JP2001223375A5 - 搬送装置、成膜装置、太陽電池及び太陽電池の作製方法 - Google Patents

搬送装置、成膜装置、太陽電池及び太陽電池の作製方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2001223375A5
JP2001223375A5 JP2000032591A JP2000032591A JP2001223375A5 JP 2001223375 A5 JP2001223375 A5 JP 2001223375A5 JP 2000032591 A JP2000032591 A JP 2000032591A JP 2000032591 A JP2000032591 A JP 2000032591A JP 2001223375 A5 JP2001223375 A5 JP 2001223375A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
solar cell
film forming
flexible substrate
electrodes
manufacturing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2000032591A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2001223375A (ja
JP4841023B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2000032591A priority Critical patent/JP4841023B2/ja
Priority claimed from JP2000032591A external-priority patent/JP4841023B2/ja
Priority to US09/777,280 priority patent/US6827787B2/en
Publication of JP2001223375A publication Critical patent/JP2001223375A/ja
Priority to US10/981,582 priority patent/US6916509B2/en
Priority to US11/157,925 priority patent/US7510901B2/en
Publication of JP2001223375A5 publication Critical patent/JP2001223375A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4841023B2 publication Critical patent/JP4841023B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Description

【特許請求の範囲】
【請求項1】
一方の端から他方の端に、可撓性基板を連続して搬送させる手段を備えた搬送装置であって
前記一方の端と前記他方の端との間に、半径Rの円弧に沿って、中心軸が平行になるように配列した複数の円筒形ローラーを設け、前記可撓性基板を、前記複数の円筒形ローラーのそれぞれの曲面に接して搬送させる機構を設けたことを特徴とする搬送装置。
【請求項2】
請求項1において、
前記複数の円筒形ローラーを配列する円弧の半径Rが0.5〜10mであることを特徴とする搬送装置。
【請求項3】
一方の端から他方の端に、可撓性基板を連続して搬送させる手段を備えた成膜装置にであって、
前記一方の端と前記他方の端との間に、半径Rの円弧に沿って、中心軸が平行になるように配列した複数の円筒形ローラーを設け、前記可撓性基板を、前記複数の円筒形ローラーのそれぞれの曲面に接して搬送させる機構を設けたことを特徴とする成膜装置。
【請求項4】
請求項3において、
複数の円筒形ローラーを配列する円弧の半径Rが0.5〜10mであることを特徴とする成膜装置。
【請求項5】
請求項3または4において、
真空室と、真空室内にガスを導入する手段と、前記ガスを排気する手段と、前記ガスをプラズマ化するためのエネルギー供給手段を設けた事を特徴とする成膜装置。
【請求項6】
請求項3乃至請求項5のいずれか一項に記載の成膜装置は、プラズマCVD装置であることを特徴とする成膜装置。
【請求項7】
対向した2つの電極の一方が複数の円筒形ローラーを有しており、
前記複数の円筒形ローラーの中心軸は、円弧に沿って配列されており、
前記2つの電極の一方は、前記円弧の中心軸と前記2つの電極の他方との間に配置されていることを特徴とする成膜装置。
【請求項8】
対向した2つの電極の一方が複数の円筒形ローラーを有しており、
前記複数の円筒形ローラーの中心軸は、円弧に沿って配列されており、
前記2つの電極の一方が、前記円弧の中心軸と前記2つの電極の他方との間に配置されている成膜用真空室を複数有していることを特徴とする成膜装置。
【請求項9】
請求項7又は請求項8において、
前記2つの電極の一方は、可撓性基板の搬送支持部と兼用されていることを特徴とする成膜装置。
【請求項10】
請求項9において、
可撓性基板の搬送部を有し、
前記可撓性基板の搬送部は、前記搬送支持部と第1及び第2のローラーとを有し、
前記搬送支持部は、前記第1のローラーと前記第2のローラーとの間に配置されており、
前記可撓性基板の搬送は、前記第1のローラーから巻き出され前記第2のローラーで巻き取られることによって行われることを特徴とする成膜装置。
【請求項11】
請求項9において、
可撓性基板の搬送部を有し、
前記可撓性基板の搬送部は、前記搬送支持部と第1及び第2のローラーとを有し、
前記搬送支持部は、前記第1のローラーと前記第2のローラーとの間に配置されており、
