JP3131019B2

JP3131019B2 - 光学部品の製造法

Info

Publication number: JP3131019B2
Application number: JP04114165A
Authority: JP
Inventors: 茂樹中務
Original assignee: Kuraray Co Ltd
Current assignee: Kuraray Co Ltd
Priority date: 1992-04-06
Filing date: 1992-04-06
Publication date: 2001-01-31
Anticipated expiration: 2016-01-31
Also published as: JPH05288904A

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、液晶パネルや固体撮
像素子の開口率向上に使用されるマイクロレンズアレイ
のようなレンズ、またはこのレンズを備えた発光素子ア
レイ、受光素子アレイなどからなる光学部品の製造法に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＣＣＤエリアセンサーやＣＣＤラ
インセンサーなどのような画像入力用受光素子アレイに
おいては、高精細化が促進され、それにともなって画素
寸法が小さくなるにしたがって、画素ごとの実効受光面
積が小さくなり、感度の低下を招いている。この感度を
向上させるために、画素中の受光エリアに選択的に入射
光を集光させるマイクロレンズなどのような光学部品を
各画素上に設置する方法が採用されている。

【０００３】また、液晶パネルにおいても、高精細化が
進んだ結果、光線不透過部である配線の占める面積の増
加に反して、光線透過部の面積の割合（開口率）が低下
し、表示が暗くなるという問題が発生しており、この問
題を解決するためにも、各画素上にマイクロレンズのよ
うな光学部品を設置して、照明光を画素中の受光エリア
に集光させることが提案されている。

【０００４】ところで、従来から知られているマイクロ
レンズのような光学部品の種類としては、表面のレリー
フパターンよりなる凸レンズ形状をしたものやフレネル
レンズ形状をしたものなどがあり、これらは樹脂または
無機材料を用いて形成できることが知られている。ま
た、表面が平坦で樹脂または無機材料中に屈折率分布を
形成したものや、表面形状と屈折率分布とを兼ね備えた
ものも知られている。

【０００５】上記した従来の種々のマイクロレンズのよ
うな光学部品のうち、樹脂で凸レンズ形状を形成するも
のは、フォトリソグラフィー技術によって表面に、例え
ば円柱状のパターンを形成したのち、加熱して流動さ
せ、表面張力によって球面状の光学部品のパターンを形
成する方法が採られており、また、無機材料で凸レンズ
形状を形成するものは、エッチング、研磨等の技術を応
用して球面状の光学部品のパターンを形成する方法が採
られている。

【０００６】また、樹脂や無機材料でフレネルレンズ形
状を形成するものは、フォトレジストを用いて、電子線
あるいはレーザー光を使用して描画して光学部品のパタ
ーンを形成する方法が採られている。

【０００７】さらに、表面が平坦で屈折率分布を形成す
るものは、ガラス基板に対して適当なマスクを施した
上、イオン交換あるいはイオン注入によって形成する方
法や、樹脂中で屈折率の異なるモノマーを分布させてか
ら重合する方法などが採られている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した従来
の光学部品の製造方法のうち、フォトレジスト等で凸レ
ンズパターンを形成したのち、加熱して流動させる方法
は、パターン形状のコントロールが難しいために、再現
性が悪く、特にレンズ間の境目に平坦部分が残りやすく
て、それだけ集光特性が低下するという問題がある。さ
らに、この方法で、曲率半径が大きく焦点距離の長いレ
ンズを形成しようとすれば、パターン面積に比べて僅か
な段差しか形成できないので、表面張力を利用して球面
状のパターンを得ようとしても、レンズの頂点領域に広
い平らな領域が形成されるため、十分な集光特性が得ら
れない問題もある。

