JPH05281712A - フォトマスク - Google Patents
フォトマスクInfo
- Publication number
- JPH05281712A JPH05281712A JP10886992A JP10886992A JPH05281712A JP H05281712 A JPH05281712 A JP H05281712A JP 10886992 A JP10886992 A JP 10886992A JP 10886992 A JP10886992 A JP 10886992A JP H05281712 A JPH05281712 A JP H05281712A
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- photomask
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- pattern
- resin film
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】微細パターンを有するマイクロレンズや回折格
子のような製品をパターン転写により作製するためのフ
ォトマスクに、スペーサおよび拡散板を一体化すること
によって、転写の再現性および量産性を向上させる。 【構成】フォトマスク１０は、背面側Ｒからの光ａを前
面側Ｆへ透過させて、前面側Ｆに配置された感光性樹脂
膜４上に所定のパターン３で露光を行なわせるものであ
る。このフォトマスク１０に、感光性樹脂膜４との間隔
Ｌを規制するスペーサ７および光を散乱させる拡散板６
が分離不能に一体化されている。これにより、照射現場
においてスペーサ７および拡散板６のフォトマスク１０
に対する位置ずれが発生しなくなるとともに、これら３
者の組立が不要になるので、再現性および量産性が向上
する。
子のような製品をパターン転写により作製するためのフ
ォトマスクに、スペーサおよび拡散板を一体化すること
によって、転写の再現性および量産性を向上させる。 【構成】フォトマスク１０は、背面側Ｒからの光ａを前
面側Ｆへ透過させて、前面側Ｆに配置された感光性樹脂
膜４上に所定のパターン３で露光を行なわせるものであ
る。このフォトマスク１０に、感光性樹脂膜４との間隔
Ｌを規制するスペーサ７および光を散乱させる拡散板６
が分離不能に一体化されている。これにより、照射現場
においてスペーサ７および拡散板６のフォトマスク１０
に対する位置ずれが発生しなくなるとともに、これら３
者の組立が不要になるので、再現性および量産性が向上
する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、感光性樹脂のような
被加工部材上に、光照射により格子状などの所定のパタ
ーンを転写して、マイクロレンズ、回折格子、空間周波
数フィルタ、投写スクリーンなどを作製する場合におい
て、上記加工部材の表面側に配置して使用されるフォト
マスクに関するものである。
被加工部材上に、光照射により格子状などの所定のパタ
ーンを転写して、マイクロレンズ、回折格子、空間周波
数フィルタ、投写スクリーンなどを作製する場合におい
て、上記加工部材の表面側に配置して使用されるフォト
マスクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図５は、従来のフォトマスクを使用し
て、被加工部材の一例である感光性樹脂に所定のパター
ンを転写する方法を示す概略図である。同図において、
１は従来から用いられているフォトマスクであり、石英
などの透明基板２上にクロムなどの光不透過性物質で、
例えば１．８mmピッチの格子パターン３を描いて作製さ
れている。４は例えば特開平３−１５０７０号公報に記
載された組成物からなる感光性樹脂膜で、ガラス基板５
上にスピンコート法で約３μｍの膜厚に形成されてい
る。
て、被加工部材の一例である感光性樹脂に所定のパター
ンを転写する方法を示す概略図である。同図において、
１は従来から用いられているフォトマスクであり、石英
などの透明基板２上にクロムなどの光不透過性物質で、
例えば１．８mmピッチの格子パターン３を描いて作製さ
れている。４は例えば特開平３−１５０７０号公報に記
載された組成物からなる感光性樹脂膜で、ガラス基板５
上にスピンコート法で約３μｍの膜厚に形成されてい
る。
【０００３】上記感光性樹脂膜４の上部に適当な間隔Ｌ
を開けるためにスペーサ７をおいて、上記フォトマスク
１を配置し、さらにその上方に拡散板６を配置した状態
で、図示しない超高圧水銀ランプから発射された光を平
行光線ａとしたのち、その平行光線ａを、上記拡散板６
およびフォトマスク１を介して感光性樹脂膜４に照射す
