CN106292172A - 掩膜版、制造透镜的方法、透镜及显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种掩膜版、制造透镜的方法、透镜及显示装置，属于显示技术领域。该掩膜版用于制造透镜，该掩膜版的包括两个透光区域，其中第二区域的透过率非均匀分布，且与待形成透镜的厚度分布相关。在制造透镜的过程中，对经过该掩膜版曝光后的光刻胶进行显影后，残留的光刻胶即可直接形成透镜。因此采用该掩膜版制造透镜时无需再对光刻胶进行加热和熔融成型，解决了相关技术中透镜制造方法复杂的问题，降低了透镜的制造成本。本发明用于制造透镜。

Description

掩膜版、制造透镜的方法、透镜及显示装置

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种掩膜版、制造透镜的方法、透镜及显示装置。

背景技术

透镜是一种光学领域常见的光学元件，主要用于改变光线的传播方向。例如汇聚或者发散光线。

相关技术中，透镜一般采用光刻胶热回流技术制造而成，该光刻胶热回流技术主要包括：采用掩膜版对衬底基板上涂布的光刻胶进行曝光，该掩膜版上的曝光图案一般呈圆形，矩形或正六边形，之后对曝光后的光刻胶进行显影并清洗残余物质，此时该衬底基板上包括多个光刻胶块，最后将衬底基板放置于加热平台上，使该光刻胶块熔融后形成半球形的透镜。

但是，采用上述光刻胶热回流技术制造透镜时，需要经过光刻胶涂布、曝光、显影和加热熔融等多个步骤，该制造方法较为复杂。

发明内容

为了解决相关技术中微透镜制造方法复杂的问题，本发明实施例提供了一种掩膜版、制造透镜的方法、透镜及显示装置。所述技术方案如下：

第一方面，提供了一种掩膜版，所述掩膜版用于制造透镜，所述掩膜版包括：第一区域和第二区域；

所述第一区域内各点的透过率相同，所述第二区域内的透过率非均匀分布，且所述第二区域内的透过率分布与待形成透镜的厚度分布相关，所述待形成透镜的厚度方向垂直于所述掩膜版的入光面。

第二方面，提供了一种采用如第一方面所述的掩膜版制造透镜的方法，所述方法包括：

在衬底基板上涂布光刻胶；

采用所述掩膜版对所述光刻胶进行曝光，所述掩膜版上包括第一区域和第二区域，所述第二区域在所述衬底基板上的正投影与所述衬底基板上待形成透镜的区域重叠；

对曝光后的所述光刻胶进行显影以形成透镜。

可选的，当所述光刻胶为正性光刻胶时，所述第一区域的透过率为1，所述第二区域内的透过率分布与待形成透镜的厚度分布负相关；

当所述光刻胶为负性光刻胶时，所述第一区域的透过率为0，所述第二区域内的透过率分布与待形成透镜的厚度分布正相关。

可选的，所述待形成透镜为凸透镜，当所述光刻胶为正性光刻胶时，所述第二区域内任一参考点A的透过率T_A为：当所述光刻胶为负性光刻胶时，所述第二区域内任一参考点A的透过率为：

或者，所述待形成透镜为凹透镜，当所述光刻胶为正性光刻胶时，所述第二区域内任一参考点A的透过率T_A为：当所述光刻胶为负性光刻胶时，所述第二区域内任一参考点A的透过率T_A为：

