CN210535668U - 显示基板、显示面板及显示装置 - Google Patents

Abstract

本公开一些实施例公开了一种显示基板、显示面板及显示装置，涉及显示技术领域，用于在确保超高屏占比的基础上，提高显示装置的亮度均一性。所述显示基板具有显示区；所述显示区包括入光区，所述入光区允许环境光信号透过，且配置为与光学部件相对，以使得所述环境光信号入射至所述光学部件。所述显示基板包括：位于所述显示区内的多条第一类信号线，所述第一类信号线位于所述入光区内的部分透光。本公开一些实施例提供的显示基板、显示面板及显示装置，用于全面屏显示。

Description

显示基板、显示面板及显示装置

技术领域

本公开涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示基板、显示面板及显示装置。

背景技术

目前，在移动显示装置中采用全面屏技术，能够使得移动显示装置具有超高的屏占比，但该屏占比难以达到100％。此外，在移动显示装置中采用屏下摄像头技术，也即在移动显示装置中显示屏的显示区内设置透光孔，可以利用该透光孔对应安装前置摄像头或红外传感器等光学部件，从而进一步提高移动显示装置的屏占比。

实用新型内容

本公开一些实施例的目的在于提供一种显示基板、显示面板及显示装置，用于在确保显示装置具有超高的屏占比的基础上，提高显示装置的亮度均一性。

为达到上述目的，本公开一些实施例提供了如下技术方案：

一方面，提供了一种显示基板。所述显示基板具有显示区。所述显示区包括入光区，该入光区允许环境光信号透过，且配置为与光学部件相对，以使得环境光信号入射至光学部件。所述显示基板还包括位于显示区内的多条第一类信号线，该第一类信号线位于入光区内的部分透光。

在本公开一些实施例提供的显示基板中，多条第一类信号线位于入光区内的部分透光，可以使得显示基板的入光区具有较好的光透过率，从而确保位于显示基板的非显示侧的光学部件能够有效采集对应的环境光信号。

本公开一些实施例提供的显示基板采用如上结构，能够避免本应位于入光区内的各第一类信号线围绕入光区的边界延伸，也即避免各第一类信号线在入光区的周边形成遮光边缘，从而能够确保显示基板所在的显示装置具有超高的屏占比。并且，各第一类信号线也无需在入光区中断，可以使得各第一类信号线采用双边驱动的方式进行信号传输，从而确保显示基板的亮度均一。

由此，本公开一些实施例提供的显示基板，能够在确保其所在显示装置具有超高的屏占比的基础上，有效提高显示装置的亮度均一性。

在一些实施例中，第一类信号线包括位于入光区内的透光导线，以及位于显示区内且位于入光区外的金属导线。同一条第一类信号线中的透光导线和金属导线电连接。

在一些实施例中，显示基板还包括位于显示区内的多条第二类信号线，该第二类信号线为金属导线。上述第一类信号线的电阻和与其平行且走线长度相等的第二类信号线的电阻相等或大略相等。

在一些实施例中，上述多条第一类信号线包括平行设置的多条第一方向信号线，以及平行设置的多条第二方向信号线。所述多条第一方向信号线的延伸方向和所述多条第二方向信号线的延伸方向相交，且所述多条第一方向信号线和所述多条第二方向信号线绝缘。

在一些实施例中，显示基板还包括位于显示区内的多个像素电极，该像素电极包括第一透光电极。第一方向信号线位于入光区内的部分与第一透光电极同层设置。

在一些实施例中，像素电极还包括层叠设置于第一透光电极上的金属电极和第二透光电极。第二方向信号线位于入光区内的部分与第二透光电极同层设置。

另一方面，提供了一种显示面板。所述显示面板包括上述一些实施例所提供的显示基板。本公开一些实施例提供的显示面板所能实现的有益效果，与上述一些实施例提供的显示基板所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。

又一方面，提供了一种显示装置。所述显示装置包括上述一些实施例所提供的显示基板，以及位于显示基板的非显示侧且与入光区相对设置的光学部件。本公开一些实施例提供的显示装置所能实现的有益效果，与上述一些实施例提供的显示基板所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。