ることにより、上記格子パターン３を感光性樹脂膜４に
所望の断面形状で転写する。
を開けるためにスペーサ７をおいて、上記フォトマスク
１を配置し、さらにその上方に拡散板６を配置した状態
で、図示しない超高圧水銀ランプから発射された光を平
行光線ａとしたのち、その平行光線ａを、上記拡散板６
およびフォトマスク１を介して感光性樹脂膜４に照射す
ることにより、上記格子パターン３を感光性樹脂膜４に
所望の断面形状で転写する。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来のフォト
マスクにおいては、所望の断面形状を有するパターンを
転写するために、感光性樹脂膜４とフォトマスク１との
間隔Ｌを精密にコントロールするためのスペーサ７、お
よび光の散乱を利用するための拡散板６が別途必要であ
り、そのため、感光性樹脂膜４の周辺部の正確な位置に
スペーサ７を置き、フォトマスク１を配置した後、拡散
板６を置いて真空密着した状態で上記平行光線ａを照射
している。このように、スペーサ７、フォトマスク１お
よび拡散板６を照射現場で組み立てるので、スペーサ７
および拡散板６のフォトマスク１に対する位置ずれが生
じて、再現性が劣化する。また、スペーサ７、フォトマ
スク１および拡散板６の各々が必要であるために、部品
点数が増え、照射工程も複雑になるので、量産性に劣
る。
マスクにおいては、所望の断面形状を有するパターンを
転写するために、感光性樹脂膜４とフォトマスク１との
間隔Ｌを精密にコントロールするためのスペーサ７、お
よび光の散乱を利用するための拡散板６が別途必要であ
り、そのため、感光性樹脂膜４の周辺部の正確な位置に
スペーサ７を置き、フォトマスク１を配置した後、拡散
板６を置いて真空密着した状態で上記平行光線ａを照射
している。このように、スペーサ７、フォトマスク１お
よび拡散板６を照射現場で組み立てるので、スペーサ７
および拡散板６のフォトマスク１に対する位置ずれが生
じて、再現性が劣化する。また、スペーサ７、フォトマ
スク１および拡散板６の各々が必要であるために、部品
点数が増え、照射工程も複雑になるので、量産性に劣
る。
【０００５】この発明は上記実状に鑑みてなされたもの
で、フォトマスクにスペーサおよび拡散板を一体化する
ことによって、再現性および量産性に優れたフォトマス
クを提供することを目的としている。
で、フォトマスクにスペーサおよび拡散板を一体化する
ことによって、再現性および量産性に優れたフォトマス
クを提供することを目的としている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明のフォトマスクは、背面側からの光を前面
側へ透過させて、前面側に配置された被加工部材上に所
定のパターンで露光を行うフォトマスクであって、上記
被加工部材との間隔を規制するスペーサおよび光を散乱
させる拡散板が分離不能に一体化されている。この発明
のフォトマスクを使用したパターン転写により作製され
る製品としては、マイクロレンズ、回折格子、空間周波
数フィルタ、投写スクリーンなどがあるが、これら製品
に限定されるものではない。
に、この発明のフォトマスクは、背面側からの光を前面
側へ透過させて、前面側に配置された被加工部材上に所
定のパターンで露光を行うフォトマスクであって、上記
被加工部材との間隔を規制するスペーサおよび光を散乱
させる拡散板が分離不能に一体化されている。この発明
のフォトマスクを使用したパターン転写により作製され
る製品としては、マイクロレンズ、回折格子、空間周波
数フィルタ、投写スクリーンなどがあるが、これら製品
に限定されるものではない。
【０００７】
【作用】この発明によれば、フォトマスクにスペーサお
よび拡散板が一体化されているので、照射現場において
スペーサおよび拡散板のフォトマスクに対する位置ずれ
が発生しなくなる結果、被加工部材上の照射光の強度分
布が一定になる。また、部品点数が減少するとともに、
照射現場でのフォトマスク、スペーサおよび拡散板の３
者の組立が不要になるので、照射工程が簡略化される。
よび拡散板が一体化されているので、照射現場において
スペーサおよび拡散板のフォトマスクに対する位置ずれ
が発生しなくなる結果、被加工部材上の照射光の強度分
布が一定になる。また、部品点数が減少するとともに、
照射現場でのフォトマスク、スペーサおよび拡散板の３
者の組立が不要になるので、照射工程が簡略化される。
【０００８】
【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて説
明する。 実施例１．図１は、この発明に係る一次元パターンのフ
ォトマスクを示す斜視図、図２は、そのフォトマスクを