【０００９】また、無機材料で凸レンズパターンを形成
する方法は、上記と同様にパターン形状のコントロール
が難しくて、生産性が悪い。さらに、フレネルレンズ形
状を描画する方法も、描画時間が長いために、生産性に
欠ける。さらにまた、ガラス等の無機材料上にマスクを
施して屈折率分布を形成する方法は、イオン交換あるい
はイオン注入に長い時間を要するために、生産性が悪
く、樹脂中に屈折率分布を形成する方法も、条件コント
ロールが難しくて再現性が悪いという問題があった。

【００１０】この発明は上記実情に鑑みてなされたもの
で、レンズ形状を精密にコントロールして集光特性に優
れたレンズパターンを生産性よく、かつ再現性よく形成
することができる光学部品の製造法を提供することを目
的としている。

【００１１】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明に係る光学部品の製造法は、多数の小レン
ズが所定ピッチで配置されたレンズ群からなる光学部品
を製造する方法において、感光性樹脂膜上にフォトマス
クを介して光学部品のパターンを露光する際に、小レン
ズに対応する部分の配置ピッチが同一で、その部分の面
積が異なる２種類のフォトマスクを用い、小レンズに対
応する部分の面積が大きい方の第１フォトマスクを用い
た第１の露光をする際には解像度良く露光し、小レンズ
に対応する部分の面積が小さい方の第２フォトマスクを
用いた第２の露光をする際には解像度悪く露光し、上記
第１，第２の順序または第２，第１の順序で２回の露光
を行うものである。

【００１２】ここで、解像度良く露光するとは、感光性
樹脂膜上でのフォトマスクの開口部に相当する位置での
光線強度に対し、フォトマスクの遮光部に相当する位置
での光線強度が十分低下していることをいい、例えば、
その強度比が０．１未満であるのが好ましい。また、解
像度悪く露光するとは、上記開口部に相当する位置での
光線強度に対し、フォトマスクの遮光部に相当する位置
での光線強度が比較的高いことをいい、例えば、その光
線強度の比が０．１以上であるのが好ましい。

【００１３】上記の方法において、第２の解像度悪く露
光する方法としては、第１の露光の時よりもフォトマス
クと感光性樹脂膜との距離を大きくすること、フォトマ
スクと光源との間に光拡散板を設置すること、または、
投影式の露光装置を用いて、フォーカスの位置を感光性
樹脂膜からずらせて露光することのいずれを採用しても
よい。

【００１４】

【作用】この発明に係る光学部品の製造法によれば、感
光性樹脂膜上にフォトマスクを介して光学部品のレンズ
パターンを露光する際に、小レンズに対応する部分の面
積が異なる２種類のフォトマスクを用いて、解像度が異
なる２回の露光を行なうことにより、パターン形状をい
びつにすることなく、精密にコントロールして、集光効
率のよいレンズパターンを生産性よく形成することがで
きる。

【００１５】１回目の露光の時よりもフォトマスクと感
光性樹脂膜との距離を大きくすると、光の回折現象によ
り、感光性樹脂膜上でのフォトマスクの開口部と遮光部
に相当する部分間の上記光線強度の比が小さくなる、つ
まりパターン像がぼやけるので、解像度が低下する。ま
た、フォトマスクと光源との間に光拡散板を設置する
と、光の平行度が低下して、やはり解像度が低下する。
さらに、投影式の露光装置を用いて、フォーカスの位置
を感光性樹脂膜からずらせて露光することによっても、
解像度が低下する。

【００１６】

【実施例】以下、この発明の実施例を図面にもとづいて
説明する。実施例１図１は、この発明による光学部品の一例となるマイクロ
レンズアレイ（光学部品）の設置された液晶パネルの製
造法を示す断面図、図２（ａ）はそれを製造するときに
使用する第１フォトマスクの平面図、図２（ｂ）は第２
フォトマスクの平面図、図３および図４はそれらフォト
マスクを用いて露光するときの様子を示す図である。