附图说明

此处所说明的附图用来提供对本公开实施例的进一步理解，构成本公开实施例的一部分，本公开的示意性实施例及其说明用于解释本公开，并不构成对本公开的不当限定。在附图中：

图1为相关技术中一种显示装置的结构示意图；

图2为本公开一些实施例提供的一种显示基板的局部示意图；

图3为本公开一些实施例提供的一种显示基板的剖面示意图；

图4为本公开一些实施例提供的另一种显示基板的剖面示意图；

图5为本公开一些实施例提供的一种入光区内透光导线的分布示意图；

图6为本公开一些实施例提供的又一种显示基板的剖面示意图；

图7为图6中D区域的放大图；

图8为本公开一些实施例提供的一种显示基板的制作方法的步骤示意图。

具体实施方式

为便于理解，下面结合说明书附图，对本公开一些实施例提供的技术方案进行详细的描述。显然，所描述的实施例仅仅是所提出的技术方案的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本公开的一些实施例，本领域技术人员所能获得的所有其他实施例，均属于本公开保护的范围。

显示装置的显示基板通常具有呈阵列状分布的多个子像素，其中，每一行的子像素对应一条栅线，且由该栅线向该行的各子像素提供扫描信号；每一列的子像素对应一条数据线，且由该数据线向该列的各子像素提供数据信号。在一些实施例中，每一行子像素对应的栅线通常从其两端同时向中心对向写入扫描信号，也即每一行子像素的扫描驱动为双边驱动。

目前，如图1所示，在采用了全面屏技术的显示装置中，显示基板的显示区AA内设置有透光孔01。前置摄像头或红外传感器等光学部件可以对应透光孔01安装在显示基板的背面(即非显示侧)，以便于通过透光孔01有效获取所需的环境光信号。

然而，由于透光孔01位于显示区AA内，使得本应穿过透光孔01所在区域的各信号线(例如栅线或数据线等)，需要绕透光孔01的周边区域延伸，因此，各信号线会在透光孔01的周边形成遮光边缘B，导致透光孔01的周边出现虚拟边框，降低显示装置的屏占比。

当然，在一些示例中，为了确保显示装置具有超高的屏占比，将本应穿过透光孔01所在区域的各信号线中断，也即将各信号线从透光孔01所在区域断开。这样原来的一条信号线会由位于透光孔01两侧的两条子信号线组成，使得位于透光孔01周边的各子像素所需的信号仅能被单向传输，从而容易因信号线的对称性、工艺公差以及其电压降等因素，导致显示装置的亮度均一性下降。

基于此，本公开一些实施例提供了一种显示基板。请参阅图2和图3，显示基板具有显示区AA。显示区AA包括入光区CC，该入光区CC允许环境光信号透过，且配置为与光学部件相对，以使得环境光信号入射至光学部件。

入光区CC可以设置于显示区AA内的任意位置处，本公开一些实施例对此不做限定。例如，入光区CC设置在显示区AA的上边缘中心的附近；或者，入光区CC设置在显示区AA的一侧边角处。入光区CC的形状可以根据实际需求选择设置，例如为圆形、正方形或三角形等。

此处，光学部件通常设置于显示基板的非显示侧，即显示基板的显示面的背面所在一侧，显示基板的显示面为可供用户观看显示图像的表面。入光区CC与光学部件相对，入光区CC允许透过的环境光信号为光学部件对应需要采集的光信号。此处，光学部件包括前置摄像头或红外传感器等。

请继续参阅图2～图4，显示基板包括位于显示区AA内的多条第一类信号线1，该第一类信号线1位于入光区CC内的部分透光。

本公开一些实施例对第一类信号线1的种类不做限定。可选的，上述多条第一类信号线1的种类包括栅线、数据线和公共电压线中的至少一种。示例的，第一类信号线1为栅线，配置为提供扫描信号。或者，第一类信号线1为数据线，配置为提供数据信号。还或者，第一类信号线1为公共电源线，配置为提供公共电压信号。

上述第一类信号线1位于入光区CC内的部分透光，可以为第一类信号线1采用透光导电材料制作形成，也可以为第一类信号线1由至少两段子导线电连接构成，且其中的至少一段子导线为透光导线。