使用して、被加工部材の一例である感光性樹脂膜に露光
を行い、所定のパターンを転写して回折格子を作製する
方法を示す概略図である。図１において、フォトマスク
１０は、石英などの透明基板２上に、クロムなどの光不
透過性物質で１．８mmピッチの平行な突条１１を多数形
成した一次元格子パターン３を備えている。このパター
ン３は、通常のフォトマスク作製法を用いて容易に作製
できる。すなわち、電子線または紫外線等でフォトレジ
ストにパターン形成した後に、クロム等の遮光用金属膜
をエッチング除去する方法によってもよいし、銀塩乳剤
等を塗布した板またはフィルムに光でパターンを書き込
んで現像処理したものであってもよい。
明する。 実施例１．図１は、この発明に係る一次元パターンのフ
ォトマスクを示す斜視図、図２は、そのフォトマスクを
使用して、被加工部材の一例である感光性樹脂膜に露光
を行い、所定のパターンを転写して回折格子を作製する
方法を示す概略図である。図１において、フォトマスク
１０は、石英などの透明基板２上に、クロムなどの光不
透過性物質で１．８mmピッチの平行な突条１１を多数形
成した一次元格子パターン３を備えている。このパター
ン３は、通常のフォトマスク作製法を用いて容易に作製
できる。すなわち、電子線または紫外線等でフォトレジ
ストにパターン形成した後に、クロム等の遮光用金属膜
をエッチング除去する方法によってもよいし、銀塩乳剤
等を塗布した板またはフィルムに光でパターンを書き込
んで現像処理したものであってもよい。
【０００９】図２のガラス基板５の表面上には、メチル
メタクリレートと２−ブチルメタクリレートの共重合体
と、ｍ−ベンゾイルベンゾフェノンの混合物よりなる感
光性樹脂膜４（特開平３−１５０７０号公報参照）が、
スピンコート法で約３μｍの膜厚に形成されている。さ
らに、感光性樹脂膜４の表面とフォトマスク１０の距離
Ｌを７００μｍに固定するために、スペーサ７を基板２
のパターン作製面２１に取り付け、さらに、パターン作
製面２１と反対側の裏面２２に、♯４００の砂摺加工
（４００メッシュのふるいにかけた砂による加工）を施
すことにより、この部分に拡散板６を一体形成した。こ
うして、スペーサ７および拡散板６を一体化したフォト
マスク１０を作製した。
メタクリレートと２−ブチルメタクリレートの共重合体
と、ｍ−ベンゾイルベンゾフェノンの混合物よりなる感
光性樹脂膜４（特開平３−１５０７０号公報参照）が、
スピンコート法で約３μｍの膜厚に形成されている。さ
らに、感光性樹脂膜４の表面とフォトマスク１０の距離
Ｌを７００μｍに固定するために、スペーサ７を基板２
のパターン作製面２１に取り付け、さらに、パターン作
製面２１と反対側の裏面２２に、♯４００の砂摺加工
（４００メッシュのふるいにかけた砂による加工）を施
すことにより、この部分に拡散板６を一体形成した。こ
うして、スペーサ７および拡散板６を一体化したフォト
マスク１０を作製した。
【００１０】上記スペーサ７をフォトマスク１０に対し
て分離不能に一体化する方法としては、ガラス製のスペ
ーサ７を接着剤でフォトマスク１０に固着する方法のほ
か、フォトマスク１０上にポリエチレンテレフタレート
のような透明な樹脂フィルムを多数枚重ねて接着する方
法、フォトマスク１０上に感光性樹脂を光パターニング
する方法などを採用することができる。
て分離不能に一体化する方法としては、ガラス製のスペ
ーサ７を接着剤でフォトマスク１０に固着する方法のほ
か、フォトマスク１０上にポリエチレンテレフタレート
のような透明な樹脂フィルムを多数枚重ねて接着する方
法、フォトマスク１０上に感光性樹脂を光パターニング
する方法などを採用することができる。
【００１１】このスペーサ７および拡散板６が一体化さ
れたフォトマスク１０を、感光性樹脂膜４がコーティン
グされたガラス基板５上に置き、図示しない超高圧水銀
ランプから発射された光を平行光線（照射光）ａとした
のち、フォトマスク１０の背面側Ｒから前面側Ｆへ透過
させて、前面側Ｆに配置された上記感光性樹脂膜４に照
射する。ついで、真空加熱することにより、未反応のｍ
−ベンゾイルベンゾフェノンを除去して、所望の断面形
状を有する格子パターン３を感光性樹脂膜４に形成し
た。このとき、格子パターン３を再現性よく転写でき
た。
れたフォトマスク１０を、感光性樹脂膜４がコーティン
グされたガラス基板５上に置き、図示しない超高圧水銀
ランプから発射された光を平行光線（照射光）ａとした
のち、フォトマスク１０の背面側Ｒから前面側Ｆへ透過
させて、前面側Ｆに配置された上記感光性樹脂膜４に照
射する。ついで、真空加熱することにより、未反応のｍ
−ベンゾイルベンゾフェノンを除去して、所望の断面形
状を有する格子パターン３を感光性樹脂膜４に形成し