【００１７】本実施例で使用する第１フォトマスク１５
Ａおよび第２フォトマスク１５Ｂの仕様はそれぞれ図２
（ａ），（ｂ）に示す通りである。これら２種類のフォ
トマスク１５Ａおよび１５Ｂは、小レンズ４ａ（図１）
に対応する小レンズパターンを有しており、このパター
ンの配置ピッチは同一で、液晶パネルの画素ピッチに対
応しており、縦方向ピッチｐｖが２００μｍ、横方向ピ
ッチｐｈが１５０μｍであり、これら配置ピッチｐｖ，
ｐｈで平面格子状に小レンズ４ａに対応する部分が遮光
部として形成される。上記２種類のフォトマスク１５
Ａ，１５Ｂは、その小レンズに対応する部分の面積が異
なるものであり、第１フォトマスク１５Ａでは、長辺
（Ｌ１）１８０μｍ、短辺（Ｓ１）１３５μｍの長方形
の遮光部１３ａが形成され、各遮光部１３ａ間に開口部
（透明部）１４ａが形成されている。また、第２フォト
マスク１５Ｂでは、長辺（Ｌ２）が８０μｍ、短辺（Ｓ
２）６０μｍの長方形の遮光部１３ｂが形成され、それ
らの各遮光部１３ｂ間に開口部１４ｂが形成されてい
る。

【００１８】そして、図３に示すように、ガラス基板１
８上に、感光性樹脂膜として厚さ１５μｍの市販のポジ
型フォトレジスト１９を形成し、そのフォトレジスト１
９の上に、上記した第１フォトマスク１５Ａをマスクア
ライナーを介して設置して、１回目（第１）の露光を行
なう。この１回目の露光時における第１フォトマスク１
５Ａとフォトレジスト１９の表面との距離（プリントギ
ャップ）ｇは１０μｍに、また露光量は５０ｍＪ／ｃｍ
²に設定して解像度良く露光する。この１回目の露光に
より、図５（ａ）に示すように、短辺方向の断面形状に
おいて、第１フォトマスク１５Ａの開口部１４ａに対応
する部分１６ａが露光され、遮光部１３ａに対応する部
分が平らな未露光部１７ａとして残る。

【００１９】引き続いて、上記１回目の露光が終了した
フォトレジスト１９の上に、図４のように、第２フォト
マスク１５Ｂをマスクアライナーを介して設置して、２
回目（第２）の露光を行なう。この２回目の露光時にお
ける第２フォトマスク１５Ｂとフォトレジスト１９の表
面との距離（プリントギャップ）ｇは１０００μｍに広
げるとともに、露光量は２５ｍＪ／ｃｍ²に設定して解
像度悪く露光する。この２回目の露光により、図５
（ｂ）に示すように、短辺方向の断面形状において、第
２フォトマスク１５Ｂの開口部１４ｂに対応する１回目
の露光よりも広い部分１６ｂが露光され、遮光部１３ｂ
に対応する１回目の未露光部１７ａの頂部付近のみが未
露光部１７ｂとして残る。ここで、図５（ａ）は露光後
の状態を示し、図５（ｂ）は露光・現像後の状態を示し
ている。

【００２０】以上のような１回目および２回目の露光後
に、アルカリ水溶液を用いて現像することにより、段差
（ｔ）が１３μｍで、多数の球面状の小レンズ４ａが同
一のピッチで配置されたレンズ群からなるマイクロレン
ズアレイパターン４が形成される。

【００２１】上記のようにして形成されたマイクロレン
ズアレイパターン４を備えた図４のガラス基板１８に紫
外線を全面照射することにより、フォトレジスト１９の
着色を解消する。そして、上記マイクロレンズアレイパ
ターン４付きのガラス基板１８の下側に、図１に示すよ
うに、上側透明絶縁基板５、共通電極６、ブラックマト
リクス７、液晶８、ＴＦＴ９および透明画素電極１０、
下側透明絶縁基板１１、および下側偏光板１２を積層し
て、液晶パネル本体２０を作製し、上記ガラス基板１８
上に、上側偏光板２および照明用光源１をそれぞれ積層
配置することによって、所定の液晶パネル２１を組立製
造する。このように製造された液晶パネル２１において
は、マイクロレンズアレイパターン４の存在により、そ
の裏面から照明光を照射した場合の透明光の明るさが、
マイクロレンズアレイパターンのないものに比べて、
１．５０倍に向上していた。