在一些实施例中，如图2～图4所示，第一类信号线1包括位于入光区CC内的透光导线11，以及位于显示区AA内且位于入光区CC外的金属导线12。同一条第一类信号线1的透光导线11和金属导线12电连接。

这也就是说，每条第一类信号线1的位于显示区AA内且位于入光区CC外的部分采用金属材料制作形成，例如钼(Mo)、钛(Ti)或铝(Al)等。此外，每条第一类信号线1的金属导线12为单层结构或叠层结构，均可，具体根据实际需求选择设置。每条第一类信号线201的位于入光区CC内的部分采用透明导电材料制作形成，例如ITO、AZO、TCO等。示例的，每条第一类信号线1的透光导线11为ITO导线。

同一条第一类信号线1中透光导线11和金属导线12电连接的方式，可以为直接搭接，例如图3所示；还可以为：穿过二者之间的绝缘层上的过孔电连接，例如图4所示。本公开一些实施例对此不做限定。当然，各透光导线11可以与位于显示区AA内且位于入光区CC外的透光电极或透光信号线同层设置，也即采用相同材料在一次构图工艺中制作成型，有利于简化显示基板的制作工艺，并降低其生产成本。

由上可知，多条第一类信号线1位于入光区CC内的部分透光，也即显示基板的入光区CC内存在的信号线的部分为透光导线。这样可以使得显示基板的入光区CC具有较好的光透过率，例如达到90％以上。从而确保位于显示基板的非显示侧的光学部件能够有效采集对应的环境光信号。

本公开一些实施例提供的显示基板采用如上结构，能够避免本应位于入光区CC内的各第一类信号线1围绕入光区CC的边界延伸，也即避免各第一类信号线1在入光区CC的周边形成遮光边缘，从而能够确保显示基板所在的显示装置具有超高的屏占比。并且，各第一类信号线1也无需在入光区CC中断，可以使得各第一类信号线1采用双边驱动的方式进行信号传输，从而确保显示基板亮度均一。

由此，本公开一些实施例提供的显示基板，能够在确保其所在显示装置具有超高的屏占比的基础上，有效提高显示装置的亮度均一性。

需要说明的是，在一些实施例中，如图2所示，显示基板还包括位于显示区AA内的多条第二类信号线2。该第二类信号线2为金属导线。

上述第一类信号线1和第二类信号线2可以属于同一种信号线，即二者具有相同的功能。对其进行第一类和第二类的划分只是为了清楚说明本公开一些实施例中其所处的不同位置，即，将部分位于入光区CC内的信号线限定为第一类信号线1，将全部位于入光区CC外的信号线限定为第二类信号线2，此外并无其他实质限定。

此外，第一类信号线1的电阻和与其平行且走线长度相等的第二类信号线2的电阻相等或大略相等。此处，“走线长度”是指对应信号线沿其延伸方向的长度。由于透光导线11和金属导线12的电导率不同，因此，控制每条第一类信号线1的电阻(也即其透光导线11和金属导线12的电阻之和)，和与其平行且走线长度相同的第二类信号线2的电阻相等或大略相等，有利于确保各信号线的负载相同，从而进一步确保显示基板的显示亮度均一。

由于金属材料的电阻率较小，因此，各第一类信号线1中的金属导线12即使走线长度不一致，其彼此之间的电阻差也可忽略不计。而且，透光导电材料的电阻率较大。基于此，按照入光区CC的形状，需要对各第一类信号线1位于其内的透光导线11进行等电阻补偿，以便于确保每条第一类信号线1的电阻和与其平行且走线长度相同的第二类信号线2的电阻相等或大略相等。

示例的，请参阅图5，入光区CC为圆形，这样位于入光区CC内平行设置的各透光导线11的走线长度不同。下面以其中两条透光导线为例进行详细说明，一条透光导线为第一透光导线11a，另一条透光导线为第二透光导线11b。第一透光导线11a的走线长度L₁大于第二透光导线11b的走线长度L₂，第一透光导线11a所在的第一类信号线和第二透光导线11b所在的第一类信号线的走线长度相同。为了确保该两条第一类信号线和与其平行且走线长度相等的第二类信号线2的电阻相等或大略相等，可以通过调整第一透光导线11a和第二透光导线11b的走线宽度的方式实现。

