TFT−LCD用ガラス基板または有機EL用ガラス基板である上記ガラス基板を提供する。
また本発明は、原料を溶解してガラスを製造する方法であって、SiO、Al、B、MgO、CaO、SrOおよびBaOを原料の母組成とし、該母組成の総量に対して、質量百分率表示で硫酸塩をSOに換算して0.05%以上、1.0%未満、および質量百分率表示でNaおよび/またはKをRO(Rは、Na、Kを意味する)換算で0.03%以上、0.1%未満の割合で原料に含まれるように調製することを特徴とするガラスの製造方法を提供する。
また本発明は、前記母組成の総量に対して、質量百分率表示で塩化物をCl換算で、0.1〜3%の割合で原料に含まれるように調製することを特徴とする上記ガラスの製造方法を提供する。
また本発明は、前記母組成の総量に対して、質量百分率表示でFeをFe換算で、0.0015%以上の割合で原料に含まれるように調製し、ガラスの還元度をFeイオンの割合で表して、Fe2+/(Fe2++Fe3+)が0.67以下に相当する還元度になるようにガラスを溶解することを特徴とする上記ガラスの製造方法を提供する。
また本発明は、前記母組成の総量に対して、Sn、CeおよびTiのそれぞれの化合物からなる群から選ばれる1種以上を、質量百分率表示でSnO、CeOまたはTiOに換算して0.01〜2%の割合で原料に含まれるように調製することを特徴とする上記ガラスの製造方法を提供する。
また本発明は、前記母組成が、酸化物基準の質量百分率表示で
SiO 45〜70%
Al 5〜25%
1〜21%
MgO 0〜10%
CaO 0〜15%
SrO 0〜15%
BaO 0〜20%
含有することを特徴とする上記ガラスの製造方法を提供する。
また本発明は、原料を溶解しガラスを製造する際のガラス溶解の最高温度が、1610℃以下であることを特徴とする上記ガラスの製造方法を提供する。
本発明のガラスは、TFT−LCD等の製造工程において影響を及ぼさない程度の微量のアルカリが含有されることにより、ガラスの塩基性度が上がり、ガラス溶解製造時のSOのガラス融液への溶解度が向上する。これにより、SOの清澄剤としての泡抑制効果が向上するとともに、清澄反応後のリボイル泡の発生も抑制することが可能となる。
また、ガラス中に微量のアルカリが含有されることにより、ガラスの主原料である珪砂の溶解が促進され、ガラスの均質性が向上され、さらに、溶解初期における未溶融状態の珪砂を核として発生する泡をも抑制することができる。本発明のガラスは、特にTFT−LCD用ガラス基板や有機EL用ガラス基板として有効である。
以下、ガラスの組成は質量百分率表示で表し、また、たとえば酸化物基準の質量百分率表示でSiO換算のSi含有量を単にSiO含有量またはSiOということがある。また、0.1%以下の微量成分に関しては、質量百万分率(ppm)で表示することもある。
無アルカリガラスは、従来、ガラス中にアルカリ酸化物が実質含有されないものであったが、本発明のガラスは、アルカリ酸化物の含有量が0.03%以上、0.1%未満であり、TFT−LCD用ガラス基板や有機EL用ガラス基板として使用される際に、TFT製造工程等に影響を及ぼさないため、従来の無アルカリガラスに代わって使用可能である。ガラス中に0.1%以上のアルカリ酸化物が含有されると、例えばTFT製造工程において、ガラス基板上に形成されるトランジスタ特性が劣化するため、好ましくない。
アルカリ成分は主にガラス原料として供給され、NaCO、NaSO、NaCl、NaNO、KCO、KSO、KCl、KNOを用いることができる。また、窓ガラスなどに使用される通常のソーダ石灰ガラスのカレットを使用することもできる。
本発明のガラスのガラス転移温度(Tg)は、670℃以上、770℃以下であり、歪点は、典型的には640℃以上、特には660℃以上、730℃以下であることが好ましい。
本発明のガラスの熱膨張係数(JIS R3102(1995年)に準じて測定される値)は、典型的には25〜50×10−7−1(測定温度範囲50〜350℃)である。
本発明のガラスは、典型的には、SiO、Al、B、MgO、CaO、SrOおよびBaOを母組成とし、該母組成の総量に対して、質量百万分率表示または質量百分率表示で硫黄をSO換算で1ppm以上、0.02%未満含有し、質量百分率表示でNaおよび/またはKをRO(Rは、Na、Kを意味する)換算で0.03%以上、0.1%未満含有し、前記母組成が、酸化物基準の質量百分率表示で
SiO 45〜70%
Al 5〜25%
1〜20%
MgO 0〜10%
CaO 0〜15%
SrO 0〜15%
BaO 0〜20%
を含有する。なお、たとえば「MgO 0〜10%」は、MgOは10%まで含有してもよいことを示す。
SiOは必須成分であり、70%超ではガラスの溶解性が低下し、また失透しやすくなる。好ましくは68%以下、より好ましくは65%以下である。45%未満では比重増加、歪点低下、熱膨張係数増加、耐薬品性の低下が起こる。十分な耐酸性を得るためには好ましくは51%以上、より好ましくは57%以上である。
Alはガラスの分相を抑制し、また歪点を高くする成分であり必須である。25%超では失透しやすくなり、耐薬品性の低下が起こる。好ましくは22%以下、より好ましくは19%以下である。5%未満ではガラスが分相しやすくなる、または歪点が低下する。好ましくは10%以上、より好ましくは14%以上である。
は比重を小さくし、ガラスの溶解性を高くし、失透しにくくする成分であり、必須である。20%超では歪点が低下する、耐薬品性が低下する、またはガラス溶解時の揮散が顕著になりガラスの不均質性が増加する。好ましくは16%以下であり、より好ましくは12%以下である。1%未満では比重が増加し、ガラスの溶解性が低下する、また失透しやすくなる。好ましくは3%以上、より好ましくは6%以上である。
MgOは、比重を小さくしガラスの溶解性を向上させる成分である。10%超ではガラスが分相しやすくなる、失透しやすくなる、または耐薬品性が低下する。好ましくは7%以下であり、より好ましくは5%以下である。MgOを含有する場合、0.1%以上含有することが好ましい。特に溶解性を維持しながら比重を低下させるためには1%以上含有することが好ましい。
CaOは、ガラスの溶解性を高め、失透しにくくするため15%まで含有することができる。15%超では比重が増加し、熱膨張係数が大きくなり、また、かえって失透しやすくなる。好ましくは12%以下、より好ましくは8%以下である。CaOを含有する場合、2%以上含有することが好ましい。より好ましくは4%以上である。
SrOは、ガラスの分相を抑制し、失透し難くするため15%まで含有することができる。15%超では比重が増加する、熱膨張係数が大きくなる、また、かえって失透しやすくなる。好ましくは12%以下、より好ましくは10%以下である。SrOを含有する場合、0.5%以上含有することが好ましい。より好ましくは3%以上である。
BaOは、ガラスの分相を抑制し、失透しにくくするため20%まで含有することができる。20%超では比重が増加する、また、熱膨張係数が大きくなる。好ましくは10%以下、より好ましくは1%以下である。特に軽量化を重視する場合には含有しないことが好ましい。
なお、本発明のガラスにおいては、ZnOは5%まで含有することができる。
