JP2017119617A - ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 - Google Patents
ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017119617A JP2017119617A JP2016239135A JP2016239135A JP2017119617A JP 2017119617 A JP2017119617 A JP 2017119617A JP 2016239135 A JP2016239135 A JP 2016239135A JP 2016239135 A JP2016239135 A JP 2016239135A JP 2017119617 A JP2017119617 A JP 2017119617A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- molten glass
- dpa
- molded body
- wall surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims abstract description 175
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 75
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 70
- 239000006060 molten glass Substances 0.000 claims abstract description 214
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 claims abstract description 62
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 claims abstract description 40
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 67
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 39
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 39
- 238000007500 overflow downdraw method Methods 0.000 claims description 19
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 claims description 17
- 230000007423 decrease Effects 0.000 claims description 10
- 238000013459 approach Methods 0.000 claims description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract 1
- 238000004031 devitrification Methods 0.000 description 59
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 46
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 46
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 19
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 14
- 238000005352 clarification Methods 0.000 description 12
- 230000008569 process Effects 0.000 description 12
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000010583 slow cooling Methods 0.000 description 9
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 229910018068 Li 2 O Inorganic materials 0.000 description 6
- 229910000272 alkali metal oxide Inorganic materials 0.000 description 6
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 6
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000000265 homogenisation Methods 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 4
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 206010040925 Skin striae Diseases 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 3
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 2
- 239000008395 clarifying agent Substances 0.000 description 2
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000006025 fining agent Substances 0.000 description 2
- 238000007496 glass forming Methods 0.000 description 2
- 239000000156 glass melt Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 229920005591 polysilicon Polymers 0.000 description 2
