JP2001506410A

JP2001506410A - メモリセル装置およびその製造方法

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Publication number: JP2001506410A
Application number: JP52716898A
Authority: JP
Inventors: ホフマンフランツ; ヴィラーヨーゼフ; ライジンガーハンス; フォンバッセパウル−ヴェルナー; クラウトシュナイダーヴォルフガング
Original assignee: Siemens AG
Current assignee: Siemens AG
Priority date: 1996-12-17
Filing date: 1997-11-20
Publication date: 2001-05-15
Also published as: WO1998027594A1; TW363274B; US6445046B1; CN1240536A; EP0946985B1; DE59704333D1; EP0946985A1; DE19652547A1; CN1139131C; KR20000057583A; DE19652547C2

Abstract

(57)【要約】半導体基板（２１）に複数の相互に絶縁されたメモリセルラインが配置されており、これらメモリセルラインはそれぞれ１つの第１のドープ領域（Ｄ１’）と第２のドープ領域（Ｄ２’）を有し、これらデープ領域の間にゲート誘電体（２９，３２）と複数のゲート電極（ＷＬ１’、ＷＬ２’）とが配置されており、前記ゲート誘電体は電荷担体付着箇所を備えた物質を含んでいる。隣接するゲート電極（ＷＬ１’，ＷＬ２’）の間隔はゲート電極（ＷＬ１’、Ｗｌ２’）の寸法よりも小さい。情報は、電荷担体をゲート誘電体（２９，３２）に注入することにより記憶される。ゲート電極８ＷＬ１’、ＷＬ２’）は有利にはスペーサ技術によって作製される。

Description

【発明の詳細な説明】メモリセル装置およびその製造方法多数の電子装置に対して、データが固定的に書き込まれるメモリが必要である。この種のメモリはとりわけ固定値メモリ、読み出しメモリ、または読み出し専用メモリと称される。大きなデータ量に対してはコンパクトディスクが読み出しメモリとして使用される。コンパクトディスクは、アルミニウムの被着層を有するプラスティックディスクであり、この被着層に２種の点状凹部が配置される。この凹部の構成では、情報はデジタルで記憶される。コンパクトディスクに記憶されたデータを読み出すために、ディスクは読み出し装置で機械的に回転され、点状の凹部が走査される。１つのコンパクトデイスクには５Ｇバイトの情報を記憶することができる。読み出し装置は可動部材を有し、この可動部材は機械的な摩耗を受ける。またこの可動部材は比較的大きな容積を必要とし、緩慢なデータアクセスしかできない。さらに読み出し装置は振動に対して脆弱であり、したがってモバイルシステムでは制限的にしか使用できない。これに対し半導体ベースの固定値メモリにより、記憶された情報にランダムアクセスすることができる。さらにこのメモリはモバイルシステムに使用することができる。なぜなら情報を読み出すのに機械的走行機構を必要としないからである。この固定値メモリでは通常、ＭＯＳトランジスタが使用される。読み出し過程では、電流がトランジスタを流れているか否かが評価される。相応して、記憶された情報が割り当てられる。技術的には情報の記憶は通常次のようにして行われる。すなわち、ＭＯＳトランジスタがチャネル領域での異なる埋め込みにより異なる使用電圧を有するようにして行われる。半導体ベースの固定値メモリで達成可能な記憶密度はメモリセル当たりの必要面積に依存する。ＤＥ−ＯＳ１９５１００４２には、セルに配置されたＭＯＳトランジスタを有する固定値メモリセル装置が記載されている。各セルではＭＯＳトランジスタが直列に接続されている。記憶密度を高めるために、隣接するセルはそれぞれテープ状の縦溝の底部と、隣接するテープ状縦溝間では基板の表面に配置されている。相互に接続されたソース／ドレイン領域は関連するドープ領域として構成されている。“ＮＡＮＤ”アーキテクチュアでライン毎に制御することにより、ＭＯＳトランジスタが読み出される。前記のメモリセル装置のプログラミングは製造時に行われる。しかし多数の適用に対して、データが電気的プログラミングにより書き込むことのできるメモリが必要である。電気的プログラミング可能なメモリセル装置では、情報の記憶が通常は次にようにして行われる。すなわち、ＭＯＳトランジスタのゲートとチャネル領域との間にフローティングゲート、またはゲート誘電体としてSiO₂およびSi₃N₄からなる二重層が設けられている。フローティングゲートには電荷を印加することができる。二重層の境界面では電荷担体を付着箇所で保持することができる。ＭＯＳトランジスタの使用電圧は、フローティングゲートないし付着箇所に存在する電荷に依存する。この特性は電気的プログラミングに使用される（例えば、S.M.Sze,Semiconduc tor Devices,John Willey,486-490pp.）。本発明の課題は、電気的プログラミング可能であり、大きなデータ量を記憶するのに適したメモリセル装置を提供することである。さらにその製造方法を提供することである。この課題は本発明により、請求項１のメモリセル装置、並びに請求項８のその製造方法によって解決される。本発明のさらなる構成は、他の請求項に記載されている。メモリセル装置は半導体基板に複数のメモリセルラインを有する。隣接するメモリセルラインは相互に絶縁されている。メモリセルラインはそれぞれ１つの第１のドープ領域と第２のドープ領域を有する。第１のドープ領域と第２のドープ領域との間では、半導体基板の主面にゲート誘電体と並置された複数のゲート電極が配置されている。ここで隣接するゲート電極間の間隔は、第１のドープ領域と第２のドープ領域との間の接続線に対して平行なゲート電極の寸法よりも小さい。ゲート誘電体は、電荷担体付着箇所を伴う材料を含んでいる。付着箇所、英語でトラップ（traps）は、電荷担体、とりわけ電子を捕獲する特性を有する。