本発明のガラスは、AsまたはSbが実質的に含有されなくても、SOもしくは、SOにCl、F、SnO、CeO、TiOなどを加えた清澄剤を添加することにより、効率的に脱泡することができ、またリボイル泡を抑制できるため、効果的に泡の発生を抑えることができる。
硫酸塩は、前述の通り溶融ガラス中ではSO 2−として存在していると考えられるが、本発明ではSOとして含有量を規定するものとする。
本発明のガラスは、前記母組成に対し、1ppm以上、0.02%未満のSOを含有する。SOは主にガラス原料として供給され、BaSO、SrSO、CaSO、NaSO、KSOの無水塩や含水塩を用いることができる。原料から供給されるSOの総量は、0.05%以上、1%未満であることが好ましい。なお、ガラス組成と使用原料により、ガラスの原料であるBaCOやSrCOから不純物として数100ppm程度のSOが供給される。
ガラス原料から供給されるSOは、ガラスの溶解の際に容易に揮散する。ガラスに残存する(含有される)SO量は、原料からの供給量の1/10以下となることが一般的である。ガラス中に残存するSO量は供給量に対して微量であり、ガラスの溶解温度や溶解時間といった熱履歴、ガラスの酸化還元の状態、およびガラス組成に依存する部分が大きい。最終的にガラス中に残存するSOが1ppm未満であると清澄効果が少ない。良好な清澄効果を発生させるためには、1ppm以上、好ましくは5ppm以上のSO残存量となる。また0.02%超のSOが残存する場合には、リボイル泡が発生しやすくなる。リボイル泡を抑制するためには、0.02%未満、好ましくは0.01%未満の残存量とする必要がある。
本発明のガラスは、微量のアルカリ金属酸化物を含有する。アルカリにより、SOすなわちSO 2−の溶解度が増加するため、清澄効果が増進し、かつリボイル泡が発生し難くなるものと考えられる。
硫酸塩による清澄は、次の反応であることが知られている。
2SO 2− → 2SO + O + 2O2− (1)
この反応は、たとえば、Baを含有し、実質的にアルカリが含有されないガラス中では次の反応として例示することができる。
2BaSO → 2SO + O + 2BaO (2)
ここで、BaをMg、Ca、Srに置き換えても同様の反応を考えることができる。微量のNaを添加することにより、次の反応が同時に進行することが期待できる。
2NaSO → 2SO + O + 2NaO (3)
ここで、NaをKに置き換えても同様の反応を考えることができる。
ガラスの構成成分の化学反応を個々に熱力学計算することにより、ガラスとしての反応の傾向を知ることができる。反応の平衡定数Keは次のようになる。
Ke=(pSO×(pO)×〔RO〕/〔RSO (4)
(Rは、Mg、Ca、Sr、Ba、Na、Kのいずれか)。
ここで、(pSO)と(pO)は、SOとOの分圧を示し、〔RO〕と〔RSO〕はガラス中におけるROとRSOの活量を示している。1400℃における平衡定数を表1に示す。また、〔RO〕と〔RSO〕を1と仮定し、log(pO)=−5としたときのlog(pSO)の計算結果を表1に示す。同様の仮定による、1400℃におけるlog(pO)とlog(pSO)の関係を図1に示す。なお、熱力学計算には、Outokumpu社の熱力学計算ソフトウェア「HSC Chemistry Version 4.1」を使用した。
図1において、ガラス中の酸素分圧は、FeOとFeの酸化還元状態から見積もることができ、本発明のガラスの場合、log(pO)が−4から−6付近に相当すると推定できる。ただし、こうした見積もりは、SnOなど酸素分圧で状態の変わる化合物が存在しない場合のみ有効である。表1より、無アルカリガラス中のアルカリ土類成分がMgとCaのみから構成されるときは、log(pSO)が正であることから、ガラス中にSO 2−が存在するとSOの分圧が1気圧以上となり、SOの泡が容易に発生することが分かる。
ガラス中にSrやBaが含まれた場合には、log(pSO)が負となるもののその値は小さく、SO 2−のガラスへの溶解度が低いことが分かる。一方、ガラス中にNaやKが含まれるとlog(pSO)が十分に小さくなり、SO 2−の溶解度が増加すること、すなわち(3)式の反応が可逆的に左側へも容易に進行することが分かる。またNaに比べてKの方がSO 2−をガラスに溶解させる効果が大きいことが分かる。
以上、〔RO〕と〔RSO〕を1と仮定して考察したが、これらの活量はガラス中の濃度に依存することが知られている。NaとBaの平衡定数の差が10以上であるため、濃度による活量差を考慮しても、SO 2−のガラスへの溶解に対して、0.1%未満の微量のアルカリでBa以上の効果を発揮することが分かる。
O(Rは、Na、Kからなる1種以上)の含有量は、溶存するSOに対して過剰であることが好ましく、前記母組成に対し0.03%以上、より好ましくは0.05%以上を含有させるとその効果が顕著になる。ガラス中の泡を取り除き、リボイル泡を抑制するという目的からは、ROの含有量は多いほうが好ましいが、TFT−LCD等の製造工程においてガラス上に形成するトランジスタの特性に影響を与えないためには、ROは0.1%未満であることが好ましい。
Na、Kの他、Liも同様の効果が得られると考えられるが、Liがlog(pSO)を低下させる効果はNa、Kに比べて小さいため、Na、Kを使用することが好ましい。RO成分を添加する場合には、NaCO、NaSO、NaCl、NaNO、KCO、KSO、KCl、KNO、または、窓ガラスなどに使用される通常のソーダ石灰ガラスのカレットをRO換算で0.03%以上、0.1%未満添加することが好ましい。
本発明のガラスは、AsおよびSbのいずれも実質含有されない。
本発明のガラスは、SOにCl、F、SnO、CeO、TiOなどを加えた清澄剤を添加することにより、更に効率的に脱泡することができ、またリボイル泡を抑制できるため、効果的に泡の発生を抑えることができる。
清澄剤としてSOとClとを組合せることが有効である。減圧脱泡と組み合わせて脱泡を行う場合には、Clは減圧下でHClガスを発生させるため、Clを含有させることは好ましい脱泡効果を発揮する。Clを含有させて減圧脱泡を行う場合には、絶対圧にして4kPa以上、50kPa以下、より好ましくは18kPa以上、35kPa以下の範囲で、15分以上、120分未満ガラスを減圧下に置くことが好ましい。
Clは、BaCl・2HO、SrCl・6HO、NaCl、KCl、NHClなどをガラス原料に使用することにより含有させることができる。塩化物をCl換算で0.1〜3%に相当する量でガラス原料に添加することが好ましい。原料中のClは、ガラス溶融の過程で1/2から1/5の分量に減少する。Clが清澄剤として有効に作用するためには、その結果としてガラス中の含有量が、質量百分率表示で0.05%〜1%、好ましくは0.1%〜1%となるようにする。含有量が1%を超えると、本発明のガラスをTFT−LCDガラス基板に用いる場合、歪点または耐薬品性が低下するおそれがあるため、1%以下であることが好ましい。
SnO、CeO、TiO等がSOのリボイルを抑制する機構は、必ずしも明確ではないが、これらの酸化物は高温で酸素を放出するため、酸素分圧に影響を与え、SOのリボイルを抑制しているものと考えられる。
SnO、CeO、TiOがリボイル抑制効果を発揮するためには、0.01%以上、より好ましくは0.05%以上含有させることが必要である。Sn、CeおよびTiからなる群から選ばれる1種以上を添加する場合、SnO、CeOまたはTiOに換算して0.01〜2%、特には0.01〜1%、さらには0.05〜0.5%に相当する量でガラス原料に添加することが好ましい。