【００２２】つぎに、上記実施例１による液晶パネル２
１と、それに対する比較例１〜３による液晶パネルとの
明るさの比較結果について、以下説明する。その説明か
ら、上記実施例１に示す液晶パネル２１の表示の明るさ
が向上していることが判るであろう。

【００２３】比較例１実施例１で示した図２の第１フォトマスク１５Ａのみを
用いて、プリントギャップ１０μｍで、かつ５０ｍＪ／
ｃｍ²の露光量に設定して１回だけの露光を行ない、実
施例１と同様に現像する。これによって形成されたマイ
クロレンズアレイパターンは、段差（ｔ）が１４μｍ
で、短辺方向の断面形状は、図６に示すように、小レン
ズ４ａの頂部に平らな部分が形成された形状となり、所
望の球面形状が得られなかった。これを実施例１と同様
に、液晶パネルに組立てて、その裏面から照明光を照射
したときの透過光の明るさを測定したところ、マイクロ
レンズアレイパターンのないものに比べて、１．１５倍
であった。

【００２４】比較例２実施例１で示した図２（ｂ）の第２フォトマスク１５Ｂ
のみを用いて、プリントギャップ１０００μｍで、かつ
７５ｍＪ／ｃｍ²の露光量に設定して１回だけの露光を
行ない、実施例１と同様に現像する。これによって形成
されたマイクロレンズアレイパターンは、段差（ｔ）が
１２μｍで、短辺方向の断面形状は、図７に示すよう
に、小レンズ４ａの隣接間の境目の谷部分が広く形成さ
れた形状となり、これを実施例１と同様に、液晶パネル
に組立てて、その裏面から照明光を照射したときの透過
光の明るさを測定したところ、マイクロレンズアレイパ
ターンのないものに比べて、１．２０倍であった。

【００２５】比較例３実施例１で示した図２（ａ）の第１フォトマスク１５Ａ
を用いて、プリントギャップ１００μｍで、かつ４０ｍ
Ｊ／ｃｍ²の露光量に設定して１回目の露光を行ない、
続いて、実施例１で示した図３の第２フォトマスク１５
Ｂを用いて、上記１回目と同様に、プリントギャップ１
００μｍで、かつ４０ｍＪ／ｃｍ²の露光量に設定して
２回目の露光を行ない、つまり、１回目と同一の解像度
で露光を行ない、実施例１と同様に現像する。これによ
って形成されたマイクロレンズアレイパターンは、段差
（ｔ）が１３μｍで、短辺方向の断面形状は、図８に示
すように、小レンズ４ａ部分が少しいびつに形成された
形状であり、これを実施例１と同様に、液晶パネルに組
立てて、その裏面から照明光を照射したときの透過光の
明るさを測定したところ、マイクロレンズアレイパター
ンのないものに比べて、１．１０倍であった。

【００２６】実施例２本実施例では、上記実施例１と同様に、液晶パネルの開
口率の向上用のマイクロレンズアレイパターンを作製し
た。本実施例で使用した第１フォトマスク２５Ａおよび
第２フォトマスク２５Ｂを、それぞれ図９（ａ），
（ｂ）に示す。これらフォトマスク２５Ａ，２５Ｂは、
上記実施例１で使用した２種のフォトマスク１５Ａおよ
び１５Ｂと寸法仕様が同一で、白黒の反転したもの、つ
まり、小レンズに対応する部分が開口部１４ａおよび１
４ｂとされたフォトマスクを使用したものである。

