JP2001255660A - 特殊表面形状の創成方法及び光学素子 - Google Patents
特殊表面形状の創成方法及び光学素子Info
- Publication number
- JP2001255660A JP2001255660A JP2000067262A JP2000067262A JP2001255660A JP 2001255660 A JP2001255660 A JP 2001255660A JP 2000067262 A JP2000067262 A JP 2000067262A JP 2000067262 A JP2000067262 A JP 2000067262A JP 2001255660 A JP2001255660 A JP 2001255660A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mask
- light
- surface shape
- photosensitive material
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 170
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 66
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 172
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 162
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 114
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims abstract description 71
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 106
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 106
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 43
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 36
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims description 29
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 claims description 25
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 19
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 claims description 13
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 11
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 5
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 3
- 238000011038 discontinuous diafiltration by volume reduction Methods 0.000 claims description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 158
- 239000010408 film Substances 0.000 description 91
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 25
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 22
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 21
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 16
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 11
- 238000013461 design Methods 0.000 description 9
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 9
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 9
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 9
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 6
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100321669 Fagopyrum esculentum FA02 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Lenses (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000067262A JP2001255660A (ja) | 2000-03-10 | 2000-03-10 | 特殊表面形状の創成方法及び光学素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000067262A JP2001255660A (ja) | 2000-03-10 | 2000-03-10 | 特殊表面形状の創成方法及び光学素子 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001255660A true JP2001255660A (ja) | 2001-09-21 |
| JP2001255660A5 JP2001255660A5 (enExample) | 2007-04-26 |
Family
ID=18586490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000067262A Pending JP2001255660A (ja) | 2000-03-10 | 2000-03-10 | 特殊表面形状の創成方法及び光学素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001255660A (enExample) |
Cited By (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001356470A (ja) * | 2000-06-13 | 2001-12-26 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 濃度分布マスクを用いた3次元構造体製造方法 |
| JP2003107721A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Nikon Corp | マイクロレンズの製造方法、物品の製造方法、レジスト層の加工方法、および、マイクロレンズ |
| WO2003083525A1 (en) * | 2002-03-29 | 2003-10-09 | Sharp Kabushiki Kaisha | Micro-lens array substrate and production method therefor, and projection type liquid crystal display unit using those |
| JP2004093867A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Yamaha Corp | マイクロレンズアレイと組合せマイクロレンズアレイ |
| WO2005084883A1 (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Seiko Epson Corporation | 微細構造素子の製造方法、この方法により製造された微細構造素子、空間光変調装置及びプロジェクタ |
| US6999035B2 (en) | 2003-04-01 | 2006-02-14 | Seiko Epson Corporation | Antenna device and method of manufacturing same |
| JP2006072349A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Sharp Corp | 直接的にパターン化可能なマイクロレンズ |
| US7031064B2 (en) | 2002-09-25 | 2006-04-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of microlens array and projection type of liquid crystal display apparatus |
| JP2006235195A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 反射防止構造体を有する部材の製造方法 |
| JP2008535019A (ja) * | 2005-11-04 | 2008-08-28 | 韓国科学技術院 | ポリマー又はレジストパターン、これを利用した金属薄膜パターン、金属パターン、ポリマーモールド及びこれらの形成方法 |