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011819 refractory material Substances 0.000 description 2
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 description 2
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 238000010828 elution Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005187 foaming Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 238000013021 overheating Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B17/00—Forming molten glass by flowing-out, pushing-out, extruding or drawing downwardly or laterally from forming slits or by overflowing over lips
- C03B17/06—Forming glass sheets
- C03B17/067—Forming glass sheets combined with thermal conditioning of the sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B17/00—Forming molten glass by flowing-out, pushing-out, extruding or drawing downwardly or laterally from forming slits or by overflowing over lips
- C03B17/06—Forming glass sheets
- C03B17/064—Forming glass sheets by the overflow downdraw fusion process; Isopipes therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B7/00—Distributors for the molten glass; Means for taking-off charges of molten glass; Producing the gob, e.g. controlling the gob shape, weight or delivery tact
- C03B7/08—Feeder spouts, e.g. gob feeders
- C03B7/092—Stirring devices; Homogenisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B7/00—Distributors for the molten glass; Means for taking-off charges of molten glass; Producing the gob, e.g. controlling the gob shape, weight or delivery tact
- C03B7/08—Feeder spouts, e.g. gob feeders
- C03B7/094—Means for heating, cooling or insulation
- C03B7/096—Means for heating, cooling or insulation for heating
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P40/00—Technologies relating to the processing of minerals
- Y02P40/50—Glass production, e.g. reusing waste heat during processing or shaping
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
Abstract
Description
前記熔融ガラスを構成するガラス組成物の液相粘度が80000dPa・s以上100000dPa・s以下である。
前記成形工程では、
熔融ガラスの粘度が25000dPa・s以上35000dPa・s以下である熔融ガラスを前記供給溝に供給し、
前記成形体の上面から前記下端まで、前記壁面の幅方向における双方の端部に当該端部から突出するように互いに対向して形成された一対のガイドによって、前記熔融ガラスを、当該熔融ガラスの幅を規制しながら前記壁面に沿って流下させ、
前記壁面のうち、前記幅方向の両側の端部の間の内側部分を流下する熔融ガラスより、前記端部を流下する熔融ガラスに与える加熱量を多くすることにより、前記下端における熔融ガラスの粘度が40000dPa・s以上80000dPa・s未満となるよう加熱する、ことを特徴とする。
前記成形体における前記壁面からの前記ガイドの高さは、前記下端に近づくほど低くなるとともに、前記稜線の位置においてゼロである、ことが好ましい。
当該製造装置の前記成形体は、
熔融ガラスが供給される供給溝と、
前記供給溝が形成された上面と、
前記供給溝の両側に溢れ出して前記上面から流れ落ちる熔融ガラスを誘導し、下端で融合させてシートガラスとする一対の壁面と、
前記成形体の上面から前記下端まで、前記壁面の幅方向における双方の前記壁面の端部に当該端部から突出するように互いに対向して形成され、前記熔融ガラスを、当該熔融ガラスの幅を規制しながら前記壁面に沿って流下させる一対のガイドと、
を備える。
前記供給溝には、液相粘度が80000dPa・s以上100000dPa・s以下であるガラス組成物で構成された熔融ガラスを、前記熔融ガラスの粘度が25000dPa・s以上35000dPa・s以下の状態で流れるように構成される。
さらに、前記製造装置は、前記壁面のうち、前記幅方向の両側の端部間の内側部分を流下する熔融ガラスより、前記端部を流下する熔融ガラスに与える加熱量を多くすることにより、前記下端における熔融ガラスの粘度が40000dPa・s以上80000dPa・s未満となるよう加熱する加熱装置を、備える。