本発明のガラスをフロート法で製造する場合、フロートバスの還元雰囲気を通過するため、過剰のSnOはメタル化する心配がある。SnOの含有量は1%以下、より好ましくは0.5%以下に抑える必要がある。
本発明のガラスをフュージョン法やスロットダウンドロー法で製造する場合、SnOは失透温度を上げる作用があるため、含有量は2%以下とすることが好ましい。より好ましくは1%以下である。
CeOは、紫外線照射により、ガラス中でFeと反応して、ソーラリゼーションを起こすことが知られている。これを防ぐためには、CeOの含有量を1%以下とする、より好ましくは含有させないことがよい。
TiOは、ガラス中で黄色く着色することが知られている。これを防ぐためには、TiOの含有量を1%以下とする、より好ましくは含有させないことがよい。
本発明のガラスは、清澄剤としてFを加えることも可能である。Fはガラスの粘性を下げる効果があり、ガラス中の気泡の浮上を促進する。また、より高温でClと同様の清澄効果を期待することができる。
Fは、BaF、SrF、CaF、MgFなどをガラス原料に使用することにより含有させることができる。原料中のフッ化物の添加量は、F換算でFの質量百分率表示で、0.05%以上、1%以下であることが好ましい。ガラス中のFの残存量は、質量百分率表示で0.2%以下が好ましい。含有量が0.2%を超えると、本発明のガラスをTFT−LCDガラス基板に用いる場合、歪点が著しく低下するおそれがある。
本発明のガラスは、特に好ましくは、SiO、Al、B、MgO、CaO、SrOおよびBaOを母組成とし、該母組成の総量に対して、質量百万分率表示または質量百分率表示で硫黄をSO換算で1ppm以上、0.02%未満含有し、質量百分率表示でNaおよび/またはKをRO(Rは、Na、Kを意味する)換算で0.05%以上、0.1%未満含有し、Clを0.05〜1%含有し、SnO、CeOおよびTiOからなる群から選ばれる1種以上を0.01〜1%含有し、前記母組成が、酸化物基準の質量百分率表示で
SiO 51〜68%、
Al 10〜22%、
6〜16%、
MgO 1〜7%、
CaO 2〜12%、
SrO 0.5〜10%、
BaO 0〜1%
を含有する。
本発明のガラスの清澄反応は、式(1)〜(3)に示されるとおり、ガラス溶解時の酸素分圧に大きく依存し、ガラス溶解時の酸素分圧は得られたガラスの酸化還元の状態として評価できる。ガラスの酸化還元度は一般的には、Fe2+の含有量とFe3+の含有量とを用いてr=Fe2+/(Fe2++Fe3+)で表されるが、本発明のガラスにおいてはrが0.67以下であることが好ましい。0.67を超えて還元性が強くなると、ガラス溶解時の酸素分圧が低いことを意味し、(1)〜(3)式で示した反応は、容易に右辺へ進行する。この結果、ガラス中のSO 2−の溶解度は低下し、SOのリボイル泡が発生しやすい状態となる。また、一度発生したSO泡は、ガラス中に容易に戻ることができなくなってしまう。好ましくは、rは0.63以下、より好ましくは0.59以下であるとSOのリボイル泡の抑制と吸収が効果的に作用する。
r測定を可能とするために本発明のガラスは、Feイオンを指標とした場合、Feを必須成分として含有する。Fe(Fe2+とFe3+の合量)のFe換算含有量は0.0015%以上が必要である。FeのFe換算含有量が0.0015%未満ではr測定が困難になる。r測定をより容易にするためにはFeのFe換算含有量は0.01%以上であることが好ましい。また、FeのFe換算含有量は典型的には0.3%以下である。ディスプレイ用ガラスの場合0.2%以下であることが好ましい。0.2%を超えて含有すると青色に着色し、ディスプレイ用ガラスとして好ましくない。好ましくは0.1%以下、より好ましくは0.07%以下である。
rの値は、SnO、TiO、CeOの添加により変化する。これらの金属イオンはガラス中でFeイオンと電子の交換をしてrの値を変化させるため、SnO、TiO、CeOを含有したガラスでは、酸素分圧の指標としてrを利用することは好ましくない。
価数の変化するイオンがFe以外に存在しないときに、rを制御する方法として最も有効に作用するのが溶解温度である。すなわち、溶解温度が上がるとガラス中から酸素が放出され、Fe2+が増加する。rの値を0.67以下とするためには、ガラス溶解温度を1610℃以下に保つことが効果的である。
本発明のガラスはたとえば以下の方法によって製造される。
目標組成のガラスが得られるように調合された原料を加熱して溶解し溶融ガラスとする。該溶融ガラスは、脱泡、均質化等を行った後冷却される。溶融ガラスの均質化はたとえば攪拌によって促進してもよい。また、通常は冷却する間にガラス基板に適合した板ガラス等に成形される。
前記原料は通常は珪砂、その他の原料からなるが、屑ガラス(カレット)を含んでもよい。
前記溶解はたとえば、適切なルツボに原料を入れそのルツボを高温に維持されている電気炉等の炉に入れて行ってもよいし、ガラス溶融窯に原料を連続的に投入しながら行ってもよい。一般的な工業生産においては、通常使用される本発明のガラスの各成分原料を目標組成となるように調合して原料を作製し、最高温度がたとえば約1500〜1600℃であるガラス溶融窯に連続的に投入して溶解し溶融ガラスとする。なお前記原料には適切な量のアルカリ成分が添加される。
溶融ガラスはたとえばその後1200〜1500℃に保持されて脱泡される、その際、減圧脱泡を用いて脱泡することもできる。
脱泡された溶融ガラスはたとえば板ガラスに成形される。成形法としてはフロート法、フュージョン法、スロットダウンドロー法等が例示される。本発明においては、特に泡の抑制効果が大きいため、安定した品質で大型のガラスを生産することを考慮すると、フロート法が好ましい。板ガラスは徐冷後切断され、たとえば厚さが0.4〜1.5mm、寸法が1700×1400mm以上のTFT−LCD用ガラス基板やEL用ガラス基板とされる。
表2、3は工業用ガラス原料として投入された成分について、表4、5は得られたガラスについて、SiO〜BaOの総量に対して、各含有割合を質量百分率表示で示したものである。
得られたガラスのCl量は質量百分率表示で約0.15%(0.14〜0.16%)であり、SO量は質量百分率表示で約0.005%(0.003〜0.007%)であった。なお、表4、5中のFeは、Fe(Fe2+とFe3+の合量)のFe換算含有量である。
表4、5に示されたガラスは、全て、密度が2.51g/cm、熱膨張係数が38×10−7−1(50−350℃)、ヤング率が77GPa、歪点が665℃、ガラス転移温度が716℃である。清澄剤構成の相違による物性変化は僅かであり、実質的に同じ値となっている。なお、本実施例において用いたガラス原料中の組成は、Bについて表4、5の値より5%増量して含有させた。SiO、Al、MgO〜Feは原料中の組成割合とガラス組成割合がほぼ同じであった。ClとSOのガラス原料への添加量は、それぞれ0.5%、0.3%であった。
表2、3で示された含有割合になるよう工業原料を調合し、600gのガラスを形成する原料を作製した。SO原料として2水石膏を使用し、例A1〜9とA11ではCl原料として6水塩化ストロンチウムを使用した。例A10ではCl原料として塩化アンモニウムを使用した。各工業原料は微量のNaOを含有している。例A11は特にNaOを添加していないが、原料不純物として0.009%のNaOを含有していることを意味しており、かっこ付きで示した。
