JP2000511113A - 多層ターゲットに盲導通孔を形成するために種々のエネルギー密度のｕｓレーザパルスを使用する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 連続ポンプ送りされ、Ｑ−スイッチされるＮｄ：ＹＡＧレーザ（１０）は金属層（６４、６８）と誘電体層（６６）をもつターゲット（４０）に導通孔（７２、７４）を形成するための紫外線光（６２）を供給するために、しばしば変換される。本発明は金属層を融除するために高パワー密度の第１レーザ出力を使用し、誘電体層を融除するために低パワー密度の第２レーザ出力を使用する。出力パルス（６２）のパラメータは実質上清浄な一連の穿孔又は導通孔形成を容易ならしめるように選択される。これらのパラメータは典型的には、下記の基準の少なくとも２つを含む：即ち最初は導体の融除限界より上で、次いでその限界より下のパワー密度、４００ｎｍより小さい波長、約１００ナノセコンドより短い時間的パルス幅、約１キロヘルツより大きい反復率を含む。２つのパワー密度で紫外線光出力パルスを発生する能力は、金属層によって両面を覆われた誘電体層材料からなるターゲットの如き多層ターゲットに深さ自己制限型の盲導通孔を形成することを容易ならしめる。

Description

【発明の詳細な説明】 多層ターゲットに盲導通孔を形成するために種々のエネルギー密度の ＵＳレーザパルスを使用する方法 関連出願 本願は１９９４年７月１８日出願の米国特許出願第０８／２７６，７９７号の 一部継続出願である。 技術分野 本発明はレーザに関し、詳細には、紫外線光に応答する異なった熱吸収特性を 有する少なくとも２つの層をもつターゲットに深さ自己制限型の盲導通孔を形成 するために種々のパワー密度のレーザ発生紫外線光を使用するための方法と装置 に関するものである。 発明の背景 背景はここでは、航空宇宙、コンピュータ、軍隊、及び電気通信用の電子装置 パッケージング工業の最も好適な成分の１つになりつつある多材料、多層型のデ バイスである多チップモジュール（ＭＣＭｓ）についての例として開示されるに すぎない。ＭＣＭｓは印刷回路板の複雑性を取り替えるか又は減少させ、従って 製造効率と信頼性を高めるものである。しかし、ＭＣＭｓは、より小さい導通孔 とより微細な電路を要求し、種々の新しい材料を使用するため、新しい製造障害 を生じる。導通孔はここでは実施例として論じるに過ぎず、完全な貫通孔又は盲 導通孔と称される不完全な孔の形をとる得るものである。 ＭＣＭｓ及びボールグリッドアレイ、ピングリッドアレイ、回路板、及びハイ ブリッド及び半導体微小回路の如き単一チップをパッケージするための他の多材 料、多層型の電子デバイスは典型的には金属や有機誘電体及び／又は補強材料の 分離した成分層を含む。標準の金属成分層はアルミニウム、銅、金、モリブデン 、ニッケル、パラジウム、プラチナ、銀、チタン、又はタングステン、又はそれ らの組み合わせを含むことができる。これらの層は典型的には約９〜３６μｍ（ 金属の７．８×１０³ｋｇが約９μｍの厚さに等しい場合）の深さ又は厚さをも つ が、それより薄いか又は７２μｍ程の大きさとすることができる。標準の有機誘 電体層はビスマレイミドトリアジン（ＢＴ）、ボール紙、シアン酸エステル、エ ポキシ、フェノール、ポリイミド、又はポリテトラフルオルエチレン（ＰＴＦＥ ）を含み得る。これらの層は典型的には約５０〜４００μｍの深さをもつ。標準 の補強成分“層”は有機誘電体層内にそれを補強するために織り込まれた又は分 散させられた繊維マット又はアラミド繊維の分散粒子、セラミックス、又はガラ スを含むことができる。これらの補強材は典型的には約１〜１０μｍの厚さ又は 直径をもつ。金属、誘電体及び補強材料の数層をもつ積み重ね体は２ｍｍより大 きくなし得る。 伝統的な工具、パンチ及び製造プロセスはより大型の、小密度の成分を機械加 工するようにデザインされる。例えば、周知の機械的プロセスは１２μｍ程の小 さい直径をもつ導通孔を作るのには、不適切であるか又は極端に高価であるの何 れかである。たとえ小型化が主な問題でないときでも、機械的プロセスは未だに 不適切である。例えば、積層物回路板の適用は積層物上での機械的ドリルの摩耗 と破損に悩まされ、それ故、頻繁なかつ高価な工具の研ぎ作業又は交換を必要と する。更に、慣例の化学的又は湿式プロセスはＴｅｆｌｏｎ（登録商標）誘電体 の如き或る種の材料をエッチングするのに使用できない。最後に、イオンエッチ ングは極めて高価であり、かつＭＣＭｓや大部分の他の電子成分を処理するのに は遅過ぎる。 多くの研究はこれらの種類の電子材料を処理するためのレーザ方式の微細機械 加工に向けられてきた。しかし、レーザ型式、作業コスト、及びレーザ、ターゲ ット材料、ビーム波長、パワー及びスポットサイズの如き特定の作業パラメータ は、大幅に変化する。 慣例のエクシマ(excimer)レーザは例えば、約２００〜３５０ｎｍのレーザ出 力波長を発生することができるが、簡単なレンズ素子は小さな焦点を生じること はできないような劣った品質の多モードビーム構造を作る。その結果、エクシマ レーザ出力は多くの場合銅又は他の金属材料から作られる、複雑なかつ高価なビ ーム形状制御装置又はマスクによって仕立てられなければならない。従って、導 通孔穿孔用にエクシマレーザによって実際上達成可能なパワー密度は厳密に制限 される。またこれらのレーザは一般に、２００Ｈｚより小さい反復率に制限され 、それ故、種々の所望の用途に使うための製造工具として配備するのには遅すぎ る。更に、エクシマシステム及びそれらのガスの高コストはそれらの容易な配備 を妨げ、それらを多くの小及び中規模の製造者の手の届かないものとなす。エク シマレーザ処理に使用されるハロゲンガスは共振器の成分と化学的に反応し、そ れによって劣化と周波数置き換えを生じる。更に、ハロゲンガスは環境に対して 危険な、有毒な及び有害な材料である。 劣ったビーム品質、大きいビーム面積及び低パルス率はエクシマレーザに固有 であり、ビーム形状制御マスクは典型的に、エクシマビームを効率良く使用する ために必要とされる。マスク法は１点よりもむしろ大面積の融除を余儀なくさせ る。融除から生じる屑片は大面積にわたって生じるので、その後のレーザパルス は部分的に妨げられるか、又は過熱された屑片が融除プロセスの性質を一層熱的 なプロセスに変える。パワー密度が増すにつれて、増大するターゲット材料量は 材料中のパルス当たりのカットが“飽和深さ”に達するまで、融除されることが できる。