其中，所述a为第一比例系数，所述b为第一参数，所述k为第二比例系数，所述x为所述参考点A与所述第二区域的中心点之间的距离。

可选的，所述待形成透镜为棱镜；

当所述光刻胶为正性光刻胶时，所述第二区域内任一参考点A的透过率T_A为：T_A＝c×x；

当所述光刻胶为负性光刻胶时，所述第二区域内任一参考点A的透过率T_A为：T_A＝d-c×x；

其中，所述d为第一斜率系数，所述c为第二斜率系数，x为所述参考点A与所述第二区域的中轴线之间的距离，所述中轴线平行于所述棱镜的棱。

可选的，在所述对曝光后的所述光刻胶进行显影以形成透镜之后，所述方法还包括：在所述透镜的表面形成反光层。

可选的，当所述待形成透镜为凸透镜或凹透镜时，所述第二区域为圆形区域，所述第二区域的中心点为所述圆形区域的圆心；

当所述待形成透镜为棱镜时，所述第二区域为矩形区域。

第三方面，提供了一种透镜，所述透镜采用如第二方面任一所述的方法制造形成。

第四方面，提供了一种显示装置，所述显示装置包括：显示面板以及设置在所述显示面板的出光面上的透镜阵列；

所述透镜阵列包括多个阵列排布的如第三方面所述的透镜。

可选的，当所述透镜为凸透镜或凹透镜时，所述透镜的入光面与所述显示面板中像素的出光面之间的距离，与所述透镜的焦距相等；

当所述透镜的表面还包括反光层时，所述透镜的顶点与所述显示面板中像素的出光面之间的距离，与所述透镜的顶点与焦点之间的距离相等。

可选的，所述显示面板包括多个像素，每个所述像素包括至少两个亚像素，通过每个所述亚像素能够发出一种颜色的光；

所述透镜阵列中的透镜与所述显示面板中的亚像素一一对应设置，其中每个透镜在所述显示面板上的正投影与一个亚像素所在区域重叠。

可选的，所述显示装置还包括：

在所述显示面板出光面上间隔形成的多个遮挡区域；

所述多个遮挡区域中的第一遮挡区域用于对第一亚像素传输至第二透镜的光线进行遮挡，以及对第二亚像素传输至第一透镜的光线进行遮挡；

其中，所述第一亚像素和所述第二亚像素为所述显示装置中任意两个相邻的亚像素，所述第一遮挡区域在所述显示面板上的正投影位于所述第一亚像素和所述第二亚像素之间，且所述第一透镜与所述第一亚像素对应设置，所述第二透镜与所述第二亚像素对应设置。

综上所述，本发明提供了一种掩膜版、制造透镜的方法、透镜及显示装置，该用于制造透镜的掩膜版包括两个透光区域，其中第二区域的透过率非均匀分布，且与待形成透镜的厚度分布相关。在制造透镜的过程中，对经过该掩膜版曝光后的光刻胶进行显影后，残留的光刻胶即可直接形成透镜。因此采用该掩膜版制造透镜时无需再对光刻胶进行加热和熔融成型，简化了透镜的制造工艺，降低了透镜的制造成本。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是本发明实施例提供的一种掩膜版的俯视图；

图2是本发明实施例提供的一种透镜的制造方法的流程图；

图3-1是本发明实施例提供的一种在衬底基板上沉积光刻胶的示意图；

图3-2是本发明实施例提供的一种采用掩膜版对正性光刻胶进行曝光的示意图；

图3-3是本发明实施例提供的另一种采用掩膜版对正性光刻胶进行曝光的示意图；

图3-4是本发明实施例提供的一种采用掩膜版对负性光刻胶进行曝光的示意图；

图3-5是本发明实施例提供的另一种采用掩膜版对负性光刻胶进行曝光的示意图；

图3-6是本发明实施例提供的一种凸透镜的结构示意图；

图3-7是本发明实施例提供的一种凹透镜的结构示意图；

图4-1是本发明实施例提供的一种第二区域纵截面的透光率分布曲线的示意图；

图4-2是本发明实施例提供的另一种第二区域纵截面的透光率分布曲线的示意图；

图4-3是本发明实施例提供的又一种第二区域纵截面的透光率分布曲线的示意图；

图4-4是本发明实施例提供的再一种第二区域纵截面的透光率分布曲线的示意图；

图4-5是本发明实施例提供的又一种采用掩膜版对正性光刻胶进行曝光的示意图；

图4-6是本发明实施例提供的再一种第二区域纵截面的透光率分布曲线的示意图；

图5是本发明实施例提供的另一种掩膜版的俯视图；

图6是本发明实施例提供的一种凹面镜的结构示意图；

图7-1是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图；

图7-2是本发明实施例提供的另一种显示装置的结构示意图；

图7-3是本发明实施例提供的一种显示装置的局部结构示意图；

图7-4是本发明实施例提供的又一种显示装置的结构示意图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。

图1是本发明实施例提供的一种掩膜版的俯视图，该掩膜版用于制造透镜，如图1所示，该掩膜版00包括：第一区域01和第二区域02；该第一区域01内各点的透过率相同，该第二区域02内的透过率非均匀分布，且该第二区域02内的透过率分布与待形成透镜的厚度分布相关，该待形成透镜的厚度方向垂直于该掩膜版的入光面，该掩膜版的入光面是指采用掩膜版进行曝光时，紫外光入射的一面。