前記原料を白金ルツボに入れ、電気炉を用いて露点80℃の窒素ガス雰囲気中で、1580℃で6時間保持して溶解した。溶解中は適宜(前記6時間のうちの最初の4時間)スターラー攪拌を行い、ガラスを均質化した。この溶融ガラスをカーボン板に流し出し固化後徐冷した。
得られたガラスのrは次の方法により測定した。ガラス中のFe2+をビピリジル吸光光度法により定量し、全FeイオンすなわちFe2++Fe3+をICP発光分光分析法で定量して求めた。表中に記載したrは、A1〜A5、A9〜A11が、実施例1で実測した値である。
溶解後のガラスを蛍光X線法で組成分析したところ、Cl含有量は、例A1〜11のいずれのガラスにおいても約0.15%であった。同様にSOについても分析したが、例A1〜11のいずれのガラスにおいても約0.005%であった。
流しだしたガラスを直径40mmφ、高さ15mmの円柱状に加工し、内径40mmφの白金ルツボに入れ、電気炉を用いて大気雰囲気中で再溶融した。溶融温度は1400℃とし、室温から1℃/分で昇温、1時間保持後、1℃/分で降温した。
再溶融後のガラスをルツボ上部から観察したところ、ルツボの底部および側面のガラスと白金との界面に泡の付着が認められた。再溶融前のガラスにはそのような泡が存在しないこと、また1400℃での溶融中にも泡の存在が認められないことから、ガラスと白金との界面の泡はリボイルに相当する泡と考えられる。室温まで冷却後に、ルツボ底部に付着している200μm以上の泡数(個)を計測した。表4、5中の泡数1はこのようにして計測した泡数を示しており、未は未計測である。
例A1〜5はNaOとKOの添加量を変えた実施例、例A6はNaOに加えSnOを添加した実施例、例A9はNaOに加えBaOを含有させた実施例、A10はCl源としてNHClを使用しガラスを還元性にした実施例、A11は比較例である。
例A1〜5の結果から、NaOやKOを添加するとガラスと白金との界面の泡数が低下することが分かる。例A6でSnOを加えると泡数の低下が更に顕著になることが分かる。例A9でBaOの含有でも例えばA1と比較して泡数が減ることから、アルカリ土類(Mg、Ca、Sr,Ba)の中では分子量の大きい元素(例えばBa)があるとアルカリに類似の効果が現れることが分かる。例A10は、塩化アンモニウムを使用したためrが0.65と例A2に比べて還元になっており、泡数が増加していることが分かる。
実施例2は、実施例1と同一条件で実施例1とは別に実験を行った。実施例1は静的な場で発生するリボイル泡を評価しているのに対し、実施例2は攪拌中の動的な場で発生するリボイル泡の評価を行った。
実施例1と同様にして原料を作製し、露点80℃の窒素ガス雰囲気中で1580℃で
6時間保持して溶解した。溶解中は適宜(前記6時間のうちの最初の4時間)スターラー攪拌を行い、ガラスを均質化した。
窒素ガスのフローを止め大気雰囲気に切り替え、温度を1380℃に下げた状態で、白金スターラーで30分間の攪拌を行い、攪拌停止後にカーボン板に流し出し固化後徐冷した。徐冷したガラスは厚さ2mmにスライスし研磨し100μm以上の泡数(個/g)を計測した。表4、5中の泡数2はこのようにして計測した泡数を示しており、未は未計測である。表中に記載したrは、A6〜A8が実施例2で実測した値であるが、前述の通りSnO、CeO、TiOを含有するため、かっこ付で参考値とした。
例A2、A4を例A11と比較すると、攪拌による泡を抑制する効果がわずかに認められる。例A6はSnO、例A7はCeO、例A8はTiOを、それぞれ添加した場合であるが、いずれも攪拌により発生する泡数が減少していることが分かる。例A10は攪拌により発生する泡が増加しているが、例A2に比べて還元性となっているため、SOが幾分リボイルしやすくなっているものと考えられる。
表6は工業用ガラス原料として投入された成分について、表7は得られたガラスについて、SiO〜BaOの総量に対して、各含有割合を質量百分率表示で示したものである。
得られたガラスのCl量は質量百分率表示で約0.15%(0.14〜0.16%)であり、SO量は質量百分率表示で約0.005%(0.003〜0.007%)であった。なお、本実施例において用いたガラス原料中の組成は、Bについて表6の値より5%増量して含有させた(8.4%)。表6のSiO、Al、MgO〜Feは原料中の組成割合とガラス組成割合がほぼ同じであった。ClとSOのガラス原料への添加量は、それぞれ0.5%、0.3%である。
表6で示された含有割合になるよう工業原料を調合し、125gのガラスを形成する原料を作製した。この原料は同一成分のガラスカレット125gと混合し、溶解用の原料とした。アルカリ成分は、カレットも含めて表6の値となる。例B1はアルカリ源として、建築物の窓ガラスに用いられるソーダライムガラスのカレットを用いた。例B2は食塩(NaCl)を使用し、Cl添加量は6水塩化ストロンチウム量の調整で一定となるようにした。例B3は芒硝(NaSO)を使用し、SO添加量は2水石膏の調整で一定となるようにした。例B4はソーダ灰(NaCO)を使用した。例B5は特にNaO成分を添加していないが、原料不純物として0.009%のNaOを含有していることを意味しており、かっこ付きで示した。
前記工業原料とガラスカレットの混合物を白金ルツボに入れ、電気炉を用いて露点50℃の窒素ガス雰囲気中で、1580℃で1時間保持してスターラー攪拌を行わずに溶解し溶融ガラスとした。この溶融ガラスをカーボン板に流し出し固化後徐冷した。徐冷したガラスは厚さ2mmにスライスし研磨し泡数(個/g)を計測した。表7中の泡数3はこのようにして計測した泡数を示している。
例B1〜4のアルカリを添加した条件では、いずれも例B5のアルカリを添加しなかったものに比べ、泡数が低下している。これは、アルカリにより溶解初期のガラス中のSO濃度が上がり、硫酸塩の清澄効果が顕著になったためと考えられる。また、アルカリの添加により、珪砂の解け落ちが促進し、泡の発生核となる珪砂の消失速度が速くなったことも作用していると考えられる。
以上述べたように、本発明のガラスにさらにSnO、CeO、TiO等を添加すると、実施例1からリボイル泡の抑制に効果があること、実施例2から攪拌におけるリボイル泡の抑制に効果があることが分かる。また本発明のガラスは、実施例3から溶解初期の泡低減に効果があることが分かる。これらの実施例のガラスは、TFT−LCD用ガラス基板、有機EL用ガラス基板などとして用いられる。例えば、厚さ0.7mm、寸法2400×2200mmのガラス基板が生産される。
本発明のガラス基板は、ヒ素やアンチモンといった有害物を使用せずにガラス中の泡を効果的に低減することができるため、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、特にTFT−LCD用ガラス基板、有機EL用ガラス基板などとして使用することができる。
Figure 2006265001
Figure 2006265001
Figure 2006265001
Figure 2006265001
Figure 2006265001
Figure 2006265001
Figure 2006265001
アルカリ金属およびアルカリ土類金属の酸素分圧と亜硫酸ガス分圧の平衡関係