| JP2009008933A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Oki Electric Ind Co Ltd | レジストパターンの形成方法及びフォトマスク |
| CN100463775C (zh) * | 2004-03-04 | 2009-02-25 | 精工爱普生株式会社 | 微细结构元件的制造方法及其应用 |
| JP2009151031A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-07-09 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 光学素子および光学機能素子 |
| AU2006249246B2 (en) * | 2005-12-08 | 2009-12-24 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Programmable mask for fabricating biomolecule array or polymer array, apparatus for fabricating biomolecule array or polymer array including the programmable mask, and method of fabricating biomolecule array or polymer array using the programmable mask |
| JP2010104927A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | コーティング方法および微細構造素子および複数層微細構造素子およびその製造方法 |
| JP2011008118A (ja) * | 2009-06-26 | 2011-01-13 | Fuji Xerox Co Ltd | フォトマスク、及び光学素子の製造方法 |
| JP2015518288A (ja) * | 2012-05-30 | 2015-06-25 | マットソン テクノロジー インコーポレイテッドMattson Technology, Inc. | マイクロレンズを形成する方法 |
| CN106292172A (zh) * | 2016-09-26 | 2017-01-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版、制造透镜的方法、透镜及显示装置 |
| JP2021036295A (ja) * | 2019-08-30 | 2021-03-04 | 大日本印刷株式会社 | パターンデータ、パターンデータの作製方法およびフォトマスク |
| CN112909204A (zh) * | 2021-02-02 | 2021-06-04 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及其制作方法、显示装置 |
| JPWO2021210440A1 (enExample) * | 2020-04-17 | 2021-10-21 | ||
| CN116802567A (zh) * | 2021-01-28 | 2023-09-22 | 信越聚合物株式会社 | 定影垫 |
| EP4575639A1 (fr) * | 2023-12-21 | 2025-06-25 | Aledia | Procédé de fabrication de motifs à parois incurvées par photolithographie |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63137231A (ja) * | 1986-11-29 | 1988-06-09 | Res Dev Corp Of Japan | 光リソグラフイ−用マスク及びその製造方法 |
| JPH05173003A (ja) * | 1991-06-21 | 1993-07-13 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 光学デバイス及びその製造方法 |
| JPH05281712A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Kuraray Co Ltd | フォトマスク |
| JPH07230159A (ja) * | 1994-02-18 | 1995-08-29 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 露光用マスクおよびその製造方法・露光用マスクを用いる表面形状形成方法および露光用マスク製造装置 |
| JPH09127315A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-05-16 | Nitto Denko Corp | 光拡散板 |
| JPH09146259A (ja) * | 1995-08-29 | 1997-06-06 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | グラデーションマスクとその製造方法およびグラデーションマスクを用いた特殊表面形状の創成方法 |
| JPH11160505A (ja) * | 1997-09-25 | 1999-06-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 光拡散フィルム、その製造方法、拡散層付偏光板及び液晶表示装置 |
-
2000
- 2000-03-10 JP JP2000067262A patent/JP2001255660A/ja active Pending
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63137231A (ja) * | 1986-11-29 | 1988-06-09 | Res Dev Corp Of Japan | 光リソグラフイ−用マスク及びその製造方法 |
| JPH05173003A (ja) * | 1991-06-21 | 1993-07-13 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 光学デバイス及びその製造方法 |
| JPH05281712A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Kuraray Co Ltd | フォトマスク |
| JPH07230159A (ja) * | 1994-02-18 | 1995-08-29 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 露光用マスクおよびその製造方法・露光用マスクを用いる表面形状形成方法および露光用マスク製造装置 |
| JPH09146259A (ja) * | 1995-08-29 | 1997-06-06 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | グラデーションマスクとその製造方法およびグラデーションマスクを用いた特殊表面形状の創成方法 |
| JPH09127315A (ja) * | 1995-10-31 | 1997-05-16 | Nitto Denko Corp | 光拡散板 |
| JPH11160505A (ja) * | 1997-09-25 | 1999-06-18 | Dainippon Printing Co Ltd | 光拡散フィルム、その製造方法、拡散層付偏光板及び液晶表示装置 |
Cited By (28)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001356470A (ja) * | 2000-06-13 | 2001-12-26 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 濃度分布マスクを用いた3次元構造体製造方法 |
| JP2003107721A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Nikon Corp | マイクロレンズの製造方法、物品の製造方法、レジスト層の加工方法、および、マイクロレンズ |
| CN1303439C (zh) * | 2002-03-29 | 2007-03-07 | 夏普株式会社 | 微透镜阵列基板及其制造方法以及使用该基板的投影液晶显示装置 |
| WO2003083525A1 (en) * | 2002-03-29 | 2003-10-09 | Sharp Kabushiki Kaisha | Micro-lens array substrate and production method therefor, and projection type liquid crystal display unit using those |
| US7338754B2 (en) | 2002-03-29 | 2008-03-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | Micro-lens array substrate and production method therefor, and projection type liquid crystal display unit using those |
| JP2004093867A (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-25 | Yamaha Corp | マイクロレンズアレイと組合せマイクロレンズアレイ |
| US7031064B2 (en) | 2002-09-25 | 2006-04-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Method of microlens array and projection type of liquid crystal display apparatus |