具体的，电阻R＝ρL/S，其中，ρ为对应透光导线11的电阻率，L为对应透光导线11的走线长度，S为对应透光导线11的横截面面积。因此，通过设置第二透光导线11b的走线宽度W₂大于第一透光导线11a的走线宽度W₁，可以确保第一透光导线11a的电阻与第二透光导线11b的电阻相等或大略相等。

可见，通过适当增大各透光导线11的走线宽度，可以合理调整各第一类信号线1的电阻。

可以理解的是，请参阅图2和图6，在一些实施例中，多条第一类信号线1包括平行设置的多条第一方向信号线1A，以及平行设置的多条第二方向信号线1B；其中，多条第一方向信号线1A的延伸方向和多条第二方向信号线1B的延伸方向相交，且多条第一方向信号线1A和多条第二方向信号线1B绝缘。

可选的，在多条第一类信号线1中，第一方向信号线1A的延伸方向和第二方向信号线1B的延伸方向垂直，形成网格结构。第一方向信号线1A和第二方向信号线1B可以被配置为传输不同的信号。

值得一提的是，在一些实施例中，请参阅图4和图6，显示基板还包括位于显示区AA内的多个像素电极4。各像素电极4采用单层结构或叠层结构，均可。

在一些示例中，如图4所示，各像素电极4为单层结构，即每个像素电极4包括第一透光电极401。第一方向信号线1A位于入光区CC内的部分(即其透光导线11A)与第一透光电极401同层设置，也即第一方向信号线1A位于入光区CC内的部分与第一透光电极401采用相同的透光导电材料在一次构图工艺中制作成型。第二方向信号线1B位于入光区CC内的部分(即其透光导线11B)独立成型。

在另一些示例中，如图6和图7所示，各像素电极4为叠层结构。像素电极4包括依次层叠设置的第一透光电极401、金属电极402和第二透光电极403。例如，像素电极4为ITO/Ag/ITO的叠层结构，其中每层的厚度可以根据实际需求选择设置。可选的，ITO层对应的厚度为80A，Ag层对应的厚度为1000A。

第一方向信号线1A位于入光区CC内的部分(即其透光导线11A)与第一透光电极401同层设置，也即第一方向信号线1A位于入光区CC内的部分与第一透光电极401采用相同的透光导电材料在一次构图工艺中制作成型。第二方向信号线1B位于入光区CC内的部分(即其透光导线11B)独立成型，或者与第二透光电极403同层设置，也即第二方向信号线1B位于入光区CC内的部分与第二透光电极403采用相同的透光导电材料在一次构图工艺中制作成型。

上述的构图工艺包括光刻工艺，或包括光刻工艺以及刻蚀步骤在内的工艺。所述光刻工艺是指包括成膜(例如化学气相淀积成膜，Chemical Vapor Deposition，简称CVD)、曝光、显影等工艺过程且利用光刻胶、掩模板、曝光机等形成图形的工艺。

本公开一些实施例还提供了一种显示基板的制作方法，用于制作如上述一些实施例所述的显示基板。所述显示基板的制作方法，包括：在入光区CC内形成多条第一类信号线1的透光导线11；在显示区AA内非入光区CC的部分形成多条第一类信号线1的金属导线12；其中，同一条第一类信号线1的透光导线11和金属导线12电连接。

上述透光导线11和对应金属导线12的制作材料以及其形成顺序，可以根据实际需求选择设置，本公开一些实施例对此不作限定。

本公开一些实施例提供的显示基板的制作方法所能实现的有益效果，与上述一些实施例提供的显示基板所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。

在一些实施例中，显示基板包括多条第一方向信号线1A、多条第二方向信号线1B和多个像素电极4。所述显示基板的制作方法，还包括：在显示区AA内形成第一透光导电层，并将第一透光导电层图案化，得到多个像素电极4的第一透光电极401，以及多条第一方向信号线1A位于入光区CC内的部分(即其透光导线11A)。