综上所述，本发明提供了一种掩膜版，该掩膜版用于制造透镜，该掩膜版包括两个透光区域，其中第二区域的透过率非均匀分布，且与待形成透镜的厚度分布相关。在制造透镜的过程中，对经过该掩膜版曝光后的光刻胶进行显影后，残留的光刻胶即可直接形成透镜。因此采用该掩膜版制造透镜时无需再对光刻胶进行加热和熔融成型，简化了透镜的制造工艺，降低了透镜的制造成本。

图2是本发明实施例提供的一种透镜的制造方法的流程图，该透镜的制造方法可以采用如图1所示的透镜进行制造，如图2所示，该方法可以包括：

步骤101、在衬底基板上涂布光刻胶。

步骤102、采用掩膜版对该光刻胶进行曝光，该掩膜版上包括第一区域和第二区域，该第二区域在该衬底基板上的正投影与该衬底基板上待形成透镜的区域重叠。

其中，参考图1，该第一区域01内各点的透过率相同，该第二区域02内的透过率非均匀分布，且该第二区域02内的透过率分布与该待形成透镜的厚度分布相关，该待形成透镜的厚度方向可以垂直于该衬底基板的表面(即涂布有光刻胶的表面)。

步骤103、对曝光后的该光刻胶进行显影以形成透镜。

综上所述，本发明实施例提供的透镜的制造方法，在制造透镜的过程中，对光刻胶进行曝光时所采用的掩膜版包括两个透光区域，其中第二区域的透过率非均匀分布，且与待形成透镜的厚度分布相关，因此对该曝光后的光刻胶进行显影后，残留的光刻胶即可直接形成透镜，该制造方法无需再对光刻胶进行加热和熔融成型，简化了透镜的制造工艺，降低了制造成本。

具体的，在上述步骤101中，参考图3-1，可以在透明的衬底基板10(例如树脂基板或者玻璃基板)上，采用旋涂等涂膜工艺涂布预设厚度的光刻胶20，该涂布的光刻胶需要透明无色且具有高的透过率。其中，该预设厚度需要大于或等于该待形成透镜的最大厚度。此外，制造该透镜所用材料的折射率应大于与该透镜相邻材料的折射率。示例的，用于制造该透镜的材料为光刻胶，则该光刻胶的折射率应大于衬底基板的折射率，并且大于空气的折射率；若需要将该透镜通过光学胶(英文：Optically ClearAdhesive；简称：OCA)粘合在显示面板上，则该光刻胶的折射率还应大于该OCA的折射率。

涂布光刻胶之后，在执行上述步骤102之前，还可以对该涂布好的光刻胶在80度至100度的温度下进行预烘，以去除该光刻胶中的水分。

进一步，在上述步骤102中，参考图3-2，可以采用掩膜版00对该光刻胶20进行曝光。由于在制造透镜时所采用的光刻胶的类型可以包括正性光刻胶和负性光刻胶，因此需要根据光刻胶的类型确定掩膜版上不同区域的透过率。

一方面，当该光刻胶为正性光刻胶时，则如图3-2和图3-3所示，该第一区域01的透过率为1，即光线可以完全透过该第一区域01，该第二区域02内的透过率分布与待形成透镜的厚度分布负相关，即该待形成透镜上某一位置的厚度越厚，第二区域内对应该位置的点的透过率越低。

示例的，如图3-2所示，待形成透镜201为凸透镜，该待形成透镜201的厚度分布为：顶点B1处的厚度最厚，从顶点B1向边缘处厚度依次降低，则该第二区域02内的透过率分布可以为：与该顶点B1对应的中心点处的透过率最低(即颜色最深)，例如，透过率可以为0，无光线透过。从该中心点向该第二区域的边缘区域，该第二区域内的透过率依次升高(即颜色逐渐变浅)，例如，第二区域02边缘处的透过率可以为1。

或者，如图3-3所示，该待形成透镜201为凹透镜，该待形成透镜201的厚度分布为：顶点B2处的厚度最薄，从顶点B2向边缘处厚度依次增加，则该第二区域02内的透过率分布可以为：与该顶点B2对应的中心点处的透过率最高，从该中心点向该第二区域02的边缘区域，该第二区域02内的透过率依次降低。