| US6999035B2 (en) | 2003-04-01 | 2006-02-14 | Seiko Epson Corporation | Antenna device and method of manufacturing same |
| CN100463775C (zh) * | 2004-03-04 | 2009-02-25 | 精工爱普生株式会社 | 微细结构元件的制造方法及其应用 |
| US7419271B2 (en) | 2004-03-04 | 2008-09-02 | Seiko Epson Corporation | Manufacturing method for fine structure element, fine structure element manufactured by the method, spatial light modulator, and projector |
| WO2005084883A1 (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Seiko Epson Corporation | 微細構造素子の製造方法、この方法により製造された微細構造素子、空間光変調装置及びプロジェクタ |
| JP2006072349A (ja) * | 2004-08-31 | 2006-03-16 | Sharp Corp | 直接的にパターン化可能なマイクロレンズ |
| JP2006235195A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 反射防止構造体を有する部材の製造方法 |
| JP2008535019A (ja) * | 2005-11-04 | 2008-08-28 | 韓国科学技術院 | ポリマー又はレジストパターン、これを利用した金属薄膜パターン、金属パターン、ポリマーモールド及びこれらの形成方法 |
| AU2006249246B2 (en) * | 2005-12-08 | 2009-12-24 | Electronics And Telecommunications Research Institute | Programmable mask for fabricating biomolecule array or polymer array, apparatus for fabricating biomolecule array or polymer array including the programmable mask, and method of fabricating biomolecule array or polymer array using the programmable mask |
| JP2009008933A (ja) * | 2007-06-28 | 2009-01-15 | Oki Electric Ind Co Ltd | レジストパターンの形成方法及びフォトマスク |
| JP2009151031A (ja) * | 2007-12-19 | 2009-07-09 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 光学素子および光学機能素子 |
| JP2010104927A (ja) * | 2008-10-30 | 2010-05-13 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | コーティング方法および微細構造素子および複数層微細構造素子およびその製造方法 |
| JP2011008118A (ja) * | 2009-06-26 | 2011-01-13 | Fuji Xerox Co Ltd | フォトマスク、及び光学素子の製造方法 |
| JP2015518288A (ja) * | 2012-05-30 | 2015-06-25 | マットソン テクノロジー インコーポレイテッドMattson Technology, Inc. | マイクロレンズを形成する方法 |
| CN106292172A (zh) * | 2016-09-26 | 2017-01-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版、制造透镜的方法、透镜及显示装置 |
| JP2021036295A (ja) * | 2019-08-30 | 2021-03-04 | 大日本印刷株式会社 | パターンデータ、パターンデータの作製方法およびフォトマスク |
| JPWO2021210440A1 (enExample) * | 2020-04-17 | 2021-10-21 | ||
| WO2021210440A1 (ja) * | 2020-04-17 | 2021-10-21 | ローム株式会社 | 拡散カバーの製造方法、拡散カバーおよびこれを備えた半導体発光装置 |
| CN116802567A (zh) * | 2021-01-28 | 2023-09-22 | 信越聚合物株式会社 | 定影垫 |
| CN112909204A (zh) * | 2021-02-02 | 2021-06-04 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及其制作方法、显示装置 |
| EP4575639A1 (fr) * | 2023-12-21 | 2025-06-25 | Aledia | Procédé de fabrication de motifs à parois incurvées par photolithographie |
| FR3157571A1 (fr) * | 2023-12-21 | 2025-06-27 | Aledia | Procédé de fabrication de motifs à parois incurvées par photolithographie |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2001255660A (ja) | 特殊表面形状の創成方法及び光学素子 | |
| TW594129B (en) | Microlens array substrate and fabrication method thereof, and projection-type liquid crystal display device using same | |
| KR20060051369A (ko) | 마이크로 렌즈 어레이 및 마이크로 렌즈 어레이의 제조방법및 그 마이크로 렌즈 어레이를 탑재한 액정표시장치 | |
| JP5182097B2 (ja) | 光導波路モジュールの製造方法 | |
| JPH07306304A (ja) | オプチカル・ホモジナイザー | |
| WO2001069316A1 (en) | Exposure controlling photomask and production method therefor | |
| JPH06194502A (ja) | マイクロレンズ・マイクロレンズアレイ及びその製造方法 | |
| JP4573418B2 (ja) | 露光方法 | |
| JP6046916B2 (ja) | マイクロレンズの形成方法 | |
| JP2004334184A (ja) | 三次元構造物形成方法および露光装置 | |
| JP2001296649A (ja) | 濃度分布マスクとその製造方法及び表面形状の形成方法 | |
| JP4557373B2 (ja) | 濃度分布マスクを用いた3次元構造体製造方法 | |
| Zhu et al. | Free-Form Micro-Lens Array Fabrication via Laser Micro-Lens Array Lithography. | |
| JP4587210B2 (ja) | マイクロレンズ付基板の製造方法、液晶表示パネルの対向基板の製造方法及び液晶パネルの製造方法 | |
| JP4565711B2 (ja) | 濃度分布マスクの製造方法 | |
| JP2002244273A (ja) | 濃度分布マスクとその製造方法 | |
| JP4678640B2 (ja) | 濃度分布マスクとそれを用いた3次元構造体製造方法 | |
| JP2001166109A (ja) | 短周期的構造を持つ曲面の形成方法および光学素子 | |
| JP2002162747A (ja) | 多段階露光による三次元構造体製造方法 | |
| JP3131019B2 (ja) | 光学部品の製造法 | |
| WO2022166041A1 (zh) | 离轴聚焦透镜及其制作方法 | |
| JPH0886901A (ja) | 平板レンズアレイおよびそれを用いた液晶表示素子 | |
| JP4386546B2 (ja) | 濃度分布マスクとそれを用いた3次元構造体製造方法 | |
| JP2002139824A (ja) | 濃度分布マスク及び多段階露光方法による濃度分布マスクの製造方法 | |
| JP2001312042A (ja) | 濃度分布マスクの製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070309 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070309 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090908 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091106 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100202 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100601 |