飽和深さはエクシマレーザのパワー密度と反復率の両者に実際的制限を 課し、それはターゲットが多層型かどうかにかかわらず、融除率を更に増すため に使用することができる。 他方、慣例のＣＯ₂レーザは典型的には、約１０．６μｍのレーザ出力波長を 生じ、慣例の所望の導通孔処理にとっては大き過ぎるスポットサイズを生じる。 紫外線レーザと比べて、ＣＯ₂及び他のＩＲレーザは、かなり長いパルス幅をも ち、かつ有機材料と金属の吸収性の分散がずっと大きな幅を有する。これらの特 性は光化学的よりはむしろ破壊的に熱的なプロセスをもたらす。 更に、予備写像された(preimaged)接触マスクが常用されているので、レーザ 影響力は銅の破損限界より下に設定されなければならない。これは穿孔できる材 料の種類を制限し、問題のある浄化工程、厳しい層対層の心合わせ及び銅エッチ ングをを必要とする。 発明の要約 本発明の目的は、少なくとも１つの導体層と誘電体層をもつターゲットに導通 孔を形成するための紫外線レーザシステムと方法を提供することにある。 本発明の好適実施例は、２つの異なったパワー密度で即ち好適には２つの異な ったパルス強度又はスポットサイズで、紫外線光出力パルスを発生させるために 、連続ポンプ送りされかつ、Ｑ−スイッチされるＮｄ：ＹＡＧレーザの出力の周 波数を三倍化又は四倍化する。出力パルスのパラメータは、金属、有機誘電体の 如き広範な種々の材料及び紫外線光に応答する異なった熱吸収特性をもつ補強材 料に、実質上清浄な、同時穿孔又は導通孔を容易に形成するよう選択される。こ れらのパラメータは典型的に少なくとも２つの、好適にはすべての下記の基準を 含む：即ち、ビームスポット面積上で測定して約１００ミリワットより大きい高 い平均パワー、約１００ナノセコンドより短い時間的パルス幅、及び約２００Hz より大きい反復率を含む。 ２つのパワー密度で紫外線光出力パルスを発生できることは多層ターゲットに おける深さ自己制限型盲導通孔の形成を容易にする。例えば、盲導通孔は金属層 によって両面を覆われる誘電体材料層からなるターゲットに形成することができ る。盲導通孔形成プロセスは先ず、金属層を通して機械加工するために金属融除 限界より上のパワー密度でビームパルスを使用し、次いで、誘電体材料を通して 機械加工するために金属融除限界より下であるが誘電体融除限界より上にあるパ ワー密度でビームパルスを使用することを含む。導通孔形成はビームが誘電体材 料を通して切断した後に停止するするので、この機械加工プロセスは深さ自己制 限型盲導通孔を作る。その理由は、ビームパルスパワー密度は、たとえビームパ ルスがターゲットを打ち続けても、残余の金属層を蒸発させるために誘電体材料 を越えて深さ方向に進むのには不十分であるからである。 盲導通孔形成における深さ自己制限の可能性は有利である。というのは、多層 ターゲットは、歪んだ、不均一な層厚さ、又は取り付け具の不均一な平坦性によ ってもたらされる予言し得ない、矛盾するターゲット深さを与えることがあり得 るからである。更に、紫外線光レーザの±0.25ミリメートル焦点長さ公差は不均 一厚さのターゲットの機械加工を容易ならしめる。 第１の好適実施例では、高強度の第１レーザ出力は金属層を融除するために、 使用され、低強度と等しいスポットサイズの第２レーザ出力は下にある誘電体層 を融除するために使用される。この強度変化はNd：YAGレーザでは、例えば、低 強度のパルスを作るためにレーザ反復率を増すことによって簡単に行われる。第 ２の好適実施例では、高強度の第１レーザ出力は金属層を融除するために使用さ れ、等しい強度とより大きいスポットサイズの第２レーザ出力は下にある誘電体 層を融除するために使用される。両実施例では、第１レーザ出力のエネルギー密 度は第２レーザ出力のエネルギー密度より大きくなる。第３実施例では、第１と 第２レーザ出力の強度とスポットサイズの両者が変えられる。 本発明の利点は、発生したレーザシステム出力パルスとそれらを使用する方法 がパルス当たりのパワー密度融除率について飽和限界を除去することにある。こ のことにより、エクシマレーザによって作られ同様の輪郭パルスを用いて可能な ものよりもずっと高い本発明のパルス率及びパルス当たり融除率を完全に使用す ることが可能になる。このことは、ターゲットが単層材料であるか多層材料であ るかに拘わりなく真実である。 本発明の追加的目的、利点は以下の図示の実施例に基づく詳細な説明から明ら かになるだろう。図面の簡単な説明 図１は本発明の望ましいレーザパルスを発生するため使用される簡単化したレ ーザシステムの成分を示す斜視図である。 図２は貫通孔及び盲導通孔をもつ多層ターゲットの拡大、断面、側立面である 。 図３A、３Bは貫通と盲導通孔を形成するための切断輪郭を夫々示す。 図４はエクシマレーザと本発明で得られるパルス当たり切断深さの比較関係を 定性的に示すパルス当たり深さ対パワー密度図表である。 図５は金属と誘電体の融除限界を示すパルス当たりエネルギー対反復率図表で ある。 図６は金属を融除するのに十分なエネルギーをもつ第１レーザ出力パルスと、 誘電体を融除するのに十分であるが金属は融除しないエネルギーをもつ第２レー ザ出力パルスの線図を示すパルス当たりエネルギー対スポット直径の図表である 。 図７はターゲットとレーザビーム焦点面間の色々な距離に対応するスポットサ イズの差を定性的に示す図表である。 図８A、８Bは頂部導体層と底部導体層間に位置した誘電体材料層からなるタ ーゲットの深さ自己制限型導通孔を作るために実施される連続する工程を示す部 分断面図である。 図９は本発明で機械加工することができる導通孔の不完全な頂部層の開口を示 す部分断面図である。 図１０は図８A、８Bのターゲットに類似であるが、導体層間に置かれた第２誘 電体層をもつターゲットの部分断面図である。 図１１は図１０のターゲットと同様の、頂部導体層から底部導体層まで直径が 次第に増大する階段状の幅をもつ点に特徴を有する盲導通孔をもつターゲットの 部分断面図である。 図１２〜１９は本発明に使用される355nmレーザシステムにより作られるレー ザパルスのパラメータの例１〜８を夫々示す表である。 図２０〜２２は本発明に使用される266nmレーザシステムにより作られるレー ザパラメータの例９〜１１を夫々示す表である。