CN112909204B - 显示面板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

Abstract

本申请提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，所述显示面板包括阵列基板、设置于所述阵列基板上的微透镜层、以及设置于所述微透镜层上的发光层，所述微透镜层包括微透镜阵列，所述微透镜阵列包括下凸形微透镜阵列；所述微透镜层利用微透镜对光线的折射作用，实现将平行的条纹光转变为多向的均匀光，提高所述显示面板的透光均匀性，有利于屏下摄像头的高清摄像。

Description

显示面板及其制作方法、显示装置

技术领域

本申请涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制作方法、显示装置。

背景技术

屏下摄像头技术是实现手机等显示装置的全面屏设计的关键，但是与摄像头对应的显示屏的透光性难以满足高清摄像需求的问题一直是限制该技术发展的巨大障碍。显示屏内部设置有密集排布的透明电极走线，这些透明电极走线会对显示屏的透光性产生很大影响。外界光线通过显示屏射向屏下摄像头时，显示屏内部的透明电极走线会对入射光产生“狭缝光栅”效应，使入射光发生衍射和干涉，造成屏下摄像头接收到的光线均匀性差，并最终导致摄像头的成像质量差。

所以，现有的屏下摄像头技术存在摄像头对应的显示屏区域因透明电极的光栅效应而导致显示屏透光均匀性差的问题。

发明内容

本申请实施例提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，用于解决现有的屏下摄像头技术存在摄像头对应的显示屏区域因透明电极的光栅作用而导致显示屏透光均匀性差的问题。

本申请提供一种显示面板，其包括：

阵列基板，包括第一显示区和第二显示区；

微透镜层，设置于所述阵列基板上，所述微透镜层包括微透镜阵列，所述微透镜阵列至少对应所述第一显示区设置，所述微透镜阵列包括下凸形微透镜阵列；

发光层，设置于所述微透镜层上；以及

上基底层，设置于所述发光层上。

根据本申请一实施例，所述微透镜阵列包括第二微透镜阵列和设置于所述第二微透镜阵列上的第一微透镜阵列，所述第二微透镜阵列包括上凸形微透镜阵列，所述第一微透镜阵列包括所述下凸形微透镜阵列，所述上凸形微透镜阵列与所述下凸形微透镜阵列共焦线。

根据本申请一实施例，所述微透镜层还包括设置于所述阵列基板上的有机光阻层，所述微透镜阵列设置于所述有机光阻层上。

根据本申请一实施例，所述微透镜层还包括有机光阻层，所述有机光阻层设置于所述第一微透镜阵列和所述第二微透镜阵列之间。

根据本申请一实施例，所述阵列基板包括下基底层和设置于所述下基底层上的薄膜晶体管阵列层；

在所述第二显示区内，所述薄膜晶体管阵列层包括有源层、第一栅极绝缘层、第一栅极、第二栅极绝缘层、第二栅极、层间绝缘层和源漏电极层；

在所述第一显示区内，所述薄膜晶体管阵列层包括所述第一栅极绝缘层、所述第二栅极绝缘层和所述层间绝缘层。

本申请还提供一种显示面板制作方法，其包括：

在阵列基板上制作微透镜层，所述阵列基板包括第一显示区和第二显示区，所述微透镜层包括微透镜阵列，所述微透镜阵列至少对应所述第一显示区设置，所述微透镜阵列包括下凸形微透镜阵列；