Claims (12)

  1. SiO、Al、B、MgO、CaO、SrOおよびBaOを母組成とし、該母組成の総量に対して、質量百万分率表示または質量百分率表示で硫黄をSO換算で1ppm以上、0.02%未満含有し、質量百分率表示でNaおよび/またはKをRO(Rは、Na、Kを意味する)換算で0.03%以上、0.1%未満含有するガラス基板。
  2. 前記母組成の総量に対して、質量百分率表示でClを0.05〜1%含有する請求項1に記載のガラス基板。
  3. 前記母組成の総量に対して、質量百分率表示でFeをFe換算で、0.0015%以上含有するガラス基板であって、ガラスの還元度をFeイオンの割合で表して、Fe2+/(Fe2++Fe3+)が0.67以下に相当する還元度である請求項1または2に記載のガラス基板。
  4. 前記母組成の総量に対して、質量百分率表示でSnO、CeOおよびTiOからなる群から選ばれる1種以上を、0.01〜2%含有する請求項1または2に記載のガラス基板。
  5. 前記母組成が、酸化物基準の質量百分率表示で
    SiO 45〜70%
    Al 5〜25%
    1〜20%
    MgO 0〜10%
    CaO 0〜15%
    SrO 0〜15%
    BaO 0〜20%
    を含有する請求項1〜4のいずれかに記載のガラス基板。
  6. 前記ガラス基板が、TFT−LCD用ガラス基板または有機EL用ガラス基板である請求項1〜5のいずれかに記載のガラス基板。
  7. 原料を溶解してガラスを製造する方法であって、SiO、Al、B、MgO、CaO、SrOおよびBaOを原料の母組成とし、該母組成の総量に対して、質量百分率表示で硫酸塩をSOに換算して0.05%以上、1.0%未満、および質量百分率表示でNaおよび/またはKをRO(Rは、Na、Kを意味する)換算で0.03%以上、0.1%未満の割合で原料に含まれるように調製することを特徴とするガラスの製造方法。
  8. 前記母組成の総量に対して、質量百分率表示で塩化物をCl換算で、0.1〜3%の割合で原料に含まれるように調製することを特徴とする請求項7に記載のガラスの製造方法。
  9. 前記母組成の総量に対して、質量百分率表示でFeをFe換算で、0.0015%以上の割合で原料に含まれるように調製し、ガラスの還元度をFeイオンの割合で表して、Fe2+/(Fe2++Fe3+)が0.67以下に相当する還元度になるようにガラスを溶解することを特徴とする請求項7または8に記載のガラスの製造方法。
  10. 前記母組成の総量に対して、Sn、CeおよびTiのそれぞれの化合物からなる群から選ばれる1種以上を、質量百分率表示でSnO、CeOまたはTiOに換算して0.01〜2%の割合で原料に含まれるように調製することを特徴とする請求項7または8に記載のガラスの製造方法。
  11. 前記母組成が、酸化物基準の質量百分率表示で
    SiO 45〜70%
    Al 5〜25%
    1〜21%
    MgO 0〜10%
    CaO 0〜15%
    SrO 0〜15%
    BaO 0〜20%
    含有することを特徴とする請求項7〜10のいずれかに記載のガラスの製造方法。
  12. 原料を溶解しガラスを製造する際のガラス溶解の最高温度が、1610℃以下であることを特徴とする請求項7〜11のいずれかに記載のガラスの製造方法。