(ガラス基板の製造方法の全体概要)
図1は、本実施形態のガラス基板の製造方法の工程の一例を示す図である。ガラス基板の製造方法は、熔解工程(ST1)、清澄工程(ST2)、均質化工程(ST3)、供給工程(ST4)、成形工程(ST5)、徐冷工程(ST6)、および、切断工程(ST7)を主に有する。この他に、研削工程、研磨工程、洗浄工程、検査工程、梱包工程等を有してもよい。製造されたガラス基板は、必要に応じて梱包工程で積層され、納入先の業者に搬送される。
清澄工程(ST2)では、熔融ガラスが昇温されることにより、熔融ガラス中に含まれる酸素、CO2あるいはSO2を含んだ泡が発生する。この泡が熔融ガラス中に含まれる清澄剤(酸化スズ等)の還元反応により生じた酸素を吸収して成長し、熔融ガラスの液面に浮上して放出される。その後、清澄工程では、熔融ガラスの温度を低下させることにより、清澄剤の還元反応により得られた還元物質が酸化反応をする。これにより、熔融ガラスに残存する泡中の酸素等のガス成分が熔融ガラス中に再吸収されて、泡が消滅する。清澄剤による酸化反応及び還元反応は、熔融ガラスの温度を制御することにより行われる。
なお、清澄工程は、熔融ガラスに存在する泡を減圧雰囲気で成長させて脱泡させる減圧脱泡方式を用いることもできる。減圧脱泡方式は、清澄剤を用いない点で有効である。しかし、減圧脱泡方式は装置が複雑化及び大型化する。このため、清澄剤を用い、熔融ガラス温度を上昇させる清澄方法を採用することが好ましい。
供給工程(ST4)では、撹拌された熔融ガラスが成形装置に供給される。
成形工程(ST5)では、熔融ガラスをシートガラスに成形し、シートガラスの流れを作る。成形には、オーバーフローダウンドロー法が用いられる。
徐冷工程(ST6)では、成形されて流れるシートガラスが所望の厚さになり、内部歪が生じないように、さらに、反りが生じないように冷却される。
切断工程(ST7)では、徐冷後のシートガラスを所定の長さに切断することで、板状のガラス基板を得る。切断されたガラス基板はさらに、所定のサイズに切断され、目標サイズのガラス基板が作られる。
図2に示す熔解槽101には、図示されないバーナー等の加熱手段が設けられている。熔解槽には清澄剤が添加されたガラス原料が投入され、熔解工程(ST1)が行われる。熔解槽101で熔融した熔融ガラスMGは、移送管104を介して清澄管102に供給される。
清澄管120では、熔融ガラスMGの温度を調整して、清澄剤の酸化還元反応を利用して熔融ガラスMGの清澄工程(ST2)が行われる。具体的には、清澄管102内の熔融ガラスMGが昇温されることにより、熔融ガラスMG中に含まれる酸素、CO2あるいはSO2を含んだ泡が、清澄剤の還元反応により生じた酸素を吸収して成長し、熔融ガラスMGの液面に浮上して気相空間に放出される。その後、熔融ガラスMGの温度を低下させることにより、清澄剤の還元反応により得られた還元物質が酸化反応をする。これにより、熔融ガラスMGに残存する泡中の酸素等のガス成分が熔融ガラスMG中に再吸収されて、泡が消滅する。清澄後の熔融ガラスMGは、移送管105を介して撹拌槽103に供給される。
撹拌槽103では、撹拌子103aによって熔融ガラスMGが撹拌されて均質化工程(ST3)が行われる。撹拌槽103で均質化された熔融ガラスMGは、ガラス供給管106を介して成形装置200に供給される(供給工程ST4)。
成形装置200では、オーバーフローダウンドロー法により、熔融ガラスMGからシートガラスSGが成形され(成形工程ST5)、徐冷される(徐冷工程ST6)。
切断装置300では、シートガラスSGから切り出された板状のガラス基板が形成される(切断工程ST7)。
次に、図3、図4を参照して、成形装置200が備える成形体1の構成について説明する。図3に、本実施形態の製造方法に使用できる成形体1の一例を、図4に、図3に示す成形体1用いた本実施形態の製造方法の一例を、それぞれ示す。成形体1は、所定の断面を成して一方向に延在した長尺形状を成している。本明細書では、成形体1の長尺に延在する方向を幅方向という。成形体1は、熔融ガラスが供給される供給溝2が形成された上面3と、供給溝2の両側に溢れ出して上面3の両端部3a,3bから流れ落ちる熔融ガラスを誘導し、成形体1の下端4で融合させてシートガラスSGとする一対の壁面5(図3,4では一方の壁面のみが図示されている)と、壁面5の幅方向における双方の端部5a,5bに形成された一対のガイド6a,6bとを備える。ガイド6a,6bは、それぞれ、端部5a,5bの壁面5から突出しており、ガイド6a,6bは、互いに対向して形成されている。供給溝2から溢れ出た熔融ガラスは一対の壁面5のそれぞれを流下する。壁面5は、供給溝2から溢れ出た熔融ガラスが鉛直方向に流下する垂直壁面と、垂直壁面を流下した熔融ガラスを成形体1の下端4に導く、垂直壁面と接続した傾斜壁面と、を有する。壁面5を流下する熔融ガラスの一対の流れは成形体1の下端4で合流し、互いに融合する。このとき、ガイド6a,6bによって、壁面5に沿って流下する熔融ガラスの幅が規制され、例えば幅方向の厚さの均一性が高いシートガラスSGが連続して形成される。成形体1の下端4は、一対の壁面5同士(傾斜壁面同士)が接続した直線状の稜線を形成している。図3,4に示す符号2aは、供給溝2の底面2aであり、図3に示す符号7は、供給溝2に供給された熔融ガラスの液面7である。
成形体1の供給溝2に供給する熔融ガラスの粘度を低くする、つまり、熔融ガラスMGの温度を高くすると、成形体1のクリープ現象が顕著となり、成形開始からの時間の経過に従ってシートガラスSGの中央部が垂れ下がるなどの問題も生じる。一方、成形体1の供給溝2に供給する熔融ガラスMGの粘度を高くする、つまり、熔融ガラスMGの温度を低くすると、成形工程において、失透が発生しやすい。このため、失透の発生を防ぎつつ、成形体1のクリープ現象を抑制できる熔融ガラスMGを、成形体1に供給する必要がある。熔融ガラスMGを構成するガラス組成物の液相粘度が80000dPa・s以上100000dPa・s以下である場合、成形体1で成形する熔融ガラスMGの粘度が最も高くなる成形体1の下端において失透を防止するために、熔融ガラスMGの粘度が、80000dPa・s未満になるように熔融ガラスの粘度を制御する。成形体1のクリープ現象を抑制するために、成形体1の供給溝2に供給する熔融ガラスMGの粘度を高くしつつ、成形体1の下端において熔融ガラスの粘度が80000dPa・s未満となる、熔融ガラスを成形体1の供給溝2に供給する。本実施形態の製造方法では、成形体1の供給溝2に供給する熔融ガラスMGの粘度は、下限は20000dPa・sから25000dPa・sであり、上限は35000dPa・sから40000dPa・sである。
