JP2000319313A - 供与体−受容体相互作用を有する担持触媒 - Google Patents
供与体−受容体相互作用を有する担持触媒Info
- Publication number
- JP2000319313A JP2000319313A JP2000100908A JP2000100908A JP2000319313A JP 2000319313 A JP2000319313 A JP 2000319313A JP 2000100908 A JP2000100908 A JP 2000100908A JP 2000100908 A JP2000100908 A JP 2000100908A JP 2000319313 A JP2000319313 A JP 2000319313A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- donor
- acceptor
- substituted
- group
- atom
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 41
- 230000003993 interaction Effects 0.000 title claims abstract description 25
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims abstract description 13
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims abstract description 9
- 150000003623 transition metal compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 claims description 14
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 10
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 claims description 4
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 239000004711 α-olefin Substances 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 45
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 abstract description 32
- 150000001450 anions Chemical group 0.000 abstract description 19
- 150000003624 transition metals Chemical group 0.000 abstract description 16
- 239000003574 free electron Substances 0.000 abstract description 6
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 6
- 101000588928 Condylactis gigantea Delta-actitoxin-Cgg1a Proteins 0.000 abstract description 4
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910007928 ZrCl2 Inorganic materials 0.000 abstract 1
- -1 (substituted) methylene Chemical group 0.000 description 96
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 60
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 30
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 21
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 20
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 20
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N endo-cyclopentadiene Natural products C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 17
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 16
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 16
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 15
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 15
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 14
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 13
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 13
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Chemical class C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 125000005234 alkyl aluminium group Chemical group 0.000 description 11
- 125000000058 cyclopentadienyl group Chemical group C1(=CC=CC1)* 0.000 description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 11
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 9
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 9
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 9
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 8
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 8
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 8
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 8
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 8
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910007926 ZrCl Inorganic materials 0.000 description 7
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 7
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 7
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N methyl(oxo)alumane Chemical compound C[Al]=O CPOFMOWDMVWCLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 125000001181 organosilyl group Chemical group [SiH3]* 0.000 description 7
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 7
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 7
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 7
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 6
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 6
- 239000011669 selenium Substances 0.000 description 6
- OJOWICOBYCXEKR-APPZFPTMSA-N (1S,4R)-5-ethylidenebicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound CC=C1C[C@@H]2C[C@@H]1C=C2 OJOWICOBYCXEKR-APPZFPTMSA-N 0.000 description 5
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 5
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 5
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 5
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 description 5
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YYMAMHZKCLJFGV-UHFFFAOYSA-N PBCl Chemical compound PBCl YYMAMHZKCLJFGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 4
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 4
- UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N borane Chemical compound B UORVGPXVDQYIDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 4
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 4
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 4
- 125000003454 indenyl group Chemical group C1(C=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 4
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 4
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N trimethylaluminium Chemical compound C[Al](C)C JLTRXTDYQLMHGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 4
- PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 1,5-Hexadiene Natural products CC=CCC=C PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YPSXFMHXRZAGTG-UHFFFAOYSA-N 4-methoxy-2-[2-(5-methoxy-2-nitrosophenyl)ethyl]-1-nitrosobenzene Chemical compound COC1=CC=C(N=O)C(CCC=2C(=CC=C(OC)C=2)N=O)=C1 YPSXFMHXRZAGTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N Dodecane Natural products CCCCCCCCCCCC SNRUBQQJIBEYMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical compound CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 241001274216 Naso Species 0.000 description 3
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052768 actinide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000001255 actinides Chemical class 0.000 description 3
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 3
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical compound C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 229910052747 lanthanoid Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002602 lanthanoids Chemical class 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 3
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Chemical class C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005062 perfluorophenyl group Chemical group FC1=C(C(=C(C(=C1F)F)F)F)* 0.000 description 3
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N phosphine group Chemical group P XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 3
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N thallium Chemical compound [Tl] BKVIYDNLLOSFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 3
- VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N triethylaluminium Chemical compound CC[Al](CC)CC VOITXYVAKOUIBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RJUCIROUEDJQIB-GQCTYLIASA-N (6e)-octa-1,6-diene Chemical compound C\C=C\CCCC=C RJUCIROUEDJQIB-GQCTYLIASA-N 0.000 description 2
