JP2002076149A5 - - Google Patents
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【0010】
このように、従来の、記憶回路部100と論理回路部200とが混載された、コントロールゲート電極104、フローティングゲート電極105、ソース領域107、ドレイン領域108、ゲート電極112及びソースドレイン領域114の上部には全面的に金属シリサイド膜110が形成されて、記憶回路部100及び論理回路部200を構成する素子の高速化が図られている。
このように、従来の、記憶回路部100と論理回路部200とが混載された、コントロールゲート電極104、フローティングゲート電極105、ソース領域107、ドレイン領域108、ゲート電極112及びソースドレイン領域114の上部には全面的に金属シリサイド膜110が形成されて、記憶回路部100及び論理回路部200を構成する素子の高速化が図られている。
【0012】
本発明は、前記従来の問題を解決し、スプリットゲート型半導体記憶装置であって、論理回路部と記憶回路部とが混載する半導体記憶装置の超微細化及び高性能化を可能とすることを目的とする。
本発明は、前記従来の問題を解決し、スプリットゲート型半導体記憶装置であって、論理回路部と記憶回路部とが混載する半導体記憶装置の超微細化及び高性能化を可能とすることを目的とする。
【0015】
第1の半導体記憶装置によると、第2の活性領域に含まれる論理素子を構成する第2のソース領域、第2のドレイン領域及びゲート電極の上面にのみ金属シリサイド膜を有しているため、第1の活性領域に含まれる記憶素子を構成するコントロールゲート電極及びフローティングゲート電極はシリサイド化されていないので、コントロールゲート電極とフローティングゲート電極とが短絡することがない。その上、記憶回路部である第1の活性領域はシリサイド化されていないため、第1のソース領域及び第1のドレイン領域と外部との電気的導通を図るコンタクトを形成する際のマスク合わせのマージンを小さくできるので、第1の活性領域の超微細化が図れる。その結果、記憶素子を含む記憶回路部と論理素子を含む論理回路部とを1つの半導体基板に混載した半導体記憶装置の超微細化と高性能化とを両立できる。
第1の半導体記憶装置によると、第2の活性領域に含まれる論理素子を構成する第2のソース領域、第2のドレイン領域及びゲート電極の上面にのみ金属シリサイド膜を有しているため、第1の活性領域に含まれる記憶素子を構成するコントロールゲート電極及びフローティングゲート電極はシリサイド化されていないので、コントロールゲート電極とフローティングゲート電極とが短絡することがない。その上、記憶回路部である第1の活性領域はシリサイド化されていないため、第1のソース領域及び第1のドレイン領域と外部との電気的導通を図るコンタクトを形成する際のマスク合わせのマージンを小さくできるので、第1の活性領域の超微細化が図れる。その結果、記憶素子を含む記憶回路部と論理素子を含む論理回路部とを1つの半導体基板に混載した半導体記憶装置の超微細化と高性能化とを両立できる。
【0022】
第2の半導体記憶装置の製造方法によると、コントロールゲート電極及びフローティングゲート電極を覆う保護絶縁膜を形成した後、該保護絶縁膜をマスクとして、第1のソース領域、第1のドレイン領域、第2のソース領域、第2のドレイン領域及びゲート電極の上面をそれぞれサリサイド化するため、第1の活性領域に含まれる記憶素子のコントロールゲート電極及びフローティングゲート電極はシリサイド化されないので、コントロールゲート電極とフローティングゲート電極とが短絡することがない。その上、第1の活性化領域における第1のソース領域及び第1のドレイン領域の上面がシリサイド化されているため、第1のソース領域及び第1のドレイン領域のコンタクト抵抗を低減することができる。
第2の半導体記憶装置の製造方法によると、コントロールゲート電極及びフローティングゲート電極を覆う保護絶縁膜を形成した後、該保護絶縁膜をマスクとして、第1のソース領域、第1のドレイン領域、第2のソース領域、第2のドレイン領域及びゲート電極の上面をそれぞれサリサイド化するため、第1の活性領域に含まれる記憶素子のコントロールゲート電極及びフローティングゲート電極はシリサイド化されないので、コントロールゲート電極とフローティングゲート電極とが短絡することがない。その上、第1の活性化領域における第1のソース領域及び第1のドレイン領域の上面がシリサイド化されているため、第1のソース領域及び第1のドレイン領域のコンタクト抵抗を低減することができる。
【0038】