好適実施例の詳細な説明 図１において、本発明のレーザシステム１０の好適実施例はレーザロッド１４ によって画成される共振器１２を含み、これは光軸２０に沿って後部ミラー１６ と出力ミラー１８間に配置される。ミラー１６は好適には１００％反射性であり 、ミラー１８は光軸２０に沿って伝搬する光に対して部分的に透過性である。レ ーザロッド１４は好適には、Ｎｄ：ＹＡＧ、Ｎｄ：ＹＬＦ、Ｎｄ：ＹＡＰ、又は Ｎｄ：ＹＶＯ₄、又はホルミウム(holmium)又はエルビウム(erbium)でドーピング されたＹＡＧ結晶の如き固体状レーザ材料を含む。レーザロッド１４は当業者に は周知の色々なポンプ送り源によってポンプ送りされるが、クリプトンアークラ ンプ又は適切なダイオードレーザが本発明のレーザシステム１０には好適である 。 Ｑ−スイッチとそれらの使用法、位置決め、及び操作もまた当業者には周知で ある。レーザシステム１０では、Ｑ−スイッチ２４は好適には共振器１２内にレ ーザロッド１４とミラー１６間で光軸２０に沿って位置決めされる。Ｑ−スイッ チはまた、米国特許第５，１９７，０７４号に記載したパルス減衰器として使用 することができる。この特許は参考文献として本願に組み込まれるものとする。 レーザロッド１１の出力は調波発生又は周波数変換の２つの段階を通して好適 な紫外線波長に変換される。第２の調波(harmonic)発生は光軸２０に沿って挿入 されかつレーザロッド１４の出力に調和するよう角度調整された非線形結晶の如 き第１周波数変換器３２によって引き起こされる。当業者は位相調和に慣例的に 用いられる他の技術が多数あることは認めるだろう。第２調波(harmonic)に変換 されるエネルギー量はピーグパワー、モード構成、及び基本波長のビーム発散の 関数となる。特定の非線形結晶を選択するための適切な要素は非線形係数、角度 受入れ、及び損傷限界を含む。 好適なレーザシステム１０では、即ち連続ポンプ送りされるＱ−スイッチされ る、Ｎｄ：ＹＡＧレーザでは、周波数二倍化は図１に示す如く光軸２０に沿って 共振器１２内に配置されたホウ酸バリウム(barium borate)結晶で有効に実施さ れる。当業者は、ホウ酸リチウムの如き、他の多くの周波数変換結晶が使用でき ることは認めるだろう。 二倍化プロセスは好適には、後部ミラー１６とレーザロッド１４間に配置した ブルースター(Brewster)プレート偏波器(polarizer)によって強化される。更に 、出力ミラー１８はレーザロッド１４によって発生する基本波長に対して高反射 性となり（Ｎｄ：ＹＡＧについて１０６４ｎｍ）、それによって調波変換（５３ ２nmへ）効率を８０％ほど増すよう選択される。 第２周波数変換器３４（好適にはホウ酸バリウム）は、ほぼ２５％の変換効率 をもって基本波長の第３調波出力３８（３５５ｎｍ）を発生するために、第１周 波数変換器３２と共振器１２内のミラー１８の間で光軸２０に沿って配置される 。共振器出力３６は１つ又はそれ以上のビーム分割器（図示せず）を用いて２つ の波長（５３２ｎｍと３５５ｎｍ）に分けられる。３５５ｎｍの第３調波出力３ ８もまた、光軸２０に沿って配置された偏波状態切替器４２を用いて５３２ｎｍ 共振器の入力偏波を回転させることによって変えられる。偏波状態切替器４２は 四分の一波長プレート又は米国特許第５，３６１，２６８号に記載されたものの 如き中心処理ユニット（図示せず）の動作制御を受ける可変偏波状態切替器とす ることができる。この特許は本願に参考文献として組み込まれるものとする。 第３の調波出力３８は、一連のビーム指向反射器５２、５４、５６の前でビー ム経路５０に沿って配置されるビーム伸長器レンズ要素４４、４６を含む周知の 色々な光学器具によって操作される。最後に、第３の調波出力３８は処理出力ビ ーム６２としてターゲット４０に適用される前に集束レンズを通過させられる。 可変開口、調節自在のコリメータ、又は他の可変レンズ素子は、処理出力ビーム ６２の空間的スポットサイズを変更するために、集束レンズに加えて代用され、 又は利用される。処理出力ビーム６２の他の好適な波長は２１３ｎｍ（しばしば ５倍化される）と、２６６ｎｍ（しばしば４倍化される）を含む。当業者は認め るだろう。周波数変換器３４と偏波状態切替器４２は、もし周波数４倍化が望ま しいならば、共振器１２の外に配置するのが好適である。 図２は例えばＭＣＭ、コンデンサ、回路板、抵抗器、又はハイブリッド又は半 導体マイクロ回路とすることができる一般的レーザターゲット４０の拡大部分の 断面側面図である。便宜上、ターゲット４０は４層、６４、６６、６８、７０の みをもつものとして示している。 層６４と６８は例えばアルミミウム、銅、金、モリブデン、ニッケル、パラジ ウム、銀、チタン、タングステン、金属窒化物、又はこれらの組み合わせの如き 標準金属を含むことができる。慣例の金属層は厚さが典型的には、９〜３６μｍ の間で変化するが、それより薄くするか又は７２μｍほどの厚さとすることがで きる。層６６は例えば、ベンゾシクロブタン（ＢＣＢ）、ビスマレイミド(bisma leimide)トリアジン(triazine)（ＢＴ）、ボール紙、シアン酸エステル(cyanate esters)、エポキシ、フェノール、ポリイミド、ＰＴＦＥ、色々なポリマーアロ イ、又はそれらの組み合わせの如き標準の有機誘電体材料を含むことができる。 慣例の有機誘電体層６６は厚さがかなり変化するが、典型的には金属層６４、６ ８よりずっと厚い。有機誘電体層６６の１例としての厚さ範囲は約５０〜２００ μｍであるが、それらは１．６ｍｍ程に積み重ねて置かれる。層６６はまた、標 準の補強要素又は“層７０”を含む。層７０は繊維マット、又は例えば有機誘電 体層６６内に織り込まれた又は分散させられたアラミド繊維、セラミックス、又 はガラスの分散粒子とすることができる。慣例の補強層７０は典型的には、有機 誘電体層６６よりずっと薄く、１〜２μｍ程度であり、多分１０μｍまでとされ る。当業者は、補強材料を有機誘電体内に粉末として導入することができること は認めることができるだろう。かかる粉末状補強材料によって形成された“層７ ０”は非接触性でありかつ不均一である。当業者は、層６４、６６、６８もまた 内部的に非接触性、不均一性、非平坦性となし得ることは認めるであろう。 図２に示すターゲット４０はレーザシステム１０によって作られた貫通した導 通孔(via)７２と盲導通孔７４を示す。貫通孔７２はすべての層を綺麗にかつ一 様に突き通し、そしてその頂部７６から底部７８まで無視し得るテーパを示して いる。