電気的プログラミングのためにゲート電極は、記憶すべき情報に相応する電荷担体がゲート誘電体へ、ゲート電極の下方で達し、付着箇所により保持されるように接続される。電荷担体は付着箇所に捕獲されるから、情報は持続的に記憶される。プログラミングされたメモリセル装置はしたがって、固定値メモリセル装置である。プログラミングは、ファウラー−ノルドハイム−トンネルによっても、熱電子注入によっても行うことができる。ファウラー−ノルドハイム−トンネルでは極性反転により電荷担体を付着箇所から除去することができ、これによりメモリセル装置のプログラムが変更される。本発明は以下の考察に基づくものである。直列に接続されたＭＯＳトランジスタの配置されたセルをＮＡＮＤアーキテクチュアで制御する場合、ＭＯＳトランジスタのゲート電極は次のように接続される。すなわち、すべてのＭＯＳトランジスタが選択されたＭＯＳトランジスタまで導通し、このことは選択されなかった個々のトランジスタの使用電圧に依存しないように接続するのである。このことはゲート電極に、発生する最高使用電圧よりも高い電圧を印加することにより行われる。これに対し選択されたＭＯＳトランジスタのゲート電極には、ＭＯＳトランジスタの使用電圧の間にある電圧が印加される。そして電流が、直列に接続されたＭＯＳトランジスタを介して流れるか否かを評価する。電流が流れていれば、選択されたＭＯＳトランジスタに僅かな使用電圧に相応する情報が記憶されている。電流が流れていなければ、比較的に高い使用電圧に相応する情報が記憶されている。本発明は次の事実を使用する。すなわち、このＭＯＳトランジスタのほとんどのソース／ドレイン領域は読み出しの際に、隣接する導電チャネル間の導電接続路としてだけ作用するという事実を使用する。したがって本発明のメモリセル装置では、各メモリセル装置の最初と最後に、ドープ領域がソース／ドレイン領域に相応して配置され、これらの間では密に並置されたゲート電極が相応の接続により、選択されたゲート電極のチャネル領域までの空間電荷領域を形成する。このようにしてメモリセルラインでは、２つの隣接するゲート電極間に配置されたソース／ドレイン領域に対するスペース需要が節約される。隣接する制御ゲート電極間の漂遊電磁界はここでは、中間空間の下にある領域が隣接するゲート電極間で導通するように作用する。有利には隣接するゲート電極間の間隔は１０から１００ｎｍである。漂遊電磁界が隣接する制御ゲート電極間で十分でないような適用例では、隣接するゲート電極間の中間空間の下方領域を導通させるために、本発明の枠内では、この領域では対抗ドーピングによって表面でのドープ物質分布を調節する。このためには、１０¹⁷ｃｍ^-3領域のドープ物質濃度で十分である。このドープ物質濃度は明らかに第１のドープ領域および第２のドープ領域における濃度よりも低い。この領域は、ソース／ドレイン領域と同じように１０²⁰から１０²¹ｃｍ^-3の領域のドープ物質濃度を有する。対抗ドーピングは単に、隣接する空間電荷ゾーンの調整にだけ用い、通常のソース／ドレイン領域とは比較することができない。データをデジタル形態で記憶するために、ゲート電極の下方では種々異なる電荷量がゲート誘電体にもたらされる。従ってこの装置では、２つの異なる使用電圧が発生する。メモリセル装置を多値論理回路に使用すべき場合、ゲート誘電体は相応の電圧条件および時間条件によりプログラミングの際に異なる電荷量が次のように印加される。すなわち、記憶される情報に応じて２つを越える異なる使用電圧により実現されるように印加される。ゲート誘電体は本発明の実施例では、多重層として構成されており。その中に設けられた少なくとも１つの層は、多重層中の少なくとも１つの別の層との比較で比較的に高い電荷担体捕獲断面積を有する。付着箇所は、２つの層の間の境界面に位置決めされている。有利には誘電性多重層はSiO₂層、Si₃N₄層、およびSiO₂ 層（いわゆるＯＮＯ）を含む。択一的にゲート誘電体は別の材料からなる多重層として構成することもでき、層の電荷担体捕獲断面積は高められており、例えばSi₃N₄,Ta₂O₅,Al₂O₃,またはTiO₂からなり、隣接する層はSiO₂,SiN₄,またはAl₂O₃ からなる。さらに多重層は３つを越える層をまたは３対を下回る層を有することができる。択一的にゲート誘電体は、例えばSiO₂からなる誘電層を有することができ、この層には異種原子、例えばW,Pt,Cr,Ni,PdまたはIrが貯蔵される。貯蔵される異種原子は埋め込みにより、酸化の際の添加または拡散により設けることができる。貯蔵された異種原子がこの場合に付着箇所を形成する。隣接するメモリセルラインは、その間に配置された絶縁溝により、またはその間に配置されたｐｎ接合部により、または次のようにして絶縁される。すなわち、半導体基板の主面に平行でテープ状の溝を設け、メモリセルラインをそれぞれ交互に溝の底部と、主面の隣接する溝間に配置することにより絶縁するのである。絶縁溝または絶縁ｐｎ接合部を隣接するメモリセルライン間に使用することの利点は、メモリセル装置が平坦なことである。このことは、所要のプロセスステップ数とプロセスの複雑性を低減する。これに対し、隣接するメモリセルラインを、底部と隣接する溝間に配置することにより絶縁することによって記憶密度がさらに高まる。なぜなら、隣接するメモリセルライン間の絶縁が溝壁によって実現されるからである。メモリセル装置では、メモリセルラインがビット線路として作用する。ゲート電極は、メモリセルラインに対して横に延在するワード線路と接続されている。有利にはゲート電極はテープ状に、導電性材料から形成される。これにより、テープ状のゲート電極がワード線路を形成する。ゲート電極が狭いラスタに、例えば最小構造寸法Ｆである、隣接するゲート電極間の間隔で形成されれば、本発明の枠内ではゲート電極の接触接続を容易にするために拡張部が設けられ、この拡張部の接点に取り付けられる。隣接するゲート電極の拡張部はここでは相互にずらして配置されている。有利にはゲート電極はテープ状の構造体として形成され、ゲート電極の長手側には拡張部の領域に段が設けられる。隣接するゲート電極に沿ってこの段をずらして配置することにより、幅を拡張するために付加的に必要なスペース需要が制限される。ビット線路を制御するために本発明の枠内では、複数の隣接するビット線路が１つのノードのまとめられ、ノードと、メモリセルラインの終端するドープ領域との間に選択スイッチまたはデコーダが設けられる。