JP2005081724A 2005-03-22 2005-03-22 ガラスおよびガラス製造方法 Active JP4715258B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005081724A JP4715258B2 (ja) 2005-03-22 2005-03-22 ガラスおよびガラス製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005081724A JP4715258B2 (ja) 2005-03-22 2005-03-22 ガラスおよびガラス製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2006265001A true JP2006265001A (ja) 2006-10-05
JP4715258B2 JP4715258B2 (ja) 2011-07-06

Family

ID=37201351

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005081724A Active JP4715258B2 (ja) 2005-03-22 2005-03-22 ガラスおよびガラス製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4715258B2 (ja)

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008260642A (ja) * 2007-04-10 2008-10-30 Nh Techno Glass Kk ガラス組成物、それを用いたガラス板およびその製造方法
JP2009013049A (ja) * 2007-06-08 2009-01-22 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラスおよび無アルカリガラス基板
JPWO2007020824A1 (ja) * 2005-08-15 2009-02-26 Nhテクノグラス株式会社 ガラス組成物およびガラス組成物の製造方法
US7763559B2 (en) 2007-02-27 2010-07-27 Avanstrate Inc. Glass substrate for display and display
JP2010235444A (ja) * 2007-02-27 2010-10-21 Avanstrate Inc 表示装置用ガラス基板および表示装置
WO2011093284A1 (ja) * 2010-01-26 2011-08-04 旭硝子株式会社 着色ガラス板
WO2011152337A1 (ja) * 2010-05-31 2011-12-08 日本電気硝子株式会社 Li2O-Al2O3-SiO2系結晶化ガラス及びその製造方法
JP2012012290A (ja) * 2010-05-31 2012-01-19 Nippon Electric Glass Co Ltd Li2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラス及びその製造方法
JP2012041260A (ja) * 2010-07-22 2012-03-01 Nippon Electric Glass Co Ltd Li2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラス及びその製造方法
CN102531333A (zh) * 2010-12-28 2012-07-04 安瀚视特股份有限公司 液晶显示装置用玻璃基板的制造方法
JP2012137758A (ja) * 2011-12-19 2012-07-19 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス基板
WO2012141152A1 (ja) 2011-04-12 2012-10-18 旭硝子株式会社 溶融ガラスの減圧脱泡方法、溶融ガラスの減圧脱泡装置、溶融ガラスの製造方法、溶融ガラスの製造装置、ガラス製品の製造方法、およびガラス製品の製造装置
WO2013005679A1 (ja) * 2011-07-01 2013-01-10 AvanStrate株式会社 フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法
CN103052604A (zh) * 2011-07-01 2013-04-17 安瀚视特控股株式会社 平面显示器用玻璃基板及其制造方法
WO2013136949A1 (ja) * 2012-03-14 2013-09-19 旭硝子株式会社 フロートガラス板およびその製造方法
JP2014111539A (ja) * 2009-07-08 2014-06-19 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス板
JP2014144907A (ja) * 2013-01-04 2014-08-14 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス板
WO2015163412A1 (ja) * 2014-04-23 2015-10-29 旭硝子株式会社 熱線吸収ガラス板およびその製造方法
US20170029316A1 (en) * 2014-04-23 2017-02-02 Asahi Glass Company, Limited Heat-ray-absorbing glass plate and method for producing same
JPWO2015163416A1 (ja) * 2014-04-23 2017-04-20 旭硝子株式会社 着色ガラス板およびその製造方法
JP2017119617A (ja) * 2015-12-28 2017-07-06 AvanStrate株式会社 ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置
WO2021002189A1 (ja) * 2019-07-01 2021-01-07 日本電気硝子株式会社 ガラス基板
CN114477762A (zh) * 2021-12-24 2022-05-13 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 一种无硼铝硅酸盐玻璃