テーパ角度７９は垂直軸線７７に対して好適には４５°より小さく、更に 好適には３０°より小さく、最も好適には０°である。 盲導通孔７４はすべての層及び／又は材料を突き通さない。図２では、盲導通 孔７４は層６８で止まり、この層を突き通さない。従って、レーザパラメータの 適切な選択により、層６８は、たとえもしそれが層６４と同じ金属要素からなる としても、無影響のままに留まることができる。 導通孔直径は好適には２５乃至３００μｍの範囲にわたるが、レーザシステム １０は約５〜２５μｍ程に小さいか又は１ｍｍよりずっと大きい導通孔７２、７ ４を作ることができる。出力ビーム６２の好適なスポットサイズは約２５〜７５ μｍ直径であり、２５μｍより大きい導通孔は穿孔、同心円形処理、又は螺旋処 理によって作られる。 図３Ａ、３Ｂは出力ビーム６２のスポットサイズより大きい貫通孔８６と盲導 通孔８８を夫々作るための切断輪郭を示す。図３Ａでは、貫通孔８６はターゲッ ト４０の表面に周囲９２をもつ円形空間領域９０を画成する。出力ビーム６２は 領域９０の面積より小さいスポット面積９４をもつ。貫通孔８６は周囲９２を巡 って重なって隣接した場所にスポット面積９４をもつビーム６２を連続的に位置 決めさせることによって形成される。ビーム６２は好適には、各場所に所定の切 り込み深さを作るのに必要な多数のビームパルスを放出するため、システム１０ にとって十分な速度で各位置を連続的に通過させられる。ビーム６２が周囲９２ の回りの経路を完成した後、中心ターゲット材料９６は貫通孔８６を形成すべく 落下する。このプロセスはトレパニングと称される。 図３Ｂにつき、盲導通孔８８は周囲９２をもつ円形領域９０をターゲット４０ の表面に画成する。スポット範囲９４をもつ出力ビーム６２は最初は領域９０の 中心１０２に置かれる。盲導通孔８８は周囲９２に螺旋経路１０４に沿って重な る隣接場所にスポット面積９４をもつ連続的位置決めビーム６２によって形成さ れる。ビーム６２は好適には場所に切り込み深さを形成するために必要な数のビ ームパルスを放出するためにシステム１０にとって十分な速度で各位置を通して 連続的に動かされる。ビーム６２は螺旋経路１０４に沿って進むので、ターゲッ ト材料は、ビームが新しい切断場所に動かされる毎に寸法が大きくなる孔を形成 するために“少しずつ離される(nibbled)”。孔の最終形状はビーム６２が周囲 ９２の円形経路に沿って動くときに得られる。 盲導通孔８８を形成するための代案としてのビーム切断経路は中心１０２でス タートし、ビーム６２のスポット面積９４によって画成される逐次増大する半径 の同心円を切断する。導通孔８８の全直径は導通孔８８を形成する同心円が領域 ９０の中心１０２から大きな距離の箇所で円形経路で進むとき増大する。代案と して、このプロセスは所望の周囲を画成し、中心に向かって縁を処理することに よって開始される。 外向きの螺旋状処理は同心円処理よりわずかに連続的でありかつ迅速である。 当業者は、ターゲット４０又は処理出力ビーム６２の何れがが固定されるか、又 は他の位置に対して動かされることは認めるだろう。好適実施例では、両ターゲ ット４０と処理出力ビーム６２が同時に動かされる。 当業者は非円形の導通孔もまた同様のプロセスによって融除(ablated)される 。かかる導通孔は、例えば正方形、矩形、楕円形、スロット状、又は他の幾何学 的表面形状をもつことができる。幾つかの異なった基板上に作られた色々な深さ と直径をもつ貫通導通孔と盲導通孔の幾つかの例は米国特許第０８／２７６，７ ９７号に開示されている。この文献は参考文献として本願に組み込まれるもので ある。 固体状レーザシステム１０のもたらす利点はエクシマ(excimer)レーザに使用 されるものの如きビーム形制御マスクを使用せずにターゲット４０の表面に出力 ビーム６２を指向させることができることにある。このことは重要である。それ は、パルス飽和当たりの切断深さが、ビームスポット面積が実質上切断されるべ き導通孔によって画成される空間的領域と等しいときにもたらされるからである 。パルス当たりの切断の飽和深さに達するのは、ターゲットを打つビームパルス の パワー密度の増加がターゲット内への切断の深さの認められるほどの増大を生じ ないときである。 劣っているビーム品質と、大きなビーム面積、及び低いパルス速度がエクシマ レーザに固有であるので、ビーム形状制御マスクは典型的にはエクシマビームを 有効に使用する必要がある。マスク法は１点におけるよりはむしろ大きな面積の 融除を強制し、有効なビームスポット面積が切断すべき導通孔の所望の空間的面 積に等しくなる。融除から生じる屑片は部分的にその後のレーザパルスを阻止す る。又は過熱された屑片は融除プロセスの性質をより一層熱的プロセスに変化さ せ、エクシマレーザのパワー密度と保持率の両者に実際的制限を与える飽和深さ を生ぜしめ、その更なる増大は融除率の更なる増大に利用することはできない。 図４はエクシムレーザビームで達成できるパルス当たりの切断深さとレーザシ ステム１０の出力ビームの比較関係を定性的に示すパルス当たり切断深さ対パワ ー密度の図表である。曲線１０６はビーム形状制御マスクを通過してターゲット を打つパルス作用のエクシマレーザビームの特性を示す。曲線１０６は限界パワ ー密度ＰＤ_THを越えるエクシマビームパルスが飽和パワー密度ＰＤ_Sに相当する 値ｔ_sに比例して増すパルス当たりの切断深さを生じることを示す。エクシマビ ームパルスパワー密度の更なる増大は切断深さの認めうるほどの増大を生じない 。曲線１０８はビーム形状の制御マスクの不存在でのシステム１０の出力ビーム ６３の特性を示し、ＰＤ_Sを越えないビームパルスパワー密度の曲線１０６に従 う。例えばＰＤ_Sを越えてパルスパワー密度を増すために、出力ビーム６２は飽 和なしに、パルス当たりの切断深さの比例的増大を続ける。システム１０はそれ 故有効なビームパルスパワー密度に比例するパルス当たり切断深さを得ることが できる。 処理出力ビーム６２のパラメータは、異なった光学的吸収及び紫外線（即ち約 ４００ｎｍより短い波長）に応答する特性を示す色々な金属及び誘電材料ターゲ ットの実質上クリーンな、連続的な穿孔即ち導通孔形成を容易ならしめるよう選 択される。第１に、金属層は金属を融除するのに十分なパワー密度をもつ第１レ ーザ出力で除去される。次いで、誘電層は金属を融除するのに不十分な低いパワ ー密度をもつ第２のレーザ出力で除去され、従って誘電体だけが除去される。