另一方面，当该光刻胶为负性光刻胶时，则如图3-4和图3-5所示，该第一区域01的透过率为0，该第二区域02内的透过率分布与待形成透镜的厚度分布正相关。例如图3-4中，待形成透镜201为凸透镜，该待形成透镜201的厚度分布为：顶点B1处的厚度最厚，从顶点B1向边缘处厚度依次降低，则该第二区域02内的透过率分布可以为：与该顶点B1对应的中心点处的透过率最高，从该中心点向该第二区域02的边缘区域，该第二区域02内的透过率依次降低。

或者，如图3-5所示，该待形成透镜201为凹透镜，该待形成透镜201的厚度分布为：顶点B2处的厚度最薄，从顶点B2向边缘处厚度依次增加，则该第二区域02内的透过率分布可以为：与该顶点B2对应的中心点处的透过率最低，从该中心点向该第二区域02的边缘区域，该第二区域02内的透过率依次降升高。

在执行步骤103之前，还可以对该曝光后的光刻胶在200度至240度的温度下进行后烘，然后再执行步骤103对该后烘后的光刻胶进行显影。在显影过程中，对应第一区域(即第一区域在该衬底基板10上的投影区域)的光刻胶将被显影液完全溶解，对应第二区域的光刻胶会被部分溶解，具体的，当该光刻胶为正性光刻胶时，第二区域内透过率越低的点，在该衬底基板上正投影位置处的光刻胶溶解的越少，剩余的光刻胶厚度越厚；当该光刻胶为负性光刻胶时，第二区域内透过率越低的点，在该衬底基板上正投影位置处的光刻胶溶解的越多，剩余的光刻胶厚度越薄。显影完成后，该衬底基板10上剩余的光刻胶即可形成透镜201。示例的，如图3-6所示，衬底基板10上剩余的光刻胶可以形成凸透镜201；或者，如图3-7所示，衬底基板10上剩余的光刻胶可以形成凹透镜201。

在本发明实施例中，该待形成透镜可以包括凸透镜、凹透镜和棱镜中的任一种，其中凸透镜还可以包括菲涅尔透镜。此外，由于本发明实施例中的透镜是直接在衬底基板上形成的，因此形成的该凸透镜可以为平凸透镜，形成的该凹透镜为可以平凹透镜。

图4-1是本发明实施例提供的一种掩膜版中第二区域纵截面的透光率分布曲线示意图，在本发明一种可选的实施例中，若该待形成透镜为凸透镜，当该光刻胶为正性光刻胶时，则如图4-1所示，该第二区域内任一参考点A的透过率T_A为：其中，该a为第一比例系数，x为该参考点A与该第二区域的中心点O之间的距离，该中心点可以为该第二区域的几何中心。从图4-1中可以看出，当待形成透镜为凸透镜，且光刻胶为正性光刻胶时，该第二区域纵截面的透过率分布曲线可以为向上开口的抛物线，也即是，该透过率分布曲线与该凸透镜的厚度分布负相关。

当该光刻胶为负性光刻胶时，则如图4-2所示，该第二区域内任一参考点A的透过率为：T_A＝k×(b-x²)；其中，b为第一参数，该k为第二比例系数，该x为该参考点A与该第二区域的中心点之间的距离。从图4-2中可以看出，当待形成透镜为凸透镜，且光刻胶为负性光刻胶时，该第二区域纵截面的透过率分布曲线可以为向下开口的抛物线，也即是，该透过率分布曲线与该凸透镜的厚度分布正相关。

在本发明另一种可选的实施例中，若该待形成透镜为凹透镜，则当该光刻胶为正性光刻胶时，如图4-2所示，该第二区域内任一参考点A的透过率T_A可以为：T_A＝k×(b-x²)。从图4-2中可以看出，该透过率分布曲线与该凹透镜的厚度分布负相关。

当该光刻胶为负性光刻胶时，则如图4-1所示，该第二区域内任一参考点A的透过率T_A可以为：其中，该a为第一比例系数，该b为第一参数，该k为第二比例系数，该x为该参考点A与该第二区域的中心点之间的距离。从图4-1中可以看出，该透过率分布曲线与该凹透镜的厚度分布正相关。

需要说明的是，在本发明实施例中，上述透过率分布公式中第一比例系数a、第一参数b以及该第二比例系数k可以根据该待形成透镜的半径以及曲率进行调整，本发明实施例对上述系数的具体数值不做限定。