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05201744A (ja) * 1991-07-02 1993-08-10 Saint Gobain Vitrage Internatl エレクトロニクス用基体用ガラス及びその製品
JP2000169180A (ja) * 1998-11-30 2000-06-20 Asahi Glass Co Ltd ディスプレイ基板用フロートガラス
JP2000169179A (ja) * 1998-11-30 2000-06-20 Asahi Glass Co Ltd ディスプレイ基板用フロートガラス
JP2002201040A (ja) * 2000-10-31 2002-07-16 Asahi Glass Co Ltd アルミノホウケイ酸ガラス

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05201744A (ja) * 1991-07-02 1993-08-10 Saint Gobain Vitrage Internatl エレクトロニクス用基体用ガラス及びその製品
JP2000169180A (ja) * 1998-11-30 2000-06-20 Asahi Glass Co Ltd ディスプレイ基板用フロートガラス
JP2000169179A (ja) * 1998-11-30 2000-06-20 Asahi Glass Co Ltd ディスプレイ基板用フロートガラス
JP2002201040A (ja) * 2000-10-31 2002-07-16 Asahi Glass Co Ltd アルミノホウケイ酸ガラス

Cited By (63)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012188350A (ja) * 2005-08-15 2012-10-04 Avanstrate Inc ガラス組成物
JP2012180279A (ja) * 2005-08-15 2012-09-20 Avanstrate Inc ガラス組成物
JPWO2007020824A1 (ja) * 2005-08-15 2009-02-26 Nhテクノグラス株式会社 ガラス組成物およびガラス組成物の製造方法
JP2012254926A (ja) * 2005-08-15 2012-12-27 Avanstrate Inc ガラス組成物
JP2013040098A (ja) * 2005-08-15 2013-02-28 Avanstrate Inc ガラス組成物
KR101438254B1 (ko) * 2007-02-27 2014-09-04 아반스트레이트 가부시키가이샤 표시 장치용 유리 기판의 제조 방법 및 표시 장치
JP2010235444A (ja) * 2007-02-27 2010-10-21 Avanstrate Inc 表示装置用ガラス基板および表示装置
US8383530B2 (en) 2007-02-27 2013-02-26 Avanstrate Inc. Glass substrate for display and display
US7763559B2 (en) 2007-02-27 2010-07-27 Avanstrate Inc. Glass substrate for display and display
US8741794B2 (en) 2007-02-27 2014-06-03 Avanstrate Inc. Glass substrate for display and display
JP2008260642A (ja) * 2007-04-10 2008-10-30 Nh Techno Glass Kk ガラス組成物、それを用いたガラス板およびその製造方法
JP2009013049A (ja) * 2007-06-08 2009-01-22 Nippon Electric Glass Co Ltd 無アルカリガラスおよび無アルカリガラス基板
JP2014111539A (ja) * 2009-07-08 2014-06-19 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス板
US8962503B2 (en) 2010-01-26 2015-02-24 Asahi Glass Company, Limited Colored glass plate
CN102712524A (zh) * 2010-01-26 2012-10-03 旭硝子株式会社 着色玻璃板
JP5757246B2 (ja) * 2010-01-26 2015-07-29 旭硝子株式会社 着色ガラス板
WO2011093284A1 (ja) * 2010-01-26 2011-08-04 旭硝子株式会社 着色ガラス板
US9120699B2 (en) 2010-05-31 2015-09-01 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Li2O-Al2O3-SiO2 based crystallized glass and production method for the same
US9458053B2 (en) 2010-05-31 2016-10-04 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Li2O-Al2O3-SiO2 based crystallized glass and production method for the same
JP2012012290A (ja) * 2010-05-31 2012-01-19 Nippon Electric Glass Co Ltd Li2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラス及びその製造方法
WO2011152337A1 (ja) * 2010-05-31 2011-12-08 日本電気硝子株式会社 Li2O-Al2O3-SiO2系結晶化ガラス及びその製造方法
JP2012041260A (ja) * 2010-07-22 2012-03-01 Nippon Electric Glass Co Ltd Li2O−Al2O3−SiO2系結晶化ガラス及びその製造方法
CN102531333B (zh) * 2010-12-28 2014-11-05 安瀚视特股份有限公司 液晶显示装置用玻璃基板的制造方法
TWI464127B (zh) * 2010-12-28 2014-12-11 Avanstrate Inc And a method for manufacturing a glass substrate for a liquid crystal display device
CN102531333A (zh) * 2010-12-28 2012-07-04 安瀚视特股份有限公司 液晶显示装置用玻璃基板的制造方法
JP2012148959A (ja) * 2010-12-28 2012-08-09 Avanstrate Inc 液晶表示装置用ガラス基板の製造方法
US9352994B2 (en) 2011-04-12 2016-05-31 Asahi Glass Company Limited Method for vacuum-degassing molten glass, apparatus for vacuum-degassing molten glass, process for producing molten glass, apparatus for producing molten glass, process for producing glass product, and apparatus for producing glass product
EP2698354A1 (en) * 2011-04-12 2014-02-19 Asahi Glass Company, Limited Method for vacuum-degassing of molten glass, device for vacuum-degassing of molten glass, method for producing molten glass, device for producing molten glass, method for producing article made of glass, and device for producing article made of glass
WO2012141152A1 (ja) 2011-04-12 2012-10-18 旭硝子株式会社 溶融ガラスの減圧脱泡方法、溶融ガラスの減圧脱泡装置、溶融ガラスの製造方法、溶融ガラスの製造装置、ガラス製品の製造方法、およびガラス製品の製造装置
EP2698354A4 (en) * 2011-04-12 2014-12-17 Asahi Glass Co Ltd METHOD FOR VACUUM DEGASSING OF MELTED GLASS, DEVICE FOR VACUUM DEGASSING OF MELTED GLASS, METHOD FOR PRODUCING MELTED GLASS, DEVICE FOR PREPARING MELTED GLASS, METHOD FOR PRODUCING AN ARTICLE FROM GLASS, AND DEVICE FOR PRODUCING AN ARTICLE FROM GLASS
CN103080031B (zh) * 2011-07-01 2015-12-09 安瀚视特控股株式会社 平面显示器用玻璃基板及其制造方法
JP2013216562A (ja) * 2011-07-01 2013-10-24 Avanstrate Inc フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法
US9580352B2 (en) 2011-07-01 2017-02-28 Avanstrate Inc. Glass substrate for flat panel display and method for manufacturing same
JP5172044B2 (ja) * 2011-07-01 2013-03-27 AvanStrate株式会社 フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法
JP2016199467A (ja) * 2011-07-01 2016-12-01 AvanStrate株式会社 フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法
US8932969B2 (en) 2011-07-01 2015-01-13 Avanstrate Inc. Glass substrate for flat panel display and method for manufacturing same
CN103052604A (zh) * 2011-07-01 2013-04-17 安瀚视特控股株式会社 平面显示器用玻璃基板及其制造方法
WO2013005679A1 (ja) * 2011-07-01 2013-01-10 AvanStrate株式会社 フラットパネルディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法
US9029280B2 (en) 2011-07-01 2015-05-12 Avanstrate Inc. Glass substrate for flat panel display and method for manufacturing same
CN103080031A (zh) * 2011-07-01 2013-05-01 安瀚视特控股株式会社 平面显示器用玻璃基板及其制造方法
KR101351112B1 (ko) 2011-07-01 2014-01-14 아반스트레이트 가부시키가이샤 플랫 패널 디스플레이용 유리 기판 및 그 제조 방법
US9321671B2 (en) 2011-07-01 2016-04-26 Avanstrate Inc. Glass substrate for flat panel display and manufacturing method thereof
CN103052604B (zh) * 2011-07-01 2015-12-23 安瀚视特控股株式会社 平面显示器用玻璃基板及其制造方法
JP2012137758A (ja) * 2011-12-19 2012-07-19 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス基板
CN104169230A (zh) * 2012-03-14 2014-11-26 旭硝子株式会社 浮法玻璃板及其制造方法
WO2013136949A1 (ja) * 2012-03-14 2013-09-19 旭硝子株式会社 フロートガラス板およびその製造方法
JPWO2013136949A1 (ja) * 2012-03-14 2015-08-03 旭硝子株式会社 フロートガラス板およびその製造方法
KR101515338B1 (ko) * 2012-03-14 2015-04-24 아사히 가라스 가부시키가이샤 플로트 유리판 및 그의 제조 방법
US9512026B2 (en) 2012-03-14 2016-12-06 Asahi Glass Company, Limited Float glass plate and method of manufacturing thereof
JP2014144907A (ja) * 2013-01-04 2014-08-14 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス板
JPWO2015163416A1 (ja) * 2014-04-23 2017-04-20 旭硝子株式会社 着色ガラス板およびその製造方法
US20170029316A1 (en) * 2014-04-23 2017-02-02 Asahi Glass Company, Limited Heat-ray-absorbing glass plate and method for producing same
JPWO2015163412A1 (ja) * 2014-04-23 2017-04-20 旭硝子株式会社 熱線吸収ガラス板およびその製造方法
WO2015163412A1 (ja) * 2014-04-23 2015-10-29 旭硝子株式会社 熱線吸収ガラス板およびその製造方法
US9862637B2 (en) 2014-04-23 2018-01-09 Asahi Glass Company, Limited Heat-ray-absorbing glass plate and method for producing same
US9862636B2 (en) * 2014-04-23 2018-01-09 Asahi Glass Company, Limited Heat-ray-absorbing glass plate and method for producing same
US10011521B2 (en) * 2014-04-23 2018-07-03 Asahi Glass Company, Limited Colored glass plate and method for manufacturing same
JP2017119617A (ja) * 2015-12-28 2017-07-06 AvanStrate株式会社 ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置
WO2021002189A1 (ja) * 2019-07-01 2021-01-07 日本電気硝子株式会社 ガラス基板
JP2021008374A (ja) * 2019-07-01 2021-01-28 日本電気硝子株式会社 ガラス基板
CN114477762A (zh) * 2021-12-24 2022-05-13 中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司 一种无硼铝硅酸盐玻璃
WO2023116868A1 (zh) * 2021-12-24 2023-06-29 中建材玻璃新材料研究院集团有限公司 一种无硼铝硅酸盐玻璃
CN114477762B (zh) * 2021-12-24 2024-03-15 中建材玻璃新材料研究院集团有限公司 一种无硼铝硅酸盐玻璃