次に、図2(c)に示すように、第2のレジストパターン82を除去した後、熱酸化法により、半導体基板31上の記憶回路部1にコントロールゲート電極34Bを含む全面にわたって酸化シリコンからなる第2の絶縁膜35を形成し、続いて、減圧CVD法により、n型不純物濃度を1×1020cm-3程度含み、膜厚が約100nmの導電性多結晶シリコンからなる第2の導電膜を堆積する。その後、堆積した第2の導電膜及び第2の絶縁膜35に対して異方性ドライエッチによる、110nm相当分のエッチバックを行なって、コントロールゲート電極34Bの側壁に導電性多結晶シリコンからなるサイドウォール膜を形成する。さらに、フォトリソグラフィ法により、フローティングゲート電極形成用の第3のレジストパターン83を形成し、形成した第3のレジストパターン83をマスクとして、コントロールゲート電極34Bに対する基板段差部31aと反対側のサイドウォール膜及び第2の絶縁膜35を異方性のドライエッチングにより除去することにより、基板段差部31aの上で第2の絶縁膜35と接するフローティングゲート電極36を形成する。
次に、図2(c)に示すように、第2のレジストパターン82を除去した後、熱酸化法により、半導体基板31上の記憶回路部1にコントロールゲート電極34Bを含む全面にわたって酸化シリコンからなる第2の絶縁膜35を形成し、続いて、減圧CVD法により、n型不純物濃度を1×1020cm-3程度含み、膜厚が約100nmの導電性多結晶シリコンからなる第2の導電膜を堆積する。その後、堆積した第2の導電膜及び第2の絶縁膜35に対して異方性ドライエッチによる、110nm相当分のエッチバックを行なって、コントロールゲート電極34Bの側壁に導電性多結晶シリコンからなるサイドウォール膜を形成する。さらに、フォトリソグラフィ法により、フローティングゲート電極形成用の第3のレジストパターン83を形成し、形成した第3のレジストパターン83をマスクとして、コントロールゲート電極34Bに対する基板段差部31aと反対側のサイドウォール膜及び第2の絶縁膜35を異方性のドライエッチングにより除去することにより、基板段差部31aの上で第2の絶縁膜35と接するフローティングゲート電極36を形成する。
【0060】
具体的には、図3(b)に示した第5のレジストパターン85を除去した後、温度が約850℃で60分間程度の熱処理を行なって、半導体基板31の記憶回路部1に注入された砒素イオンを活性化することにより、半導体基板31の記憶回路部1におけるコントロールゲート電極34B側に接合深さが約0.3μmのソース領域38を形成し、フローティングゲート電極36側にも接合深さが約0.3μmのドレイン領域39を形成する。その後、フォトリソグラフィ法により、記憶回路部1をマスクする第6のレジストパターン86を形成し、記憶回路部1においては第6のレジストパターン86をマスクとし、論理回路部2においてはゲート電極34Cをマスクとして、半導体基板31に燐イオンを注入する。
具体的には、図3(b)に示した第5のレジストパターン85を除去した後、温度が約850℃で60分間程度の熱処理を行なって、半導体基板31の記憶回路部1に注入された砒素イオンを活性化することにより、半導体基板31の記憶回路部1におけるコントロールゲート電極34B側に接合深さが約0.3μmのソース領域38を形成し、フローティングゲート電極36側にも接合深さが約0.3μmのドレイン領域39を形成する。その後、フォトリソグラフィ法により、記憶回路部1をマスクする第6のレジストパターン86を形成し、記憶回路部1においては第6のレジストパターン86をマスクとし、論理回路部2においてはゲート電極34Cをマスクとして、半導体基板31に燐イオンを注入する。
Claims (2)
- 半導体基板の主面を素子分離絶縁膜によって第1の活性領域と第2の活性領域とに区画する工程と、
前記第1の活性領域及び第2の活性領域の上に第1の絶縁膜及び第1の導電膜を順次形成する工程と、
前記第1の導電膜及び第1の絶縁膜における前記第1の活性領域に対して選択的にエッチングを行なって、前記第1の活性領域に前記第1の絶縁膜からコントロールゲート絶縁膜を形成すると共に前記第1の導電膜からコントロールゲート電極を形成する工程と、
前記第1の活性領域の上に前記コントロールゲート電極を含む全面にわたって第2の絶縁膜及び第2の導電膜を形成する工程と、
前記第2の絶縁膜及び第2の導電膜に対してエッチバックを行なって、前記コントロールゲート電極の側面上に前記第2の絶縁膜を介して前記第2の導電膜からなるフローティングゲート電極を形成する工程と、
前記第1の導電膜及び第1の絶縁膜における前記第2の活性領域に対して選択的にエッチングを行なって、前記第2の活性領域に前記第1の絶縁膜からゲート絶縁膜を形成すると共に前記第1の導電膜からゲート電極を形成する工程と、
前記半導体基板の前記第1の活性領域における前記コントロールゲート電極及びフローティングゲート電極の側方の領域に第1のソース領域及び第1のドレイン領域を形成する工程と、
前記半導体基板の前記第2の活性領域における前記ゲート電極の側方の領域に第2のソース領域及び第2のドレイン領域を形成する工程と、