【００２７】そして、ガラス基板１８上に、メチルメタ
クリレートと２−ブテニルメタクリートの共重合体とｍ
−ベンゾイルベンゾフェノンの混合物よりなる特殊感光
性樹脂膜（特開平３−１５０７０号公報参照）を厚さ５
０μｍに形成する。この樹脂膜の上に上記第１フォトマ
スク２５Ａをマスクアライナーを介して設置して、１回
目の露光を行なう。この１回目の露光時における第１フ
ォトマスク２５Ａと樹脂膜の表面との距離（プリントギ
ャップ）ｇは１０μｍに、また露光量は１００００ｍＪ
／ｃｍ²に設定して解像度良く露光する。

【００２８】引き続いて、上記１回目の露光が終了した
樹脂膜の上に上記第２フォトマスク２５Ｂをマスクアラ
イナーを介して設置して、２回目の露光を行なう。この
２回目の露光時における第２フォトマスク２５Ｂと樹脂
膜の表面との距離（プリントギャップ）ｇは１００μｍ
に設定するとともに、第２フォトマスク２５Ｂと光源と
の間に石英製のすりガラス（図示せず）を設置して、５
０００ｍＪ／ｃｍ²の露光量で解像度悪く露光する。こ
の２回目の露光後に真空加熱することにより、未反応の
ｍ−ベンゾイルベンゾフェノンを除去する。これによっ
て、図１０に示すように、短辺方向の断面形状におい
て、段差（ｔ）が１２μｍで、多数の小レンズ４ａが同
一のピッチで配置されたレンズ群からなるマイクロレン
ズアレイパターン４が形成された。

【００２９】上記のように形成されたマイクロレンズア
レイパターン４を、上記実施例１と同様に、液晶パネル
の光入射面側に配置して、図１に示すような液晶パネル
２１を組立製造する。この液晶パネル２１に、その裏面
から照明光を照射した場合の透明光の明るさは、マイク
ロレンズアレイパターンのないものに比べて、１．５５
倍に向上していた。

【００３０】実施例３図１１は、この発明の他の実施例による製造法によって
得られるマイクロレンズアレイ付きのＣＣＤエリアセン
サーの断面図、図１２および図１３はそれを製造する際
の第１および第２フォトマスクによる露光の様子を示す
図である。

【００３１】本実施例で使用する第１フォトマスク１５
Ａおよび第２フォトマスク１５Ｂは、図２に示したもの
であり、その仕様はそれぞれ次の通りである。これらフ
ォトマスク１５Ａおよび１５Ｂは、小レンズ４ａ（図１
１）に対応する小レンズパターンの配置ピッチが同一
で、ＣＣＤの画素ピッチに対応しており、縦方向ピッチ
ｐｖが１５μｍ、横方向ピッチｐｈが１２μｍであり、
この配置ピッチｐｖ，ｐｈで平面格子状に小レンズ４ａ
に対応する部分が遮光部として形成される。上記２種類
のフォトマスク１５Ａ，１５Ｂは、小レンズ４ａに対応
する部分の面積が異なるものであり、第１フォトマスク
１５Ａでは、長辺１３μｍ、短辺１０μｍの長方形の遮
光部１３ａが形成され、それらの各遮光部１３ａ間に開
口部１４ａが形成されており、また、第２フォトマスク
１５Ｂでは、長辺６μｍ、短辺４μｍの長方形の遮光部
１３ｂが形成され、それらの各遮光部１３ｂ間に開口部
１４ｂが形成されている。

【００３２】そして、図１２のガラス基板１８上に感光
性樹脂膜として厚さ５μｍの市販のポジ型フォトレジス
ト１９を形成し、そのフォトレジスト１９に対向させて
上記第１フォトマスク１５Ａを配置して、図１２に示す
ように、台形ミラー２３、凹面鏡２４および凸面鏡２５
などからなるミラープロジェクション露光装置２６（投
影式の露光装置）を使用して１回目の露光を行なう。こ
の時のフォーカスｆは、フォトレジスト面に合わせ、２
０ｍＪ／ｃｍ²の露光量に設定することで、解像度良い
露光を行なった。