前記第1のローラーの中心軸の方向と、前記第2のローラーの中心軸の方向と、前記複数の円筒形ローラーの中心軸の方向と、は平行であることを特徴とする成膜装置。
【請求項12】
請求項10又は請求項11において、
巻き出し用真空室と、巻き取り用真空室と、を有し、
前記第1のローラーは、前記巻き出し用真空室内に配置されており、
前記第2のローラーは、前記巻き取り用真空室内に配置されていることを特徴とする成膜装置。
【請求項13】
請求項8乃至請求項12のいずれか一項において、
前記2つの電極の一方は、接地されており、
前記2つの電極の他方は、電源と接続されていることを特徴とする成膜装置。
【請求項14】
請求項8乃至請求項13のいずれか一項において、
前記2つの電極の一方は、ヒーターと兼用されていることを特徴とする成膜装置。
【請求項15】
請求項8乃至請求項14のいずれか一項において、
成膜用真空室と、前記成膜用真空室内にガスを導入する手段と、前記ガスを排気する手段と、を有し、
前記2つの電極は、前記成膜用真空室内に配置されていることを特徴とする成膜装置。
【請求項16】
請求項8乃至請求項15のいずれか一項に記載の成膜装置、プラズマCVD装置であることを特徴とする成膜装置。
【請求項17】
請求項3乃至請求項16に記載の成膜装置を用いて作製することを特徴とする太陽電池。
【請求項18】
可撓性基板を搬送しながら、前記可撓性基板上に成膜を行う太陽電池の作製方法であって、
前記成膜は、
前記可撓性基板を、2つの電極の一方に設けられた複数の円筒形ローラーのそれぞれの曲面に接触させて搬送しながら行い、
前記複数の円筒形ローラーの中心軸は、円弧に沿って配列されていることを特徴とする太陽電池の作製方法。
【請求項19】
可撓性基板を複数の成膜用真空室内で搬送しながら、前記可撓性基板上に成膜を行う太陽電池の作製方法であって、
前記成膜は、
前記可撓性基板を、2つの電極の一方に設けられた複数の円筒形ローラーのそれぞれの曲面に接触させて搬送しながら行い、
前記複数の円筒形ローラーの中心軸は、円弧に沿って配列されていることを特徴とする太陽電池の作製方法。
【請求項20】
請求項18又は請求項19において、
前記2つの電極の一方と、前記2つの電極の他方と、の間で前記可撓性基板上に成膜が行われることを特徴とする太陽電池の作製方法。
【請求項21】
請求項18乃至請求項20において、
前記可撓性基板の搬送は、前記複数の円筒形ローラーと、第1及び第2のローラーと、によって行われ、
前記第1のローラーは前記可撓性基板を巻き出し、前記第2のローラーは前記可撓性基板を巻き取ること特徴とする太陽電池の作製方法。
【請求項22】
請求項21において、
前記可撓性基板の搬送中は、
前記第1のローラーに、前記第2のローラーと逆回転のトルクをかけていることを特徴とする太陽電池の作製方法。
【請求項23】
請求項18乃至請求項22のいずれか一項において、
前記成膜は、プラズマCVDによって行われることを特徴とする太陽電池の作製方法。
【請求項24】
請求項18乃至請求項23のいずれか一項において、
前記2つの電極の一方は、接地されており、
前記2つの電極の他方は、電源と接続されていることを特徴とする太陽電池の作製方法。
【請求項25】
請求項18乃至請求項24のいずれか一項において、
前記2つの電極の一方は、ヒーターと兼用されていることを特徴とする太陽電池の作製方法。
JP2000032591A 2000-02-10 2000-02-10 成膜装置及び太陽電池の作製方法 Expired - Fee Related JP4841023B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000032591A JP4841023B2 (ja) 2000-02-10 2000-02-10 成膜装置及び太陽電池の作製方法
US09/777,280 US6827787B2 (en) 2000-02-10 2001-02-05 Conveyor device and film formation apparatus for a flexible substrate
US10/981,582 US6916509B2 (en) 2000-02-10 2004-11-05 Conveyor device and film formation apparatus for a flexible substrate
US11/157,925 US7510901B2 (en) 2000-02-10 2005-06-22 Conveyor device and film formation apparatus for a flexible substrate

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000032591A JP4841023B2 (ja) 2000-02-10 2000-02-10 成膜装置及び太陽電池の作製方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2009295597A Division JP5315228B2 (ja) 2009-12-25 2009-12-25 成膜装置及び太陽電池の作製方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2001223375A JP2001223375A (ja) 2001-08-17
JP2001223375A5 true JP2001223375A5 (ja) 2007-03-22
JP4841023B2 JP4841023B2 (ja) 2011-12-21

Family

ID=18557167

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000032591A Expired - Fee Related JP4841023B2 (ja) 2000-02-10 2000-02-10 成膜装置及び太陽電池の作製方法