在所述微透镜层上制作发光层；

在所述发光层上制作上基底层。

根据本申请一实施例，所述在阵列基板上制作微透镜层的步骤，包括：

在所述阵列基板上制作有机光阻层；

对所述有机光阻层进行图案化操作，使得至少对应所述第一显示区的所述有机光阻层形成多个凹孔结构；

在所述有机光阻层上制作微透镜光阻层，使得所述微透镜光阻层填充所述凹孔结构，以形成所述下凸形微透镜阵列。

根据本申请一实施例，所述在阵列基板上制作微透镜层的步骤，包括：

在所述阵列基板上制作第一微透镜光阻层；

对所述第一微透镜光阻层进行图案化操作，使得至少对应所述第一显示区的所述第一微透镜光阻层形成上凸形微透镜阵列；

在所述第一微透镜光阻层上制作有机光阻层，使得所述有机光阻层覆盖所述第一微透镜光阻层；

对所述有机光阻层进行图案化操作，使得至少对应所述第一显示区的所述有机光阻层形成多个凹孔结构；

在所述有机光阻层上制作第二微透镜光阻层，使得所述第二微透镜光阻层填充所述凹孔结构，以形成所述下凸形微透镜阵列。

根据本申请一实施例，所述下凸形微透镜阵列与所述上凸形微透镜阵列共焦线。

本申请还提供一种显示装置，其包括：如上所述的显示面板，或如上所述的显示面板制作方法制作而成的显示面板；以及对应所述显示面板的第一显示区设置的傅里叶透镜和摄像头。

本申请的有益效果是：本申请提供的显示面板及其制作方法、显示装置，包括设置于阵列基板上的微透镜层，所述微透镜层包括微透镜阵列，透明电极和发光层设置于所述微透镜层上；所述微透镜层利用所述微透镜对光线的折射作用，实现将平行的条纹光转变为多向的均匀光，提高所述显示面板的透光均匀性，有利于屏下摄像头的高清摄像。

附图说明

下面结合附图，通过对本申请的具体实施方式详细描述，将使本申请的技术方案及其它有益效果显而易见。

图1是本申请实施例提供的显示面板的平面结构示意图；

图2是本申请实施例提供的显示面板的第一种实施方式的局部截面结构示意图；

图3是本申请实施例提供的显示面板另一种实施方式的局部截面结构示意图；

图4是本申请实施例提供的显示面板制作方法流程图；

图5是本申请实施例提供的显示装置的第一种实施方式的局部截面结构示意图；

图6是本申请实施例提供的显示装置的第一种实施方式的匀光效果图；

图7是本申请实施例提供的显示装置的另一种实施方式的局部截面结构示意图；

图8是本申请实施例提供的显示装置的另一种实施方式的匀光效果图。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

本申请实施例提供一种显示面板及其制作方法、显示装置，所述显示面板包括设置于阵列基板上的微透镜层，所述微透镜层包括阵列排布的多个微透镜，透明电极和发光层设置于所述微透镜层上；所述微透镜层利用所述微透镜对光线的折射作用，实现将平行的条纹光转变为多向的均匀光，提高所述显示面板的透光均匀性，有利于屏下摄像头的高清摄像。

根据本申请一实施例，请参阅图1和图2所示，图1是本申请实施例提供的显示面板10的平面结构示意图，图2是本申请实施例提供的显示面板10的第一种实施方式的局部截面结构示意图。所述显示面板10包括阵列基板11、设置于所述阵列基板11上的微透镜层12、设置于所述微透镜层12上的发光层14、以及设置于所述发光层14上的上基底层15，可选地，所述微透镜层12与所述发光层14之间还设置有透明电极层13。其中，所述阵列基板11包括第一显示区101和第二显示区102。在一种实施例中，所述第一显示区101位于所述第二显示区102的内部；在其它实施例中，所述第一显示区101也可以位于所述第二显示区102一侧。所述第一显示区101和所述第二显示区102均是所述显示面板10上的显示区域，其差别在于内部结构上的差异。

所述阵列基板11包括下基底层11a和设置于所述下基底层上的薄膜晶体管阵列层11b。所述下基底层11a包括衬底基板111和设置于所述衬底基板111上的缓冲层112，所述衬底基板111包括绝缘材料，例如是聚酰亚胺、玻璃、石英或陶瓷等，所述缓冲层112包括多种有机材料或无机材料。