これに対して、徐冷工程におけるシートガラスSGの搬送ロールによる引張速度を増加させることも考えられるが、ガラス基板として所望される厚さおよび成形後の徐冷工程で実施されるシートガラスSGの温度制御を考慮すると、搬送ロールによる引張速度の増加には限界がある(徐冷工程で実施されるシートガラスの温度制御を考慮すると、シートガラスの搬送速度は50〜500m/時が好ましく、100〜400m/時が好ましく、120〜300m/時が好ましい)。このため、成形するシートガラスの幅が収縮し易くなり、ガラス基板としての製品幅が確保できない。また、クリープ現象が顕著になると、製造するガラス基板の板厚の均一性が低下する。
形装置1の上面3側から下端4側へ延びる方向にも沿って延びるように配置された加熱装置であってもよい。
図2に示すように、ガイド6a,6bの熔融ガラス側(ガイド6a,6bよりもガイド6a,6bの間の側)の近傍に配置してもよいし、図5に示すように、ガイド6a,6bの熔融ガラスとは反対側(ガイド6a,6bよりも幅方向の外側)の近傍に配置してもよい。前者の場合、加熱装置8によって熔融ガラスMGにおけるガイド6a,6b近傍の部分を直接的に加熱することができる。後者の場合、加熱装置8の具体的な配置の位置およびガイド6a,6bを構成する材料によっても異なるが、加熱装置8によってガイド6a,6bを発熱させ、発熱したガイド6a,6bによって熔融ガラスMGにおける当該ガイド6a,6b近傍の部分を加熱することも可能である。加熱の効率の観点からは、加熱装置8によって熔融ガラスMGにおけるガイド6a,6b近傍の部分を、直接、加熱することが好ましい。
SiO2:56−65質量%
Al2O3:15−19質量%
B2O3:8−13質量%
MgO:1−3質量%
CaO:4−7質量%
SrO:1−4質量%
BaO:0−2質量%
Na2O:0−1質量%
K2O:0−1質量%
As2O3:0−1質量%
Sb2O3:0−1質量%
SnO2:0−1質量%
Fe2O3:0−1質量%
ZrO2:0−1質量%
101 熔解槽
102 清澄管
103 撹拌槽
103a 撹拌子
104、105 移送管
106 ガラス供給管
120 清澄管
200 成形装置
300 切断装置
MG 熔融ガラス
SG シートガラス
SGa (シートガラスの)端部
1 成形体
2 供給溝
3 上面
3a、3b (上面の)端部
4 下端
5 壁面
6a、6b ガイド
7 液面
8 加熱装置(ヒータ)
Claims (5)
- 熔融ガラスが供給される供給溝が形成された上面と、前記供給溝の両側に溢れ出して前記上面から流れ落ちる熔融ガラスを誘導し、下端で融合させてシートガラスとする一対の壁面と、を備える成形体を用いて、オーバーフローダウンドロー法によりシートガラスを成形する成形工程を有するガラス基板の製造方法であって、
前記熔融ガラスを構成するガラス組成物の液相粘度が80000dPa・s以上100000dPa・s以下であり、
前記成形工程では、
熔融ガラスの粘度が25000dPa・s以上35000dPa・s以下である熔融ガラスを前記供給溝に供給し、
前記成形体の上面から前記下端まで、前記壁面の幅方向における双方の端部に当該端部から突出するように互いに対向して形成された一対のガイドによって、前記熔融ガラスを、当該熔融ガラスの幅を規制しながら前記壁面に沿って流下させ、
前記壁面のうち、前記幅方向の両側の端部の間の内側部分を流下する熔融ガラスより、前記端部を流下する熔融ガラスに与える加熱量を多くすることにより、前記下端における熔融ガラスの粘度が40000dPa・s以上80000dPa・s未満となるよう加熱する、
ことを特徴とするガラス基板の製造方法。 - 前記成形工程において、前記端部を流下する熔融ガラスの温度が、前記成形体の前記上面から前記下端に至るまで前記液相温度よりも10℃〜150℃高くなるように、前記ガイドに沿って前記端部を流下する熔融ガラスを加熱する、
ことを特徴とする請求項1に記載のガラス基板の製造方法。 - 前記成形工程において、前記一対のガイド及び前記壁面に対向する位置に設けられる加熱装置により前記壁面を流下する熔融ガラスを、前記熔融ガラスの温度が前記壁面の幅方向に沿って均一になるよう加熱する、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のガラス基板の製造方法。 - 前記成形体の下端は、前記一対の壁面同士が接続した直線状の稜線であり、
前記成形体における前記壁面からの前記ガイドの高さは、前記下端に近づくほど低くなるとともに、前記稜線の位置においてゼロである、
ことを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載のガラス基板の製造方法。 - オーバーフローダウンドロー法により成形体を用いてシートガラスを成形するガラス基板の製造装置であって、
前記成形体は、
熔融ガラスが供給される供給溝と、
前記供給溝が形成された上面と、
前記供給溝の両側に溢れ出して前記上面から流れ落ちる熔融ガラスを誘導し、下端で融合させてシートガラスとする一対の壁面と、
前記成形体の上面から前記下端まで、前記壁面の幅方向における双方の前記壁面の端部に当該端部から突出するように互いに対向して形成され、前記熔融ガラスを、当該熔融ガラスの幅を規制しながら前記壁面に沿って流下させる一対のガイドと、
を備え、
前記供給溝には、液相粘度が80000dPa・s以上100000dPa・s以下であるガラス組成物で構成された熔融ガラスを、前記熔融ガラスの粘度が25000dPa・s以上35000dPa・s以下の状態で流れるように構成され、
さらに、前記壁面のうち、前記幅方向の両側の端部間の内側部分を流下する熔融ガラスより、前記端部を流下する熔融ガラスに与える加熱量を多くすることにより、前記下端における熔融ガラスの粘度が40000dPa・s以上80000dPa・s未満となるよう加熱する加熱装置を、備えることを特徴とするガラス基板の製造装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020160177927A KR20170077814A (ko) | 2015-12-28 | 2016-12-23 | 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판의 제조 장치 |