- 125000003837 (C1-C20) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOJUJUVQIVIZAV-UHFFFAOYSA-N 2-amino-4,6-dichloropyrimidine-5-carbaldehyde Chemical group NC1=NC(Cl)=C(C=O)C(Cl)=N1 GOJUJUVQIVIZAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 5-valerolactone Chemical compound O=C1CCCCO1 OZJPLYNZGCXSJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004566 IR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XQJHRCVXRAJIDY-UHFFFAOYSA-N aminophosphine Chemical class PN XQJHRCVXRAJIDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- HYGWNUKOUCZBND-UHFFFAOYSA-N azanide Chemical compound [NH2-] HYGWNUKOUCZBND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910000085 borane Inorganic materials 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 2
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000006704 dehydrohalogenation reaction Methods 0.000 description 2
- KBLZFQBDODEHJH-UHFFFAOYSA-N dibutylalumane Chemical compound C(CCC)[AlH]CCCC KBLZFQBDODEHJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001938 differential scanning calorimetry curve Methods 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 2
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical class C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 238000012685 gas phase polymerization Methods 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 2
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001972 isopentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000000 metal hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 2
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- 229930195734 saturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N tetramethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)C CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009997 thermal pre-treatment Methods 0.000 description 2
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQBBHCOIQXKPHL-UHFFFAOYSA-N tributylalumane Chemical compound CCCC[Al](CCCC)CCCC SQBBHCOIQXKPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ORYGRKHDLWYTKX-UHFFFAOYSA-N trihexylalumane Chemical compound CCCCCC[Al](CCCCCC)CCCCCC ORYGRKHDLWYTKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- CNWZYDSEVLFSMS-UHFFFAOYSA-N tripropylalumane Chemical compound CCC[Al](CCC)CCC CNWZYDSEVLFSMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195735 unsaturated hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 238000012982 x-ray structure analysis Methods 0.000 description 2
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 2
- GGNVFGDIHCZNPQ-UHFFFAOYSA-N $l^{1}-selanylamine Chemical class [Se]N GGNVFGDIHCZNPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N (4e)-hexa-1,4-diene Chemical compound C\C=C\CC=C PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N 0.000 description 1
- 125000004642 (C1-C12) alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004916 (C1-C6) alkylcarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RMSGQZDGSZOJMU-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-2-phenylbenzene Chemical group CCCCC1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 RMSGQZDGSZOJMU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZQXCQTAELHSNAT-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-3-nitro-5-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC(Cl)=CC(C(F)(F)F)=C1 ZQXCQTAELHSNAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YWYRVWBEIODDTJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-9h-fluorene Chemical compound C1C2=CC=CC=C2C2=C1C(C=C)=CC=C2 YWYRVWBEIODDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVHXEHGUEKARKZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylanthracene Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(C=C)=CC=CC3=CC2=C1 UVHXEHGUEKARKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylcyclohexene Chemical compound C=CC1=CCCCC1 SDRZFSPCVYEJTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 1-octene Chemical compound CCCCCCC=C KWKAKUADMBZCLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethenylbenzene Chemical compound ClC=CC1=CC=CC=C1 SBYMUDUGTIKLCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 2-fluoro-5-methylbenzonitrile Chemical compound CC1=CC=C(F)C(C#N)=C1 CMAOLVNGLTWICC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 2-fluoroethenylbenzene Chemical compound FC=CC1=CC=CC=C1 KBKNKFIRGXQLDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005084 2D-nuclear magnetic resonance Methods 0.000 description 1
- WSNKEJIFARPOSQ-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(aminomethyl)-6-(trifluoromethyl)pyridin-2-yl]oxy-N-(1-benzothiophen-2-ylmethyl)benzamide Chemical compound NCC1=CC(=NC(=C1)C(F)(F)F)OC=1C=C(C(=O)NCC2=CC3=C(S2)C=CC=C3)C=CC=1 WSNKEJIFARPOSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 238000004438 BET method Methods 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003860 C1-C20 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- WYUUQRIGTADRJT-UHFFFAOYSA-N C1C=CC=C1[Zr]C1=CC=CC1 Chemical compound C1C=CC=C1[Zr]C1=CC=CC1 WYUUQRIGTADRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCERHCFNWRGHLK-UHFFFAOYSA-N C[Si](C)C Chemical compound C[Si](C)C DCERHCFNWRGHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100026827 Protein associated with UVRAG as autophagy enhancer Human genes 0.000 description 1
- 101710102978 Protein associated with UVRAG as autophagy enhancer Proteins 0.000 description 1
- 238000004639 Schlenk technique Methods 0.000 description 1
- BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N Selenium Chemical compound [Se] BUGBHKTXTAQXES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001345 alkine derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000005037 alkyl phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910001583 allophane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006125 amorphous polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- NDXGGKDTNFVFGA-UHFFFAOYSA-N arsinous amide Chemical class [AsH2]N NDXGGKDTNFVFGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N arsonium Chemical class [AsH4+] VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001502 aryl halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- LNENVNGQOUBOIX-UHFFFAOYSA-N azidosilane Chemical compound [SiH3]N=[N+]=[N-] LNENVNGQOUBOIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000003323 beak Anatomy 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004799 bromophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012662 bulk polymerization Methods 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N carbonic acid Chemical compound OC(O)=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABDBNWQRPYOPDF-UHFFFAOYSA-N carbonofluoridic acid Chemical compound OC(F)=O ABDBNWQRPYOPDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- ZLVVDNKTHWEIOG-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)phosphane Chemical compound CP(C)Cl ZLVVDNKTHWEIOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930002875 chlorophyll Natural products 0.000 description 1
- 235000019804 chlorophyll Nutrition 0.000 description 1
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003426 co-catalyst Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- VHTUUTHYXRLKLY-UHFFFAOYSA-N cyclopenta-1,3-dien-1-yl(trimethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C1=CC=CC1 VHTUUTHYXRLKLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 230000005595 deprotonation Effects 0.000 description 1
- 238000010537 deprotonation reaction Methods 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M diethylaluminium chloride Chemical compound CC[Al](Cl)CC YNLAOSYQHBDIKW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical group [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclohexane Chemical compound C=CC1CCCCC1 LDLDYFCCDKENPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L ethylaluminum(2+);dichloride Chemical compound CC[Al](Cl)Cl UAIZDWNSWGTKFZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 150000002220 fluorenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000001207 fluorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000002223 garnet Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000003919 heteronuclear multiple bond coherence Methods 0.000 description 1