た。このとき、格子パターン３を再現性よく転写でき
た。
【００１２】パターン転写の再現性が向上する理由は、
照射作業中にスペーサ７および拡散板６のフォトマスク
１０に対する位置ずれが発生しなくなる結果、感光性樹
脂膜４に照射される平行光線ａの強度分布が一定になる
からである。また、フォトマスク１０にスペーサ７およ
び拡散板６が一体化されているので、部品点数が減少す
る。さらに、照射現場でのフォトマスク１０、スペーサ
７および拡散板６の３者の組立が不要になるので、照射
工程が簡略化される。したがって、量産性も向上する。
照射作業中にスペーサ７および拡散板６のフォトマスク
１０に対する位置ずれが発生しなくなる結果、感光性樹
脂膜４に照射される平行光線ａの強度分布が一定になる
からである。また、フォトマスク１０にスペーサ７およ
び拡散板６が一体化されているので、部品点数が減少す
る。さらに、照射現場でのフォトマスク１０、スペーサ
７および拡散板６の３者の組立が不要になるので、照射
工程が簡略化される。したがって、量産性も向上する。
【００１３】実施例２．図３は、この発明に係る二次元
パターンのフォトマスクを示す斜視図、図４は、そのフ
ォトマスクを使用して、被加工部材の一例である感光性
樹脂膜に露光を行い、所定のパターンを転写してマイク
ロレンズを作製する方法を示す概略図である。図３にお
いて、フォトマスク１０Ａは、石英などの透明基板２上
に、互いに直交する２つの方向１２，１３に沿って格子
ピッチ１６×１６μｍで多数配列された突起１４からな
る格子パターン３Ａを備えており、実施例１と同一の方
法で作製された。
パターンのフォトマスクを示す斜視図、図４は、そのフ
ォトマスクを使用して、被加工部材の一例である感光性
樹脂膜に露光を行い、所定のパターンを転写してマイク
ロレンズを作製する方法を示す概略図である。図３にお
いて、フォトマスク１０Ａは、石英などの透明基板２上
に、互いに直交する２つの方向１２，１３に沿って格子
ピッチ１６×１６μｍで多数配列された突起１４からな
る格子パターン３Ａを備えており、実施例１と同一の方
法で作製された。
【００１４】図４の感光性樹脂膜４は、上記実施例１と
同一の混合物からなる。この感光性樹脂膜４の表面とフ
ォトマスク１０Ａの距離Ｌを２０μｍに固定するため
に、スペーサ７を基板２のパターン作製面２１に取り付
け、さらに、パターン作製面２１と反対側の裏面２２
に、♯８００の砂摺加工を施すことにより、この部分に
拡散板６を一体形成した。こうして、スペーサ７および
拡散板６を一体化したフォトマスク１０Ａを作製した。
同一の混合物からなる。この感光性樹脂膜４の表面とフ
ォトマスク１０Ａの距離Ｌを２０μｍに固定するため
に、スペーサ７を基板２のパターン作製面２１に取り付
け、さらに、パターン作製面２１と反対側の裏面２２
に、♯８００の砂摺加工を施すことにより、この部分に
拡散板６を一体形成した。こうして、スペーサ７および
拡散板６を一体化したフォトマスク１０Ａを作製した。
【００１５】このスペーサ７および拡散板６が一体化さ
れたフォトマスク１０Ａを、感光性樹脂膜４がコーティ
ングされたガラス基板５上に置き、実施例１と同様の手
順で格子パターン３Ａを感光性樹脂膜４に転写した。こ
れにより、所望の断面形状の格子パターンを再現性よく
転写することができた。
れたフォトマスク１０Ａを、感光性樹脂膜４がコーティ
ングされたガラス基板５上に置き、実施例１と同様の手
順で格子パターン３Ａを感光性樹脂膜４に転写した。こ
れにより、所望の断面形状の格子パターンを再現性よく
転写することができた。
【００１６】比較例１．図５に示した従来の方法によ
り、間隔Ｌを実施例１と同一の７００μｍとした状態
で、フォトマスク１の一次元格子パターン３を感光性樹
脂膜４に転写して、回折格子を作製した。このとき、１
つの感光性樹脂膜４の露光が終了してつぎの感光性樹脂
膜４の露光に移る毎に、スペーサ７および拡散板６を、
感光性樹脂膜４がコーティングされたガラス基板５上に
配置しなければならず、再現性および量産性に劣ってい
た。
り、間隔Ｌを実施例１と同一の７００μｍとした状態
で、フォトマスク１の一次元格子パターン３を感光性樹
脂膜４に転写して、回折格子を作製した。このとき、１
つの感光性樹脂膜４の露光が終了してつぎの感光性樹脂
膜４の露光に移る毎に、スペーサ７および拡散板６を、
感光性樹脂膜４がコーティングされたガラス基板５上に
配置しなければならず、再現性および量産性に劣ってい
た。
【００１７】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、照射現場においてスペーサおよび拡散板のフォトマ
スクに対する位置ずれが生じないので、被加工部材上に