このためにノードとドープ領域との間には、それぞれ少なくとも１つのＭＯＳトランジスタが形成され、このトランジスタは選択電極を介して制御される。ここで選択電極は、ビット線路に対して横方向に延在する選択線路として実現される。選択線路とビット線路（ビット線路は交点に選択トランジスタを有するべきでない）との交点には、チャネル埋め込みによって相応の選択線路の下方でドーピングが次のように調整される。すなわち、選択線路の下方に形成された、寄生ＭＯＳトランジスタが低い使用電圧を有し、このトランジスタは選択線路に電圧が印加されるか否かに依存せずに導通するように調整される。ノードとドープ領域との間に選択スイッチが形成されると、多数の選択線路が形成され、ビット線路と同じようにまとめられる。選択トランジスタは交点の対角線に沿って、選択線路とビット線路との間に形成される。デコーダがノードとドープ領域との間に形成されるなら、２ⁿのビット線路がノードにまとめられる場合、２ⁿの選択線路が形成される。ここで各２つの隣接する選択線路は、選択トランジスタの構成を基準にして相互に相補形である。各ｎ番目の選択線路対には、それぞれ選択線路のビット線路との２^n-1番目の交点にＭＯＳトランジスタが配置されているか、またはＭＯＳトランジスタが配置されていない。メモリセル装置を製造するために、半導体基板、有利には単結晶シリコンディスク、またはＳＯＩ基板のシリコン層に、複数のメモリセルラインが形成され、このラインは相互に絶縁される。各メモリセルラインに対して半導体基板には、第１のドープ領域と第２のドープ領域が形成される。電荷付着箇所を備えた材料を含む誘電層が形成される。この上に第１の電極層が形成され、第１のゲート電極を形成するために構造化される。第１のゲート電極のエッジにはスペーサが形成される。電荷付着箇所を備えた材料を含む第２の誘電層が形成される。第２のゲート電極を形成するために第２の電極層が実質的に同形状のエッジカバーによって形成され、構造化される。第１のゲート電極と第２のゲート電極とはそれぞれ並置され、ここで２つの隣接するゲート電極の間隔は、第１のドープ領域と第２のドープ領域との間の接続ラインに対して平行なゲート電極の寸法よりも小さい。本発明の枠内では、第１のゲート電極と第２のゲート電極との間のスペーサを第１のゲート電極と第２のゲート電極に対して選択的に除去し、対抗ドーピングの自己調整を行う。対抗ドーピングによって、半導体基板のドーピングは第１のゲート電極と第２のゲート電極との間の領域で調節される。対抗ドーピングは、５×１０¹⁷ｃｍ^-3以下の領域のドープ物質濃度により行われる。有利には対抗ドーピングはやや高い値、例えばＭＯＳトランジスタのチャネルドーピングとして適用技術で使用されるドーピング物質濃度の２倍から３倍にする。隣接するメモリセルライン間を絶縁するために本発明の枠内では、隣接するメモリセルライン間にそれぞれシャロートレンチアイソレーション（ＳＴＩ）技術を用いてテープ状の絶縁溝が形成される。ゲート電極を最小構造寸法Ｆに相応する間隔により形成し、メモリセルライン並びに絶縁溝がそれぞれ同じ幅Ｆを有するようにすればこの場合、第１のドープ領域と第２のドープ領域の必要面積を無視すれば、メモリセル当たりの面積需要は２Ｆ²である。隣接するメモリセルラインを、これらがそれぞれ、テープ状であり、実質的に平行な溝の底部と、半導体基板の主面の溝間とに交互に形成されるようにして絶縁することも本発明の枠内である。この場合、溝の側壁は隣接するメモリセルライン間の絶縁体として作用する。この場合においてゲート電極を、最小構造寸法Ｆからその中心までの間隔により形成し、溝を同じように構造寸法Ｆからその中心間での間隔により形成すれば、第１のドープ領域と第２のドープ領域に対して必要な面積を無視すると、メモリセル当たりに必要な面積は１Ｆ²となる。以下本発明を、図面に示された実施例に基づき詳細に説明する。図１は、メモリセル装置の平面図であり、このメモリセル装置では隣接するメモリセルラインが絶縁溝によって相互に絶縁されている。図２は、図１の半導体基板のＡ−Ａで示された断面を示し、選択トランジスタの使用電圧を調整するためにチャネル埋め込みが行われている。図３は、半導体基板の断面を示し、第１の誘電層、第１のゲート電極および選択線路が形成されている。図４は、基板の断面を示し、第１の誘電層が構造化されており、スペーサが第１のゲート電極のエッジに形成されている。図５は、半導体基板の断面を示し、第２の誘電層と第２の電極層が形成されている。図６は、第２のゲート電極を第２の電極層の構造化によって形成した後の基板を示す。図７は、半導体基板の断面を示し、第１のドープ領域、第２のドープ領域およびソース／ドレイン領域を形成するための埋め込みが行われている。図８は、メモリセル装置の平面図を示し、第１のゲート電極および第２のゲート電極への接点が形成されている。図９は、メモリセル装置の平面図を示し、ここでは隣接するメモリセルラインが、溝の底部と、隣接する溝間とに交互に配置されており、溝の側壁によって相互に絶縁されている。図１０は、図９に示されたＡ−Ａによる、半導体基板の断面図であり、デコーダのトランジスタをプログラミングするための埋め込みが行われている。ここでトランジスタは隣接する溝間に配置されている。図１１は、図９に示したＣ−Ｃの断面図であり、テープ状溝のエッチングが行われている。図１２は、図９に示されたＢ−Ｂの断面図であり、デコーダのトランジスタをプログラミングするための埋め込みが行われている。ここでトランジスタは隣接する溝の底部に配置されている。図１３は、Ａ−Ａの断面図であり、第１のワード線路が形成されている。図１４は、Ｃ−Ｃの断面図であり、第１のワード線路が形成されている。図１５は、Ｂ−Ｂの断面図であり、第１のワード線路が形成されている。図１６は、Ａ−Ａの断面図であり、スペーサが第１のワード線路のエッジに形成されている。図１７は、Ｂ−Ｂの断面図であり、スペーサが第１のワード線路のエッジに形成されている。図１８と図１９は、Ａ−ＡないしＢ−Ｂの断面図であり、第２の誘電層および第２の電極層が形成されている。図２０は、Ａ−Ａの断面図であり、第２のワード線路が第２の電極層の構造化によって形成されている。図２１は、Ｂ−Ｂの断面図であり、第２のワード線路が形成されている。