- 150000004678 hydrides Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 238000010348 incorporation Methods 0.000 description 1
- 150000002469 indenes Chemical class 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 229910052622 kaolinite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003951 lactams Chemical class 0.000 description 1
- 150000002596 lactones Chemical class 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 125000000040 m-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C(=C1[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 150000004692 metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N methanediyl Chemical compound [CH2] HZVOZRGWRWCICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N n-butane Chemical compound CCCC IJDNQMDRQITEOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N n-pentane Natural products CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930014626 natural product Natural products 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- HKEBYUNPANBGPL-UHFFFAOYSA-N nona-2,4-diene Chemical compound CCCCC=CC=CC HKEBYUNPANBGPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000002901 organomagnesium compounds Chemical class 0.000 description 1
- HDBWAWNLGGMZRQ-UHFFFAOYSA-N p-Vinylbiphenyl Chemical group C1=CC(C=C)=CC=C1C1=CC=CC=C1 HDBWAWNLGGMZRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052625 palygorskite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 125000002097 pentamethylcyclopentadienyl group Chemical group 0.000 description 1
- YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N pentene Chemical compound CCCC=C YWAKXRMUMFPDSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 235000014786 phosphorus Nutrition 0.000 description 1
- 229910000073 phosphorus hydride Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 1
- MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N propyne Chemical group CC#C MWWATHDPGQKSAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000607 proton-decoupled 31P nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229910052903 pyrophyllite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005956 quaternization reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000007142 ring opening reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003342 selenium Chemical class 0.000 description 1
- 238000001338 self-assembly Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 230000001954 sterilising effect Effects 0.000 description 1
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 239000000375 suspending agent Substances 0.000 description 1
- 238000010557 suspension polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N tetrafluoroethene Chemical group FC(F)=C(F)F BFKJFAAPBSQJPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- RSPCKAHMRANGJZ-UHFFFAOYSA-N thiohydroxylamine Chemical class SN RSPCKAHMRANGJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYWCXWRMUZYRPH-UHFFFAOYSA-N trimethyl(prop-2-enyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)CC=C HYWCXWRMUZYRPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBXQPDCOMJJCMJ-UHFFFAOYSA-M trimethyl-[6-(trimethylazaniumyl)hexyl]azanium;bromide Chemical compound [Br-].C[N+](C)(C)CCCCCC[N+](C)(C)C GBXQPDCOMJJCMJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JQPMDTQDAXRDGS-UHFFFAOYSA-N triphenylalumane Chemical compound C1=CC=CC=C1[Al](C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 JQPMDTQDAXRDGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXSVLWZRHLXFKH-UHFFFAOYSA-N triphenylborane Chemical compound C1=CC=CC=C1B(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MXSVLWZRHLXFKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBAJXDYVZBHCGT-UHFFFAOYSA-N tris(pentafluorophenyl)borane Chemical compound FC1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1B(C=1C(=C(F)C(F)=C(F)C=1F)F)C1=C(F)C(F)=C(F)C(F)=C1F OBAJXDYVZBHCGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002948 undecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052902 vermiculite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010455 vermiculite Substances 0.000 description 1
- 235000019354 vermiculite Nutrition 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical compound [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J zirconium tetrachloride Chemical compound Cl[Zr](Cl)(Cl)Cl DUNKXUFBGCUVQW-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N ε-Caprolactone Chemical compound O=C1CCCCCO1 PAPBSGBWRJIAAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F10/00—Homopolymers and copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16B—DEVICES FOR FASTENING OR SECURING CONSTRUCTIONAL ELEMENTS OR MACHINE PARTS TOGETHER, e.g. NAILS, BOLTS, CIRCLIPS, CLAMPS, CLIPS OR WEDGES; JOINTS OR JOINTING
- F16B37/00—Nuts or like thread-engaging members
- F16B37/14—Cap nuts; Nut caps or bolt caps
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16B—DEVICES FOR FASTENING OR SECURING CONSTRUCTIONAL ELEMENTS OR MACHINE PARTS TOGETHER, e.g. NAILS, BOLTS, CIRCLIPS, CLAMPS, CLIPS OR WEDGES; JOINTS OR JOINTING
- F16B5/00—Joining sheets or plates, e.g. panels, to one another or to strips or bars parallel to them
- F16B5/02—Joining sheets or plates, e.g. panels, to one another or to strips or bars parallel to them by means of fastening members using screw-thread
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16B—DEVICES FOR FASTENING OR SECURING CONSTRUCTIONAL ELEMENTS OR MACHINE PARTS TOGETHER, e.g. NAILS, BOLTS, CIRCLIPS, CLAMPS, CLIPS OR WEDGES; JOINTS OR JOINTING
- F16B5/00—Joining sheets or plates, e.g. panels, to one another or to strips or bars parallel to them
- F16B5/12—Fastening strips or bars to sheets or plates, e.g. rubber strips, decorative strips for motor vehicles, by means of clips
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F10/00—Homopolymers and copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond
- C08F10/02—Ethene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F10/00—Homopolymers and copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond
- C08F10/04—Monomers containing three or four carbon atoms
- C08F10/06—Propene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F110/00—Homopolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond
- C08F110/02—Ethene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F110/00—Homopolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond
- C08F110/04—Monomers containing three or four carbon atoms
- C08F110/06—Propene
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F210/00—Copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond
- C08F210/16—Copolymers of ethene with alpha-alkenes, e.g. EP rubbers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F210/00—Copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond
- C08F210/16—Copolymers of ethene with alpha-alkenes, e.g. EP rubbers
- C08F210/18—Copolymers of ethene with alpha-alkenes, e.g. EP rubbers with non-conjugated dienes, e.g. EPT rubbers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F4/00—Polymerisation catalysts
- C08F4/42—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors
- C08F4/44—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from light metals, zinc, cadmium, mercury, copper, silver, gold, boron, gallium, indium, thallium, rare earths or actinides
- C08F4/60—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from light metals, zinc, cadmium, mercury, copper, silver, gold, boron, gallium, indium, thallium, rare earths or actinides together with refractory metals, iron group metals, platinum group metals, manganese, rhenium technetium or compounds thereof