おける照射光の強度分布が一定になって、転写パターン
の再現性が向上する。また、部品点数が減少するととも
に、照射工程が簡略化されるので、量産性が向上する。
ば、照射現場においてスペーサおよび拡散板のフォトマ
スクに対する位置ずれが生じないので、被加工部材上に
おける照射光の強度分布が一定になって、転写パターン
の再現性が向上する。また、部品点数が減少するととも
に、照射工程が簡略化されるので、量産性が向上する。
【図１】この発明の実施例１に係るフォトマスクを示す
斜視図である。
斜視図である。
【図２】同実施例１に係るフォトマスクを使用したパタ
ーン転写方法を示す側面図である。
ーン転写方法を示す側面図である。
【図３】この発明の実施例２に係るフォトマスクを示す
斜視図である。
斜視図である。
【図４】同実施例２に係るフォトマスクを使用したパタ
ーン転写方法を示す側面図である。
ーン転写方法を示す側面図である。
【図５】従来のフォトマスクによるパターン転写方法を
示す側面図である。
示す側面図である。
３，３Ａ…格子パターン、４…感光性樹脂膜（被加工部
材）、６…拡散板、７…スペーサ、１０，１０Ａ……フ
ォトマスク、Ｆ…前面側、Ｒ…背面側。
材）、６…拡散板、７…スペーサ、１０，１０Ａ……フ
ォトマスク、Ｆ…前面側、Ｒ…背面側。
Claims (1)
- 【請求項１】 背面側からの光を前面側へ透過させて、
前面側に配置された被加工部材上に所定のパターンで露
光を行うフォトマスクであって、上記被加工部材との間
隔を規制するスペーサおよび光を散乱させる拡散板が分
離不能に一体化されてなることを特徴とするフォトマス
ク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10886992A JPH05281712A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | フォトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10886992A JPH05281712A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | フォトマスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05281712A true JPH05281712A (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=14495654
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10886992A Pending JPH05281712A (ja) | 1992-03-31 | 1992-03-31 | フォトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05281712A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001255660A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-21 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 特殊表面形状の創成方法及び光学素子 |
| JP2012150322A (ja) * | 2011-01-20 | 2012-08-09 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスクおよびそれを用いた視差クロストークフィルタの製造方法 |
-
1992
- 1992-03-31 JP JP10886992A patent/JPH05281712A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001255660A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-21 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | 特殊表面形状の創成方法及び光学素子 |
| JP2012150322A (ja) * | 2011-01-20 | 2012-08-09 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスクおよびそれを用いた視差クロストークフィルタの製造方法 |
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