２ 段階法は金属底層をもつ盲導通孔を作るのに特に有用である。というのは、第２ レーザ出力はそれを融除しないからである。従って、２段階機械加工法は深さ自 己制限型の盲導通孔を提供する。というのは、たとえ第２レーザパワー出力が誘 電材料が完全に突き通された後に存続しても、第２レーザパワー出力は金属底層 を蒸発させるのに不十分であるからである。当業者は、第１と第２のレーザ出力 は引き続いて隣接することができ、又は一連の第１レーザ出力がターゲット４０ の拡大した表面積に適用され、ついで一連の第２レーザ出力が同じ拡大した表面 積に適用され得ることは認めるだろう。 第１の好適実施例では、第１工程として、高強度の第１レーザ出力が金属層を 融除するために使用され、第２工程として、低い強度でかつ等しいスポット寸法 の第２レーザ出力がその下にある誘電体層を融除するために使用される。図５は レーザシステム１０の反復率を変えることによってＮｄ：ＹＡＧレーザ出力の強 度を変えるための１つの方法を示す。図５は図表を示す。図１４に示す例３で示 される条件で、レーザ出力のパルス当たりのエネルギー（単位エネルギー値にお ける）はパルス反復率（ｋＨｚにおいて）と逆に変化する。第１レーザ出力は金 属融除限界１１２より大きく、第２レーザ出力は金属融除限界１１２より低く、 誘電体融除限界１１４より低い。従って、第２工程は２０ｋＨｚで限界１１２と １１４の間の任意のパワー密度で実施することができる。 第２好適実施例では、高密度の第１レーザ出力は金属層を融除するために使用 され、等しい強度とより大きいスポットサイズの第２レーザ出力はその下にある 誘電体層を融除するために使用される。図６では、パルス当たりのエネルギーと スポット直径間の逆関係（単位エネルギー及び距離値において）を表す図表１２ ０を示す。図６は１のスポット直径と金属を融除するのに十分なエネルギー（金 属融除限界１２４より上の）をもつ第１レーザ出力１２２のパルスの典型的線図 と、３のスポット直径と誘電体材を融除するのには十分であるが、金属は融除し ないエネルギー（誘電体融除限界１２８より上の）をもつ第２レーザ出力１２６ のパルスの典型的線図を示す。 第３実施例では、第２レーザ出力の強度は減らされ、そのスポットサイズは第 １レーザ出力の強度とスポットサイズに比して増されている。図１に関して上述 した如く、可変開口、調節自在のコリメータ又は可変レンズ素子は第１と第２の レーザ出力間の空間的スポットサイズを変更するために使用することができる。 図７はターゲット１５０とレーザビーム集束面１５２間の異なる距離に対応す るスポットサイズの差を定性的に示す。図７においては、スポット面積１５４は 焦点面１５２におけるターゲット１５０の配置に対応するスポット面積を表す。 スポット面積１５６と１５８は、レーザビーム源（図示せず）へ次第に近づくか 、又はビーム源からの距離を次第に増す夫々の位置における、それ故集束面１５ ２からの距離を増した位置におけるターゲット１５０の配置に対応する次第に大 きくなるスポット面積を表す。 これらの一般的実施例内で、第１レーザ出力の好適パラメータはビームスポッ ト面積上で測定した約３００ｍＷより大きい平均パワー密度；スポットサイズ直 径又は約５０μｍより小さいそして好適には約１〜５０μｍの空間的主軸、及び 約２００Ｈｚより大きい、好適には約１ｋＨｚより大きい又は５ｋＨｚにさえな る反復率；好適には約１８０〜３５５ｎｍ間の紫外線波長を含む。処理出力ビー ム６２の好適パラメータは約１００ｎｓより短く、好適には約４０〜９０ｎｓ又 はそれ以下となる時間的パルス幅を用いることによって或る熱的損傷効果を回避 する試みで選択される。また、当業者は、出力ビーム６２のスポット面積は一般 的に円形であるが、極めて僅かだけ楕円形となし得ることは認めるだろう。 図８Ａ、８Ｂは頂部導体層１６４と底部導体層１６６間に置いた誘電体材料の 層１６２からなるターゲット１６０の深さ自己制限型の導通孔を形成するために 実施される連続する工程を示す部分横断面図である。導体層１６４、１６６は典 型的には銅の如き同じ材料から作られる。図８Ａは導体層１６４の融除限界より 上にある第１パワー密度でレーザビームパルスを放出する第１工程を表す。図８ Ｂは導体層１６６の融除限界より低いが誘電体層１６２の融除限界より上にある 第２パワー密度でレーザパルスを放出する第２工程を表す。この２−工程法は深 さ自己制限型の盲導通孔を提供する。というのは、レーザビームパワー密度は導 体層１６６を蒸発させるために誘電体材料を越えて深く進むのには不十分である からである。 図９は本発明で機械加工することができる孔又は導通孔（仮想線で示す）のた めの不完全な頂部層の部分横断面図である。図９に示す状態は典型的には、不完 全に化学的に予備エッチングされた金属頂部層１６４に生じ、この頂部層は誘電 体層を通して最初に機械加工される予定であったターゲットにおいて誘電体層１ ６２を露出させない。図８Ａ、８Ｂに関して記載した方法工程はターゲット内に 導通孔を機械加工するために実施することができる。 図１０はターゲット１６０と同様であるが、導体層１６６と第３導体層１７４ 間に置かれた第２誘電体層１７２をもつターゲット１７０の部分横断面図である 。誘電体層１７２と導体層１６６は誘電体層１６２と導体層１６６のものと同じ 相対比率の融除限界を夫々もつ。従って、導体層１６６と１７４はターゲット１ ７０の中間と底部の各導体層となる。ターゲット１７０に盲導通孔を形成するた めに、層１６６を貫通して機械加工するよう、レーザビームパルスを第１パワー 密度に増すことによって第１工程を繰り返し、次いで、誘電体層１７２を貫通し て機械加工しそして層１７４で止まるよう、レーザビームパルスを第２パルス密 度に減らすことによって第２工程を繰り返す。 図１１は、頂部層１６４から底部層１７４まで直径が減少する深さ方向で階段 状の幅をもつ点に特徴を有する盲導通孔１８０をもつ図１０のターゲット１７０ の部分横断面図である。幅の変化は連続する各層が突き通された後に、レーザタ ーゲット面積を減らすことによって行われる。 図１２〜１９及び図２０〜２２は本発明により盲導通孔を形成するために、３ ５５ｎｍレーザを用いる各例１〜８と、２６６ｎｍレーザを用いる例９〜１１を 示すレーザパルスパラメータの表である。これらのレーザパルスとその結果生じ る導通孔は米国オレゴン州ポートランド在の、Ｅｌｅｃｔｒｏ Ｓｃｉｅｎｔｉ ｆｉｃ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ，Ｉｎｃ．