- C08F4/62—Refractory metals or compounds thereof
- C08F4/64—Titanium, zirconium, hafnium or compounds thereof
- C08F4/659—Component covered by group C08F4/64 containing a transition metal-carbon bond
- C08F4/65912—Component covered by group C08F4/64 containing a transition metal-carbon bond in combination with an organoaluminium compound
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F4/00—Polymerisation catalysts
- C08F4/42—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors
- C08F4/44—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from light metals, zinc, cadmium, mercury, copper, silver, gold, boron, gallium, indium, thallium, rare earths or actinides
- C08F4/60—Metals; Metal hydrides; Metallo-organic compounds; Use thereof as catalyst precursors selected from light metals, zinc, cadmium, mercury, copper, silver, gold, boron, gallium, indium, thallium, rare earths or actinides together with refractory metals, iron group metals, platinum group metals, manganese, rhenium technetium or compounds thereof
- C08F4/62—Refractory metals or compounds thereof
- C08F4/64—Titanium, zirconium, hafnium or compounds thereof
- C08F4/659—Component covered by group C08F4/64 containing a transition metal-carbon bond
- C08F4/65916—Component covered by group C08F4/64 containing a transition metal-carbon bond supported on a carrier, e.g. silica, MgCl2, polymer
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S526/00—Synthetic resins or natural rubbers -- part of the class 520 series
- Y10S526/943—Polymerization with metallocene catalysts
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Transition And Organic Metals Composition Catalysts For Addition Polymerization (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 供与体−受容体相互作用を有する担持触媒を
提供する。 【解決手段】 触媒は、a)少なくとも1種の供与体−
受容体相互作用を有する遷移金属化合物、 b)層状格子構造を有するイオン交換担体材料および c)任意の1またはそれ以上の共触媒 を含有する。
提供する。 【解決手段】 触媒は、a)少なくとも1種の供与体−
受容体相互作用を有する遷移金属化合物、 b)層状格子構造を有するイオン交換担体材料および c)任意の1またはそれ以上の共触媒 を含有する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、遷移金属が2つの
配位子系によって錯体化され、2つの系が、供与体およ
び受容体を有する少なくとも1つの橋によって互いに可
逆的に連結されている化合物に関する。供与体原子およ
び受容体原子の間に形成される配位結合は、供与体基中
に正(部分)電荷および受容体基中に負(部分)電荷を
生む:
配位子系によって錯体化され、2つの系が、供与体およ
び受容体を有する少なくとも1つの橋によって互いに可
逆的に連結されている化合物に関する。供与体原子およ
び受容体原子の間に形成される配位結合は、供与体基中
に正(部分)電荷および受容体基中に負(部分)電荷を
生む:
【化1】 本発明は、重合触媒としての供与体−受容体相互作用を
備えた担持触媒の使用にも関する。
備えた担持触媒の使用にも関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】π錯
体化合物としてのメタロセンおよびオレフィンの重合に
おける触媒としてのメタロセンの使用は、古くから知ら
れている(EP-A-129,368およびそこで引用された文
献)。さらに、共触媒としてのアルキルアルミニウム/
水を組み合わせたメタロセンが、エチレン重合のために
効果的な系を形成する(例えば、メチルアルミノキサン
(MAO)は、トリメチルアルミニウム約1moleと
水1moleから形成される)。他の化学量論的な比も
すでにうまく使用されている(WO94/20506)。また、メタ
ロセンは、シクロペンタジエニル骨格が、橋によって互
いに共有結合されていることが既に知られている。この
分野での多くの特許および特許出願の例としては、EP-A
704,461が挙げられ、ここで記載される結合基は、(置
換)メチレン基もしくはエチレン基、シリレン基、置換
シリレン基、置換ゲルミレン基または置換ホスフィン基
である。また、EP-A 704,461では、橋かけメタロセン
が、オレフィンのための重合触媒として提供されてい
る。
体化合物としてのメタロセンおよびオレフィンの重合に
おける触媒としてのメタロセンの使用は、古くから知ら
れている(EP-A-129,368およびそこで引用された文
献)。さらに、共触媒としてのアルキルアルミニウム/
水を組み合わせたメタロセンが、エチレン重合のために
効果的な系を形成する(例えば、メチルアルミノキサン
(MAO)は、トリメチルアルミニウム約1moleと
水1moleから形成される)。他の化学量論的な比も
すでにうまく使用されている(WO94/20506)。また、メタ
ロセンは、シクロペンタジエニル骨格が、橋によって互
いに共有結合されていることが既に知られている。この
分野での多くの特許および特許出願の例としては、EP-A
704,461が挙げられ、ここで記載される結合基は、(置
換)メチレン基もしくはエチレン基、シリレン基、置換
シリレン基、置換ゲルミレン基または置換ホスフィン基
である。また、EP-A 704,461では、橋かけメタロセン
が、オレフィンのための重合触媒として提供されてい
る。
【0003】供与体−受容体相互作用を有する触媒およ
び重合触媒としての使用が原則的に知られている。例え
ば、WO-A-98/01455は、遷移金属が、2つのπ−系(特
に芳香族π−系(メタロセン))によって錯体化され、
2つの系が供与体および受容体を有する橋によって互い
に可逆的に連結され、供与体および受容体原子が、π−
系に置換基として結合される化合物および重合触媒とし
てのその使用を記載している。
び重合触媒としての使用が原則的に知られている。例え
ば、WO-A-98/01455は、遷移金属が、2つのπ−系(特
に芳香族π−系(メタロセン))によって錯体化され、
2つの系が供与体および受容体を有する橋によって互い
に可逆的に連結され、供与体および受容体原子が、π−
系に置換基として結合される化合物および重合触媒とし
てのその使用を記載している。
【0004】WO-A-98/01745は、遷移金属が、2つのπ
−系(特に芳香族π−系(メタロセン))によって錯体
化され、2つの系が供与体および受容体を有する橋によ
って互いに可逆的に連結され、供与体および受容体原子
の少なくとも1つが、それぞれのπ−系の部分である化
合物ならびに重合触媒としてのその使用を記載してい
る。
−系(特に芳香族π−系(メタロセン))によって錯体
化され、2つの系が供与体および受容体を有する橋によ
って互いに可逆的に連結され、供与体および受容体原子
の少なくとも1つが、それぞれのπ−系の部分である化
合物ならびに重合触媒としてのその使用を記載してい
る。
【0005】先の出願PCT/EP98/08074は、遷移金属が、
π−系によって錯体化され、供与体基−受容体相互作用
を示し、供与体基または受容体基のいずれかが遷移金属
と結合する化合物および重合触媒としてのその使用を記
載している。
π−系によって錯体化され、供与体基−受容体相互作用
を示し、供与体基または受容体基のいずれかが遷移金属
と結合する化合物および重合触媒としてのその使用を記
載している。
【0006】特許出願WO-A-98/01483〜WO-A-98/01487な
らびに先の出願PCT/EP98/08012は、供与体−受容体相互
作用を有する記載の触媒を使用する工業的な重合方法を
記載している。
らびに先の出願PCT/EP98/08012は、供与体−受容体相互
作用を有する記載の触媒を使用する工業的な重合方法を
記載している。
【0007】供与体−受容体相互作用を有する触媒を、
担持された形態で使用されることがこれらの文献から知
られている。しかしながら、当業者には、供与体−受容
体相互作用を有する非常に有用な担持触媒が、特定のク
レーを担体材料として使用した場合に得られることは驚
くべきことであった。
担持された形態で使用されることがこれらの文献から知
られている。しかしながら、当業者には、供与体−受容
体相互作用を有する非常に有用な担持触媒が、特定のク
レーを担体材料として使用した場合に得られることは驚
くべきことであった。
【0008】
【課題を解決するための手段】したがって、本発明は、
a)少なくとも1種の供与体−受容体相互作用を有する
遷移金属化合物、 b)層状格子構造を有するイオン交換担体材料および c)任意の1またはそれ以上の共触媒 を含有する組成物を提供する。
a)少なくとも1種の供与体−受容体相互作用を有する
遷移金属化合物、 b)層状格子構造を有するイオン交換担体材料および c)任意の1またはそれ以上の共触媒 を含有する組成物を提供する。
【0009】成分aとして、出願WO-A-98/01455、WO-A-
98/01745、WO-A-98/01483〜WO-A-98/01487に記載された
供与体−受容体相互作用を有する遷移金属化合物ならび
に先の出願PCT/EP98/08074およびPCT/EP98/08012に記載
された化合物が適している。以下の式に示されるメタロ
セン化合物が特に適している:
98/01745、WO-A-98/01483〜WO-A-98/01487に記載された
供与体−受容体相互作用を有する遷移金属化合物ならび
に先の出願PCT/EP98/08074およびPCT/EP98/08012に記載
された化合物が適している。以下の式に示されるメタロ
セン化合物が特に適している:
【化2】 上記式中、CpIおよびCpIIは、シクロペンタジエ
ニル含有構造を有する2つの同じまたは異なるカルバニ
オンを示し、H原子の1個ないしすべてが、直鎖状また
は分岐状C1−C20アルキル基からなる群からの同じま
たは異なる基によって置き換えられてよく、直鎖状また
は分岐状C1−C20アルキル基は、ハロゲンによって1
つまたは完全に置換されてよく、フェニルによって1〜
3置換されてよく、ビニル、C6−C12アリール、6〜
12個の炭素原子を有するハロゲン化アリール、有機金
属置換基(例えば、シリル、トリメチルシリル、フェロ
セニル)によって置換されてよく、DおよびAによって
1または2置換されてよい。
ニル含有構造を有する2つの同じまたは異なるカルバニ
オンを示し、H原子の1個ないしすべてが、直鎖状また
は分岐状C1−C20アルキル基からなる群からの同じま
たは異なる基によって置き換えられてよく、直鎖状また
は分岐状C1−C20アルキル基は、ハロゲンによって1
つまたは完全に置換されてよく、フェニルによって1〜
3置換されてよく、ビニル、C6−C12アリール、6〜
12個の炭素原子を有するハロゲン化アリール、有機金
属置換基(例えば、シリル、トリメチルシリル、フェロ
セニル)によって置換されてよく、DおよびAによって
1または2置換されてよい。
【0010】Dは、付加的に置換基を有してよく、それ
ぞれの結合状態で、自由に使用できる少なくとも1つの
自由電子対を有する供与体原子を示し、Aは、付加的に
置換基を有してよく、それぞれの結合状態で、電子対空
位を有する受容体原子を示し、DおよびAは、供与体基
が、正(部分)電荷を採り、受容体基が負(部分)電荷
を採るように、可逆的に配位結合によって互いに連結さ
れ、Mは、メンデレーエフの周期律表の亜族III、IV、V
またはVIの遷移金属(ランタニド、アクチニドを含む)
を示し、Xは、アニオン当量を示し、およびnは、Mの
電荷に依存して0、1、2、3または4の数を示す。
ぞれの結合状態で、自由に使用できる少なくとも1つの
自由電子対を有する供与体原子を示し、Aは、付加的に
置換基を有してよく、それぞれの結合状態で、電子対空
位を有する受容体原子を示し、DおよびAは、供与体基
が、正(部分)電荷を採り、受容体基が負(部分)電荷
を採るように、可逆的に配位結合によって互いに連結さ
れ、Mは、メンデレーエフの周期律表の亜族III、IV、V
またはVIの遷移金属(ランタニド、アクチニドを含む)
を示し、Xは、アニオン当量を示し、およびnは、Mの
電荷に依存して0、1、2、3または4の数を示す。
【0011】シクロペンタジエニル骨格を有する第1お
よび第2カルバニオンCpIおよびCpIIは、同じで
あっても異なってもよい。シクロペンタジエニル骨格
は、例えばシクロペンタジエン、置換シクロペンタジエ
ン、インデン、置換インデン、フルオレンおよび置換フ
ルオレンの群からの骨格であってよい。それらは、シク
ロペンタジエン環および/または縮合ベンゼン環につき
1〜4個の置換基を有していてよい。これらの置換基
は、C1−C20アルキル(例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチルまたはイソブチル、ヘキ
シル、オクチル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オ
クタデシル、エイコシル)、C1−C20アルコキシ(例
えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシまたはイソブトキシ、ヘキソキシ、オクチ
ロキシ、デシロキシ、ドデシロキシ、ヘキサデシロキ
シ、オクタデシロキシ、エイコシロキシ)、ハロゲン
(例えば、フッ素、塩素または臭素)、C6−C12アリ
ール(例えばフェニル)、C1−C4アルキルフェニル
(例えば、トリル、エチルフェニル、(イソ)プロピル
フェニル、(イソ〜tert.)−ブチルフェニル、キシリ
ル)、ハロゲン化フェニル(例えば、フルオロフェニ
ル、クロロフェニルまたはブロモフェニル、ナフチルま
たはビニルフェニリル)、トリオルガニル−シリル(例
えば、トリメチルシリル(TMS))、フェロセニルな
らびに上記のDまたはAであってよい。さらに、縮合芳
香環は、単に二重結合が残留するように、部分的または
完全に水素化されてよく、二重結合は、縮合環ならびに
シクロペンタンジエン環の両方が分担してよい。さら
に、ベンゼン環(例えばインデンまたはフルオレン)
は、1または2の縮合した付加的なベンゼン環を有して
よい。また、シクロペンタジエンおよび/またはシクロ
ペンタジエニル環および縮合ベンゼン環は、さらなる縮
合ベンゼン環を共同で有してよい。そのようなシクロペ
ンタジエン骨格は、アニオンの形態で、遷移金属のため
の優れた配位子であり、上記のシクロペンタジエニルカ
ルバニオン(要すれば置換形態)それぞれが、錯体の中
央に位置した金属の正の電荷を補う。個々のカルバニオ
ンの例は、シクロペンタジエニル、メチル−シクロペン
タジエニル、1,2−ジメチル−シクロペンタジエニ
ル,1,3−ジメチル−シクロペンタジエニル、インデ
ニル、フェニルインデニル、1,2−ジエチル−シクロ
ペンタジエニル、テトラメチル−シクロペンタジエニ
ル、エチル−シクロペンタジエニル、n−ブチル−シク
ロペンタジエニル、n−オクチル−シクロペンタジエニ
ル、β−フェニルプロピル−シクロペンタジエニル、テ