TW105143174A TW201728541A (zh) | 2015-12-28 | 2016-12-26 | 玻璃基板之製造方法、及、玻璃基板之製造裝置 |
CN201611238145.0A CN106915895A (zh) | 2015-12-28 | 2016-12-28 | 玻璃基板的制造方法及玻璃基板的制造装置 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015257182 | 2015-12-28 | ||
JP2015257182 | 2015-12-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017119617A true JP2017119617A (ja) | 2017-07-06 |
Family
ID=59271380
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016239135A Pending JP2017119617A (ja) | 2015-12-28 | 2016-12-09 | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017119617A (ja) |
KR (1) | KR20170077814A (ja) |
CN (1) | CN106915895A (ja) |
TW (1) | TW201728541A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113233739A (zh) * | 2021-04-30 | 2021-08-10 | 彩虹显示器件股份有限公司 | 一种基板玻璃和制造方法 |
WO2021256176A1 (ja) * | 2020-06-18 | 2021-12-23 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス物品の製造装置及びその製造方法 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102569272B1 (ko) * | 2017-09-13 | 2023-08-22 | 니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤 | 유리 물품의 제조 방법 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006265001A (ja) * | 2005-03-22 | 2006-10-05 | Asahi Glass Co Ltd | ガラスおよびガラス製造方法 |
JP2007112665A (ja) * | 2005-10-20 | 2007-05-10 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 液晶板ガラス用加熱装置および液晶板ガラス用炉ならびに液晶板ガラスの製造方法 |
JP2008260642A (ja) * | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Nh Techno Glass Kk | ガラス組成物、それを用いたガラス板およびその製造方法 |
JP2012148959A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-08-09 | Avanstrate Inc | 液晶表示装置用ガラス基板の製造方法 |
WO2013054532A1 (ja) * | 2011-10-11 | 2013-04-18 | AvanStrate株式会社 | ガラス板の製造方法 |
JP2014028739A (ja) * | 2012-06-28 | 2014-02-13 | Avanstrate Inc | ガラス板の製造方法 |
WO2014051069A1 (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | AvanStrate株式会社 | ガラス基板の製造方法及びガラス基板製造装置 |
JP2014208572A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-11-06 | AvanStrate株式会社 | ガラス板の製造方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1746076A1 (en) * | 2005-07-21 | 2007-01-24 | Corning Incorporated | Method of making a glass sheet using rapid cooling |
KR101372609B1 (ko) * | 2011-07-01 | 2014-03-10 | 아반스트레이트 가부시키가이샤 | 유리판의 제조 방법 |
JP2013216533A (ja) * | 2012-04-06 | 2013-10-24 | Avanstrate Inc | ガラス板の製造方法およびガラス板製造装置 |
US8904822B2 (en) * | 2012-11-06 | 2014-12-09 | Corning Incorporated | Thickness control of substrates |
-
2016
- 2016-12-09 JP JP2016239135A patent/JP2017119617A/ja active Pending
- 2016-12-23 KR KR1020160177927A patent/KR20170077814A/ko not_active Application Discontinuation
- 2016-12-26 TW TW105143174A patent/TW201728541A/zh unknown
- 2016-12-28 CN CN201611238145.0A patent/CN106915895A/zh active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006265001A (ja) * | 2005-03-22 | 2006-10-05 | Asahi Glass Co Ltd | ガラスおよびガラス製造方法 |