図２２は、Ｂ−Ｂの断面図であり、第２の電極層のエッチング残留物が溝底部から除去されている。図２３は、Ａ−Ａの断面図であり、第１、第２のドープ領域およびソース／ドレイン領域が形成されている。図２４は、Ｂ−Ｂの断面図であり、第１のドープ領域、第２のドープ領域およびソース／ドレイン領域が形成されている。図は縮尺通りには示されていない。メモリセル装置は、第１のワード線路ＷＬ１と第２のワード線路ＷＬ２を有する。これらワード線路はそれぞれ交互に配置されている（図１参照）。これに対して横方向にビット線路ＢＬが延在する。ビット線路はそれぞれ、第１のドープ領域Ｄ１、第２のドープ領域Ｄ２、およびこれらの間に配置されたゲート誘電体とゲート電極を有するメモリセルラインにより形成される。ゲート電極はそれぞれ、第１のワード線路ＷＬ１と第２のワード線路ＷＬ２の相応の部分により形成される。隣接するビット線路ＢＬは絶縁溝Ｔによって相互に絶縁されている。隣接するビット線路の中央の間隔は例えば２Ｆである。ここでＦは製造可能な最小構造寸法であり、例えば０．５μｍである。隣接する第１のワード線路ＷＬ１と第２のワード線路ＷＬ２との間の中央の間隔はＦ、例えば０．５μｍである。メモリセルとして、ワード線路ＷＬ１，ＷＬ２の１つとビット線路ＢＬの１つとの間の交差領域を定義すれば、メモリセル当たりのスペース需要は２Ｆ²，例えば０．５μｍ²である。ワード線路ＷＬ１，ＷＬ２がビット線路ＢＬと交差する領域は、メモリセル装置のメモリセルフィールドに相応する。このメモリセルフィールドの外側には選択スイッチが設けられている。選択スイッチはビット選択線路ＢＡを有し、ビット選択線路はビット線路ＢＬと交差する。隣接する複数のビット線路ＢＬ、例えば３つのビット線路は金属化部Ｍによって１つのノードＫにまとめられる。ノードＫと第２のドープ領域Ｄ２との間には多数のビット選択線路ＢＡが配置されており、ビット線路ＢＬと同じようにノードＫにまとめられる。すなわちこの零では３つがまとめられる。ビット線路ＢＬと、ビット線路ＢＬ当たり１つのビット選択線路ＢＡとの交点にはそれぞれ１つの選択トランジスタＡＴが配置されている。選択トランジスタは相応のビット選択線路ＢＡを介して制御することができる。ビット線路ＢＬと別のビット選択線路ＢＡとの交点では、ビット選択線路ＢＡの下方でドーピングが次のように調整される、すなわちこの交点に形成された寄生ＭＯＳトランジスタが、ビット選択線路に印加されるレベルに依存しないで導通するような使用電圧を有するように調整される。有利には寄生ＭＯＳトランジスタはこのために低い使用電圧を有する。隣接するビット選択線路ＢＡの中央の間隔は例えば２Ｆである。メモリセル装置を製造するために、例えば２×１０¹⁵ｃｍ^-3の基本ドープ物質濃度でｐドープされた単結晶シリコンからなる基板１に、例えば１×１０¹⁷ｃｍ^-3 のドープ物質濃度でｐドープされたウェル２が埋め込みにより形成される（図２参照）。ｐドープされたウェル１２の深さは例えば１μｍである。拡散酸化物が５ｎｍの層厚で被着された後、使用電圧埋め込みが例えば３×１０¹²ｃｍ^-2の当量の硼素と２５ｋｅＶのエネルギー（図示せず）により行われる。続いて、プログラムマスク１３が例えばフォトラッカーとしてフォトリソグラフ・プロセスステップにより形成される。ｎドープ・イオンの埋め込みが、例えば１×１０¹⁴ｃｍ^-2の当量のＡｓと４０ｋｅＶのエネルギーにより実行される。このときに選択スイッチがプログラムされる。ここでは、チャネルドーピング部１４が、ビット選択線路ＢＡとビット線路ＢＬとの交点のうち選択トランジスタＡＴが形成されていない交点に形成される。プログラムマスク１３と拡散酸化物を除去した後、全く平坦に第１の誘電層１５が形成される（図３参照）。第１の誘電層１５は３重層として、厚さ３ｎｍの第１の酸化シリコン層、厚さ８ｎｍの窒化シリコン層、および厚さ４ｎｍの第２の酸化シリコン層から形成される。第１の電極層と第１のSiO₂層をデポジットした後、例えば異方性エッチングにより引き続き構造化し、第１のワード線路ＷＬ１とビット選択線路ＢＡが形成される。これらはそれぞれ第１のSiO₂構造体１６により覆われる（図３参照）。第１の電極層は例えば、層厚が０．４μｍのドープされたポリシリコンからなり、本来の位置にドープされたデポジットによって、またはドープされないデポジットと、さらに引き続く埋め込みまたは拡散によるドーピングによって形成される。第１のSiO₂層は例えばＴＥＯＳ法で２００ｎｍの層厚に形成される。構造化は例えばCHF₃による異方性エッチングによって行われる。 CHF₃による乾燥エッチングによって、引き続き第１の誘電層１５が構造化される。さらなるSiO₂層を例えばＴＥＯＳ法でデポジットするか、または蛍光シリカガラスからデポジットすることにより、第１のワード線路ＷＬ１とビット選択線路ＢＡのエッジにスペーサ１７が形成される。スペーサ１７は約５０ｎｍの幅を有する。このために、さらなるSiO₂層の厚さは５０ｎｍ必要である（図４参照）。スペーサエッチングは例えばCHF₃により行われる。結晶品質を改善するために続いて、酸化シリコンからなる生贄層、いわゆる防食酸化物が成長され、フッ酸によってエッチングされる（図示せず）。続いて第２の誘電層１８が全く平坦に形成される（図５参照）。第２の誘電層１８は第１の誘電層１５と同じように、３重層として酸化シリコン、窒化シリコンおよび酸化シリコンから形成される。層厚は第１の誘電層１５の層厚に相応する。続いて、例えばｎドープされたポリシリコン、金属化部および／または金属からなる第２の電極層１９が全く平坦に形成される。第２の電極層１９は０．４μ ｍの層厚に形成される。この電極層は、隣接するワード線路ＷＬ１間の間隔を完全に満たす。引き続き第２の電極層１９の構造化によって、第２のワード線路ＷＬ２が形成される。第２の電極層１９の構造化は、例えばCF₄/O₂を用いた等方性エッチバックにより行われる。ここで第２の誘電層１８の表面はエッチストッパとして作用する。エッチングは、ビット選択線路ＢＡとビット選択線路ＢＡに隣接する第１のワード線路ＷＬ１との間に配置された第２の電極層１９の成分が完全に除去されるまで続けられる。ここでは、ビット選択線路ＢＡとこれらに隣接する第１のワード線路ＷＬ１との間の間隔が、隣接するワード線路ＷＬ１間の間隔よりも大きいことが利用される（図６参照）。