トラヒドロインデニル、プロピル−シクロペンタジエニ
ル、t−ブチル−シクロペンタジエニル、ベンジル−シ
クロペンタジエニル、ジフェニルメチル−シクロペンタ
ジエニル、トリメチルゲルミル−シクロペンタジエニ
ル、トリメチルスタンニル−シクロペンタジニエル、ト
リフルオロメチル−シクロペンタジエニル、トリメチル
シリルシクロペンタジエニル、ペンタメチル−シクロペ
ンタジエニル、フルオレニル、テトラヒドロ−フルオレ
ニルまたはオクタヒドロ−フルオレニル、6員環上のベ
ンゾオルト位で縮合したフルオレニルおよびインデニ
ル、N,N−ジメチルアミノ−シクロペンタジエニル、
ジメチルホスフィノ−シクロペンタジエニル、メトキシ
−シクロペンタジエニル、ジメチルボラニル−シクロペ
ンタジエニル、(N,N−ジメチル−アミノメチル)−
シクロペンタジエニルを包含する。
よび第2カルバニオンCpIおよびCpIIは、同じで
あっても異なってもよい。シクロペンタジエニル骨格
は、例えばシクロペンタジエン、置換シクロペンタジエ
ン、インデン、置換インデン、フルオレンおよび置換フ
ルオレンの群からの骨格であってよい。それらは、シク
ロペンタジエン環および/または縮合ベンゼン環につき
1〜4個の置換基を有していてよい。これらの置換基
は、C1−C20アルキル(例えば、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチルまたはイソブチル、ヘキ
シル、オクチル、デシル、ドデシル、ヘキサデシル、オ
クタデシル、エイコシル)、C1−C20アルコキシ(例
えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキ
シ、ブトキシまたはイソブトキシ、ヘキソキシ、オクチ
ロキシ、デシロキシ、ドデシロキシ、ヘキサデシロキ
シ、オクタデシロキシ、エイコシロキシ)、ハロゲン
(例えば、フッ素、塩素または臭素)、C6−C12アリ
ール(例えばフェニル)、C1−C4アルキルフェニル
(例えば、トリル、エチルフェニル、(イソ)プロピル
フェニル、(イソ〜tert.)−ブチルフェニル、キシリ
ル)、ハロゲン化フェニル(例えば、フルオロフェニ
ル、クロロフェニルまたはブロモフェニル、ナフチルま
たはビニルフェニリル)、トリオルガニル−シリル(例
えば、トリメチルシリル(TMS))、フェロセニルな
らびに上記のDまたはAであってよい。さらに、縮合芳
香環は、単に二重結合が残留するように、部分的または
完全に水素化されてよく、二重結合は、縮合環ならびに
シクロペンタンジエン環の両方が分担してよい。さら
に、ベンゼン環(例えばインデンまたはフルオレン)
は、1または2の縮合した付加的なベンゼン環を有して
よい。また、シクロペンタジエンおよび/またはシクロ
ペンタジエニル環および縮合ベンゼン環は、さらなる縮
合ベンゼン環を共同で有してよい。そのようなシクロペ
ンタジエン骨格は、アニオンの形態で、遷移金属のため
の優れた配位子であり、上記のシクロペンタジエニルカ
ルバニオン(要すれば置換形態)それぞれが、錯体の中
央に位置した金属の正の電荷を補う。個々のカルバニオ
ンの例は、シクロペンタジエニル、メチル−シクロペン
タジエニル、1,2−ジメチル−シクロペンタジエニ
ル,1,3−ジメチル−シクロペンタジエニル、インデ
ニル、フェニルインデニル、1,2−ジエチル−シクロ
ペンタジエニル、テトラメチル−シクロペンタジエニ
ル、エチル−シクロペンタジエニル、n−ブチル−シク
ロペンタジエニル、n−オクチル−シクロペンタジエニ
ル、β−フェニルプロピル−シクロペンタジエニル、テ
トラヒドロインデニル、プロピル−シクロペンタジエニ
ル、t−ブチル−シクロペンタジエニル、ベンジル−シ
クロペンタジエニル、ジフェニルメチル−シクロペンタ
ジエニル、トリメチルゲルミル−シクロペンタジエニ
ル、トリメチルスタンニル−シクロペンタジニエル、ト
リフルオロメチル−シクロペンタジエニル、トリメチル
シリルシクロペンタジエニル、ペンタメチル−シクロペ
ンタジエニル、フルオレニル、テトラヒドロ−フルオレ
ニルまたはオクタヒドロ−フルオレニル、6員環上のベ
ンゾオルト位で縮合したフルオレニルおよびインデニ
ル、N,N−ジメチルアミノ−シクロペンタジエニル、
ジメチルホスフィノ−シクロペンタジエニル、メトキシ
−シクロペンタジエニル、ジメチルボラニル−シクロペ
ンタジエニル、(N,N−ジメチル−アミノメチル)−
シクロペンタジエニルを包含する。
【0012】指数nは、Mの電荷に依存して、0、1、
2、3または4であり、好ましくは0、1または2を示
す。上記の亜族金属は、実際には、特に属する亜族に依
存して、2〜6、好ましくは2〜4の価数/電荷を採
り、価数/電荷の2つは、各々の場合で、メタロセン化
合物のカルバニオンによって補われうる。La3+の場
合、従って、指数nが、値1を採り、Zr4+の場合には
値2を採り、Sm2+ではn=0である。化合物(I)の
調製については、WO-A-98/01455を参照することができ
る。
2、3または4であり、好ましくは0、1または2を示
す。上記の亜族金属は、実際には、特に属する亜族に依
存して、2〜6、好ましくは2〜4の価数/電荷を採
り、価数/電荷の2つは、各々の場合で、メタロセン化
合物のカルバニオンによって補われうる。La3+の場
合、従って、指数nが、値1を採り、Zr4+の場合には
値2を採り、Sm2+ではn=0である。化合物(I)の
調製については、WO-A-98/01455を参照することができ
る。
【0013】また、式(II):
【化3】 で示されるメタロセン化合物が特に適している。上記式
中、πIおよびπIIは、電荷を帯びたまたは電気的に
中性の互いに異なるπ系を示し、不飽和または飽和5員
環または6員環によって一箇所または二箇所で縮合され
ていてよく、Dは、πIの置換基またはπIのπ系の一
部であり、それぞれの結合状態で、自由に使用できる少
なくとも1つの自由電子対を有する供与体原子を示し、
Aは、πIIの置換基またはπIIのπ系の一部であ
り、それぞれの結合状態で、電子対空位を有する受容体
原子を示し、DおよびAは、供与体基が、正(部分)電
荷を採り、受容体基が負(部分)電荷を採るように、可
逆的に配位結合によって互いに連結され、DおよびAの
少なくとも1つが、会合したπ系の場合にその一部分で
あり、DおよびAが、置換基を有してよく、それぞれの
π系またはそれぞれの縮合環系が、1またはそれ以上の
DもしくははAまたはDおよびAを有してよく、πIお
よびπIIにおいて、縮合していない形態でまたは縮合
している形態で、π系の1個ないしすべてのH原子が、
直鎖状または分岐状C1−C20アルキルを有する基から
の同じまたは異なる基で互いに独立して置換されてよ
く、直鎖状または分岐状C1−C20は、ハロゲンによっ
て1〜全置換されてよく、フェニルによって1〜3置換
されてよく、ビニル、C6−C12アリール、6〜12個
の炭素原子を有するハロゲン化アリールによって1〜3
置換されてよく、DおよびAによって1または2置換さ
れてよく、可逆的な配位D→A結合は、(i)Dおよび
Aの両方がそれぞれのπ系または縮合環系の一部である
場合、または(ii)DまたはAは、π系または縮合環
系の一部であり、他の置換基が、非縮合π系または縮合
環系の一部である場合、または(iii)DおよびA
が、非縮合π系または縮合環系の一部である場合に、D
とAの間に形成され、(iii)の場合、少なくとも付
加的なDもしくはAまたは両方が、π系または縮合環系
の一部である。Mは、メンデレーエフの周期律表の亜族
III、IV、VまたはVIの遷移金属(ランタニド、アクチニ
ドを含む)を示し、Xは、アニオン当量を示し、および
nは、MならびにπIおよびπIIの電荷に依存して
0、1、2、3または4の数を示す。
中、πIおよびπIIは、電荷を帯びたまたは電気的に
中性の互いに異なるπ系を示し、不飽和または飽和5員
環または6員環によって一箇所または二箇所で縮合され
ていてよく、Dは、πIの置換基またはπIのπ系の一
部であり、それぞれの結合状態で、自由に使用できる少
なくとも1つの自由電子対を有する供与体原子を示し、
Aは、πIIの置換基またはπIIのπ系の一部であ
り、それぞれの結合状態で、電子対空位を有する受容体
原子を示し、DおよびAは、供与体基が、正(部分)電
荷を採り、受容体基が負(部分)電荷を採るように、可
逆的に配位結合によって互いに連結され、DおよびAの
少なくとも1つが、会合したπ系の場合にその一部分で
あり、DおよびAが、置換基を有してよく、それぞれの
π系またはそれぞれの縮合環系が、1またはそれ以上の
DもしくははAまたはDおよびAを有してよく、πIお
よびπIIにおいて、縮合していない形態でまたは縮合
している形態で、π系の1個ないしすべてのH原子が、
直鎖状または分岐状C1−C20アルキルを有する基から
の同じまたは異なる基で互いに独立して置換されてよ
く、直鎖状または分岐状C1−C20は、ハロゲンによっ
て1〜全置換されてよく、フェニルによって1〜3置換
されてよく、ビニル、C6−C12アリール、6〜12個
の炭素原子を有するハロゲン化アリールによって1〜3
置換されてよく、DおよびAによって1または2置換さ
れてよく、可逆的な配位D→A結合は、(i)Dおよび
Aの両方がそれぞれのπ系または縮合環系の一部である
場合、または(ii)DまたはAは、π系または縮合環
系の一部であり、他の置換基が、非縮合π系または縮合
環系の一部である場合、または(iii)DおよびA
が、非縮合π系または縮合環系の一部である場合に、D
とAの間に形成され、(iii)の場合、少なくとも付
加的なDもしくはAまたは両方が、π系または縮合環系
の一部である。Mは、メンデレーエフの周期律表の亜族
III、IV、VまたはVIの遷移金属(ランタニド、アクチニ
ドを含む)を示し、Xは、アニオン当量を示し、および
nは、MならびにπIおよびπIIの電荷に依存して
0、1、2、3または4の数を示す。
【0014】本発明によるπ系は、置換および非置換エ
チレン、アリル、ペンタジエニル、ベンジル、ブタジエ
ン、ベンゼン、シクロペンタジエニルアニオン、および
ヘテロ原子によって少なくとも1つの炭素原子を置き換
えて得られるアニオンである。上記のアニオンにおい
て、環状アニオンが好ましい。そのような配位子(π
系)の金属への配位の性質は、σタイプまたはπタイプ
であってよい。
チレン、アリル、ペンタジエニル、ベンジル、ブタジエ
ン、ベンゼン、シクロペンタジエニルアニオン、および
ヘテロ原子によって少なくとも1つの炭素原子を置き換
えて得られるアニオンである。上記のアニオンにおい
て、環状アニオンが好ましい。そのような配位子(π
系)の金属への配位の性質は、σタイプまたはπタイプ
であってよい。
【0015】指数nは、Mの電荷に依存して、値0、
1、2、3または4、好ましくは0、1または2を採
る。上記の亜族金属は、実際には、特に属する亜族に依
存して、2〜6、好ましくは2〜4の価数/電荷を採
り、各々の場合において、電荷の2つは、メタロセン化
合物のカルバニオンによって補われうる。La3+の場
合、従って、指数nが、値1を採り、Zr4+の場合には
値2を採り、Sm2+ではn=0である。
1、2、3または4、好ましくは0、1または2を採
る。上記の亜族金属は、実際には、特に属する亜族に依
存して、2〜6、好ましくは2〜4の価数/電荷を採
り、各々の場合において、電荷の2つは、メタロセン化
合物のカルバニオンによって補われうる。La3+の場
合、従って、指数nが、値1を採り、Zr4+の場合には
値2を採り、Sm2+ではn=0である。
【0016】式(I)または(II)に従ったメタロセ
ン構造の形成において、遷移金属Mの各正電荷は、シク
ロペンタジエニル含有カルバニオンによって補われる。
中央原子Mになお存在する正電荷は、多くの部分につい
て、さらに一価アニオンX(2つの一価アニオンは、同
じであっても、異なってもよく、互いに連結して、ジア
ニオン、
ン構造の形成において、遷移金属Mの各正電荷は、シク
ロペンタジエニル含有カルバニオンによって補われる。
中央原子Mになお存在する正電荷は、多くの部分につい
て、さらに一価アニオンX(2つの一価アニオンは、同
じであっても、異なってもよく、互いに連結して、ジア
ニオン、
【化4】 を形成してよい。)、例えば、同じまたは異なる直鎖状
または分岐状、飽和または不飽和炭化水素、アミン、ホ
スフィン、チオアルコール、アルコールまたはフェノー
ルの一価または二価の負の基によって飽和されている。
簡単なアニオン、例えばCR3 -、NR2 -、PR2 -、OR
-、SR-は、飽和または不飽和炭化水素またはシラン橋
によって連結されてよく、それによってジアニオンが形
成され、橋の数は、0、1、2、3、4、5または6で
あってよく、好ましくは0〜4の橋原子、さらに好まし
くは1または2の橋原子が存在する。橋原子は、水素原
子に加えて、さらに炭化水素置換基Rを有し得る。簡単
なアニオン間の橋の例は、−CH2−、−CH2−CH2
−、−(CH2)3−、−CH=CH−、−(CH=C
H)2−、−CH=CH−CH2−、−CH2−CH=C
H−CH2−、−Si(CH3)2−、−C(CH3)2−
である。Xの例は、水素化物、塩化物、メチル、エチ
ル、フェニル、フッ化物、臭化物、ヨウ化物、n−プロ
ピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、アミル基、イ
ソアミル基、ヘキシル基、イソブチル基、へプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、セチル基、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、フェノキシ、ジ
メチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ、
ジ−t−ブチルアミノ、ジフェニルアミノ、ジフェニル
ホスフィノ、ジシクロヘキシルホスフィノ、ジメチルホ
スフィノ、メチリデン、エチリデン、プロピリデンおよ
びエチレングリコールジアニオンである。ジアニオンの
例は、1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエンジイ
ル、3−メチル−1,3−ペンタジエンジイル、1,4
−ジベンジル−1,3−ブタジエンジイル、2,4−ヘ
キサジエンジイル、1,3−ペンタジエンジイル、1,
4−ジトリル−1,3−ブタジエンジイル、1,4−ビ
ス(トリメチルシリル)−1,3−ブタジエンジイル、
1,3−ブタジエンジイルである。1,4−ジフェニル
−1,3−ブタジエンジイル、1,3−ペンタジエンジ
イル、1,4−ジベンジル−1,3−ブタンジエンジイ
ル、2,4−ヘキサンジエジイル、3−メチル−1,3
−ペンタジエンジイル、1,4−ジトリル−1,3−ブ
タジエンジイルおよび1,4−ビス(トリメチルシリ
ル)−1,3−ブタジエンジイルが特に好ましい。ジア
ニオンのさらなる例としては、ヘテロ原子を有するジア
ニオン、例えば構造:
または分岐状、飽和または不飽和炭化水素、アミン、ホ
スフィン、チオアルコール、アルコールまたはフェノー
ルの一価または二価の負の基によって飽和されている。
簡単なアニオン、例えばCR3 -、NR2 -、PR2 -、OR
-、SR-は、飽和または不飽和炭化水素またはシラン橋
によって連結されてよく、それによってジアニオンが形
成され、橋の数は、0、1、2、3、4、5または6で
あってよく、好ましくは0〜4の橋原子、さらに好まし
くは1または2の橋原子が存在する。橋原子は、水素原
子に加えて、さらに炭化水素置換基Rを有し得る。簡単
なアニオン間の橋の例は、−CH2−、−CH2−CH2
−、−(CH2)3−、−CH=CH−、−(CH=C
H)2−、−CH=CH−CH2−、−CH2−CH=C
H−CH2−、−Si(CH3)2−、−C(CH3)2−
である。Xの例は、水素化物、塩化物、メチル、エチ
ル、フェニル、フッ化物、臭化物、ヨウ化物、n−プロ
ピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、アミル基、イ
ソアミル基、ヘキシル基、イソブチル基、へプチル基、
オクチル基、ノニル基、デシル基、セチル基、メトキ
シ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、フェノキシ、ジ
メチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ、
ジ−t−ブチルアミノ、ジフェニルアミノ、ジフェニル
ホスフィノ、ジシクロヘキシルホスフィノ、ジメチルホ
スフィノ、メチリデン、エチリデン、プロピリデンおよ
びエチレングリコールジアニオンである。ジアニオンの
例は、1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエンジイ
ル、3−メチル−1,3−ペンタジエンジイル、1,4
−ジベンジル−1,3−ブタジエンジイル、2,4−ヘ
キサジエンジイル、1,3−ペンタジエンジイル、1,
4−ジトリル−1,3−ブタジエンジイル、1,4−ビ
ス(トリメチルシリル)−1,3−ブタジエンジイル、
1,3−ブタジエンジイルである。1,4−ジフェニル
−1,3−ブタジエンジイル、1,3−ペンタジエンジ
イル、1,4−ジベンジル−1,3−ブタンジエンジイ
ル、2,4−ヘキサンジエジイル、3−メチル−1,3
−ペンタジエンジイル、1,4−ジトリル−1,3−ブ
タジエンジイルおよび1,4−ビス(トリメチルシリ