前記第1の活性領域の上に該第1の活性領域を覆う保護絶縁膜を形成した後、形成した保護絶縁膜をマスクとして、前記第2のソース領域、第2のドレイン領域及びゲート電極の上面をそれぞれサリサイド化する工程とを備えていることを特徴とする半導体記憶装置の製造方法。 - 半導体基板の主面を素子分離絶縁膜によって第1の活性領域と第2の活性領域とに区画する工程と、
前記第1の活性領域及び第2の活性領域の上に第1の絶縁膜及び第1の導電膜を順次形成する工程と、
前記第1の導電膜及び第1の絶縁膜における前記第1の活性領域に対して選択的にエッチングを行なって、前記第1の活性領域に前記第1の絶縁膜からコントロールゲート絶縁膜を形成すると共に前記第1の導電膜からコントロールゲート電極を形成する工程と、
前記第1の活性領域の上に前記コントロールゲート電極を含む全面にわたって第2の絶縁膜及び第2の導電膜を形成する工程と、
前記第2の絶縁膜及び第2の導電膜に対してエッチバックを行なって、前記コントロールゲート電極の側面上に前記第2の絶縁膜を介して前記第2の導電膜からなるフローティングゲート電極を形成する工程と、
前記第1の導電膜及び第1の絶縁膜における前記第2の活性領域に対して選択的にエッチングを行なって、前記第2の活性領域に前記第1の絶縁膜からゲート絶縁膜を形成すると共に前記第1の導電膜からゲート電極を形成する工程と、
前記半導体基板の前記第1の活性領域における前記コントロールゲート電極及びフローティングゲート電極の側方の領域に第1のソース領域及び第1のドレイン領域を形成する工程と、
前記半導体基板の前記第2の活性領域における前記ゲート電極の側方の領域に第2のソース領域及び第2のドレイン領域を形成する工程と、
前記コントロールゲート電極及びフローティングゲート電極を覆う保護絶縁膜を形成した後、形成した保護絶縁膜をマスクとして、前記第1のソース領域、第1のドレイン領域、第2のソース領域、第2のドレイン領域及びゲート電極の上面をそれぞれサリサイド化する工程とを備えていることを特徴とする半導体記憶装置の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000262160A JP3686318B2 (ja) | 2000-08-31 | 2000-08-31 | 半導体記憶装置の製造方法 |
TW090121501A TW502451B (en) | 2000-08-31 | 2001-08-30 | Semiconductor memory and method for fabrication the same |
US09/942,948 US6558997B2 (en) | 2000-08-31 | 2001-08-31 | Method for fabricating the control and floating gate electrodes without having their upper surface silicided |
US10/366,481 US6791139B2 (en) | 2000-08-31 | 2003-02-14 | Semiconductor memory and method for fabricating the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000262160A JP3686318B2 (ja) | 2000-08-31 | 2000-08-31 | 半導体記憶装置の製造方法 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002076149A JP2002076149A (ja) | 2002-03-15 |
JP2002076149A5 true JP2002076149A5 (ja) | 2004-08-19 |
JP3686318B2 JP3686318B2 (ja) | 2005-08-24 |
Family
ID=18749880
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000262160A Expired - Fee Related JP3686318B2 (ja) | 2000-08-31 | 2000-08-31 | 半導体記憶装置の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US6558997B2 (ja) |
JP (1) | JP3686318B2 (ja) |
TW (1) | TW502451B (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6770933B2 (en) * | 2002-12-11 | 2004-08-03 | Texas Instruments Incorporated | Single poly eeprom with improved coupling ratio |