製のＭｏｄｅｌ ５０００レーザシス テムで、Ｍｏｄｅｌ ４５７７ ＵＶレーザ（３５５ｎｍ）又はＭｏｄｅｌ ４ ５７３ ＵＶレーザ（２６６ｎｍ）で作られた。 図１２〜２２では、表見出し中の工程（Step）１と工程２は第１と第２のレー ザ出力１２２と１２６が夫々指向させられる導体層６４と誘電体層６６の深さ又 は厚さ及び材料を一般的に列挙している。コラムの見出しでは、導通孔サイズ（ Via Size）は頂部直径（又は導通孔が円形でない箇所の最長の側面寸法）を表す 。 工程は第１又は第２レーザ出力６２が使用されるかどうかをまた、表見出しのど の材料がターゲット４０であるかを表す。速度(Speed)はレーザ出力がターゲッ ト４０の表面に対して動かされる率(rate)を表す。反復率（Rep Rate）はレーザ システム１０によって作られる毎秒当たりのレーザパルスの数を表す。パワー(P ower)はレーザ出力６２の所定反復率における平均パワーを表す。食い込みサイ ズ(Bite Size)はパルスオーバラップ又はレーザ出力６２の各パルスに曝される 新鮮材料の“食い込み（Bite）”を表す。パスの数（#）は導通孔を作るために 使用されるレーザ出力６２の螺旋又は“トレパン”（trepans）の数を表す。有 効（Eff.）スポット(spot)は材料機械加工差のプログラミング可能な補正である 。螺旋パラメータ（Spiral Params.）は内径(id)、中心から外径までの回転数(r ev)、螺旋の回転間の間隔(pitch)、及びターゲットから集束面（焦点までの距離 (μｍ又はmil)を表す。当業者は、図１２〜２２は本発明の実行に有用な、可能 なパルスと導通孔パラメータの数例を表すに過ぎず、多くの他の変形が可能であ ることは認めるだろう。 また、当業者は、ターゲット４０は導体と誘電体の層６４と６６の多数の組か らなり、第１と第２のレーザ出力１２２と１２６は多数の組の層を通して階段状 、テーパ付き、又は垂直縁付きの導通孔を作るために反復され得ることは認める だろう。 本発明は、発明の範囲を逸脱することなく種々の変形を本発明の上記実施例の 細部になし得ることは当業者には明らかであろう。

【手続補正書】 【提出日】平成１０年１１月１８日（１９９８．１１．１８） 【補正内容】 １．請求の範囲を下記の通りに補正する。 「 請求の範囲 １．第１と第２の導体融除エネルギー限界を夫々もつ少なくとも第１と第２の導 体層と、表面と誘電体融除エネルギー限界をもつ誘電体層を含む多層型ターゲ ットに深さ自己制限型の盲導通孔をレーザ機械加工する方法であって、第１と 第２の導体層が、夫々誘電体層の表面の上と下に位置し、第１と第２の導体融 除エネルギー限界は誘電体融除エネルギー限界を超えてなるレーザ機械加工方 法において、 約２００Ｈｚより大きい第１反復率で非エクシマレーザから、第１レーザ出 力を発生させ、この第１レーザ出力は４００ｎｍより大きい波長をもちかつ第 １空間的スポットサイズ上に第１エネルギー密度をもつ少なくとも１つの第１ レーザパルスを含み、第１エネルギー密度は第１導体融除エネルギー限界より 大きく； ターゲットのスポット面積内で第１導体層を除去するためにターゲットに第 １レーザ出力を印加し； 第２空間的スポットサイズ上で第１エネルギー密度を第２エネルギー密度に 減少させるために非エクシマレーザの第１反復率をこの第１反復率より大きい 第２反復率に変化させ、第２エネルギー密度は第１と第２の導体融除エネルギ ー限界より小さく； 第２反復率で非エクシマレーザから、第２レーザ出力を発生させ、この第２ レーザ出力は４００ｎｍより小さい波長をもちかつ第２エネルギー密度をもつ 少なくとも１つの第２レーザパルスを含み、第２エネルギー密度は誘電体融除 エネルギー限界より大きく； ターゲットのスポット面積内で誘電体層を除去するために、かつ第２エネル ギー密度が第２導体融除エネルギー限界より小さいが故に、第２導体層を実質 上蒸発されない状態のままに残し、それによって深さ自己制限型の盲導通孔を 形成するために第２レーザ出力をターゲットに印加すること、 を含むことを特徴とするレーザ機械加工方法。 ２．誘電体層がベンゾシクロブタン（ＢＣＢ）、ビスマレイミドトリアジン（Ｂ Ｔ）、ボール紙、シアン酸エステル、エポキシ、紙、フェノール、ポリイミド 、ＰＴＦＥ、又はそれらの組み合わせ、及び少なくとも１つの導体を含むこと を特徴とする請求項１に記載の方法。 ３．第１と第２のレーザパルスは約１００ｎｓより短い時間的パルス幅をもち、 第１と第２のレーザ出力は夫々の空間的スポットサイズ上で測定して約１００ ｍＷより大きい平均出力パワーをもつことを特徴とする請求項２に記載の方法 。 ４．第１と第２のレーザパルスは約１００ｎｓより短い時間的パルス幅をもち、 第１と第２のレーザ出力は夫々の空間的スポットサイズ上で測定して約１００ ｍＷより大きい平均出力パワーをもつことを特徴とする請求項１に記載の方法 。 ５．第１と第２のレーザ出力は夫々第１と第２の出力パワーをもち、第１出力パ ワーは第２出力パワーより大きいことを特徴とする請求項１に記載の方法。 ６．第１と第２の空間的スポットサイズは同じであることを特徴とする請求項５ に記載の方法。 ７．第１の空間的スポットサイズは第２の空間的スポットサイズより小さいこと を特徴とする請求項１に記載の方法。 ８．第１と第２のレーザ出力は実質上同じである第１と第２の出力パワーを夫々 もつことを特徴とする請求項７に記載の方法。 ９．第１の時間的スポットサイズはその表面直径を横切る約１００μｍより小さ いことを特徴とする請求項１に記載の方法。 10．第１と第２のレーザ出力はＮｄ：ＹＡＧ、Ｎｄ：ＹＬＦ、Ｎｄ：ＹＡＰ、又 はＮｄ：ＹＶＯ₄によって発生させられることを特徴とする請求項１に記載の 方法。 11．第１空間的スポットサイズはターゲットの空間的領域より小さくかつその中 に横たわるスポット面積を画成し、前記空間的領域は周囲と中心部分をもって なる請求項１に記載の方法において、該方法が更に、スポット面積に対応する ターゲット材料の多数量を除去するために空間的領域と関連する多数位置に第 １と第２のレーザパルスの各々の少なくとも１つを逐次指向させ、前記多数位 置は、前記空間的領域からターゲット材料を除去し、それによってターゲット 材料に盲導通孔を作るために、空間的領域の周囲までの経路に沿って中心部分 から外方へ延在するスポット面積の隣接する一組を画成することを更に含むこ とを特徴とする方法。 