Country Status (2)

Country Link
US (3) US6827787B2 (ja)
JP (1) JP4841023B2 (ja)

Families Citing this family (28)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4841023B2 (ja) * 2000-02-10 2011-12-21 株式会社半導体エネルギー研究所 成膜装置及び太陽電池の作製方法
JP4009458B2 (ja) * 2001-12-26 2007-11-14 株式会社神戸製鋼所 プラズマcvd成膜装置
KR100455426B1 (ko) * 2002-03-29 2004-11-06 주식회사 엘지이아이 열교환기 연속 표면처리장비의 2열처리구조
US20040020430A1 (en) * 2002-07-26 2004-02-05 Metal Oxide Technologies, Inc. Method and apparatus for forming a thin film on a tape substrate
US20040123949A1 (en) * 2002-10-21 2004-07-01 Matthew Adams Method and apparatus for on-demand stencil chemical etch direct parts marking automation and carrier for chemical etch stencil mesh
JP3886046B2 (ja) * 2002-12-18 2007-02-28 シャープ株式会社 プラズマcvd装置と、それを用いた成膜方法および半導体装置の製造方法
US20050145122A1 (en) * 2003-09-24 2005-07-07 Matthew Adams Use of a UV-curable thermal ribbon in conjunction with a porous substrate to form a durable, on-demand electro-chemical stencil
US20060127581A1 (en) * 2003-12-11 2006-06-15 Aspens Glenn D Method for on-demand direct item marking via a screen printing process
US7666766B2 (en) 2005-09-27 2010-02-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Film formation apparatus, method for forming film, and method for manufacturing photoelectric conversion device
JP5100071B2 (ja) * 2005-09-27 2012-12-19 株式会社半導体エネルギー研究所 成膜装置、成膜方法、及び光電変換装置の作製方法
CN100593863C (zh) * 2005-12-09 2010-03-10 袁建中 太阳能电池的制作工艺
US20100139557A1 (en) * 2006-10-13 2010-06-10 Solopower, Inc. Reactor to form solar cell absorbers in roll-to-roll fashion
US7775343B2 (en) * 2007-03-01 2010-08-17 Key Technology, Inc. Manufacturing device for use with a vibratory conveyor, and method for manufacturing a product
ES2336870B1 (es) * 2007-08-20 2011-02-18 Novogenio, S.L. Sistema y procedimiento para el recubrimiento en vacio y en continuo de un material en forma de banda.
US8771419B2 (en) * 2007-10-05 2014-07-08 Solopower Systems, Inc. Roll to roll evaporation tool for solar absorber precursor formation
WO2009122836A1 (ja) * 2008-03-31 2009-10-08 富士電機システムズ株式会社 薄膜積層体の製造装置および方法
GB2462846B (en) * 2008-08-22 2013-03-13 Tisics Ltd Coated filaments and their manufacture
JPWO2010032530A1 (ja) * 2008-09-18 2012-02-09 富士電機株式会社 薄膜構造体及びその製造方法
JP5262501B2 (ja) * 2008-09-19 2013-08-14 富士電機株式会社 基板処理装置及び基板処理方法
JP5238530B2 (ja) * 2009-01-28 2013-07-17 富士電機株式会社 薄膜製造装置
US20110097494A1 (en) * 2009-10-27 2011-04-28 Kerr Roger S Fluid conveyance system including flexible retaining mechanism
US8704083B2 (en) 2010-02-11 2014-04-22 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Photoelectric conversion device and fabrication method thereof
KR101144068B1 (ko) * 2010-04-20 2012-05-23 주성엔지니어링(주) 박막형 태양전지의 제조 장치 및 제조 방법
JP2012061506A (ja) * 2010-09-17 2012-03-29 Fuji Electric Co Ltd レーザパターニング装置及びレーザパターニング方法
KR101903600B1 (ko) 2011-09-23 2018-10-04 삼성디스플레이 주식회사 기판 이송 유닛, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 이를 이용하는 기판 처리 방법
TWI554756B (zh) 2012-09-06 2016-10-21 財團法人工業技術研究院 張應力檢測裝置及其操作方法
KR101924216B1 (ko) * 2017-02-23 2018-11-30 한국에너지기술연구원 유연 기판 고정 장치 및 이를 이용한 cigs계 박막 태양전지 제조 방법
WO2022182967A1 (en) * 2021-02-26 2022-09-01 Metox Technologies, Inc. Multi-stack susceptor reactor for high-throughput superconductor manufacturing