所述薄膜晶体管阵列层11b在所述第一显示区101内和在所述第二显示区102内分别具有不同的结构。在所述第二显示区102内，所述薄膜晶体管阵列层11b包括有源层113、第一栅极绝缘层114、第一栅极115、第二栅极绝缘层116、第二栅极117、层间绝缘层118和源漏电极层119，所述有源层113设置在所述缓冲层112上，所述有源层113的衬底材料可以为N型或者P型多晶硅半导体，或金属氧化半导体；第一栅极绝缘层114布置在所述有源层113之上，其材质可以包括氮化硅或者氧化硅等绝缘材料；第一栅极115布置在所述第一栅极绝缘层114上，所述第一栅极115的材料可以为金属材料Mo，所述有源层113可以划分为源极、沟道部分和漏极，所述第一栅极115与所述有源层113的源极、沟道及漏极构成低温多晶硅晶体管或金属氧化物晶体管的栅极、源极、漏极；第二栅极绝缘层116布置在所述第一栅极115上，其材质可以为包括氮化硅或者氧化硅等绝缘材料；第二栅极117布置在所述第二栅极绝缘层116上，其材料可以为金属钼Mo，所述第二栅极117与所述第一栅极115构成存储电容的上下电极；层间绝缘层118覆盖在所述第二栅极117上，其材质可以为包括氮化硅或者氧化硅等绝缘材料；源漏电极119布置在所述层间绝缘层118上，其材料采用金、银、铜、锂、钠、钾、镁、铝、锌及其组合中的一种或多种，所述源漏电极119通过所述层间绝缘层118、所述第二栅极绝缘层116和所述第一栅极绝缘层114上的过孔与所述有源层113的源极和漏极电性连接；平坦层120布置在所述源漏电极119上，其材质可以为包括氮化硅或者氧化硅等绝缘材料。在所述第一显示区101内，所述薄膜晶体管阵列层包括所述第一栅极绝缘层114、所述第二栅极绝缘层116、所述层间绝缘层118和所述平坦层120。应当理解的是，所述第一显示区101相较于所述第二显示区102，仅设置透明绝缘层，而不设置导电结构，可以保证所述第一显示区101具有较高的透光性。

所述微透镜层12设置于所述薄膜晶体管阵列层上，所述微透镜层12包括第一微透镜阵列1221，所述第一微透镜阵列1221至少对应所述第一显示区101设置，所述第一微透镜阵列1221包括下凸形微透镜阵列，所述下凸形微透镜阵列包括多个下凸形微透镜S1。具体地，所述微透镜层12包括设置于所述阵列基板11上的有机光阻层121和设置于所述有机光阻层121上的第一微透镜阵列层122，所述第一微透镜阵列层122包括对应所述第一显示区101设置的所述第一微透镜阵列1221；在所述第二显示区102内，所述第一微透镜阵列层122不包含所述第一微透镜阵列1221而为平坦结构；所述有机光阻层121由透明有机材料制成。本实施例通过在所述第一显示区101内设置包含下凸形微透镜阵列的所述第一微透镜阵列1221，使得射向所述第一显示区101的光线被所述下凸形微透镜阵列折射，而沿多个方向射出，提高了出射光的分布均匀性，达到匀光效果，进而提升所述第一显示区101的透光性。

根据本申请另一实施例，请参阅图1和图3所示，图3是本申请实施例提供的显示面板的另一种实施方式的局部截面结构示意图。在本实施例中，所述微透镜层12包括第二微透镜阵列1231和设置于所述第二微透镜阵列1231上的所述第一微透镜阵列1221，所述第一微透镜阵列1221和所述第二微透镜阵列1231至少对应所述第一显示区101设置，所述第一微透镜阵列1221包括下凸形微透镜阵列，所述下凸形微透镜阵列包括多个下凸形微透镜S1，所述第二微透镜阵列1231包括上凸形微透镜阵列，所述上凸形微透镜阵列包括多个上凸形微透镜S2。具体地，所述微透镜层12包括设置于所述阵列基板11上的第二微透镜阵列层123、设置于所述第二微透镜阵列层123上的所述有机光阻层121和设置于所述有机光阻层121上的所述第一微透镜阵列层122，所述第一微透镜阵列层122包括对应所述第一显示区101设置的所述第一微透镜阵列1221，所述第二微透镜阵列层123包括对应所述第一显示区101设置的所述第二微透镜阵列1231；在所述第二显示区102内，所述第一微透镜阵列层122不包含所述第一微透镜阵列1221而为平坦结构，所述第二微透镜阵列层123不包含所述第二微透镜阵列1231而为平坦结构；所述有机光阻层121由透明有机材料制成。本实施例通过在所述第一显示区101内设置包含下凸形微透镜阵列的所述第一微透镜阵列1221，和包含上凸形微透镜阵列的所述第二微透镜阵列1231，使得射向所述第一显示区101的光线经过所述下凸形微透镜阵列和所述上凸形微透镜阵列的双重折射，而沿多个方向射出，进一步提高了出射光的分布均匀性，达到匀光效果，提升所述显示面板在所述第一显示区101的透光性。