12．誘電体層は補強材料を含み、この材料はガラス、アラミド繊維、セラミック ス、又はそれらの組み合わせを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。 13．ターゲットは回路板を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。 14．第１レーザ出力が集束面で集束される請求項１に記載の方法において、該方 法が更に、第１レーザ出力を印加するのに先立ち、集束面に対して第１距離を おいてターゲットを位置決めし、そして 第２レーザ出力を印加するのに先立ち、集束面に対して第１距離とは異なっ た第２距離をおいてターゲットを位置決めし、それによって第１空間的スポッ トサイズに対して第２空間的スポットサイズを変更すること、 を更に含むことを特徴とする方法。 15．第１空間的スポットサイズに対して第２空間的スポットサイズを変更するた めに可変開口、調節自在のコリメータ又は可変レンズ素子を使用することを更 に含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。 16．第１と第２のレーザ出力が第１組のレーザ出力を形成し、第１と第２の導体 層と誘電体層が第１組の層を形成し、ターゲットが第３導体層と第２誘電体層 を含む第２組の層を少なくとも含み、第２組の層は第１組の層の頂上に位置し て、第２誘電体層が第１と第３の誘電体層間に置かれてなる請求項１に記載の 方法において、該方法が更に、第１組のレーザ出力を発生して印加する前に、 第３導体層と第２誘電体層を通して導通孔を形成するために第２組の第１と第 ２のレーザ出力を発生させて印加することを特徴とする方法。 17．導通孔は第１組と第２組の層間で階段状をなすことを特徴とする請求項１６ に記載の方法。 18．第１と第２のレーザ出力は非円形導通孔を作ることを特徴とする請求項１に 記載の方法。 19．第１と第２のレーザ出力は同じ波長を含むことを特徴とする請求項１に記載 の方法。 20．Ｑ−スイッチ、偏波状態切替器、四分の一波長プレート、又はポッケルスセ ル(Pockel's cell)を使用して第１出力パワーに対して第２出力パワーを変化 させることを更に含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。 21．第１と第２のパルスの波長は３５５ｎｍ又は２６６ｎｍを含むことを特徴と する請求項１に記載の方法。 22．第２導体層は第２レーザ出力の波長で吸収し、第２エネルギー密度は第２導 体層の融除エネルギー限界より下に留まることを特徴とする請求項１に記載の 方法。 23．第１反復率は１ｋＨｚより大きいことを特徴とする請求項１に記載の方法。 24．第１と第２のレーザ出力は固体状態のＱ−スイッチされたレーザによって発 生させられることを特徴とする請求項１に記載の方法。 25．第１と第２のレーザ出力は固体状態のＱ−スイッチされたレーザによって発 生させられることを特徴とする請求項８に記載の方法。 26．第１反復率は１ｋＨｚより大きいことを特徴とする請求項２５に記載の方法 。 27．第２空間的スポットサイズは第１空間的スポットサイズより大きいことを特 徴とする請求項２１に記載の方法。 28．請求項１に記載の方法によって作られた盲導通孔。 29．第１と第２の導体融除エネルギー限界を夫々もつ少なくとも第１と第２の導 体層と、表面と誘電体融除エネルギー限界をもつ誘電体層を含む多層型ターゲ ットに深さ自己制限型の盲導通孔をレーザ機械加工する方法であって、第１と 第２の導体層が、夫々誘電体層の表面の上と下に位置し、第１と第２の導体融 除エネルギー限界は誘電体融除エネルギー限界を超えてなるレーザ機械加工方 法において、 第１レーザ出力の空間的スポットサイズを決定するために非エクシマレーザ の集束面に対して第１距離をおいてターゲットを位置決めし、 非エクシマレーザから第１レーザ出力を約２００Ｈｚより大きい第１反復率 で発生させ、この第１レーザ出力は４００ｎｍより小さい波長をもちかつ第１ 空間的スポットサイズ上に第１エネルギー密度をもつ少なくとも１つの第１レ ーザパルスを含み、第１エネルギー密度は第１導体融除エネルギー限界より大 きく； ターゲットのスポット面積内で第１導体層を除去するためにターゲットに第１ レーザ出力を印加し； 第２空間的スポットサイズ上で第１エネルギー密度を第２エネルギー密度に減 少させるために、第１レーザパルスの第１空間的スポットサイズを第２空間的ス ポットサイズに増すために集束面に対して第１距離とは異なった第２距離をおい てターゲットを位置決めし、第２エネルギー密度は第１と第２の導体融除エネル ギー限界より小さく； 非エクシマレーザから、第２レーザ出力を発生させ、この第２レーザ出力は４ ００ｎｍより小さい波長をもちかつ第２エネルギー密度をもつ少なくとも１つの 第２レーザパルスを含み、第２エネルギー密度は誘電体融除エネルギー限界より 大きく； ターゲットのスポット面積内で誘電体層を除去するために、かつ第２エネルギ ー密度が第２導体融除エネルギー限界より小さいが故に、第２導体層を実質上蒸 発されない状態のままに残し、それによって深さ自己制限型の盲導通孔を形成す るために第２レーザ出力をターゲットに印加すること、 を含むことを特徴とするレーザ機械加工方法。」 ２．発明の名称を下記の通りに補正する。 「多層ターゲットに盲導通孔を形成するために種々のエネルギー密度のＵＶレ ーザパルスを使用する方法」 ３．明細書第６頁第８行の「増大」を「減少」に補正する。 ４．同第６頁第１２行乃至第２３行の「クリプトンアークランプ又は適切なダイ オードレーザが本発明のレーザシステム１０には好適である。」を「クリプト ンアークランプは本発明のレーザシステム１０に適しており、またダイオード レーザも適しているであろう。」に補正する。 ５．同第８頁第５行乃至第６行の「波長は２１３ｎｍ（しばしば５倍化される） と、２６６ｎｍ（しばしば４倍化される）を含む。」を「波長は２１３ｎｍ（ 周波数は５倍にされる）と、２６６ｎｍ（周波数は４倍にされる）を含む。」 に補正する。 ６．同第８頁第６行乃至第７行の「当業者は認めるだろう。」を「当業者が認め る如く、」に補正する。 ７．同第１２頁第１７行の「より低い。」を「より上にある。」に補正する。 ８．図５と図６を夫々補正図の通りに補正する。 【図５】 【図６】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｂ２３Ｋ 101:36 (72)発明者 ラーソン ボニー エイ アメリカ合衆国 オレゴン州 97214 ヒ ルスボロ エヌ イー モンゴメリー ス トリート 2163 (72)発明者 ヴァン プインブルック ヨセフ ベルギー国 ベー―8020 オーストカンプ コレンブルムストラート 17