在另一些实施例中，各像素电极4为叠层结构，即各像素电极4分别包括依次层叠设置的第一透光电极401、金属电极402和第二透光电极403。所述显示基板的制作方法还包括：

在显示区AA内形成第一透光导电层，并将第一透光导电层图案化，得到多个像素电极4的第一透光电极401，以及多条第一方向信号线1A位于入光区CC内的部分(即其透光导线11A)。

在显示区AA内形成第二透光导电层，并将第二透光导电层图案化，得到多个像素电极4的第二透光电极403，以及多条第二方向信号线1B位于入光区CC内的部分(即其透光导线11B)。

上述第一方向信号线1A和第二方向信号线1B中的透光导线，与像素电极4中的透光电极采用相同材料，并在一次构图工艺中制作成型，有利于简化显示基板的制作工艺，并降低其生产成本。

为了更清楚的说明上述一些实施例中的显示基板及其制作方法，以下以图6所示的显示基板为例，对其进行详细说明。

请参阅图6，显示基板为OLED基板，像素电极4为对应像素中OLED的阳极。像素电极4与对应的驱动晶体管3电连接，能够在驱动晶体管3的驱动作用下控制对应的有机发光层发光。驱动晶体管3的结构可以根据实际需求选择设置。可选的，驱动晶体管3为顶栅结构的薄膜晶体管。该驱动晶体管3包括沿远离衬底101的方向依次设置的有源层31、栅绝缘层102、栅极32、第一层间绝缘层103和第二层间绝缘层104，第二层间绝缘层104上设有与对应的有源层31分别电连接的源极33和漏极34。驱动晶体管3和对应的像素电极4之间设有钝化层105(也可以为平坦层)，该像素电极4穿过设在钝化层105中的过孔与对应驱动晶体管3的漏极34电连接。像素电极4的背离驱动晶体管3的一侧设有像素界定层106，像素界定层106的开口区设有与像素电极4接触设置的有机发光层及阴极(图中未示出)。

上述显示基板的制作方法如图8所示。

第一步，如图8中的(a)所示，在衬底101上依次形成：图案化的有源层、栅绝缘层102、图案化的栅极、第一层间绝缘层103、第一方向信号线1A中的金属导线12A(和/或第二方向信号线1B中的金属导线12B)、第二层间绝缘层104、图案化的源极和漏极、以及钝化层105。从而形成各驱动晶体管3以及其他可以同时制作的薄膜晶体管等。

有源层一般采用非晶硅、多晶硅或氧化物半导体等材料制作形成。栅绝缘层102、第一层间绝缘层103、第二层间绝缘层104和钝化层105一般采用透光绝缘材料制作形成。

上述栅极、第一方向信号线1A中的金属导线12A(和/或第二方向信号线1B中的金属导线12B)、源极和漏极一般采用金属导电材料制作形成，例如铝(Al)、铜(Cu)、钼(Mo)、钛(Ti)或铝钕合金(AlNd)等电阻值较小的金属材料。其制作工艺可以采用磁控溅射工艺、蒸镀工艺或化学气相沉积工艺等。

第二步，如图8中的(b)所示，在显示区AA内形成第一透光导电层，并将第一透光导电层图案化，得到多个像素电极4的第一透光电极401，以及多条第一方向信号线1A位于入光区CC内的部分(即其透光导线11A)。

多个像素电极4的第一透光电极401穿过钝化层105中的过孔与对应驱动晶体管3中漏极电连接。多条第一方向信号线1A的透光导线11A穿过第二层间绝缘层104中的过孔与对应的金属导线12A电连接。

第三步，如图8中的(c)所示，在显示区AA内形成金属薄膜和第二透光导电层，并将该金属薄膜和第二透光导电层图案化，得到多个像素电极4的金属电极402和第二透光电极403。然后，在多条第一方向信号线1A的透光导线11A的表面上形成第一平坦层107。在第一平坦层107上形成多条第二方向信号线1B的透光导线11B(同时也应使得各第二方向信号线1B的透光导线11B与对应的金属导线12B电连接，该电连接的方式与第二方向信号线1B的结构相关，此处不再详述，具体可参考第一方向信号线1A中对应的电连接方式)。