【００３３】引き続いて、図１３に示すように、上記第
２フォトマスク１５Ｂを配置するとともに、上記ミラー
プロジェクション露光装置２６のフォーカスｆをフォト
レジスト面から１０μｍずらし、１０ｍＪ／ｃｍ²の露
光量で２回目の解像度悪い露光を行なった。

【００３４】以上のような１回目および２回目の露光後
に、アルカリ水溶液を用いて現像することによって、図
１４に示すように、段差（ｔ）が４μｍで、多数の球面
状の小レンズ４ａが同一のピッチで配置されたレンズ群
からなるマイクロレンズアレイパターン４が形成され
た。

【００３５】こうして形成されたマイクロレンズアレイ
パターン４に紫外線を全面照射することにより、フォト
レジスト１９の着色を解消する。そして、上記マイクロ
レンズアレイパターン４を、図１１に示すように、シリ
コンウエハーなどの基板２７上に、各小レンズ４ａとＣ
ＣＤエリアセンサー２８の各画素受光部２９および非受
光部３０との位置合わせを行なって組立ることにより、
マイクロレンズアレイパターン４付きのＣＣＤエリアセ
ンサー２８を製造する。こうして得られたＣＣＤエリア
センサー２８は、マイクロレンズアレイパターン４の存
在により、それのないものと比べて１．５０倍の感度の
向上が図れた。

【００３６】なお、２回目の露光において解像度悪く露
光する方法として、図１５に示すように、フォトマスク
１５Ａ，１５Ｂと光源３１との間に、光拡散板３２を設
置してもよい。

【００３７】また、上記各実施例では、市販のポジ型フ
ォトレジストや特殊なネガ型のフォトレジストを使用し
たが、光パターンの形成が可能であれば、その使用材料
は特に限定されない。また、第１フォトマスク、第２フ
ォトマスクともに長方形の開口部または遮光部を組合せ
たパターンで説明したが、それらパターンの形状は長方
形に制限されるものでなく、例えば楕円形、６角形、８
角形など用途、画素配置等を考慮に入れて適当な形状に
設定すればよく、第１フォトマスクと第２フォトマスク
でパターンの形状を異にしてもよい。

【００３８】また、上記実施例３においては、投影式の
露光装置として、ミラープロジェクション露光装置を使
用したが、ステッパ等の他の投影式の露光装置を用いて
もよい。また、実施例３では、ＣＣＤエリアセンサーの
製造法について説明したが、ラインセンサーの製造に適
用してもよい。

【００３９】また、上記実施例１および２においては、
マイクロレンズアレイパターンを形成したガラス基板を
液晶パネル上に押し付けたが、液晶パネル上に直接にマ
イクロレンズアレイパターンを形成してもよく、また、
透明電極とブラックマトリクスのみを形成したガラス基
板上にマイクロレンズアレイパターンを形成したのち、
液晶パネルの組立を行なってもよい。さらに、液晶パネ
ル上の入射側に設置された偏光板の上にマイクロレンズ
アレイパターンを形成してもよい。

【００４０】さらに、上記各実施例において、現像処理
によって形成されたマイクロレンズアレイパターンに対
して熱処理を施してレンズ形状を一層滑らかにしてもよ
く、また、上記各実施例では、光パターン形成したマイ
クロレンズアレイをそのまま開口率向上用に使用した
が、マイクロレンズアレイの複製を作製してから、この
複製を使用することも可能である。