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4410558A (en) * 1980-05-19 1983-10-18 Energy Conversion Devices, Inc. Continuous amorphous solar cell production system
US4519339A (en) * 1981-03-16 1985-05-28 Sovonics Solar Systems Continuous amorphous solar cell production system
JPS58216475A (ja) 1982-06-09 1983-12-16 Agency Of Ind Science & Technol シリコン太陽電池の製造方法
JPS5934668A (ja) 1982-08-21 1984-02-25 Agency Of Ind Science & Technol 薄膜太陽電池の製造方法
JPH0658885B2 (ja) * 1986-05-02 1994-08-03 帝人株式会社 アモルフアスシリコン膜の製造装置
JPS6314423A (ja) * 1986-07-07 1988-01-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体薄膜の製造装置
JPH02282477A (ja) * 1989-04-22 1990-11-20 Nok Corp 真空蒸着方法およびその装置
JP2587507B2 (ja) * 1989-12-13 1997-03-05 松下電器産業株式会社 薄膜製造装置
ATE125392T1 (de) * 1990-05-10 1995-08-15 Eastman Kodak Co Gerät zur plasmabehandlung eines durchgehenden materials.
JP2975151B2 (ja) * 1991-03-28 1999-11-10 キヤノン株式会社 半導体素子の連続的製造装置
US5224441A (en) * 1991-09-27 1993-07-06 The Boc Group, Inc. Apparatus for rapid plasma treatments and method
IT1261918B (it) * 1993-06-11 1996-06-04 Cetev Cent Tecnolog Vuoto Struttura per deposizione reattiva di metalli in impianti da vuoto continui e relativo processo.
JP3175894B2 (ja) * 1994-03-25 2001-06-11 株式会社半導体エネルギー研究所 プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法
JP3272682B2 (ja) * 1995-01-09 2002-04-08 株式会社半導体エネルギー研究所 太陽電池
JPH08325731A (ja) * 1995-05-25 1996-12-10 Teijin Ltd 真空成膜装置
JP3332700B2 (ja) * 1995-12-22 2002-10-07 キヤノン株式会社 堆積膜形成方法及び堆積膜形成装置
JP3634606B2 (ja) * 1997-12-15 2005-03-30 三洋電機株式会社 回転電極を用いた薄膜形成装置
JP4841023B2 (ja) * 2000-02-10 2011-12-21 株式会社半導体エネルギー研究所 成膜装置及び太陽電池の作製方法
JP2002322558A (ja) * 2001-04-25 2002-11-08 Konica Corp 薄膜形成方法、光学フィルム、偏光板及び画像表示装置
US6849306B2 (en) * 2001-08-23 2005-02-01 Konica Corporation Plasma treatment method at atmospheric pressure

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2001223375A5 (ja) 搬送装置、成膜装置、太陽電池及び太陽電池の作製方法
JP4841023B2 (ja) 成膜装置及び太陽電池の作製方法
JP5048090B2 (ja) 両面塗工装置
JP5182610B2 (ja) 薄膜太陽電池の製造装置
JP2009038276A (ja) 薄膜積層体の製造装置
JP2012251763A (ja) 電極乾燥装置、及び電極乾燥方法
JP2008031505A (ja) 成膜装置および成膜方法
US20100071722A1 (en) Film roll, and cleaning method for film depositing apparatus
JP2009057632A (ja) 薄膜積層体の製造装置
JP4985209B2 (ja) 薄膜太陽電池の製造装置
JP2009038277A (ja) 薄膜積層体の製造装置
KR20150116765A (ko) 투명 가스 배리어 필름의 제조 방법, 투명 가스 배리어 필름의 제조 장치 및 유기 일렉트로루미네센스 디바이스
JP6376685B2 (ja) 薄膜形成装置および薄膜形成方法
US20090217874A1 (en) Film depositing apparatus
JP5018523B2 (ja) 薄膜積層体の製造装置
JP2012219322A (ja) 巻取式成膜装置及び巻取式成膜方法
WO2014080601A1 (ja) プラズマcvd装置
PT1888443E (pt) Controlo de tensão electrostática de bandas
JP5315228B2 (ja) 成膜装置及び太陽電池の作製方法
JP2009179446A (ja) 巻取装置および巻取部材の作製方法
JP2020063467A (ja) 薄膜形成装置
JP6624981B2 (ja) 基材搬送処理装置
JP2020152954A (ja) 成膜装置
WO2021084911A1 (ja) 成膜装置
CN112996949B (zh) 用于将第一层和第二层沉积在基板上的系统和方法