在本发明另一种可选的实施例中，若该待形成透镜为棱镜，则当该光刻胶为正性光刻胶时，如图4-3(图4-3为第二区域纵截面的透光率分布曲线示意图，该纵截面垂直于该棱镜的长度方向)所示，该第二区域内任一参考点A的透过率T_A为：T_A＝c×x。从图4-3中可以看出，该透过率分布曲线与该棱镜的厚度分布负相关。

当该光刻胶为负性光刻胶时，如图4-4(图4-4为第二区域纵截面的透光率分布曲线示意图，该纵截面垂直于该棱镜的长度方向)所示，该第二区域内任一参考点A的透过率T_A为：T_A＝d-c×x；其中，该d为第一斜率系数，该c为第二斜率系数，x为该参考点A与该第二区域的中轴线之间的距离，该中轴线平行于该棱镜的棱。从图4-4中可以看出，该透过率分布曲线与该棱镜的厚度分布正相关。

其中，上述透过率分布公式中第一斜率系数k和第二斜率系数c可以根据该待形成棱镜的斜率进行适当调整，本发明实施例对上述系数的具体数值不做限定。

需要说明的是，在本发明实施例提供的透镜的制造方法，除了可以制造凸透镜、凹透镜和棱镜等具有规则外表面的透镜，还可以制造具有复杂外表面的透镜，例如菲涅尔透镜。示例的，如图4-5所示，假设该衬底基板10上涂布的光刻胶20为负性光刻胶，则该掩膜版00上第一区域01内的透过率可以为0，即不透光，该第二区域02内的透过率分布可以与该菲涅尔透镜的厚度分布正相关，图4-6是本发明实施例提供的一种第二区域纵截面的透光率分布曲线示意图，从该图4-6所示的曲线可以看出，该曲线的走势与该待形成的菲尼尔透镜的厚度分布正相关。

当该待形成透镜为凸透镜或凹透镜时，如图1所示，该掩膜版00上的第二区域02可以为圆形区域，则该第二区域02的中心点即为该圆形区域的圆心；图5是本发明实施例提供的另一种掩膜版的俯视图，当该待形成透镜为棱镜时，则如图5所示，该第二区域02可以为矩形区域。也即是，该第二区域02的形状与该待形成透镜在衬底基板上正投影的形状相同。

在上述步骤103之后，该方法还可以包括：

步骤104、在该透镜的表面形成反光层。

在该透镜的表面形成反光层后，由于该反光层具有反光效果，因此可以使该透镜变成反光镜，例如凹面镜或者凸面镜。示例的，如图6所示，可以在该凹透镜201的表面沉积一层金属层202，形成凹面镜。

综上所述，本发明实施例提供了一种透镜的制造方法，在制造透镜的过程中，对光刻胶进行曝光时所采用的掩膜版包括两个透光区域，其中第二区域的透过率非均匀分布，且与待形成透镜的厚度分布相关，因此对该曝光后的光刻胶进行显影后，残留的光刻胶即可直接形成透镜，该制造方法无需再对光刻胶进行加热和熔融成型，简化了透镜的制造工艺，降低了制造成本。

图7-1是本发明实施例提供的一种显示装置的结构示意图，如图7-1所示，该显示装置可以包括：显示面板40以及设置在该显示面板40的出光面上的透镜阵列50，该透镜阵列50可以包括多个阵列排布的透镜501。示例的，在图7-1所示的显示装置中，该透镜501为菲涅尔透镜，该显示面板40可以为有机发光二极管(英文：Organic Light-EmittingDiode；简称：OLED)显示面板。

综上所述，本发明实施例提供了一种显示装置，该显示装置中显示面板的出光面上设置有透镜阵列，通过该透镜阵列可以对显示面板发出的光线进行调整，从而可以使得该显示装置能够提供准直光或者实现防窥显示的效果，提高了该显示装置的使用灵活性。

需要说明的是，由于在相同的焦距下，相对于其他普通的凸透镜，菲涅尔透镜的厚度较薄，因此在显示装置中采用菲涅尔透镜来调整光线，可以避免显示装置的厚度过厚。

在本发明实施例中，当该透镜501为凸透镜或凹透镜时，参考图7-1，承载有该透镜的基板与该显示面板40的出光面贴合，且该透镜的入光面与该显示面板40中像素的出光面之间的距离d1，与该透镜的焦距f相等。此时该显示面板发出的发散光经过透镜后可以变为平行光，此时该显示装置可以提供准直光。