进一步地，所述第一微透镜阵列1221内的所述下凸形微透镜阵列，与所述第二微透镜阵列1231内的所述上凸形微透镜阵列为共焦线设置，即，所述下凸形微透镜S1的中心轴与所述上凸形微透镜S2的中心轴位于同一直线上，具体为，所述下凸形微透镜S1的中心轴与所述上凸形微透镜S2的中心轴位于垂直于所述显示面板平面的同一直线上，以保证外界入射光依次经过所述下凸形微透镜S1和所述上凸形微透镜S2的双重折射。

进一步地，请参阅图1至图3所示，所述透明电极层13设置于所述微透镜层12上，所述透明电极层13包括多个透明电极131以及覆盖所述透明电极131的透明绝缘层132。需要说明的是，对于所述第一显示区101，位于所述第一显示区101内的显示单元通过位于所述第二显示区102内的薄膜晶体管结构进行控制，所述显示单元与所述薄膜晶体管结构之间通过所述透明电极131进行电性连接。本申请实施例通过在所述第一显示区101内设置所述微透镜层12，均匀分散因所述透明电极131的狭缝作用而产生的条纹光，产生匀光效果，提升所述第一显示区101的透光均匀性。

进一步地，所述发光层14设置于所述透明电极层13上，所述发光层14包括阳极141、像素定义层142、有机功能层143和阴极144，所述阳极141布置在所述透明绝缘层132上，其材质为氧化铟锡ITO与银Ag的组合，所述阳极141与所述阵列基板11中的所述源漏电极119电性连接；所述像素定义层142设置在所述阳极141上，所述像素定义层142上设置有多个开孔，所述有机功能层143通过所述像素定义层142的开孔与所述阳极141接触，所述阴极144设置于所述像素定义层142上，且通过所述像素定义层142上的开孔与所述有机功能层143接触，所述阳极141、所述有机功能层143和所述阴极144组成所述显示面板10的显示单元。

进一步地，所述上基底层15设置于所述发光层14上，所述上基底层15可以包括设置于所述发光层14上的薄膜封装层和玻璃盖板层，所述上基底层15用于对所述显示面板10的内部元件进行封闭和保护。

综上所述，本申请实施例提供的显示面板包括微透镜层，所述微透镜层包括阵列排布的多个微透镜，透明电极和发光层设置于所述微透镜层上；所述微透镜层利用所述微透镜对光线的折射作用，实现将单向的条纹光转变为多向的均匀光，从而提高所述显示面板的透光均匀性。

本申请实施例还提供一种显示面板制作方法，请参阅图4，包括以下步骤：

步骤S101，参阅图1至图3，在阵列基板11上制作微透镜层12，所述阵列基板11包括第一显示区101和第二显示区102，所述微透镜层12包括微透镜阵列，所述微透镜阵列至少对应所述第一显示区101设置，所述微透镜阵列包括下凸形微透镜阵列，所述下凸形微透镜阵列包括多个下凸形微透镜S1。

在一种实施例中，所述在阵列基板11上制作微透镜层12的步骤包括：在所述阵列基板11上制作有机光阻层121；对所述有机光阻层121进行图案化操作，使得至少对应所述第一显示区101的所述有机光阻层121形成多个凹孔结构；在所述有机光阻层121上制作微透镜光阻层，使得所述微透镜光阻层填充所述凹孔结构，以形成第一微透镜阵列层122，所述第一微透镜阵列层122包括第一微透镜阵列1221，所述第一微透镜阵列1221包括所述下凸形微透镜阵列。