JP4541220B2 (ja) * | 2005-04-13 | 2010-09-08 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路装置の製造方法 |
JP5086626B2 (ja) * | 2006-12-15 | 2012-11-28 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 不揮発性半導体記憶装置及びその製造方法 |
US8320191B2 (en) | 2007-08-30 | 2012-11-27 | Infineon Technologies Ag | Memory cell arrangement, method for controlling a memory cell, memory array and electronic device |
KR20100076227A (ko) * | 2008-12-26 | 2010-07-06 | 주식회사 동부하이텍 | 반도체 소자 및 그 제조 방법 |
CA2886895C (en) | 2012-10-02 | 2021-10-19 | Bayer Cropscience Ag | Heterocyclic compounds as pesticides |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3059442B2 (ja) * | 1988-11-09 | 2000-07-04 | 株式会社日立製作所 | 半導体記憶装置 |
JP2664685B2 (ja) * | 1987-07-31 | 1997-10-15 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
US5587332A (en) * | 1992-09-01 | 1996-12-24 | Vlsi Technology, Inc. | Method of making flash memory cell |
JPH06151780A (ja) * | 1992-11-12 | 1994-05-31 | Nippon Precision Circuits Kk | 半導体装置 |
SE515560C2 (sv) * | 1995-04-03 | 2001-08-27 | Ericsson Telefon Ab L M | Optiskt nät samt anordning och förfarande i detta |
JP3149937B2 (ja) * | 1997-12-08 | 2001-03-26 | 日本電気株式会社 | 半導体装置およびその製造方法 |
US6051860A (en) * | 1998-01-16 | 2000-04-18 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Nonvolatile semiconductor memory device and method for fabricating the same and semiconductor integrated circuit |
JP3161408B2 (ja) | 1998-03-03 | 2001-04-25 | 日本電気株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
JP3175705B2 (ja) * | 1998-09-18 | 2001-06-11 | 日本電気株式会社 | 不揮発性半導体記憶装置の製造方法 |
JP4212178B2 (ja) * | 1999-03-12 | 2009-01-21 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路の製造方法 |
-
2000
- 2000-08-31 JP JP2000262160A patent/JP3686318B2/ja not_active Expired - Fee Related
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2001
- 2001-08-30 TW TW090121501A patent/TW502451B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-08-31 US US09/942,948 patent/US6558997B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
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