ル)−1,3−ブタジエンジイルが特に好ましい。ジア
ニオンのさらなる例としては、ヘテロ原子を有するジア
ニオン、例えば構造:
【化5】 [式中、橋は、上記の意味を有する。]を有するジアニ
オンである。上記のような弱く配位結合しているまたは
配位結合していないアニオンが電荷補償のために特に好
ましい。一般式(II)の化合物は、WO-A-98/01745に
したがって調製されうる。
オンである。上記のような弱く配位結合しているまたは
配位結合していないアニオンが電荷補償のために特に好
ましい。一般式(II)の化合物は、WO-A-98/01745に
したがって調製されうる。
【0017】式:
【化6】 で示される遷移金属π錯体化合物も特に適している。
【0018】上記式中、πは、電荷を帯びているかまた
は電気的に中性であるπ系を示し、π系は、不飽和また
は飽和5員環または6員環によって一箇所または二箇所
で縮合されていてよく、縮合または非縮合形態の水素原
子は、分岐していないまたは分岐状のC1−C20(シク
ロ)アルキル、C1−C20−ハロゲン化(シクロ)アル
キル、C2−C20(シクロ)アルケニル、C1−C20−
(シクロ)アルコキシ、C 7−C15アラルキル、C6−C
12アリールからなる群からの同じまたは異なる基によっ
て部分的または完全に置換されていてよく、またはDま
たはAにより1つまたは2つ置換されてよく、Dは、部
分構造(IIIa)の場合にπ系の置換基または一部分
であり、π系にスペーサーを介して連結され、部分構造
(IIIb)の場合に遷移金属に結合される供与体原子
を示し、Aは、部分構造(IIIa)の場合に遷移金属
に結合され、部分構造(IIIb)の場合にπ系の置換
基または一部分であり、π系にスペーサーを介して連結
される受容体原子を示し、Dおよび/またはAの遷移金
属への結合は、直接にまたはスペーサーを介して生じ、
DおよびAは、供与体基が正(部分)電荷を採り、受容
体基が負(部分)電荷を採るように、配位結合によって
互いに連結され、DおよびAが置換基を有してよく、M
は、メンデレーエフの周期律表の亜族III〜VIII(ラン
タニド、アクチニドを含む)、好ましくは亜族III〜VI
(ランタンドおよびNiを含む)の遷移金属を示し、X
は、アニオン当量を示し、およびnは、Mおよびπの電
荷に依存して0、1、2、3または4の数を示す。
は電気的に中性であるπ系を示し、π系は、不飽和また
は飽和5員環または6員環によって一箇所または二箇所
で縮合されていてよく、縮合または非縮合形態の水素原
子は、分岐していないまたは分岐状のC1−C20(シク
ロ)アルキル、C1−C20−ハロゲン化(シクロ)アル
キル、C2−C20(シクロ)アルケニル、C1−C20−
(シクロ)アルコキシ、C 7−C15アラルキル、C6−C
12アリールからなる群からの同じまたは異なる基によっ
て部分的または完全に置換されていてよく、またはDま
たはAにより1つまたは2つ置換されてよく、Dは、部
分構造(IIIa)の場合にπ系の置換基または一部分
であり、π系にスペーサーを介して連結され、部分構造
(IIIb)の場合に遷移金属に結合される供与体原子
を示し、Aは、部分構造(IIIa)の場合に遷移金属
に結合され、部分構造(IIIb)の場合にπ系の置換
基または一部分であり、π系にスペーサーを介して連結
される受容体原子を示し、Dおよび/またはAの遷移金
属への結合は、直接にまたはスペーサーを介して生じ、
DおよびAは、供与体基が正(部分)電荷を採り、受容
体基が負(部分)電荷を採るように、配位結合によって
互いに連結され、DおよびAが置換基を有してよく、M
は、メンデレーエフの周期律表の亜族III〜VIII(ラン
タニド、アクチニドを含む)、好ましくは亜族III〜VI
(ランタンドおよびNiを含む)の遷移金属を示し、X
は、アニオン当量を示し、およびnは、Mおよびπの電
荷に依存して0、1、2、3または4の数を示す。
【0019】DおよびAは、さらに詳細には以下のとお
りである: i)式(IIIa)の範囲内において、Dは、スペーサ
ーを介してまたは直接にπに結合される2置換N、P、
As、SbまたはBiまたは、1置換または2置換O、
S、SeまたはTeを示し、およびAは、スペーサーを
介してまたは直接にMに結合されるB、Al、Gaまた
はInを示す。 ii)式(IIIa)の範囲内において、DおよびAが
ともに、スペーサーを介してまたは直接にπまたはMに
結合される基の1つを示す:
りである: i)式(IIIa)の範囲内において、Dは、スペーサ
ーを介してまたは直接にπに結合される2置換N、P、
As、SbまたはBiまたは、1置換または2置換O、
S、SeまたはTeを示し、およびAは、スペーサーを
介してまたは直接にMに結合されるB、Al、Gaまた
はInを示す。 ii)式(IIIa)の範囲内において、DおよびAが
ともに、スペーサーを介してまたは直接にπまたはMに
結合される基の1つを示す:
【化7】 (ホスホニウム塩、ホスホリライド、アミノホスホニウ
ム塩およびホスフィンイミンを表す。) または対応するアンモニウム塩および窒素イリド、アル
ソニウム塩およびアルセンイリド、スルホニウム塩およ
び硫黄イリド、セレン塩およびセレンイリド、および対
応するアミノアルソニウム塩およびアルシンイミン、ア
ミノスルホニウム塩およびスルホイミン、アミノセレン
塩およびセレンイミン、
ム塩およびホスフィンイミンを表す。) または対応するアンモニウム塩および窒素イリド、アル
ソニウム塩およびアルセンイリド、スルホニウム塩およ
び硫黄イリド、セレン塩およびセレンイリド、および対
応するアミノアルソニウム塩およびアルシンイミン、ア
ミノスルホニウム塩およびスルホイミン、アミノセレン
塩およびセレンイミン、
【化8】 および対応するスルフィミン構造。 iii)式(IIIb)の範囲でDは、スペーサーを介
して、または直接にMに結合される2置換N、P、A
s、SbまたはBiまたは、1置換または2置換O、
S、SeまたはTeを示し、およびAは、スペーサーを
介して、または直接にπに結合されるAl、Gaまたは
Inまたはスペーサーを介してπに結合される2置換B
を示す。
して、または直接にMに結合される2置換N、P、A
s、SbまたはBiまたは、1置換または2置換O、
S、SeまたはTeを示し、およびAは、スペーサーを
介して、または直接にπに結合されるAl、Gaまたは
Inまたはスペーサーを介してπに結合される2置換B
を示す。
【0020】上記式中、R1、R2、R3およびR4および
用語「置換」は、互いに独立して、C1−C20(シク
ロ)アルキル、C1−C20ハロゲン化(シクロ)アルキ
ル、C2−C20(シクロ)アルケニル、C7−C15アラル
キル、C6−C12アリール、C1−C20(シクロ)アルコ
キシ、C7−C15アラルコキシ、C6−C12アリールオキ
シ、インデニル、ハロゲン、1−チエニル、2置換アミ
ノ、3置換シリル(−CH2−を介して結合されうる)
またはフェニル−アセチニルを意味し、「スペーサー」
は、2価のシリル、ゲルマニル、アミノ、ホスフィノ、
メチレン、エチレン、プロピレン、ジシリルエチレンま
たはジシロキサン基を示し、これらスペーサ基はC1−
C4アルキル、フェニルまたはC4−C6シクロアルキル
によって1〜4置換されてよく、元素P、N、As、S
またはSeは、スペーサーを介してまたは直接にπに結
合されてよく、Dがπ系の一部である場合に、スペーサ
ーは、AとMの間に配置され、i)およびii)の場合
に、−C(R1)=がスペーサーとして生じる。
用語「置換」は、互いに独立して、C1−C20(シク
ロ)アルキル、C1−C20ハロゲン化(シクロ)アルキ
ル、C2−C20(シクロ)アルケニル、C7−C15アラル
キル、C6−C12アリール、C1−C20(シクロ)アルコ
キシ、C7−C15アラルコキシ、C6−C12アリールオキ
シ、インデニル、ハロゲン、1−チエニル、2置換アミ
ノ、3置換シリル(−CH2−を介して結合されうる)
またはフェニル−アセチニルを意味し、「スペーサー」
は、2価のシリル、ゲルマニル、アミノ、ホスフィノ、
メチレン、エチレン、プロピレン、ジシリルエチレンま
たはジシロキサン基を示し、これらスペーサ基はC1−
C4アルキル、フェニルまたはC4−C6シクロアルキル
によって1〜4置換されてよく、元素P、N、As、S
またはSeは、スペーサーを介してまたは直接にπに結
合されてよく、Dがπ系の一部である場合に、スペーサ
ーは、AとMの間に配置され、i)およびii)の場合
に、−C(R1)=がスペーサーとして生じる。
【0021】指数nは、Mの電荷に依存して、値0、
1、2、3または4、好ましくは0、1または2を採
る。上記の亜族金属は、実際には、特に属する亜族に依
存して、2〜6、好ましくは2〜4の価数/電荷を採
り、価数/電荷の2つは、メタロセン化合物のカルバニ
オンによって個々の場合で補われうる。La3+の場合、
したがって指数nが、値1を採り、Zr4+の場合には値
2を採り、Sm2+ではn=0である。
1、2、3または4、好ましくは0、1または2を採
る。上記の亜族金属は、実際には、特に属する亜族に依
存して、2〜6、好ましくは2〜4の価数/電荷を採
り、価数/電荷の2つは、メタロセン化合物のカルバニ
オンによって個々の場合で補われうる。La3+の場合、
したがって指数nが、値1を採り、Zr4+の場合には値
2を採り、Sm2+ではn=0である。
【0022】式(IIIa)および(IIIb)の範囲
にある重要な構造は、以下のとおりである(ただし、単
なる例示であり、網羅的なものではない):
にある重要な構造は、以下のとおりである(ただし、単
なる例示であり、網羅的なものではない):
【化9】
【化10】
【0023】好ましい構造は、AとMの間に常にスペー
サーを有するDがπ系の一部である構造を除いて、スペ
ーサーを有さないものである。それゆえに、部分式(I
IIa)の構造が好ましい。
サーを有するDがπ系の一部である構造を除いて、スペ
ーサーを有さないものである。それゆえに、部分式(I
IIa)の構造が好ましい。
【0024】i)またはii)の範囲内で例示されるタ
イプ(IIIaおよびIIIb)の本発明による遷移金
属のπ錯体化合物は、例えば、当業者に既知の方法で、
非プロトン溶媒の存在下または不存在下で式(III
a)の部分構造の場合に、化合物YX (VI)を脱離
して、式(IV):
イプ(IIIaおよびIIIb)の本発明による遷移金
属のπ錯体化合物は、例えば、当業者に既知の方法で、
非プロトン溶媒の存在下または不存在下で式(III
a)の部分構造の場合に、化合物YX (VI)を脱離
して、式(IV):
【化11】 の化合物と式(V): A−MXn+1 (V) の化合物の1つを互いに反応させることによって、また
は化合物YX (VI)を脱離して、式(VII):
は化合物YX (VI)を脱離して、式(VII):
【化12】 の化合物と式(VIII): MXn+1 の化合物の1つを互いに反応させることによって、また
は化合物YX (VI)を脱離して、式(IX):
は化合物YX (VI)を脱離して、式(IX):
【化13】 の化合物と式(X): AY の化合物の1つを互いに反応させることによって、およ
び、式(IIIb)の部分構造の場合において、化合物
YX (VI)を脱離して、式(XI):
び、式(IIIb)の部分構造の場合において、化合物
YX (VI)を脱離して、式(XI):
【化14】 の化合物と式(XII): D−MXn+1 の化合物の1つを互いに反応させることによって、また
は化合物YX (VI)を脱離して、式(XIII):
は化合物YX (VI)を脱離して、式(XIII):
【化15】 の化合物と式(XIV): MXn+1 の化合物の1つを互いに反応させることによって、また
は化合物YX (VI)を脱離して、式(XV):
は化合物YX (VI)を脱離して、式(XV):
【化16】 の化合物と式(XVI): DY の化合物の1つを互いに反応させることによって、調製
されうる。上記式中、π、D、A、M、Xおよびnは、
上記の意味を有し、Yは、Si(R1R2R3)、Ge
(R1R2R3)またはSn(R1R2R3)[式中、R1、
R2およびR3は互いに独立して、直鎖または分岐状C1
−C20(シクロ)アルキル、C1−C20ハロゲン化(シ
クロ)アルキル、C2−C20(シクロ)アルケニル、C7
−C15アラルキル、C6−C12アリール、ビニル、アリ
ルまたはハロゲンを示す。]を示し、πが負電荷を有す
る場合、Yは、アルカリ金属(アルカリ土類金属)また
はタリウムのカチオン当量であってよく、XがR2N-タ
イプのアミドアニオン、R3C-タイプのカルバニオンま
たはRO-タイプのアルコラートアニオンである場合
に、Yは水素であってもよい。
されうる。上記式中、π、D、A、M、Xおよびnは、
上記の意味を有し、Yは、Si(R1R2R3)、Ge
(R1R2R3)またはSn(R1R2R3)[式中、R1、
R2およびR3は互いに独立して、直鎖または分岐状C1
−C20(シクロ)アルキル、C1−C20ハロゲン化(シ
クロ)アルキル、C2−C20(シクロ)アルケニル、C7
−C15アラルキル、C6−C12アリール、ビニル、アリ
ルまたはハロゲンを示す。]を示し、πが負電荷を有す
る場合、Yは、アルカリ金属(アルカリ土類金属)また
はタリウムのカチオン当量であってよく、XがR2N-タ
イプのアミドアニオン、R3C-タイプのカルバニオンま
たはRO-タイプのアルコラートアニオンである場合
に、Yは水素であってもよい。
【0025】含まれるオニウム塩、イリド、アミノオニ
ウム塩およびイミンを有する式(IIIa)のii)の
範囲のπ錯体化合物の調製は、当業者に既知の方法で行
われる(A.W.Johnson, W.C.Kaska, K.A.Ostoja Starzew
ski, D.A.Dixon著、“Ylidesand Imines of Phosphoru
s”, John Wiley and Sons, Inc., New York 1993)。ホ
スホニウム塩が、オルガニルハライドによるホスフィン
の4級化によって得られる。1:1化学当量比での塩基
による脱ハロゲン化水素によって、ホスホリライドが得
られる。さらなる当量の塩基(例えば、ブチルリチウ
ム)との反応はブタンを脱離して、イリドアニオンを生
成する:
ウム塩およびイミンを有する式(IIIa)のii)の
範囲のπ錯体化合物の調製は、当業者に既知の方法で行
われる(A.W.Johnson, W.C.Kaska, K.A.Ostoja Starzew
ski, D.A.Dixon著、“Ylidesand Imines of Phosphoru
s”, John Wiley and Sons, Inc., New York 1993)。ホ
スホニウム塩が、オルガニルハライドによるホスフィン
の4級化によって得られる。1:1化学当量比での塩基
による脱ハロゲン化水素によって、ホスホリライドが得
られる。さらなる当量の塩基(例えば、ブチルリチウ
ム)との反応はブタンを脱離して、イリドアニオンを生
成する:
【化17】
【0026】MXnとのさらなる反応は、LiXを分解
して、本発明によるD−Aのハーフ−サンドイッチ錯体
を生じる:
して、本発明によるD−Aのハーフ−サンドイッチ錯体
を生じる:
【化18】
【0027】最終的には、さらなる1当量の塩基によっ
て、脱ハロゲン化水素下で
て、脱ハロゲン化水素下で
【化19】 を生む。
【0028】等電子(P→N)誘導体を調製するため
に、アミノホスホニウム塩からまたは供与体置換ハーフ
−サンドイッチ錯体、例えば
に、アミノホスホニウム塩からまたは供与体置換ハーフ
−サンドイッチ錯体、例えば
【化20】 から同様に開始することができ、オルガニルアミンおよ
びカーボンテトラクロライドによって
びカーボンテトラクロライドによって
【化21】 を得、その後、脱プロトン化により、第1工程において
【化22】 を得(オルガニルアジドまたはトリオルガニルシリルア
ジドとの反応によってP−置換ハーフ−サンドイッチ錯
体から形成され、N2が分離する)、さらなる塩基で、
窒素が水素原子を有する場合に、
ジドとの反応によってP−置換ハーフ−サンドイッチ錯
体から形成され、N2が分離する)、さらなる塩基で、
窒素が水素原子を有する場合に、
【化23】 を生成する。
【0029】式(I)、(II)および(III)にお
けるDとAの間の必ず存在する第1供与体−受容体結合
に加えて、さらなる供与体−受容体結合は、付加的なD
および/またはAが、各シクロペンタジエン系の置換基
として存在する場合に形成されてよい。すべての供与体
−受容体結合は、先に示した可逆性によって特徴づけら
れる。複数のDおよび/またはAがある場合に、さまざ
まな上記の位置を採り得る。従って、本発明は、結合し
た分子状態および結合していない状態も包含する。D基
の数は、A基の数と同じであっても、異なってもよい。
好ましくは、配位子、特にCpIおよびCpIIは、1
つだけの供与体−受容体橋を介して連結される。
けるDとAの間の必ず存在する第1供与体−受容体結合
に加えて、さらなる供与体−受容体結合は、付加的なD
および/またはAが、各シクロペンタジエン系の置換基
として存在する場合に形成されてよい。すべての供与体
−受容体結合は、先に示した可逆性によって特徴づけら
れる。複数のDおよび/またはAがある場合に、さまざ
まな上記の位置を採り得る。従って、本発明は、結合し
た分子状態および結合していない状態も包含する。D基
の数は、A基の数と同じであっても、異なってもよい。