在一种实施例中，所述在阵列基板11上制作微透镜层12的步骤包括：在所述阵列基板11上制作第一微透镜光阻层；对所述第一微透镜光阻层进行图案化操作，使得至少对应所述第一显示区101的所述第一微透镜光阻层形成上凸形微透镜阵列，进而形成第二微透镜阵列层123，所述第二微透镜阵列层123包括第二微透镜阵列1231，所述第二微透镜阵列1231包括所述上凸形微透镜阵列，所述上凸形微透镜阵列包括上凸形微透镜S2；在所述第二微透镜阵列层123上制作有机光阻层121，使得所述有机光阻层121覆盖所述第二微透镜阵列层123；对所述有机光阻层121进行图案化操作，使得至少对应所述第一显示区101的所述有机光阻层121形成多个凹孔结构；在所述有机光阻层121上制作第二微透镜光阻层，使得所述第二微透镜光阻层填充所述凹孔结构，以形成第一微透镜阵列层122，所述第一微透镜阵列层122包括第一微透镜阵列1221，所述第一微透镜阵列1221包括所述下凸形微透镜阵列。

可选地，对所述第一微透镜光阻层进行图案化操作的方法可以是：采用半色调掩膜板对所述第一微透镜光阻层进行光刻，使所述第一微透镜光阻层形成图案化分布的上凸形微透镜阵列。本申请实施例中的其它图案化操作的方法与所述第一微透镜光阻层的图案化操作的方法相同或相似。

进一步地，所述第一微透镜阵列1221内的所述下凸形微透镜阵列，与所述第二微透镜阵列1231内的所述上凸形微透镜阵列为共焦线L设置，即，所述下凸形微透镜S1的中心轴与所述上凸形微透镜S2的中心轴位于同一直线上，具体为，所述下凸形微透镜S1的中心轴与所述上凸形微透镜S2的中心轴位于垂直于所述显示面板平面的同一直线上，以保证外界入射光依次经过所述下凸形微透镜S1和所述上凸形微透镜S2的双重折射。

步骤S102，在所述微透镜层12上制作发光层14。

可选地，所述在所述微透镜层12上制作发光层14的步骤之前还包括：在所述微透镜层12上制作透明电极层13。所述发光层14制作于所述透明电极层13上。

步骤S103，在所述发光层14上制作上基底层15。所述上基底层15可以包括设置于所述发光层14上的薄膜封装层和玻璃盖板层，所述上基底层15用于对所述显示面板10的内部元件进行封闭和保护。

需要说明的是，本申请实施例提供的显示面板制作方法，可用于制作本申请实施例提供的显示面板；对于所述显示面板制作方法的实施例中未尽述的显示面板结构，与上述显示面板的实施例中所描述的显示面板结构相同或相似。

应当理解的是，本申请实施例提供的显示面板制作方法制作而成的显示面板，包括微透镜层，所述微透镜层包括阵列排布的多个微透镜，透明电极和发光层设置于所述微透镜层上；所述微透镜层利用所述微透镜对光线的折射作用，实现将单向的条纹光转变为多向的均匀光，从而提高所述显示面板的透光均匀性。

本申请实施例还提供一种显示装置，请参阅图5和图7、以及图1至图3所示，所述显示装置包括本申请实施例提供的显示面板10，和设置于所述显示面板10背侧的框架20，所述框架20内设置有对应所述显示面板10的第一显示区101设置的傅里叶透镜21和摄像头22。所述傅里叶透镜21用于将光线汇聚至所述摄像头22上。

或者，所述显示装置包括本申请实施例提供的显示面板制作方法制作而成的显示面板10，和设置于所述显示面板10背侧的框架20，所述框架20内设置有对应所述显示面板10的第一显示区101设置的傅里叶透镜21和摄像头22。

应当理解的是，本申请实施例提供的显示面板，或通过本申请实施例提供的显示面板制作方法制作而成的显示面板，均包含微透镜层，使透过所述第一显示区的光线具有良好的分布均匀性，从而提升所述摄像头的摄像清晰度。

下面对所述微透镜层对入射光的匀光作用进行介绍。

针对所述显示面板10的所述微透镜层12仅包含第一微透镜阵列1221的情况，请参阅图5和图6，经所述透明电极的光栅作用而形成的条纹光穿过所述第一微透镜阵列1221后，被所述第一微透镜阵列1221中的下凸形微透镜阵列折射而形成多向均匀光，并进一步经过所述傅里叶透镜21的转换，使最终到达所述摄像头22的光线的分布均匀性进一步提高，从而保证所述摄像头22具有较高的摄像清晰度。