Also Published As

Publication number Publication date
JP4715258B2 (ja) 2011-07-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4715258B2 (ja) ガラスおよびガラス製造方法
JP5483821B2 (ja) 表示装置用ガラス基板および表示装置
KR101020694B1 (ko) 무알칼리 유리
US7960301B2 (en) Glass composition
JP2006306690A (ja) 無アルカリガラスおよびその製造方法
US20150087494A1 (en) Alkali-free glass and method for producing same
JPH10324526A (ja) 無アルカリガラスの清澄方法
WO2011152337A1 (ja) Li2O-Al2O3-SiO2系結晶化ガラス及びその製造方法
JP5359824B2 (ja) 無アルカリガラスの清澄方法
JP2008542164A (ja) フラットスクリーン用ガラス基板
CN101341102B (zh) 精制玻璃的方法以及得到的产品
WO2016159344A1 (ja) ガラス
JP2024059962A (ja) 寸法安定性ガラス
JPWO2006064878A1 (ja) ガラス組成物およびその製造方法
JP2016074551A (ja) 無アルカリガラスの製造方法
JP2004284949A (ja) 無アルカリガラスの清澄方法
JP2012201524A (ja) ガラス基板の製造方法
JP5484220B2 (ja) 表示装置用ガラス基板および表示装置
JP2004299947A (ja) 無アルカリガラス及びその製造方法
JP5293195B2 (ja) 無アルカリガラスの清澄方法
TWI647188B (zh) 矽酸鹽玻璃的製造方法及矽酸鹽玻璃
EP3562791A1 (en) Solarization resistant rare earth doped glasses
JP2015509476A (ja) ガラス、ガラスセラミックスを生成するための方法、およびその使用
JP2008050262A (ja) 無アルカリガラスの清澄方法
JP2012036075A (ja) 珪酸塩ガラスの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070926

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100531

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100907

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20101004

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20101004

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20101005

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110301

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110314

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4715258

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140408

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140408

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140408

Year of fee payment: 3

R371 Transfer withdrawn

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140408

Year of fee payment: 3

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R154 Certificate of patent or utility model (reissue)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R154

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250