ドーピングをｐドープされたウェル１２の表面で調整しなければならないような適用事例では、続いて第２の誘電層１８の上部領域が例えフッ酸により除去され、これによりスペーサ１７の表面が部分的に露出される。引き続きスペーサ１７はドープされたポリシリコンに対して選択的に除去される。ｎドープ・イオンによる埋め込みが例えば１×１０¹²から１×１０¹³ｃｍ^-2の当量のＡｓと２０ｋｅＶのエネルギーによって実行される。埋め込みに対して択一的に拡散を行うことができる。このためには、スペーサ１７の除去により発生した空隙に、例えば中間酸として使用される蛍光シリカガラスを充填し、ドープ物質をｐドープされたウェル１２への拡散によって被着すると有利である。ドーピングは、スペーサが蛍光シリカガラスから形成されている場合には、スペーサ１７からの拡散によっても行うことができる。続いて、例えば５×１０¹⁵ｃｍ^-2のドープ物質濃度のＡｓと８０ｋｅＶのエネルギーにより埋め込みが実行される。このときに、第１のドープ領域Ｄ１，第２のドープ領域Ｄ２およびソース／ドレイン領域２０が選択トランジスタＡＴに対して形成される（図７と図１参照）。埋め込みを２段階に、ＬＤＤ埋め込みとＨＤＤ埋め込みで実行することも本発明の枠内である。第１のワード線路ＷＬ１と第２のワード線路ＷＬ２との接続性を改善するために、これらがワード線路拡張部ＷＬＡを有するように構造化し、この拡張部にワード線路接点ＷＬＫを、ワード線路に対して横方向に延在するアルミニウム路ＡＬに対して形成する（図８参照）。このためにワード線路ＷＬ１，ＷＬ２は、これらがワード線路接点ＷＬＫの領域で片側に拡張されるよう形成される。ワード線路拡張部ＷＬＡは、この片側拡張部がワード線路ＷＬ１，ＷＬ２のそれぞれ対向する側に配置されるようにして形成される。ワード線路拡張部ＷＬＡの前後では、ワード線路ＷＬ１，ＷＬ２の幅が、ワード線路拡張部ＷＬＡの領域におけるよりも小さい。さらにワード線路ＷＬ１，Ｗｌ２の中央は、ワード線路拡張部ＷＬＡの前後で相互にずらされている。隣接するワード線路ＷＬ１，ＷＬ２のワード線路拡張部ＷＬＡは相互にずらして配置されている。ワード線路ＷＬ１，ＷＬ２の幅は、ワード線路拡張部ＷＬＡの外では、ワード線路拡張部ＷＬＡの領域における値の約半分である。このようにしてワード線路接点ＷＬＫを形成するための接点孔が確実に開放することが保証され、ワード線路のスペース需要が過度に大きくなることはない。セルフィールド全体にわたり、ワード線路拡張部ＷＬＡは付加的にワード線路ＷＬ１，ＷＬ２の幅方向に、各セグメントごとに約１つのワード線路幅のスペースを必要とする。１つのセグメントは例えば約３２から１２８のワード線路を含む。メモリセル装置は、中間酸のデポジット、接点孔エッチング、および金属層の被着と構造化によって作製される。この公知のプロセスステップについては示さない。別の実施例では、メモリセル装置は第１のワード線路ＷＬ１’とＷＬ２’を有し、これらのワード線路は交互に配置されている（図９参照）。ワード線路ＷＬ１’と隣接する第２のワード線路ＷＬ２’との間隔はここではワード線路ＷＬ１ ’、ＷＬ２’の幅よりも小さい。ワード線路ＷＬ１’、ＷＬ２’に対してビット線路ＢＬ’が横方向に延在する。ビット線路ＢＬ’はそれぞれ、第１のドープ領域Ｄ１’、第２のドープ領域Ｄ２’、ゲート誘電体、およびこれらの間に配置された、ゲート電極として作用するワード線路ＷＬ１’，ＷＬ２’を含む。ワード線路ＷＬ１’、ＷＬ２’とビット線路ＢＬ’とが交差する領域はメモリセル装置のセルフィールドに相応する。ビット線路ＢＬ’は交互に、溝の底部と、隣接する溝間とに配置されている。ビット線路ＢＬ’は相互に溝の側壁によって絶縁されている。隣接する第１のワード線路ＷＬ１’と第２のワード線路ＷＬ２’の中央の間隔は例えば最小構造寸法Ｆである。隣接するビット線路ＢＬ’の中央間の間隔も同じように最小構造寸法Ｆである。これにより、ワード線路ＷＬ１’、ＷＬ２’の１つとビット線路ＢＬ’の１つとの交点として定義されるメモリセル当たりの必要スペースは１Ｆ² である。セルフィールドの外側にはデコーダが配置される。このデコーダはビット線路ＢＬ’に対して横方向に延在するビット選択線路ＢＡ’を有する。ビット選択線路ＢＡ’を介してデコーダの選択トランジスタＡＴを制御することができる。ビット選択線路ＢＡ’とビット線路ＢＬ’との交点のうち選択トランジスタＡＴ’ が配置されていない交点では、ビット選択線路ＢＡ’の下方にチャネルドーピング部が設けられている。このドーピング部によって、交点に発生した寄生ＭＯＳトランジスタは、相応するビット選択線路ＢＡ’に印加されるレベルに依存しないで導通するような使用電圧を有する。有利にはこの使用電圧は負である。例えば５つの隣接するビット線路ＢＬ’が１つの拡散接点Ｄ１’と金属化部Ｍ ’を介して相互に、およびノードＫ’と接続される。例えば２×１０¹⁵ｃｍ^-3のドープ物質濃度によいｐドープされた単結晶シリコンディスクである基板２１には、またはＳＯＩ基板のシリコン層には、例えば硼素の埋め込みによりｐドープされたウェル２２が形成される。ｐドープされたウェル２２は、例えば１×１０¹⁷ｃｍ^-3のドープ物質濃度と、例えば１μｍの深さを有する（図１０参照）。続いて、拡散酸化物が例えば５ｎｍの厚さで被着される（図示せず）。使用電圧を調整するために、全く平坦な硼素埋め込みが例えば３×１０¹²ｃｍ^-2の当量と２５ｋｅＶのエネルギーにより実行される。続いてフォトリソグラフ・プロセスステップを用いて、第１のプログラムマスク２３１が例えばフォトラッカーから形成される。ｎドープ・イオンによる埋め込みが、デコーダのトランジスタをプログラミングするために行われる。これらトランジスタは隣接する溝間に配置されている。埋め込みは、例えば１×１０¹⁴ ｃｍ^-2のＡｓにより４０ｋｅＶのエネルギーで行われる。このときにチャネルドーピング部２４１が形成される。第１のプログラムマスク２３１を除去した後、ＴＥＯＳ−SiO₂層のデポジットと、引き続く構造化により、ＴＥＯＳハードマスク２５が例えば３００ｎｍの厚さで形成される（図１１参照、ここには図９の半導体基板がＣ−Ｃで示した断面で示されている。）。ＴＥＯＳハードマスク２５をエッチマスクとして使用した、例えばＨＢｒによる異方性エッチングにより、基板にテープ状溝２６がエッチングされる。溝２６は０．