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 1. 第１と第２の導体融除エネルギー限界を夫々もつ少なくとも第１と第２の導 体層と、表面と誘電体融除エネルギー限界をもつ誘電体層を含む多層型ターゲ ットに深さ自己制限型の盲導通孔をレーザ機械加工する方法であって、第１と 第２の導体層が、夫々誘電体層の表面の上と下に位置し、第１と第２の導体融 除エネルギー限界は誘電体融除エネルギー限界を超えてなるレーザ機械加工方 法において、第１空間的スポットサイズ上に第１エネルギー密度をもつ少なく とも１つのレーザパルスを含む第１レーザ出力を発生させ、その際第１エネル ギー密度は第１導体融除エネルギー限界より大きいものとなし； ターゲットの第１スポット面積内で第１導体層を除去するためにターゲット に第１レーザ出力を印加し； 第２螺旋スポットサイズ上に第２エネルギー密度をもつ少なくとも１つのレ ーザパルスを含む第２レーザ出力を発生させ、その際第２エネルギー密度は第 １と第２の導体融除エネルギー限界より小さく、かつ誘電体融除エネルギー限 界より大きく； ターゲットの第２スポット面積内で誘電体層を除去するために、かつ第２エ ネルギー密度が第２導体融除エネルギー限界より小さいが故に、第２導体層を 実質上蒸発されない状態のままに残し、それによって深さ自己制限型の盲導通 孔を形成するために第２レーザ出力を印加すること、 を含むことを特徴とするレーザ機械加工方法。 2. 誘電体層がベンゾシクロブタン（ＢＣＢ）、ビスマレイミドトリアジン（Ｂ Ｔ）、ボール紙、シアン酸エステル、エポキシ、紙、フェノール、ポリイミド 、ＰＴＦＥ、又はそれらの組み合わせを含み、金属層はアルミニウム、銅、金 、モリブデン、ニッケル、パラジウム、銀、チタン、タングステン、又はそれ らの組み合わせを含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。 3. レーザパルスが約１００〜４００ｎｍの範囲内の波長を含むことを特徴とす る請求項１に記載の方法。 4. レーザパルスが約１００ｎｓより短い時間的パルス幅をもち、第１レーザ出 力が螺旋スポットサイズ上で測定した約１００ｍｗより大きい平均出力パワー をもち、レーザパルスが約１ｋＨｚより大きい反復率で発生させられることを 特徴とする請求項３に記載の方法。 5. 第１と第２のレーザ出力は夫々第１と第２の出力パワーをもち、第１出力パ ワーは第２出力パワーより大きいことを特徴とする請求項１に記載の方法。 6. 第１と第２の空間的スポットサイズは同じであることを特徴とする請求項５ に記載の方法。 7. 第１の空間的スポットサイズは第２の空間的スポットサイズより小さいこと を特徴とする請求項１に記載の方法。 8. 第１と第２のレーザ出力は実質上同じである第１と第２の出力パワーを夫々 もつことを特徴とする請求項７に記載の方法。 9. 第１の時間的スポットサイズはその表面直径を横切る約１００μｍより小さ いことを特徴とする請求項３に記載の方法。 10．レーザ出力はＮｄ：ＹＡＧ、Ｎｄ：ＹＬＦ、Ｎｄ：ＹＡＰ、又はＮｄ：ＹＶ Ｏ₄によって発生させられることを特徴とする請求項３に記載の方法。 11．空間的スポットサイズはターゲットの空間的領域より小さくかつその中に横 たわるスポット面積を画成し、前記空間的領域は周囲と中心部分をもってなる 請求項１に記載の方法において、該方法が更に、スポット面積に対応するター ゲット材料の多数量を除去するために空間的領域と関連する多数位置にレーザ パルスを逐次指向させ、前記多数位置は、前記空間的領域からターゲット材料 を除去し、それによってターゲット材料に盲導通孔を作るために、空間的領域 の周囲までの経路に沿って中心部分から外方へ延在するスポット面積の隣接す る一組を画成することを更に含むことを特徴とする方法。 12．誘電体層は補強材料を含み、この材料はガラス、アラミド繊維、セラミック ス、又はそれらの組み合わせを含むことを特徴とする請求項３に記載の方法。 13．ターゲットは回路板を含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。 14．第１レーザ出力を印加するのに先立ち、集束面に対して第１距離をおいてタ ーゲットを位置決めし、そして 第２レーザ出力を印加するのに先立ち、集束面に対して第１距離とは異なっ た第２距離をおいてターゲットを位置決めし、それによって第１と第２のレー ザ出力間の空間的スポットサイズを変更すること、 を更に含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。 15．第１と第２のレーザ出力間の空間的スポットサイズを変更するために可変開 口、調節自在のコリメータ又は可変レンズ素子を使用することを更に含むこと を特徴とする請求項１に記載の方法。 16．導体層と誘電体層が第１組の層を形成し、ターゲットが少なくとも第２導体 層と第２誘電体層を含む第２組の層を含んでなる請求項１に記載の方法におい て、該方法は、第１と第２の導体層と誘電体層を貫通する導通孔を形成するた めに第１と第２のレーザ出力を発生しかつ印加する工程を繰り返すことを更に 含むことを特徴とする方法。 17．導通孔は第１組と第２組の層間で階段状をなすことを特徴とする請求項１６ に記載の方法。 18．レーザ出力は非円形導通孔を作ることを特徴とする請求項１に記載の方法。 19．レーザ出力はＮｄ：ＹＡＧ、Ｎｄ：ＹＬＦ、Ｎｄ：ＹＡＰ、又はＮｄ：ＹＶ Ｏ₄を含む固体状レーザによって発生させられることを特徴とする請求項３に 記載の方法。 20．Ｑ−スイッチ、偏波状態切替器、四分の一波長プレート、又はポッケルスセ ル(Pockel's cell)を用いることによって、又はランプ又はダイオードポンプ 源の出力を変えることによって、第１と第２のレーザ出力間の出力パワーを変 えることを更に含むことを特徴とする請求項５に記載の方法。