JP2007112665A (ja) * | 2005-10-20 | 2007-05-10 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 液晶板ガラス用加熱装置および液晶板ガラス用炉ならびに液晶板ガラスの製造方法 |
JP2008260642A (ja) * | 2007-04-10 | 2008-10-30 | Nh Techno Glass Kk | ガラス組成物、それを用いたガラス板およびその製造方法 |
JP2012148959A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-08-09 | Avanstrate Inc | 液晶表示装置用ガラス基板の製造方法 |
WO2013054532A1 (ja) * | 2011-10-11 | 2013-04-18 | AvanStrate株式会社 | ガラス板の製造方法 |
JP2014028739A (ja) * | 2012-06-28 | 2014-02-13 | Avanstrate Inc | ガラス板の製造方法 |
WO2014051069A1 (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-03 | AvanStrate株式会社 | ガラス基板の製造方法及びガラス基板製造装置 |
JP2014208572A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-11-06 | AvanStrate株式会社 | ガラス板の製造方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2021256176A1 (ja) * | 2020-06-18 | 2021-12-23 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス物品の製造装置及びその製造方法 |
JP7488509B2 (ja) | 2020-06-18 | 2024-05-22 | 日本電気硝子株式会社 | ガラス物品の製造装置及びその製造方法 |
CN113233739A (zh) * | 2021-04-30 | 2021-08-10 | 彩虹显示器件股份有限公司 | 一种基板玻璃和制造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106915895A (zh) | 2017-07-04 |
KR20170077814A (ko) | 2017-07-06 |
TW201728541A (zh) | 2017-08-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5642832B2 (ja) | ガラス板の製造方法 | |
WO2012132474A1 (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
JP6144740B2 (ja) | ディスプレイ用ガラス基板の製造方法 | |
TW201834977A (zh) | 無鹼玻璃基板之製造方法 | |
KR102291453B1 (ko) | 유리 기판의 제조 방법 및 유리 기판의 제조 장치 | |
JP2017119617A (ja) | ガラス基板の製造方法、及び、ガラス基板の製造装置 | |
JP6675849B2 (ja) | ガラス板の製造方法およびガラス板の製造装置 | |
JP2013216533A (ja) | ガラス板の製造方法およびガラス板製造装置 | |
JP2018052792A (ja) | ガラス基板の製造方法、およびガラス基板製造装置 | |
KR20130115128A (ko) | 글래스판의 제조 방법 | |
JP5937704B2 (ja) | ガラス基板の製造方法及びガラス基板製造装置 | |
JP6489783B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、および、ガラス基板の製造装置 | |
JP6498933B2 (ja) | ディスプレイ用ガラス基板の製造方法および製造装置 | |
TWI454435B (zh) | Glass plate manufacturing method | |
JP5651634B2 (ja) | ガラス板の製造方法 | |
JP5668066B2 (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
JP2014214062A (ja) | ガラス板製造方法、および、ガラス板製造装置 | |
JP6775338B2 (ja) | ガラス板の製造方法 | |
WO2022054738A1 (ja) | 低アルカリガラス板の製造方法及び低アルカリガラス板 | |
JP6714677B2 (ja) | ガラス基板製造装置、及びガラス基板の製造方法 | |
JP2013035726A (ja) | ガラスの製造装置及びそれを用いたガラス製造方法 | |
JP2017178693A (ja) | ガラス基板の製造方法、およびシートガラス製造装置 | |
JP2017065987A (ja) | ガラス基板の製造方法及びガラス導管 | |
JP2017066005A (ja) | ガラス基板の製造方法及びガラス導管 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20191111 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200423 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200519 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200730 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200901 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20210202 |