６μｍの深さを有する（図１１参照）。引き続き、溝２６の側壁にSiO₂スペーサ２７が、SiO₂層を厚さ５０ｎｍでデポジットし、CHF₃によりエッチバックすることにより形成される。続いて全く平坦に埋め込みが、溝２６の底部に作製すべきＭＯＳトランジスタの使用電圧を調整するために実行される。埋め込みは例えば３×１０¹²ｃｍ^-2の当量の硼素と２５ｋｅＶのエネルギーにより実行される。続いて、第２のプログラムマスク２３２が、例えばフォトラッカーからフォトリソグラフ・プロセスステップで形成される。ｎドープ・イオンによる埋め込み、例えば１×１０¹⁴ｃｍ^-2の当量のＡｓを４０ｋｅＶのエネルギーによって、チャネルドーピング部２４２が形成される。これにより、デコーダのＭＯＳトランジスタがプログラミングされる。このトランジスタは溝２６の底部に配置されている（図１２参照、この図は図９にＢ−Ｂにより示された断面を示し、これは溝２６の１つに対して平行である）。第２のプログラムマスク２３２はここではセルフィールドを完全に覆う。第２のプログラムマスク２３２とハードマスク２５，並びにSiO₂スペーサ２７を、例えばフッ酸を用いて湿潤化学的にエッチングすることによって、溝の側壁にはSiO₂スペーサ２８が形成される。このためにＴＥＯＳ−SiO₂層が厚さ８０ｎｍの層厚にデポジットされ、CHF₃によりエッチングされる（図１４参照、この図には断面Ｃ−Ｃが示されている）。全く平坦に第１の誘電層２９が形成される。この第１の誘電層２９は３重層として形成され、厚さ３ｎｍの第１のSiO₂層、厚さ８ｎｍのSi₃N₄層、および厚さ４ｎｍの第２のSiO₂層を含む（断面Ａ−Ａを示す図１３、断面Ｃ−Ｃを示す図１４，断面Ｂ−Ｂを示す図１５参照）。続いて、第１のワード線路ＷＬ１’と、これらを覆う酸化シリコン層３０を形成するために、第１の電極層とＴＥＯＳ-SiO₂層がデポジットされる。第１の電極層は例えば本来の位置にドープされたポリシリコンのデポジットにより、またはドープされないポリシリコンのデポジットと、引き続く埋め込みによるドーピングによって、または層厚０．４μｍの拡散によって形成される。ＴＥＯＳ-SiO₂ 層３０は層厚２００ｎｍに形成される。構造化は例えばCHF₃によって行われる。第１の電極層を、例えばＨＢｒを用いて異方性エッチングすることにより構造化して、第１のワード線路ＷＬ１’を形成する。第１のワード線路ＷＬ１’を形成する際に、同時にビット選択線路ＢＡ’が形成される。 CHF₃を用いて引き続き、第１の誘電層２９が構造化される（断面Ａ−Ａが示されている図１６，断面Ｂ−Ｂが示されている図１７参照）。等方性層を例えばＴＥＯＳ-SiO₂または蛍光シリカガラスからデポジットし、異方性エッチバックすることにより、第１のワード線路ＷＬ１’のエッジにスペーサ３１が形成される。エッチバックは例えばCHF₃によって行われる。結晶品質を改善するために引き続き、生費層が酸化シリコン（いわゆる防食酸化物）から形成され、エッチングされる（図示せず）。次に全く平坦に第２の誘電層３２が被着される（断面Ａ−Ａを示す図１８と、断面Ｂ−Ｂを示す図１９参照）。第２の誘電層３２は例えば３重層として形成される。これは、第１のSiO₂ 層、Si₃N₄層、および第２のSiO₂層を含む。これらの層の厚さは第１の誘電層２９の厚さに相応する。この上に第２の電極層３３がデポジットされる。第２の電極層３３は例えばドープされたポリシリコンから０．４μｍの層厚で形成される。これにより第２の電極層は、隣接する第１のワード線路ＷＬ１’間の中間空間を完全に満たす。第２の電極層３３は例えば本来の位置にドープされた、ｎドープポリシリコンのデポジットによって、またはポリシリコンのドープされないデポジットと、引き続く埋め込みまたは拡散によるドーピングによって形成される。択一的に第２の電極層３３を金属、金属化部、またはゲート電極ないしワード線路として適する類似の導電材料から形成することができる。第２の電極層３３を第２の誘電層３２に対して選択的に等方性エッチバックすることによって、第２のワード線路ＷＬ２’が形成される。エッチングは例えば CF₄/O₂によって行われる。エッチングは、第２の誘電層３２の表面が隣接する溝の間で、およびビット選択線路ＢＡ’とこれに隣接する第１ワード線路ＷＬ１’ との間で露出するまで行われる。これに対して溝底部には、ビット選択線路ＢＡ ’とこれに隣接する第１のワード線路ＢＡ’ＷＬ１’との間でエッチング残留物３３１が残る（隣接する溝間の断面Ａ−Ａを示す図２０，溝底部の断面Ｂ−Ｂを示す図２１参照）。続いてフォトラッカー３４が形成され、フォトラッカーはセルフィールドを覆う。異方性エッチングにより、エッチング残留物３３１が、セルフィールドとビット選択線路ＢＡ’との間の溝底部から除去される。エッチバックは例えばHBr/ Cl₂により行われる（断面Ｂ−Ｂを示す図２２参照）。フォトラッカーマスク３４を除去した後、埋め込みが例えばｎドープ・イオンにより実行され、第１のドープ領域Ｄ１’、第２のドープ領域Ｄ２’、拡散接点Ｄ１’、並びにデコーダのＭＯＳトランジスタのソース／ドレイン領域が形成される（図９，断面Ａ−Ａを示す図２３，断面Ｂ−Ｂを示す図２４参照）。埋め込みは例えば、５×１０¹⁵ｃｍ^-2の当量のＡｓと、８０ｋｅＶのエネルギーにより行われる。埋め込みを２段階で、ＬＤＤ埋め込みとＨＤＤ埋め込みで実行することも本発明の枠内である。メモリセル装置は、中間酸のデポジット、接点孔エッチング、および金属層の被着と構造化によって作製される。これら公知のプロセスステップについては説明しない。本発明は説明した実施例に制限されるものではない。とりわけ導電形式はｎ型とｐ型を取り替えることができる。さらに本発明の枠内で、第１の誘電層１５，２９と第２の誘電層１８，３２に対して、別の材料からなるそれぞれ１つの多重層を用いる。この多重層には、多重層中の少なくとも１つの他の層と比較して大きな電荷担体捕獲横断面を有する層が設けられている。ここで電荷担体捕獲横断面の大きな層は例えば、Si₃N₄,TA₂ O₅、Al₂O₃またはTiO₂からなる。さらに隣接する層はSiO₂，Si₃N₄またはAl₂O₃からなる。さらに第１の誘電層１５，２９と第２の誘電層１８，３２は、例えばSi O₂からなる誘電層を有する。この誘電層には異種原子、例えばW,Pt,Cr,Ni,PdまたはIrが貯蔵される。