当该透镜的表面还包括反光层时，也即是，当该显示面板上设置的为反光镜时，参考图7-2，在设置该反光镜501时，该反光镜501的反光面朝向该显示面板40的出光面，且该反光镜501的顶点与该显示面板40中像素的出光面之间的距离d2，与该反光镜的顶点与焦点之间的距离相等。此时该显示面板40发出的发散光经过反光镜501反射后可以变为平行光，并从该显示面板40的另一侧射出，此时该显示装置也能够提供准直光。

进一步的，还可以在该设置有凸透镜或者的凹透镜的显示面板上，再叠加设置棱镜，通过该棱镜能够对该透镜发出的平行光的偏折方向进行调整，从而可以改变该显示装置的可视角度，使得该显示装置具有防窥显示的效果。

参考图7-3和图7-4，该显示面板和透镜阵列之间可以通过OCA60进行粘合，因此可以通过调整该OCA的厚度，来调节该透镜与显示面板之间的距离。

可选的，该显示面板40可以包括多个像素，每个像素包括至少两个亚像素，显示面板通过每个该亚像素能够发出一种颜色的光。例如图7-4中，每个像素包括三个亚像素：红色亚像素4a，绿色亚像素4b以及蓝色亚像素4c，该透镜阵列中的透镜与该显示面板中的亚像素一一对应设置，其中每个透镜在该显示面板上的正投影与一个亚像素所在区域重叠，且每个透镜的光心在该衬底基板上的正投影与对应的亚像素的几何中心重叠。并且如图7-4所示，每个透镜的正投影面积应大于该每个亚像素的发光面积，以保证每个透镜能够有效调整对应的亚像素发出的光线，从而可以为防窥显示，透明显示及曲面显示等新型显示技术奠定基础。

需要说明的是，在本发明实施例中，该透镜阵列中的每个透镜的焦距f需要满足下述公式(1)：

其中，n为透镜的折射率，n₁为透镜物方一侧的折射率，r₁为透镜物方一侧的球面半径，n₂为透镜像方一侧的折射率；r₂为透镜像方一侧的球面半径，对于图3-6所示的凸透镜以及图3-7所示的凹透镜，其像方一侧的球面半径r₂为无穷大。其中，透镜的物方是指光线入射的一方，透镜的像方是指光线出射的一方。

在本发明实施例中，参考图7-1，为了降低透镜阵列设置时的工艺难度，该透镜阵列中每个透镜与显示面板出光面的距离都是相等的，也即是，该透镜阵列中各个透镜的焦距是相同的。但由于不同的亚像素发出的光线的颜色不同，即波长不同，因此不同亚像素发出的光线在同一介质中的折射率也不相同。如公式(1)可知，为了保证各个透镜具有相同的焦距，需要根据该不同颜色光线在透镜中的折射率，在物方一侧的折射率以及在像方一侧的折射率，确定每个亚像素所对应的透镜在物方一侧的球面半径，也即是图7-3中，该透镜501所在球体的半径R1的大小。因此，在本发明实施例中，不同颜色的亚像素上对应设置的透镜的球面半径不同。

进一步的，如图7-4所示，该显示装置还可以包括：在该显示面板40出光面上间隔形成的多个遮挡区域401。该遮挡区域401中可以包括能够遮挡光线的遮挡层，例如，非透明的金属层。

该多个遮挡区域中的第一遮挡区域用于对第一亚像素传输至第二透镜的光线进行遮挡，以及对第二亚像素传输至第一透镜的光线进行遮挡；其中，该第一亚像素和该第二亚像素为该显示装置中任意两个相邻的亚像素，该第一遮挡区域在该显示面板上的正投影位于该第一亚像素和该第二亚像素之间，且该第一透镜与该第一亚像素对应设置，该第二透镜与该第二亚像素对应设置。

在本发明实施例中，根据上述分析可知，每个亚像素对应的透镜的球面半径是根据该亚像素发出的光线的波长设置的，因此，若某个颜色的亚像素发出的光线传输至其他颜色亚像素对应的透镜中，则该光线经过该透镜后可能会发生偏折，无法保证该透镜阵列出射的光线为平行光。因此，需要在相邻两个亚像素之间设置遮挡区域，以保证每个亚像素发出的光线只能出射至与该亚像素对应设置的透镜中。