好ましくは、配位子、特にCpIおよびCpIIは、1
つだけの供与体−受容体橋を介して連結される。
【0030】本発明によるD/A橋に加えて、共有結合
も、式(I)、(II)および(III)の中に存在し
うる。この場合、D/A橋は、触媒の立体剛直性および
熱安定性を強化する。D/A結合を閉じたり、開いたり
することによって、得られる序列ポリマーの立体規則性
が高くなったり、低くなったりする。コポリマーの場
合、そのような序列は、異なる化学組成を有しうる。
も、式(I)、(II)および(III)の中に存在し
うる。この場合、D/A橋は、触媒の立体剛直性および
熱安定性を強化する。D/A結合を閉じたり、開いたり
することによって、得られる序列ポリマーの立体規則性
が高くなったり、低くなったりする。コポリマーの場
合、そのような序列は、異なる化学組成を有しうる。
【0031】式(I)、(II)および(III)の供
与体基は全て、供与体原子Dがメンデレーエフ周期律表
の主族V、VIまたはVIIの元素であり、少なくとも
1つの自由電子対を有する基であり、主族Vの元素の場
合には、供与体原子Dは、置換基との結合状態であり、
主族VIの元素の場合にも同じ状態であり、主族VII
の供与体原子ではいかなる置換基も有さない。このこと
は、供与体原子としてのリンP、酸素Oおよび塩素Cl
を用い、「Subst.」が、上記の置換基を示し「−Cp」
は、シクロペンタジエニル含有カルバニオンへの結合を
示し、矢印のついた線は、式(I)または(II)で示
されるような配位結合を示し、他の線は、電子対を示し
て、以下のように示される:
与体基は全て、供与体原子Dがメンデレーエフ周期律表
の主族V、VIまたはVIIの元素であり、少なくとも
1つの自由電子対を有する基であり、主族Vの元素の場
合には、供与体原子Dは、置換基との結合状態であり、
主族VIの元素の場合にも同じ状態であり、主族VII
の供与体原子ではいかなる置換基も有さない。このこと
は、供与体原子としてのリンP、酸素Oおよび塩素Cl
を用い、「Subst.」が、上記の置換基を示し「−Cp」
は、シクロペンタジエニル含有カルバニオンへの結合を
示し、矢印のついた線は、式(I)または(II)で示
されるような配位結合を示し、他の線は、電子対を示し
て、以下のように示される:
【化24】
【0032】式(I)、(II)および(III)にお
ける適した受容体基は全て、受容体原子Aがメンデレー
エフの周期律表の主族IIIからの元素(例えば、ホウ
素、アルミニウム、ガリウム、インジウムおよびタリウ
ム)であり、置換基と結合状態にあり、電子空位を有す
る基である。
ける適した受容体基は全て、受容体原子Aがメンデレー
エフの周期律表の主族IIIからの元素(例えば、ホウ
素、アルミニウム、ガリウム、インジウムおよびタリウ
ム)であり、置換基と結合状態にあり、電子空位を有す
る基である。
【0033】一方で、受容体原子は、結合状態で、受容
体として作用するニトレン、カルベン、カルビン基から
選択される基を形成する周期律表の他の主族の元素を含
む。DおよびAは、配位結合(供与結合とも呼ばれる)
によって連結され、Dは、正(部分)電荷を採り、A
は、負(部分)電荷を採る。したがって供与体原子Dと
供与体基の間および受容体原子Aと受容体基の間に区別
が設けられる。配位結合D→Aは、供与体原子Dと受容
体原子Aの間に形成される。供与体基は、供与体原子
D、要すれば存在する置換基および存在する電子対から
なる単位を示し、対応して、受容体基は、受容体原子
A、置換基および存在する電子空位からなる単位を示
す。
体として作用するニトレン、カルベン、カルビン基から
選択される基を形成する周期律表の他の主族の元素を含
む。DおよびAは、配位結合(供与結合とも呼ばれる)
によって連結され、Dは、正(部分)電荷を採り、A
は、負(部分)電荷を採る。したがって供与体原子Dと
供与体基の間および受容体原子Aと受容体基の間に区別
が設けられる。配位結合D→Aは、供与体原子Dと受容
体原子Aの間に形成される。供与体基は、供与体原子
D、要すれば存在する置換基および存在する電子対から
なる単位を示し、対応して、受容体基は、受容体原子
A、置換基および存在する電子空位からなる単位を示
す。
【0034】供与体原子(N、P、As、Sb、Bi、
O、S、SeおよびTe)上および受容体原子(B、A
l、Ga、InおよびTl)上の置換基は、以下のとお
りである:例えば、C1−C12(シクロ)アルキル(例
えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、シク
ロプロピル、ブチル、イソブチル、tert.-ブチル、シク
ロブチル、ペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル、
ヘキシル、シクロヘキシル、異性体ヘプチル、オクチ
ル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル)、対応す
るC1−C12アルコキシ基、ビニル、ブテニル、アリ
ル、C6−C12アリール(例えば、フェニル、ナフチル
またはビフェニルイル、ベンジル)(ハロゲン、1また
は2のC1−C4アルキル基、スルホネート、ニトロまた
はハロゲン化されたアルキル基、C1−C6アルキルカル
ボキシ、C1−C6アルキルカルボニルまたはニトリルに
よって置換され得るC6−C12アリール(例えば、パー
フルオロフェニル、m,m’−ビス(トリフルオロ−メ
チル)フェニル、トリ(C1−C2 0アルキル)シリル、
トリ(C6−C12アリール)シリルおよび当業者に既知
の類似置換基))、類似アリールオキシ基、インデジ
ル、ハロゲン(例えば、F、Cl、BrおよびI)、1
−チエニル、2置換アミノ(例えば、(C1−C12アル
キル)2アミノ、ジフェニルアミノ、トリス−(C1−C
12アルキル)シリル)、NaSO3−アリール(例え
ば、NaSO3−フェニルおよびNaSO3−トリル)、
C6H5−C≡C、脂肪族および芳香族C1−C20シリル
(アルキル置換基は、上記の置換基に加えて、オクチ
ル、デシル、ドデシル、ステアリルまたはエイコシルを
含んでよく、アリール置換基は、フェニル、トリル、キ
シリル、ナフチルまたはビフェニイルを含んでよ
い。)、供与体原子および/または受容体原子に−CH
2−を経て結合されるそのような置換シリル基(例えば
(CH3)3SiCH2−)、(C1−C12アルキル)−
(フェニル)アミノ、(C1−C12アルキルナフチル)
アミノ、(C1−C12アルキルフェニル)2アミノ、上記
のアリール基を有するC6−C12アリールオキシ、C1−
C8パーフルオロアルキル、パーフルオロフェニル。好
ましい置換基は、C1−C6アルキル、C5−C6シクロア
ルキル、フェニル、トリル、C1−C6アルコキシ、C6
−C12アリールオキシ、ビニル、アリル、ベンジル、パ
ーフルオロフェニル、F、Cl、Br、ジ−(C1−C6
アルキル)アミノ、ジフェニルアミノである。
O、S、SeおよびTe)上および受容体原子(B、A
l、Ga、InおよびTl)上の置換基は、以下のとお
りである:例えば、C1−C12(シクロ)アルキル(例
えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、シク
ロプロピル、ブチル、イソブチル、tert.-ブチル、シク
ロブチル、ペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル、
ヘキシル、シクロヘキシル、異性体ヘプチル、オクチ
ル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル)、対応す
るC1−C12アルコキシ基、ビニル、ブテニル、アリ
ル、C6−C12アリール(例えば、フェニル、ナフチル
またはビフェニルイル、ベンジル)(ハロゲン、1また
は2のC1−C4アルキル基、スルホネート、ニトロまた
はハロゲン化されたアルキル基、C1−C6アルキルカル
ボキシ、C1−C6アルキルカルボニルまたはニトリルに
よって置換され得るC6−C12アリール(例えば、パー
フルオロフェニル、m,m’−ビス(トリフルオロ−メ
チル)フェニル、トリ(C1−C2 0アルキル)シリル、
トリ(C6−C12アリール)シリルおよび当業者に既知
の類似置換基))、類似アリールオキシ基、インデジ
ル、ハロゲン(例えば、F、Cl、BrおよびI)、1
−チエニル、2置換アミノ(例えば、(C1−C12アル
キル)2アミノ、ジフェニルアミノ、トリス−(C1−C
12アルキル)シリル)、NaSO3−アリール(例え
ば、NaSO3−フェニルおよびNaSO3−トリル)、
C6H5−C≡C、脂肪族および芳香族C1−C20シリル
(アルキル置換基は、上記の置換基に加えて、オクチ
ル、デシル、ドデシル、ステアリルまたはエイコシルを
含んでよく、アリール置換基は、フェニル、トリル、キ
シリル、ナフチルまたはビフェニイルを含んでよ
い。)、供与体原子および/または受容体原子に−CH
2−を経て結合されるそのような置換シリル基(例えば
(CH3)3SiCH2−)、(C1−C12アルキル)−
(フェニル)アミノ、(C1−C12アルキルナフチル)
アミノ、(C1−C12アルキルフェニル)2アミノ、上記
のアリール基を有するC6−C12アリールオキシ、C1−
C8パーフルオロアルキル、パーフルオロフェニル。好
ましい置換基は、C1−C6アルキル、C5−C6シクロア
ルキル、フェニル、トリル、C1−C6アルコキシ、C6
−C12アリールオキシ、ビニル、アリル、ベンジル、パ
ーフルオロフェニル、F、Cl、Br、ジ−(C1−C6
アルキル)アミノ、ジフェニルアミノである。
【0035】供与体基は、N、P、As、Sb、Bi、
O、S、Se、Te、F、Cl、Br、I上に自由電子
対が局在するものであり、供与体基の中では、N、P、
O、Sが好ましい。供与体基の例としては、(CH3)2
N−、(C2H5)2N−、(C3H7)2N−、(C4H9)
2N−、(C6H5)2N−、(CH3)2P−、(C2H 5)
2P−、(C3H7)2P−、(i−C3H7)2P−、(C4
H9)2P−、(t−C4H9)2P−、(シクロヘキシ
ル)2P−、(C6H5)2P−、(CH3(C6H5)P
−、(CH3O)2P−、(C6H5O)2P−、(CH3−
C6H4O)2P−、((CH3)2N)2P−、メチル含有
ホスフィノ基、CH3O−、CH3S−、C6H5S−、−
C(C6H5)=O、−C(CH3)=O、−OSi(C
H3)3、−Si(CH3)2−t−ブチルがあり、Nおよ
びPは、それぞれ1つの電子対を有し、OおよびSは、
それぞれ2つの自由電子対を有し、最後の2つの例にお
いて、二重結合酸素がスペーサー基およびピロリドン環
のような系によって結合され、Nとは異なる環原子もス
ペーサーとして作用する。
O、S、Se、Te、F、Cl、Br、I上に自由電子
対が局在するものであり、供与体基の中では、N、P、
O、Sが好ましい。供与体基の例としては、(CH3)2
N−、(C2H5)2N−、(C3H7)2N−、(C4H9)
2N−、(C6H5)2N−、(CH3)2P−、(C2H 5)
2P−、(C3H7)2P−、(i−C3H7)2P−、(C4
H9)2P−、(t−C4H9)2P−、(シクロヘキシ
ル)2P−、(C6H5)2P−、(CH3(C6H5)P
−、(CH3O)2P−、(C6H5O)2P−、(CH3−
C6H4O)2P−、((CH3)2N)2P−、メチル含有
ホスフィノ基、CH3O−、CH3S−、C6H5S−、−
C(C6H5)=O、−C(CH3)=O、−OSi(C
H3)3、−Si(CH3)2−t−ブチルがあり、Nおよ
びPは、それぞれ1つの電子対を有し、OおよびSは、
それぞれ2つの自由電子対を有し、最後の2つの例にお
いて、二重結合酸素がスペーサー基およびピロリドン環
のような系によって結合され、Nとは異なる環原子もス
ペーサーとして作用する。
【0036】受容体基は、電子対空位がB、Al、G
a、InまたはTl(好ましくは、B、AlまたはG
a)上にあるものである。例えば、(CH3)2B−、
(C2H5) 2B−、H2B−、(C6H5)2B−、(C
H3)(C6H5)B−、(ビニル)2B−、(ベンジル)2
B−、Cl2B−、(CH3O)2B−、Cl2Al−、
(CH3) 2Al−、(i−C4H9)2Al−、(Cl)
(C2H5)Al−、(CH3)2Ga−、(C3H7)2Ga
−、((CH3)3Si−CH2)2Ga−、(ビニル)2
Ga−、(C6H5)2Ga−、(CH3)2In−、
((CH3)3Si−CH2)2In−、(シクロペンタジ
エニル)2In−である。キラル中心を有するか、また
は2つの置換基がD原子またはA原子と一緒に環を形成
する供与体および受容体基も適している。この点につい
て、特にWO-A-98/01 455, WO-A-98/01 745, WO-A-98/01
483〜WO-A-98/01 487ならびに先の出願PCT/EP98/08 07
4およびPCT/EP98/08 012を参照できる。
a、InまたはTl(好ましくは、B、AlまたはG
a)上にあるものである。例えば、(CH3)2B−、
(C2H5) 2B−、H2B−、(C6H5)2B−、(C
H3)(C6H5)B−、(ビニル)2B−、(ベンジル)2
B−、Cl2B−、(CH3O)2B−、Cl2Al−、
(CH3) 2Al−、(i−C4H9)2Al−、(Cl)
(C2H5)Al−、(CH3)2Ga−、(C3H7)2Ga
−、((CH3)3Si−CH2)2Ga−、(ビニル)2
Ga−、(C6H5)2Ga−、(CH3)2In−、
((CH3)3Si−CH2)2In−、(シクロペンタジ
エニル)2In−である。キラル中心を有するか、また
は2つの置換基がD原子またはA原子と一緒に環を形成
する供与体および受容体基も適している。この点につい
て、特にWO-A-98/01 455, WO-A-98/01 745, WO-A-98/01
483〜WO-A-98/01 487ならびに先の出願PCT/EP98/08 07
4およびPCT/EP98/08 012を参照できる。
【0037】当業者に既知の層状格子構造を有するすべ
てのイオン交換担体材料が、成分bとして適している。
層状格子構造を有するイオン交換担体材料は、例えば、
イオン結合によって組立てられる個々の層が、互いに平
行に重なり、層の間に弱い相互作用が存在し、おそらく
間に挟まれたイオンが交換されうる。これらの層状格子
構造を有するこれらのイオン交換担体材料は、天然に存
在しうるが、人工的にも製造されうる。
てのイオン交換担体材料が、成分bとして適している。
層状格子構造を有するイオン交換担体材料は、例えば、
イオン結合によって組立てられる個々の層が、互いに平
行に重なり、層の間に弱い相互作用が存在し、おそらく
間に挟まれたイオンが交換されうる。これらの層状格子
構造を有するこれらのイオン交換担体材料は、天然に存
在しうるが、人工的にも製造されうる。
【0038】層状格子は、特に、稠密六方構造を採り、
または対応するアンチモン、CdCl2、CdI2格子構
造にも採り得る。層状格子構造を有するイオン交換担体
材料は、カオリン、ベントナイト、木節粘土、がえろめ
粘土、アロフェン、ヒシンゲライト、パイロフィライ
ト、タルク、バーミキュル石、パリゴルスカイト、カオ
リナイト、ナクライト、デッカライト、ハロサイトおよ
びモンモリロナイトである、モンモリロナイトが特に好
ましい。
または対応するアンチモン、CdCl2、CdI2格子構
造にも採り得る。層状格子構造を有するイオン交換担体
材料は、カオリン、ベントナイト、木節粘土、がえろめ
粘土、アロフェン、ヒシンゲライト、パイロフィライ
ト、タルク、バーミキュル石、パリゴルスカイト、カオ
リナイト、ナクライト、デッカライト、ハロサイトおよ
びモンモリロナイトである、モンモリロナイトが特に好
ましい。
【0039】BET法にしたがって測定される層状格子
構造を有するイオン交換担体材料の表面積は、通常、2
0〜800m2/g、好ましくは30〜150m2/g、
特に好ましくは40〜100m2/gである。測定は、B
runauer, EmmetおよびTeller, J. Anorg. Chem. Soc. 6
0(2), 309(1938)に記載のように行われる。
構造を有するイオン交換担体材料の表面積は、通常、2
0〜800m2/g、好ましくは30〜150m2/g、
特に好ましくは40〜100m2/gである。測定は、B
runauer, EmmetおよびTeller, J. Anorg. Chem. Soc. 6
0(2), 309(1938)に記載のように行われる。
【0040】好ましくは、成分bは、使用前に化学的に
処理される。化学処理の例としては、重合に悪影響を与
える不純物を除去するための表面処理、または結晶構造
に影響を与えるための表面処理が挙げられる。特に、ブ
レンステッド酸またはアルカリによる処理または塩およ
び/もしくは有機化合物による処理が挙げられる。これ
に関連して、ブレンステッド酸による処理は、不純物を
除去するだけでなく、アルミニウム、鉄および/または
マグネシウムカチオンのような好ましくないカチオンを
層状格子構造から除去するのに作用し、それによって表
面積が増大する。一般に、成分bの結晶構造を、アルカ
リ処理によって崩壊し、または永久的に変える。このこ
とは、個々の場合において、触媒系の活性を増加させ得
る。
処理される。化学処理の例としては、重合に悪影響を与
える不純物を除去するための表面処理、または結晶構造