貯蔵される異種原子は埋め込み、酸化の際の添加または拡散によって設けることができる。メモリセル装置のプログラミングは、第１の誘電層１，２９ないし第２の誘電層１８，３２の付着箇所を、電子の注入により充填することによって行われる。このことにより、ゲート電極として作用するそれぞれのワード線路の下方に導電チャネルが形成される際の使用電圧が高まる。使用電圧のそれぞれの値は、プログラミング中に印加される電圧の時間と大きさを介して調整される。メモリセル装置のプログラミングは、電子のFowler-Nordheim-トンネルによっても、熱電子注入によっても行うことができる。 Fowler-Nordheim-トンネルにより情報を書き込むためには、プログラミングすべきメモリセルが所属のワード線路とビット線路を介して選択される。メモリセルのビット線路は低電位、例えば０Ｖにされる。これに対して所属のワード線路は高電位、例えばＶ_pr＝１２Ｖにされる。他のビット線路は電位Ｖ_BLに持ち上げられる。この電位は、Ｖ_pr−Ｖ_BLがプログラミング電圧Ｖ_prよりも格段に低いように選定される。他のワード線路は電位Ｖ_WLに持ち上げられる。この電位は、Ｖ_BL ＋Ｖ_Tに等しいか、またはこれより大きい。ただしＶ_Tは閾値電圧である。プログラミングの際に、選択されたワード線路と交差する他のすべてのビット線路は比較的に高い電位にあるから、選択されたワード線路と接続された他のメモリセルはプログラミングされない。メモリセルはＮＡＮＤ構成で接続されている。したがってこのメモリセルは、ドレイン電流がメモリセルを通って流れないように接続される。このことの利点は、プログラミング過程全体が低電力で経過することである。プログラミングが熱電子注入によって行われるなら、プログラミングされるＭＯＳトランジスタに飽和電圧が印加されなければならない。このために、メモリセルに配属されたビット線路は接地電位と高電位の間、例えばＶ_BLpr＝６Ｖにされる。メモリセルに配属されたワード線路は、ＭＯＳトランジスタが飽和動作するように電位にされる。ワード線路の電圧Ｖ_WLprはＶ_BLprより小さく、例えば４Ｖである。他のワード線路は高い電位Ｖ_WLにされ、この電位はＶ_BLprおよびＶ_WL _pr より高く、例えばＶ_WL＝７Ｖである。この電圧はゲート誘電体の厚さに依存して、Fowler-Nordheim-トンネルが発生しないように選択される。他のビット線路はすべて両端において同じ電位、例えばＶ_BL＝Ｖ_WLpr／２になる。このようにして、選択されたワード線路に沿って他のビット線路に接続されたメモリセルのプログラミングが阻止され、電流の流れることが回避される。高い電圧での飽和動作によって、選択されたメモリセルのＭＯＳトランジスタのチャネル領域には熱電子が発生し、この熱電子の一部がゲート誘電体に注入される。電子はゲート誘電体の付着箇所により保持され、ＭＯＳトランジスタの閾値電圧が高くなる。このようにしてそれぞれのメモリセルに記憶すべき情報に応じて、それぞれのＭＯＳトランジスタの閾値電圧が所望のように変化される。メモリセルはＮＡＮＤアーキテクチャで駆動される。すなわち、メモリセルラインで選択されなかったワード線路ＷＬ１，ＷＬ２ないしＷＬ１’、ＷＬ２’にはチャネル領域を導通させる電圧が印加される。これはゲート誘電体に存在する電荷には依存しない。メモリセル装置が２つの異なる使用電圧値を有するようにプログラミングされており、したがって選択されたゲート電極には、第１の使用電圧値と第２の使用電圧値との間にある電圧が印加される。そして電流がメモリセルラインを介して流れるか否かが評価される。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項【提出日】平成１０年１１月２４日（１９９８．１１．２４）【補正内容】請求の範囲１．半導体基板（１１）に複数のメモリセルラインが配置されており、隣接するメモリセルラインは相互に絶縁されており、メモリセルラインは開始部と終端部にだけ、それぞれソース／ドレイン領域に相応する第１のドープ領域（Ｄ１）と、ソース／ドレイン領域に相応する第２のドープ領域（Ｄ２）を有し、それらドープ領域の間では、半導体基板（１１）の主面にゲート誘電体（１５，１８）と複数の並置されたゲート電極８ＷＬ１，ＷＬ２）が配置されており、前記ゲート誘電体は、電荷担体付着箇所を備えた材料を含み、隣接するゲート電極（ＷＬ１，ＷＬ２）の間隔は、第１のドープ領域（Ｄ１）と第２のドープ領域（Ｄ２）との間の接続ラインに対して平行なゲート電極（ＷＬ１，ＷＬ２）の寸法よりも小さい、ことを特徴とするメモリセル装置。２．半導体基板（２１）の主面には、平行でテープ状の溝（２６）が設けられており、メモリセルラインはそれぞれ交互に、溝（２６）の底部と、主面における隣接する溝（２６）の間とに配置されている、請求項１記載のメモリセル装置。３．隣接するメモリセルライン間の絶縁のために、半導体基板（１１）には絶縁溝（Ｔ）が設けられている、請求項１記載のメモリセル装置。４．ゲート誘電体はそれぞれ１つの誘電性多重層を有し、当該多重層の少なくとも１つの層は少なくとも１つの他の層と比較して大きな電荷担体捕獲断面を有する、請求項１から３までのいずれか１項記載のメモリセル装置。５．電荷担体捕獲断面積の大きな層は、物質Si₃N₄,Ta₂O₅,Al₂O₃またはTiO₂ の少なくとも１つを含む、請求項４記載のメモリセル装置。６．ゲート誘電体はそれぞれ、異種原子が貯蔵された誘電層を有し、貯蔵された異種原子は誘電層と比較して、比較的に大きな電荷担体捕獲断面を有する、請求項１から３までのいずれか１項記載のメモリセル装置。７．誘電層はSiO₂を含み、貯蔵された異種原子は元素W,Pt,Cr,Ni,PdまたはIrの少なくとも１つを含む、請求項６記載のメモリセル装置。８．半導体基板（１１）に複数のメモリセルラインを形成し、当該メモリセルラインを相互に絶縁し、各メモリセルラインに対して、半導体基板（１１）のそれぞれのメモリセルの開始部と終端部にだけ、ソース／ドレイン領域に相応する第１のドープ領域（Ｄ１）とソース／ドレイン領域に相応する第２のドープ領域（Ｄ２）とを形成し、第１のドープ領域（Ｄ１）と第２のドープ領域（Ｄ２）との間で、半導体基板（１１）の主面にゲート誘電体（１５，１８）と、複数の並置されたゲート電極（ＷＬ１，ＷＬ２）を形成し、前記ゲート誘電体（１５，１８）は電荷担体付着箇所を備えた材料から形成し、隣接するゲート誘電体（ＷＬ１，ＷＬ２）間の間隔を、第１のドープ領域（Ｄ１）と第２のドープ領域（Ｄ２）との間の接続ラインに対して平行なゲート電極（ＷＬ１，ＷＬ２）の寸法よりも小さくする、ことを特徴とする、メモリセル装置の製造方法。