或者，在显示区AA内形成金属薄膜，并将该金属薄膜图案化，得到多个像素电极4的金属电极402。然后，在多条第一方向信号线1A的透光导线11A的表面上形成第一平坦层107。在显示区AA内形成第二透光导电层，并将该第二透光导电层图案化，得到多个像素电极4的第二透光电极403，以及多条第二方向信号线1B的透光导线11B(同时也应使得各第二方向信号线1B的透光导线11B与对应的金属导线12B电连接，该电连接的方式与第二方向信号线1B的结构相关，此处不再详述，具体可参考第一方向信号线1A中对应的电连接方式)。

上述第一平坦层107需要采用单独的构图工艺制作成型，其厚度可以根据入光区CC对光透过率的需求适当减薄。

第四步，如图8中的(d)所示，在各像素电极4的第二透光导电层403的表面上形成像素界定层106，以及在各第二方向信号线1B的透光导线11B的表面上形成第二平坦层108。

此处，像素界定层106和第二平坦层108的制作材料相同或不同，均可。其可以根据第二方向信号线1B的透光导线11B以及像素电极4的第二透光导电层403二者的形成顺序选择确定。

本公开一些实施例还提供了一种显示面板。所述显示面板包括上述一些实施例所述的显示基板。本公开一些实施例提供的显示面板所能实现的有益效果，与上述一些实施例提供的显示基板所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。

本公开一些实施例还提供了一种显示装置。所述显示装置包括上述一些实施例所述的显示面板，以及位于显示面板的非显示侧、且与其入光区相对设置的光学部件。

此处，显示面板的“非显示侧”是指显示面板的显示面的背面所在一侧，显示面板的显示面为可供用户观看显示图像的表面。入光区CC与光学部件相对，入光区CC允许透过的环境光信号为光学部件对应需要采集的光信号。此处，光学部件包括前置摄像头或红外传感器等。

在一些示例中，所述显示装置为手机、平板电脑、笔记本电脑、显示器、电视机、数码相框或导航仪等具有显示功能的产品或部件。

本公开一些实施例提供的显示装置所能实现的有益效果，与上述一些实施例提供的显示基板所能达到的有益效果相同，在此不做赘述。

在上述实施方式的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述，仅为本公开的具体实施方式，但本公开的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本公开揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本公开的保护范围内。因此，本公开的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (8)

1.一种显示基板，其特征在于，具有显示区；所述显示区包括入光区，所述入光区允许环境光信号透过，且配置为与光学部件相对，以使得所述环境光信号入射至所述光学部件；

所述显示基板包括：位于所述显示区内的多条第一类信号线，所述第一类信号线位于所述入光区内的部分透光。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第一类信号线包括位于所述入光区内的透光导线，以及位于所述显示区内且位于所述入光区外的金属导线；

同一条所述第一类信号线中的所述透光导线和所述金属导线电连接。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括位于所述显示区内的多条第二类信号线，所述第二类信号线为金属导线；

所述第一类信号线的电阻和与其平行且走线长度相等的所述第二类信号线的电阻相等或大略相等。

4.根据权利要求1～3任一项所述的显示基板，其特征在于，所述多条第一类信号线包括：平行设置的多条第一方向信号线，以及平行设置的多条第二方向信号线；其中，

所述多条第一方向信号线的延伸方向和所述多条第二方向信号线的延伸方向相交，且所述多条第一方向信号线和所述多条第二方向信号线绝缘。

5.根据权利要求4所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括位于所述显示区内的多个像素电极，所述像素电极包括第一透光电极；

所述第一方向信号线位于所述入光区内的部分与所述第一透光电极同层设置。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述像素电极还包括层叠设置于所述第一透光电极上的金属电极和第二透光电极；

所述第二方向信号线位于所述入光区内的部分与所述第二透光电极同层设置。

7.一种显示面板，其特征在于，包括：如权利要求1-6任一项所述的显示基板。

8.一种显示装置，其特征在于，包括：

如权利要求7所述的显示面板；以及，

位于所述显示面板的非显示侧、且与所述入光区相对设置的光学部件。

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