针对所述显示面板10的所述微透镜层12包含第一微透镜阵列1221和第二微透镜阵列1231的情况，请参阅图7和图8，经所述透明电极的光栅作用而形成的条纹光依次穿过所述第一微透镜阵列1221和所述第二微透镜阵列1231后，被所述第一微透镜阵列1221中的下凸形微透镜阵列和所述第二微透镜阵列1231中的上凸形微透镜阵列折射而形成多向均匀光，并进一步经过所述傅里叶透镜21的转换，使最终到达所述摄像头22的光线的分布均匀性进一步提高，从而保证所述摄像头22具有较高的摄像清晰度。

综上所述，本申请实施例提供的显示装置包括设置于阵列基板上的微透镜层，所述微透镜层包括阵列排布的多个微透镜，利用所述微透镜对光线的折射作用，实现将单向的条纹光转变为多向的均匀光，有利于屏下摄像头的高清摄像。

需要说明的是，虽然本申请以具体实施例揭露如上，但上述实施例并非用以限制本申请，本领域的普通技术人员，在不脱离本申请的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本申请的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (7)

1.一种显示面板，其特征在于，包括：

阵列基板，包括第一显示区和第二显示区，所述第一显示区为摄像功能区；

微透镜层，设置于所述阵列基板上，所述微透镜层包括微透镜阵列，所述微透镜阵列至少对应所述第一显示区设置，所述微透镜阵列包括设置于所述阵列基板上的第二微透镜阵列、设置于所述第二微透镜阵列上的有机光阻层、以及设置于所述有机光阻层上的第一微透镜阵列，所述第二微透镜阵列包括上凸形微透镜阵列，所述第一微透镜阵列包括下凸形微透镜阵列；

发光层，设置于所述微透镜层上；

透明电极层，设置于所述发光层与所述微透镜层之间；以及

上基底层，设置于所述发光层上。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述上凸形微透镜阵列与所述下凸形微透镜阵列共焦线。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述阵列基板包括下基底层和设置于所述下基底层上的薄膜晶体管阵列层；

在所述第二显示区内，所述薄膜晶体管阵列层包括有源层、第一栅极绝缘层、第一栅极、第二栅极绝缘层、第二栅极、层间绝缘层和源漏电极层；

在所述第一显示区内，所述薄膜晶体管阵列层包括所述第一栅极绝缘层、所述第二栅极绝缘层和所述层间绝缘层。

4.一种显示面板制作方法，其特征在于，包括：

在阵列基板上制作微透镜层，所述阵列基板包括第一显示区和第二显示区，所述第一显示区为摄像功能区，所述微透镜层包括微透镜阵列，所述微透镜阵列至少对应所述第一显示区设置，所述微透镜阵列包括设置于所述阵列基板上的第二微透镜阵列、设置于所述第二微透镜阵列上的有机光阻层、以及设置于所述有机光阻层上的第一微透镜阵列，所述第二微透镜阵列包括上凸形微透镜阵列，所述第一微透镜阵列包括下凸形微透镜阵列；

在所述微透镜层上制作透明电极层；

在所述透明电极层上制作发光层；

在所述发光层上制作上基底层。

5.根据权利要求4所述的显示面板制作方法，其特征在于，所述在阵列基板上制作微透镜层的步骤，包括：

在所述阵列基板上制作第一微透镜光阻层；

对所述第一微透镜光阻层进行图案化操作，使得至少对应所述第一显示区的所述第一微透镜光阻层形成上凸形微透镜阵列；

在所述第一微透镜光阻层上制作有机光阻层，使得所述有机光阻层覆盖所述第一微透镜光阻层；

对所述有机光阻层进行图案化操作，使得至少对应所述第一显示区的所述有机光阻层形成多个凹孔结构；

在所述有机光阻层上制作第二微透镜光阻层，使得所述第二微透镜光阻层填充所述凹孔结构，以形成所述下凸形微透镜阵列。

6.根据权利要求5所述的显示面板制作方法，其特征在于，所述下凸形微透镜阵列与所述上凸形微透镜阵列共焦线。

7.一种显示装置，其特征在于，包括：权利要求1-3中任一所述的显示面板，或权利要求4-6中任一所述的显示面板制作方法制作而成的显示面板；以及对应所述显示面板的第一显示区设置的傅里叶透镜和摄像头。

Images