９．ゲート誘電体（１５，１８）を、それぞれ多重層として形成し、当該多重層は、少なくとも１つの他の層と比較して大きな電荷担体捕獲断面を有する少なくとも１つの層を備えるようにする、請求項８記載の方法。１０．大きな電荷担体捕獲断面を備えた層は、物質Si₃N₄,Ta₂O₅,Al₂O₃またはTiO₂の少なくとも１つを含み、別の層は、物質SiO₂,Si₃N₄またはAl₂O₃の少なくとも１つを含む、請求項９記載の方法。１１．ゲート誘電体（１５，１８）をそれぞれ、異種原子の貯蔵された誘電層として形成し、貯蔵された異種原子は誘電層と比較して大きな電荷担体捕獲断面を有する、請求項８記載の方法。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者ハンスライジンガードイツ連邦共和国Ｄ―82031 グリューンヴァルトアイプゼーシュトラーセ 14 (72)発明者パウル−ヴェルナーフォンバッセドイツ連邦共和国Ｄ―82515 ヴォルフラーツハウゼンハイグルシュトラーセ 60 (72)発明者ヴォルフガングクラウトシュナイダードイツ連邦共和国Ｄ―83104 ホーエンタンアムオーバーフェルト 50

Claims

【特許請求の範囲】１．半導体基板（１１）に複数のメモリセルラインが配置されており、隣接するメモリセルラインは相互に絶縁されており、メモリセルラインは、それぞれ第１のドープ領域（Ｄ１）と第２のドープ領域（Ｄ２）を有し、それらドープ領域の間では、半導体基板（１１）の主面にゲート誘電体（１５，１８）と複数の並置されたゲート電極８ＷＬ１，ＷＬ２）が配置されており、前記ゲート誘電体は、電荷担体付着箇所を備えた材料を含み、隣接するゲート電極（ＷＬ１，ＷＬ２）の間隔は、第１のドープ領域（Ｄ１）と第２のドープ領域（Ｄ２）との間の接続ラインに対して平行なゲート電極（ＷＬ１，ＷＬ２）の寸法よりも小さい、ことを特徴とするメモリセル装置。２．半導体基板（２１）の主面には、平行でテープ状の溝（２６）が設けられており、メモリセルラインはそれぞれ交互に、溝（２６）の底部と、主面における隣接する溝（２６）の間とに配置されている、請求項１記載のメモリセル装置。３．隣接するメモリセルライン間の絶縁のために、半導体基板（１１）には絶縁溝（Ｔ）が設けられている、請求項１記載のメモリセル装置。４．ゲート誘電体はそれぞれ１つの誘電性多重層を有し、当該多重層の少なくとも１つの層は少なくとも１つの他の層と比較して大きな電荷担体捕獲断面を有する、請求項１から３までのいずれか１項記載のメモリセル装置。５．電荷担体捕獲断面積の大きな層は、物質Si₃N₄,Ta₂O₅,Al₂O₃またはTiO₂ の少なくとも１つを含む、請求項４記載のメモリセル装置。６．ゲート誘電体はそれぞれ、異種原子が貯蔵された誘電層を有し、貯蔵された異種原子は誘電層と比較して、比較的に大きな電荷担体捕獲断面を有する、請求項１から３までのいずれか１項記載のメモリセル装置。７．誘電層はSiO₂を含み、貯蔵された異種原子は元素W,Pt,Cr,Ni,PdまたはIrの少なくとも１つを含む、請求項６記載のメモリセル装置。８．半導体基板（１１）に複数のメモリセルラインを形成し、当該メモリセルラインを相互に絶縁し、各メモリセルラインに対して、半導体基板（１１）に第１のドープ領域（Ｄ１）と第２のドープ領域（Ｄ２）を形成し、第１のドープ領域（Ｄ１）と第２のドープ領域（Ｄ２）との間で、半導体基板（１１）の主面にゲート誘電体（１５，１８）と、複数の並置されたゲート電極（ＷＬ１，ＷＬ２）を形成し、前記ゲート誘電体（１５，１８）は電荷担体付着箇所を備えた材料から形成し、隣接するゲート誘電体（ＷＬ１，ＷＬ２）間の間隔を、第１のドープ領域（Ｄ１）と第２のドープ領域（Ｄ２）との間の接続ラインに対して平行なゲート電極（ＷＬ１，ＷＬ２）の寸法よりも小さくする、ことを特徴とする、メモリセル装置の製造方法。９．ゲート誘電体（１５，１８）を、それぞれ多重層として形成し、当該多重層は、少なくとも１つの他の層と比較して大きな電荷担体捕獲断面を有する少なくとも１つの層を備えるようにする、請求項８記載の方法。１０．大きな電荷担体捕獲断面を備えた層は、物質Si₃N₄,Ta₂O₅,Al₂O₃またはTiO₂の少なくとも１つを含み、別の層は、物質SiO₂,Si₃N₄またはAl₂O₃の少なくとも１つを含む、請求項９記載の方法。１１．ゲート誘電体（１５，１８）をそれぞれ、異種原子の貯蔵された誘電層として形成し、貯蔵された異種原子は誘電層と比較して大きな電荷担体捕獲断面を有する、請求項８記載の方法。１２．誘電層はSiO₂を含み、貯蔵された異種原子は元素W,Pt,Cr,Ni,PdまたはIr の少なくとも１つを含む、請求項１２記載の方法。１３．第１の誘電層（１５）を形成し、第１の電極層を形成市、第１のゲート電極（ＷＬ１）を形成するために構造化し、第１のゲート電極（ＷＬ１）のエッジにスペーサ（１７）を形成し、第２の誘電層（１８）を形成し、第２のゲート電極（ＷＬ２）を形成するために、第２の電極層（１９）を実質的に同形状のエッジカバーにより形成し、構造化する、請求項８〜１２までのいずれか１項記載の方法。１４．スペーサ（１７）を、第１のゲート電極（ＷＬ１）と第２のゲート電極（ＷＬ２）との間で、第１のゲート電極（ＷＬ１）と第２のゲート電極（ＷＬ２）に対して選択的に除去し、対抗ドーピングにより、半導体基板のドーピングを第１のゲート電極（ＷＬ１）と第２のゲート電極（ＷＬ２）との間の領域で調整する、請求項１３記載の方法。１５．半導体基板（１１）の主面にテープ状の絶縁溝（Ｔ）を形成し、該溝をそれぞれ隣接するメモリセルラインの間に配置する、請求項１２から１４までのいずれか１項記載の方法。１６．半導体基板（２１）の主面に、テープ状で実質的に平行な溝（２６）を形成し、メモリセルラインをそれぞれ交互に、溝（２６）の底部と、主面においては隣接する溝（２６）の間に形成する、請求項１２から１４までのいずれか１項記載の方法。