示例的，如图7-4所示，透镜5a与红色亚像素4a对应设置，透镜5b与该绿色亚像素4b对应设置，第一遮挡区域401在显示面板上的正投影位于该红色亚像素4a和绿色亚像素4b之间，该第一遮挡区域401能够对该红色亚像素4a传输至透镜5b的光线进行遮挡，以及对该绿色亚像素4b传输至透镜5a的光线进行遮挡。

综上所述，本发明实施例提供了一种显示装置，该显示装置中显示面板的出光面上设置有透镜阵列，通过该透镜阵列可以对显示面板发出的光线进行调整，从而可以使得该显示装置能够提供准直光或者实现防窥显示的效果，提高了该显示装置的使用灵活性。

以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (11)

1.一种掩膜版，其特征在于，所述掩膜版用于制造透镜，所述掩膜版包括：

第一区域和第二区域；

所述第一区域内各点的透过率相同，所述第二区域内的透过率非均匀分布，且所述第二区域内的透过率分布与待形成透镜的厚度分布相关，所述待形成透镜的厚度方向垂直于所述掩膜版的入光面。

2.一种采用如权利要求1所述的掩膜版制造透镜的方法，其特征在于，所述方法包括：

在衬底基板上涂布光刻胶；

采用所述掩膜版对所述光刻胶进行曝光，所述掩膜版的所述第二区域在所述衬底基板上的正投影与所述衬底基板上待形成透镜的区域重叠；

对曝光后的所述光刻胶进行显影以形成透镜。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，

当所述光刻胶为正性光刻胶时，所述第一区域的透过率为1，所述第二区域内的透过率分布与待形成透镜的厚度分布负相关；

当所述光刻胶为负性光刻胶时，所述第一区域的透过率为0，所述第二区域内的透过率分布与待形成透镜的厚度分布正相关。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，

所述待形成透镜为凸透镜，当所述光刻胶为正性光刻胶时，所述第二区域内任一参考点A的透过率T_A为：当所述光刻胶为负性光刻胶时，所述第二区域内任一参考点A的透过率为：T_A＝k×(b-x²)；

或者，所述待形成透镜为凹透镜，当所述光刻胶为正性光刻胶时，所述第二区域内任一参考点A的透过率T_A为：T_A＝k×(b-x²)；当所述光刻胶为负性光刻胶时，所述第二区域内任一参考点A的透过率T_A为：

其中，所述a为第一比例系数，所述b为第一参数，所述k为第二比例系数，所述x为所述参考点A与所述第二区域的中心点之间的距离。

5.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述待形成透镜为棱镜；

当所述光刻胶为正性光刻胶时，所述第二区域内任一参考点A的透过率T_A为：T_A＝c×x；

当所述光刻胶为负性光刻胶时，所述第二区域内任一参考点A的透过率T_A为：T_A＝d-c×x；

其中，所述d为第一斜率系数，所述c为第二斜率系数，x为所述参考点A与所述第二区域的中轴线之间的距离，所述中轴线平行于所述棱镜的棱。

6.根据权利要求2至5任一所述的方法，其特征在于，在所述对曝光后的所述光刻胶进行显影以形成透镜之后，所述方法还包括：

在所述透镜的表面形成反光层。

7.根据权利要求2至5任一所述的方法，其特征在于，

当所述待形成透镜为凸透镜或凹透镜时，所述第二区域为圆形区域，所述第二区域的中心点为所述圆形区域的圆心；

当所述待形成透镜为棱镜时，所述第二区域为矩形区域。

8.一种透镜，其特征在于，所述透镜采用如权利要求2至7任一所述的方法制造形成。

9.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括：显示面板以及设置在所述显示面板的出光面上的透镜阵列；

所述透镜阵列包括多个阵列排布的如权利要求8所述的透镜。

10.根据权利要求9所述的显示装置，其特征在于，

当所述透镜为凸透镜或凹透镜时，所述透镜的入光面与所述显示面板中像素的出光面之间的距离，与所述透镜的焦距相等；

当所述透镜的表面还包括反光层时，所述透镜的顶点与所述显示面板中像素的出光面之间的距离，与所述透镜的顶点与焦点之间的距离相等。

11.根据权利要求9或10所述的显示装置，其特征在于，所述显示面板包括多个像素，每个所述像素包括至少两个亚像素，通过每个所述亚像素能够发出一种颜色的光；

所述透镜阵列中的透镜与所述显示面板中的亚像素一一对应设置，其中每个透镜在所述显示面板上的正投影与一个亚像素所在区域重叠。