【００４１】さらにまた、上記実施例では、液晶パネル
およびＣＣＤエリアセンサーの製造法に適用したもので
説明したが、この発明は、光通信用の発光素子アレイ、
光ファイバーアレイ、受光素子アレイなどの各種の光学
素子に対するマイクロレンズアレイパターンの形成に応
用することが可能である。

【００４２】

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、レン
ズに対応する部分の面積の異なる２種類のフォトマスク
を使用して、解像度が異なる２回の露光を行なうことに
より、レンズ形状をいびつにしたり、平坦部を残したり
するようなことなく、その断面形状を精密にコントロー
ルすることができる。したがって、集光効率のよいレン
ズパターンをもつ光学部品を、再現性よく、また生産性
よく製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明による光学部品の製造法の一例となる
マイクロレンズアレイ付き液晶パネルの製造法を示す断
面図である。

【図２】（ａ）は同製造法において使用する第１フォト
マスク、（ｂ）は第２フォトマスクをそれぞれ示す平面
図である。

【図３】１回目の露光時の様子を示す図である。

【図４】２回目の露光時の様子を示す図である。

【図５】（ａ）は１回目の露光後の要部の状態を示す
図、（ｂ）は２回目の露光・現像後の要部の状態を示す
図である。

【図６】比較例１の露光・現像後の要部の状態を示す図
である。

【図７】比較例２の露光・現像後の要部の状態を示す図
である。

【図８】比較例３の露光・現像後の要部の状態を示す図
である。

【図９】第１および第２フォトマスクの他の例を示す平
面図である。

【図１０】この発明の他の実施例によるマイクロレンズ
アレイ付き液晶パネルの製造プロセスで、２回目の露光
・現像後の要部の状態を示す図である。

【図１１】この発明による光学部品の製造法の他の例と
なるマイクロレンズアレイ付きＣＣＤエリアセンサーの
製造法を示す断面図である。

【図１２】同製造法における１回目の露光時の様子を示
す図である。

【図１３】同製造法における２回目の露光時の様子を示
す図である。

【図１４】同２回目の露光・現像後の要部の状態を示す
図である。

【図１５】この発明のさらに他の実施例による２回目の
露光状態を示す図である。

【符号の説明】

４ａ…小レンズ、４…マイクロレンズアレイパターン
（光学部品）、１５Ａ，２５Ａ…第１フォトマスク、１
５Ｂ，２５Ｂ…第２フォトマスク、１９…フォトレジス
ト（感光性樹脂膜）、２６…ミラープロジェクション露
光装置（投影式の露光装置）、３１…光源、３２…光拡
散板。

Claims

(57)【特許請求の範囲】

【請求項１】多数の小レンズが所定ピッチで配置され
たレンズ群からなる光学部品を製造する方法において、
感光性樹脂膜上にフォトマスクを介して光学部品のパタ
ーンを露光する際に、小レンズに対応する部分の配置ピ
ッチが同一で、その部分の面積が異なる２種類のフォト
マスクを用い、小レンズに対応する部分の面積が大きい
方の第１フォトマスクを用いた第１の露光をする際には
解像度良く露光し、小レンズに対応する部分の面積が小
さい方の第２フォトマスクを用いた第２の露光をする際
には解像度悪く露光し、上記第１，第２の露光のいずれ
か一方を先行させて両方とも行なうことを特徴とする光
学部品の製造法。
【請求項２】請求項１において、第２の露光の際に、
解像度悪く露光する方法として、１回目の露光のときよ
りもフォトマスクと感光性樹脂膜との距離を大きくする
ことを特徴とする光学部品の製造法。
【請求項３】請求項１において、第２の露光の際に、
解像度悪く露光する方法として、フォトマスクと光源と
の間に、光拡散板を設置することを特徴とする光学部品
の製造法。
【請求項４】請求項１において、第２の露光の際に、
解像度悪く露光する方法として、露光装置として投影式
の露光装置を用い、フォーカスの位置を感光性樹脂膜か
らずらして露光することを特徴とする光学部品の製造
法。