JP2001255660A5 - - Google Patents
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Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000067262A JP2001255660A (ja) | 2000-03-10 | 2000-03-10 | 特殊表面形状の創成方法及び光学素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000067262A JP2001255660A (ja) | 2000-03-10 | 2000-03-10 | 特殊表面形状の創成方法及び光学素子 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001255660A JP2001255660A (ja) | 2001-09-21 |
| JP2001255660A5 true JP2001255660A5 (enExample) | 2007-04-26 |
Family
ID=18586490
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000067262A Pending JP2001255660A (ja) | 2000-03-10 | 2000-03-10 | 特殊表面形状の創成方法及び光学素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001255660A (enExample) |
Families Citing this family (23)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4557373B2 (ja) * | 2000-06-13 | 2010-10-06 | リコー光学株式会社 | 濃度分布マスクを用いた3次元構造体製造方法 |
| JP2003107721A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-04-09 | Nikon Corp | マイクロレンズの製造方法、物品の製造方法、レジスト層の加工方法、および、マイクロレンズ |
| JP4210070B2 (ja) * | 2002-03-29 | 2009-01-14 | シャープ株式会社 | マイクロレンズ基板の作製方法 |
| JP3800151B2 (ja) * | 2002-08-30 | 2006-07-26 | ヤマハ株式会社 | マイクロレンズアレイの製法 |
| JP4230187B2 (ja) | 2002-09-25 | 2009-02-25 | シャープ株式会社 | マイクロレンズアレイの製造方法およびマイクロレンズアレイの製造装置 |
| JP2004304737A (ja) | 2003-04-01 | 2004-10-28 | Seiko Epson Corp | アンテナ装置及びその製造方法 |
| JP2005279918A (ja) | 2004-03-04 | 2005-10-13 | Seiko Epson Corp | 微細構造素子の製造方法、この方法により製造された微細構造素子、空間光変調装置及びプロジェクタ |
| CN100463775C (zh) * | 2004-03-04 | 2009-02-25 | 精工爱普生株式会社 | 微细结构元件的制造方法及其应用 |
| US20060046204A1 (en) * | 2004-08-31 | 2006-03-02 | Sharp Laboratories Of America, Inc. | Directly patternable microlens |
| JP2006235195A (ja) * | 2005-02-24 | 2006-09-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 反射防止構造体を有する部材の製造方法 |
| KR100643684B1 (ko) * | 2005-11-04 | 2006-11-10 | 한국과학기술원 | 폴리머 또는 레지스트 패턴 및 이를 이용한 금속 박막패턴, 금속 패턴, 플라스틱 몰드 및 이들의 형성방법 |
| EP1795965B1 (en) * | 2005-12-08 | 2012-05-16 | Electronics and Telecommunications Research Institute | Programmable mask for fabricating biomolecule array or polymer array |
| JP5008479B2 (ja) * | 2007-06-28 | 2012-08-22 | ラピスセミコンダクタ株式会社 | レジストパターンの形成方法及びフォトマスク |
| JP5044384B2 (ja) * | 2007-12-19 | 2012-10-10 | リコー光学株式会社 | 光学素子および光学機能素子 |
| JP5443730B2 (ja) * | 2008-10-30 | 2014-03-19 | リコー光学株式会社 | コーティング方法および微細構造素子および複数層微細構造素子およびその製造方法 |
| JP5402316B2 (ja) * | 2009-06-26 | 2014-01-29 | 富士ゼロックス株式会社 | フォトマスク、及び光学素子の製造方法 |
| US8801947B2 (en) * | 2012-05-30 | 2014-08-12 | Mattson Technology, Inc. | Methods for forming microlenses |
| CN106292172A (zh) * | 2016-09-26 | 2017-01-04 | 京东方科技集团股份有限公司 | 掩膜版、制造透镜的方法、透镜及显示装置 |
| JP2021036295A (ja) * | 2019-08-30 | 2021-03-04 | 大日本印刷株式会社 | パターンデータ、パターンデータの作製方法およびフォトマスク |
| WO2021210440A1 (ja) * | 2020-04-17 | 2021-10-21 | ローム株式会社 | 拡散カバーの製造方法、拡散カバーおよびこれを備えた半導体発光装置 |
| WO2022163702A1 (ja) * | 2021-01-28 | 2022-08-04 | 信越ポリマー株式会社 | 定着パッド |
| CN112909204B (zh) * | 2021-02-02 | 2022-09-09 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 显示面板及其制作方法、显示装置 |
| FR3157571A1 (fr) * | 2023-12-21 | 2025-06-27 | Aledia | Procédé de fabrication de motifs à parois incurvées par photolithographie |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07104594B2 (ja) * | 1986-11-29 | 1995-11-13 | 新技術開発事業団 | 光リソグラフイ−用マスク及びその製造方法 |
| JPH05173003A (ja) * | 1991-06-21 | 1993-07-13 | Mitsui Petrochem Ind Ltd | 光学デバイス及びその製造方法 |
| JPH05281712A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Kuraray Co Ltd | フォトマスク |
| JP3642801B2 (ja) * | 1994-02-18 | 2005-04-27 | リコー光学株式会社 | 露光用マスクおよびその製造方法・露光用マスクを用いる表面形状形成方法および露光用マスク製造装置 |
| JPH09146259A (ja) * | 1995-08-29 | 1997-06-06 | Ricoh Opt Ind Co Ltd | グラデーションマスクとその製造方法およびグラデーションマスクを用いた特殊表面形状の創成方法 |
| JP3499064B2 (ja) * | 1995-10-31 | 2004-02-23 | 日東電工株式会社 | 光拡散板 |
| JP4101339B2 (ja) * | 1997-09-25 | 2008-06-18 | 大日本印刷株式会社 | 光拡散フィルム、その製造方法、拡散層付偏光板及び液晶表示装置 |
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- 2000-03-10 JP JP2000067262A patent/JP2001255660A/ja active Pending