|
JP4557373B2
(ja)
*
|
2000-06-13 |
2010-10-06 |
リコー光学株式会社 |
濃度分布マスクを用いた３次元構造体製造方法
|
|
JP2003107721A
(ja)
*
|
2001-09-28 |
2003-04-09 |
Nikon Corp |
マイクロレンズの製造方法、物品の製造方法、レジスト層の加工方法、および、マイクロレンズ
|
|
JP4210070B2
(ja)
|
2002-03-29 |
2009-01-14 |
シャープ株式会社 |
マイクロレンズ基板の作製方法
|
|
JP3800151B2
(ja)
*
|
2002-08-30 |
2006-07-26 |
ヤマハ株式会社 |
マイクロレンズアレイの製法
|
|
JP4230187B2
(ja)
|
2002-09-25 |
2009-02-25 |
シャープ株式会社 |
マイクロレンズアレイの製造方法およびマイクロレンズアレイの製造装置
|
|
JP2004304737A
(ja)
|
2003-04-01 |
2004-10-28 |
Seiko Epson Corp |
アンテナ装置及びその製造方法
|
|
JP2005279918A
(ja)
*
|
2004-03-04 |
2005-10-13 |
Seiko Epson Corp |
微細構造素子の製造方法、この方法により製造された微細構造素子、空間光変調装置及びプロジェクタ
|
|
CN100463775C
(zh)
*
|
2004-03-04 |
2009-02-25 |
精工爱普生株式会社 |
微细结构元件的制造方法及其应用
|
|
US20060046204A1
(en)
*
|
2004-08-31 |
2006-03-02 |
Sharp Laboratories Of America, Inc. |
Directly patternable microlens
|
|
JP2006235195A
(ja)
*
|
2005-02-24 |
2006-09-07 |
Matsushita Electric Ind Co Ltd |
反射防止構造体を有する部材の製造方法
|
|
KR100643684B1
(ko)
*
|
2005-11-04 |
2006-11-10 |
한국과학기술원 |
폴리머 또는 레지스트 패턴 및 이를 이용한 금속 박막패턴, 금속 패턴, 플라스틱 몰드 및 이들의 형성방법
|
|
US7760274B2
(en)
*
|
2005-12-08 |
2010-07-20 |
Electronics And Telecommunications Research Institute |
Programmable mask for fabricating biomolecule array or polymer array, apparatus for fabricating biomolecule array or polymer array including the programmable mask, and method of fabricating biomolecule array or polymer array using the programmable mask
|
|
JP5008479B2
(ja)
*
|
2007-06-28 |
2012-08-22 |
ラピスセミコンダクタ株式会社 |
レジストパターンの形成方法及びフォトマスク
|
|
JP5044384B2
(ja)
*
|
2007-12-19 |
2012-10-10 |
リコー光学株式会社 |
光学素子および光学機能素子
|
|
JP5443730B2
(ja)
*
|
2008-10-30 |
2014-03-19 |
リコー光学株式会社 |
コーティング方法および微細構造素子および複数層微細構造素子およびその製造方法
|
|
JP5402316B2
(ja)
*
|
2009-06-26 |
2014-01-29 |
富士ゼロックス株式会社 |
フォトマスク、及び光学素子の製造方法
|
|
WO2013181140A2
(en)
*
|
2012-05-30 |
2013-12-05 |
Mattson Technology, Inc. |
Method for forming microlenses
|
|
CN106292172A
(zh)
*
|
2016-09-26 |
2017-01-04 |
京东方科技集团股份有限公司 |
掩膜版、制造透镜的方法、透镜及显示装置
|
|
JP2021036295A
(ja)
*
|
2019-08-30 |
2021-03-04 |
大日本印刷株式会社 |
パターンデータ、パターンデータの作製方法およびフォトマスク
|
|
US20230101361A1
(en)
*
|
2020-04-17 |
2023-03-30 |
Rohm Co., Ltd. |
Method for manufacturing diffusion cover, diffusion cover, and semiconductor light-emitting device comprising same
|
|
WO2022163702A1
(ja)
*
|
2021-01-28 |
2022-08-04 |
信越ポリマー株式会社 |
定着パッド
|
|
CN112909204B
(zh)
*
|
2021-02-02 |
2022-09-09 |
武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
显示面板及其制作方法、显示装置
|
|
FR3157571A1
(fr)
*
|
2023-12-21 |
2025-06-27 |
Aledia |
Procédé de fabrication de motifs à parois incurvées par photolithographie
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