に影響を与えるための表面処理が挙げられる。特に、ブ
レンステッド酸またはアルカリによる処理または塩およ
び/もしくは有機化合物による処理が挙げられる。これ
に関連して、ブレンステッド酸による処理は、不純物を
除去するだけでなく、アルミニウム、鉄および/または
マグネシウムカチオンのような好ましくないカチオンを
層状格子構造から除去するのに作用し、それによって表
面積が増大する。一般に、成分bの結晶構造を、アルカ
リ処理によって崩壊し、または永久的に変える。このこ
とは、個々の場合において、触媒系の活性を増加させ得
る。
【0041】層状格子の間に含まれうる金属イオンは、
他のイオン、好ましくは立体的に要求されるイオンによ
って置き換されうる。さらに、無機または有機物質が、
個々の層の間に挟まれ、すなわち層間に挿入されうる。
そのような物質の例は、例えばTiCl4またはZrC
l4、金属アルコラート、例えばTi(OR)4、Zr
(OR)4、PO(OR)3およびB(OR)3[式中、
R基は、それぞれ独立して、アルキル、アリールまたは
アラルキルから選択される。]である。さらなる例とし
て、水酸化金属イオン(例えば、[Al13O4(O
H)24]7+、[Zr4(OH)14]2+および[Fe3O
(OCOCH3)6]+)またはコロイド状無機化合物
(例えば、SiO2)が挙げられる。これらの物質は明
らかに混合物としても使用されうる。他のイオンの例と
しては、水の熱的除去によって上記の水酸化金属イオン
から得られる酸化物も挙げられる。さらに、金属アルコ
ラート、例えばSi(OR)4、Al(OR)3またはG
e(OR)4の加水分解によって得られるポリマーも挙
げられる。
他のイオン、好ましくは立体的に要求されるイオンによ
って置き換されうる。さらに、無機または有機物質が、
個々の層の間に挟まれ、すなわち層間に挿入されうる。
そのような物質の例は、例えばTiCl4またはZrC
l4、金属アルコラート、例えばTi(OR)4、Zr
(OR)4、PO(OR)3およびB(OR)3[式中、
R基は、それぞれ独立して、アルキル、アリールまたは
アラルキルから選択される。]である。さらなる例とし
て、水酸化金属イオン(例えば、[Al13O4(O
H)24]7+、[Zr4(OH)14]2+および[Fe3O
(OCOCH3)6]+)またはコロイド状無機化合物
(例えば、SiO2)が挙げられる。これらの物質は明
らかに混合物としても使用されうる。他のイオンの例と
しては、水の熱的除去によって上記の水酸化金属イオン
から得られる酸化物も挙げられる。さらに、金属アルコ
ラート、例えばSi(OR)4、Al(OR)3またはG
e(OR)4の加水分解によって得られるポリマーも挙
げられる。
【0042】成分bは、前処理なしに、または水の添加
後、または特に好ましくは熱的前処理の後に使用されう
る。熱的前処理は、好ましくは保護ガス流中で、500
〜800℃、特に100〜400℃の温度で行われる。
複数の異なる成分bの混合物も明らかに使用されうる。
モンモリロナイトは、成分bとして特に最も好ましい。
後、または特に好ましくは熱的前処理の後に使用されう
る。熱的前処理は、好ましくは保護ガス流中で、500
〜800℃、特に100〜400℃の温度で行われる。
複数の異なる成分bの混合物も明らかに使用されうる。
モンモリロナイトは、成分bとして特に最も好ましい。
【0043】本発明による供与体−受容体相互作用(担
体)を有する担持触媒の調製は、当業者に既知の方法で
行われる。例えば、遷移金属ハライドをシリル化供与体
配位子と反応させて、シリルハライドを脱離して、供与
体/セミ−サンドイッチ錯体を形成し、さらに供与体/
セミ−サンドイッチ錯体をシリル化受容体配位子と反応
させて、シリルハライドを新たに脱離して、供与体−受
容体メタロセンを形成する。本発明による供与体−受容
体相互作用を有する担持触媒は、1またはそれ以上のC
2−C40オレフィンの単独重合および共重合のための、
または1またはそれ以上のC2−C40オレフィンと1ま
たはそれ以上のC4−C8イソオレフィン、C2−C8アル
キンまたはC4−C8ジオレフィンの共重合のための、気
相、溶液、塊状、高圧または懸濁相での、−60℃〜+
250℃の温度における、0.5〜5000barの圧
力下でのプロセスに用いる触媒として極めて適してい
て、重合は、直鎖もしくは分岐状の、飽和もしくは芳香
族もしくはアルキル置換芳香族C 4−C20炭化水素、ま
たは飽和もしくは芳香族C2−C10ハロゲン化炭化水素
の存在下または不存在下で行われ得る。そのような重合
は、バッチ式、好ましくは1またはそれ以上の反応器で
連続的に行われ得る。複数の反応器または反応ゾーンが
使用される場合、重合は、異なる重合条件で行われ得
る。メタロセン化合物1モルにつき(コ)モノマー10
1〜1012モルを反応させる。
体)を有する担持触媒の調製は、当業者に既知の方法で
行われる。例えば、遷移金属ハライドをシリル化供与体
配位子と反応させて、シリルハライドを脱離して、供与
体/セミ−サンドイッチ錯体を形成し、さらに供与体/
セミ−サンドイッチ錯体をシリル化受容体配位子と反応
させて、シリルハライドを新たに脱離して、供与体−受
容体メタロセンを形成する。本発明による供与体−受容
体相互作用を有する担持触媒は、1またはそれ以上のC
2−C40オレフィンの単独重合および共重合のための、
または1またはそれ以上のC2−C40オレフィンと1ま
たはそれ以上のC4−C8イソオレフィン、C2−C8アル
キンまたはC4−C8ジオレフィンの共重合のための、気
相、溶液、塊状、高圧または懸濁相での、−60℃〜+
250℃の温度における、0.5〜5000barの圧
力下でのプロセスに用いる触媒として極めて適してい
て、重合は、直鎖もしくは分岐状の、飽和もしくは芳香
族もしくはアルキル置換芳香族C 4−C20炭化水素、ま
たは飽和もしくは芳香族C2−C10ハロゲン化炭化水素
の存在下または不存在下で行われ得る。そのような重合
は、バッチ式、好ましくは1またはそれ以上の反応器で
連続的に行われ得る。複数の反応器または反応ゾーンが
使用される場合、重合は、異なる重合条件で行われ得
る。メタロセン化合物1モルにつき(コ)モノマー10
1〜1012モルを反応させる。
【0044】本発明による供与体−受容体相互作用を有
する担持触媒は、要すれば共触媒cと一緒に使用され
る。そのときは、メタロセン化合物と共触媒の量比は、
メタロセン1モルにつき1〜100000モルである。
する担持触媒は、要すれば共触媒cと一緒に使用され
る。そのときは、メタロセン化合物と共触媒の量比は、
メタロセン1モルにつき1〜100000モルである。
【0045】共触媒は、例えばアルミノキサン化合物で
ある。そのような化合物は、式:
ある。そのような化合物は、式:
【化25】 [式中、Rは、C1−C20アルキル、C6−C12アリール
またはベンジルを示し、nは、2〜50、好ましくは1
0〜35の数である。]で示される化合物と理解され
る。
またはベンジルを示し、nは、2〜50、好ましくは1
0〜35の数である。]で示される化合物と理解され
る。
【0046】異なるアルミノキサンの混合物、それらの
先駆体の混合物(アルキルアルミニウムまたはアルキル
アルミニウムハライド)を、水(気体、液体、固体また
は結合形態で、結晶水として)と組み合わせて使用する
ことも可能である。水は、重合媒体、モノマーまたは担
体の(残留)湿分としても添加されうる。
先駆体の混合物(アルキルアルミニウムまたはアルキル
アルミニウムハライド)を、水(気体、液体、固体また
は結合形態で、結晶水として)と組み合わせて使用する
ことも可能である。水は、重合媒体、モノマーまたは担
体の(残留)湿分としても添加されうる。
【0047】式(XVII)の括弧から突き出ている結
合は、オリゴマーアルミノキサンの末端基としてのR基
またはAlR2基を有する。そのようなアルミノキサン
は、一般に、異なる鎖長の複数のアルミノキサンの混合
物として存在する。詳細な研究によって、環タイプまた
はケージ構造を有するアルミノキサンも見出されてい
る。アルミノキサンは、市販の化合物である。特に、R
=CH3の場合に、用語メチルアルミノキサン(MA
O)が使用される。
合は、オリゴマーアルミノキサンの末端基としてのR基
またはAlR2基を有する。そのようなアルミノキサン
は、一般に、異なる鎖長の複数のアルミノキサンの混合
物として存在する。詳細な研究によって、環タイプまた
はケージ構造を有するアルミノキサンも見出されてい
る。アルミノキサンは、市販の化合物である。特に、R
=CH3の場合に、用語メチルアルミノキサン(MA
O)が使用される。
【0048】さらに共触媒cは、嵩高い、配位結合して
いないまたは弱く配位結合しているアニオンである。嵩
高いアニオンによる活性化は、例えば、D/Aメタロセ
ンを、トリス−(ペンタフルオロフェニル)ボラン、ト
リフェニルボラン、トリフェニルアルミニウム、トリチ
ル−テトラキス−(ペンタフルオロフェニル)ボレート
またはN,N−ジアルキルフェニル−アンモニウム−テ
トラキス−(ペンタ−フルオロフェニル)ボレートまた
はホウ酸の対応するホスホニウムもしくはスルホニウム
塩、あるいはホウ酸、炭酸、p−トルエンスルホン酸、
トリフルオロメタンスルホン酸、パーフルオロカルボン
酸(例えばトリフルオロ酢酸)もしくは対応の酸の(ア
ルカリ土類)アルカリ金属、タリウムまたは銀の塩と反
応させることによって達成される。好ましくは、D/A
メタロセンは、アニオン当量X=アルキル、アリールま
たはベンジル基場合に使用される。そのような誘導体
は、他のアニオン当量、例えばX=F、Cl、Br、O
R、NR2などを有するD/Aメタロセンを、事前にア
ルキルアルミニウム、リチウムオルガニルまたはグリニ
ャール化合物またはアルキル亜鉛もしくは鉛と反応させ
ることによってその場で調製されうる。それによって、
得られる反応生成物は、予め分離しないで上記のボラン
またはボレートによって活性化されうる。
いないまたは弱く配位結合しているアニオンである。嵩
高いアニオンによる活性化は、例えば、D/Aメタロセ
ンを、トリス−(ペンタフルオロフェニル)ボラン、ト
リフェニルボラン、トリフェニルアルミニウム、トリチ
ル−テトラキス−(ペンタフルオロフェニル)ボレート
またはN,N−ジアルキルフェニル−アンモニウム−テ
トラキス−(ペンタ−フルオロフェニル)ボレートまた
はホウ酸の対応するホスホニウムもしくはスルホニウム
塩、あるいはホウ酸、炭酸、p−トルエンスルホン酸、
トリフルオロメタンスルホン酸、パーフルオロカルボン
酸(例えばトリフルオロ酢酸)もしくは対応の酸の(ア
ルカリ土類)アルカリ金属、タリウムまたは銀の塩と反
応させることによって達成される。好ましくは、D/A
メタロセンは、アニオン当量X=アルキル、アリールま
たはベンジル基場合に使用される。そのような誘導体
は、他のアニオン当量、例えばX=F、Cl、Br、O
R、NR2などを有するD/Aメタロセンを、事前にア
ルキルアルミニウム、リチウムオルガニルまたはグリニ
ャール化合物またはアルキル亜鉛もしくは鉛と反応させ
ることによってその場で調製されうる。それによって、
得られる反応生成物は、予め分離しないで上記のボラン
またはボレートによって活性化されうる。
【0049】さらに、共触媒cは、アルキルアルミニウ
ム、アルキルアルミニウムハライド、アルキルリチウム
またはオルガノマグネシウム化合物、例えばグリニャー
ル化合物もしくは部分加水分解ボランオルガニルを包含
する。
ム、アルキルアルミニウムハライド、アルキルリチウム
またはオルガノマグネシウム化合物、例えばグリニャー
ル化合物もしくは部分加水分解ボランオルガニルを包含
する。
【0050】用語アルキルは、当業者には既知である1
〜12個の炭素原子を有するすべての直鎖または分岐状
アルキル基、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、n
−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチルおよびイソオクチルを含み、アルキ
ル鎖は、1またはそれ以上のヘテロ原子、特に酸素を鎖
中に含みうる。
〜12個の炭素原子を有するすべての直鎖または分岐状
アルキル基、例えばメチル、エチル、n−プロピル、イ
ソプロピル、n−ブチル、イソブチル、t−ブチル、n
−ペンチル、イソペンチル、ネオペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、オクチルおよびイソオクチルを含み、アルキ
ル鎖は、1またはそれ以上のヘテロ原子、特に酸素を鎖
中に含みうる。
【0051】好ましいアルキルアルミニウムの例は、ト
リアルキルアルミニウム、例えばトリメチルアルミニウ
ム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウム、トリイソオクチルアルミニウムである。好ましい
アルキルアルミニウムハライドの例は、ジエチルアルミ
ニウムクロライド、エチルアルミニウムジクロライドお
よびエチルアルミニウムセスキジクロライドである。好
ましい共触媒は、アルキルアルミニウムおよびアルキル
リチウムである。
リアルキルアルミニウム、例えばトリメチルアルミニウ
ム、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニ
ウム、トリイソオクチルアルミニウムである。好ましい
アルキルアルミニウムハライドの例は、ジエチルアルミ
ニウムクロライド、エチルアルミニウムジクロライドお
よびエチルアルミニウムセスキジクロライドである。好
ましい共触媒は、アルキルアルミニウムおよびアルキル
リチウムである。
【0052】共触媒cによる活性化、または嵩高い配位
結合していないまたは弱く配位結合しているアニオンの
形成は、オートクレーブ内または別の反応器で行われ得
る(前形成)。活性化は、重合されるべきモノマーの存
在下または不存在下で行われ得る。活性化は、脂肪族も
しくは芳香族またはハロゲン化された溶媒または懸濁剤
中で、触媒担体材料の表面上で行われ得る。
結合していないまたは弱く配位結合しているアニオンの
形成は、オートクレーブ内または別の反応器で行われ得
る(前形成)。活性化は、重合されるべきモノマーの存
在下または不存在下で行われ得る。活性化は、脂肪族も
しくは芳香族またはハロゲン化された溶媒または懸濁剤
中で、触媒担体材料の表面上で行われ得る。
【0053】共触媒cは、均質形態で、または不均質状
態で担体上で個々にまたは組み合わせて使用されうる。
担体材料は、無機または有機天然物、例えばシリカゲ
ル、Al2O3、MgCl3、セルロース誘導体、デンプ
ンおよびポリマーまたは成分bからなってよい。担体材
料は、できるだけ低い水含量および/またはOH基濃度
に特別に調節または保持するために、好ましくは熱的お
よび/または化学的に前処理される。化学的前処理は、
例えばアルキルアルミニウムと担体を反応させることを
含んでなる。無機担体は、通常、使用の前に100〜1
000℃で1〜100時間加熱される。そのような無機
担体(例えば、シリカ(SiO2))の表面積は、10
〜1000m2/g、好ましくは100〜800m2/g
である。粒子直径は、0.1〜500μm、好ましくは
10〜200μmである。
態で担体上で個々にまたは組み合わせて使用されうる。
担体材料は、無機または有機天然物、例えばシリカゲ
ル、Al2O3、MgCl3、セルロース誘導体、デンプ
ンおよびポリマーまたは成分bからなってよい。担体材
料は、できるだけ低い水含量および/またはOH基濃度
に特別に調節または保持するために、好ましくは熱的お
よび/または化学的に前処理される。化学的前処理は、
例えばアルキルアルミニウムと担体を反応させることを
含んでなる。無機担体は、通常、使用の前に100〜1
000℃で1〜100時間加熱される。そのような無機
担体(例えば、シリカ(SiO2))の表面積は、10
〜1000m2/g、好ましくは100〜800m2/g
である。粒子直径は、0.1〜500μm、好ましくは
10〜200μmである。
【0054】単独重合または共重合によって転化される
オレフィン、イソオレフィン、シクロオレフィン、アル
キンおよびジオレフィンは、例えば、エチレン、プロピ
レン、ブテン−1、イソブテン、ペンテン−1、ヘキセ
ン−1、オクテン−1、3−メチルブテン−1、4−メ
チル−ペンテン−1、4−メチルヘキセン−1、1,3
−ブタジエン、イソプレン、1,4−ヘキサジエン、
1,5−ヘキサジエンおよび1,6−オクタジエン、メ
チルオクタジエン、ビニルシクロヘキサン、ビニルシク
ロヘキセン、クロロプレン、アセチレンおよびメチルア
セチレンである。さらに、環化重合は、α,ω−ジオレ
フィンについて行われ、例えば、ポリ(メチレン−1,
3−シクロペンタン)が、1,5−ヘキサジエンから形
成される:
オレフィン、イソオレフィン、シクロオレフィン、アル
キンおよびジオレフィンは、例えば、エチレン、プロピ
レン、ブテン−1、イソブテン、ペンテン−1、ヘキセ
ン−1、オクテン−1、3−メチルブテン−1、4−メ
チル−ペンテン−1、4−メチルヘキセン−1、1,3
−ブタジエン、イソプレン、1,4−ヘキサジエン、
1,5−ヘキサジエンおよび1,6−オクタジエン、メ
チルオクタジエン、ビニルシクロヘキサン、ビニルシク
ロヘキセン、クロロプレン、アセチレンおよびメチルア
セチレンである。さらに、環化重合は、α,ω−ジオレ
フィンについて行われ、例えば、ポリ(メチレン−1,
3−シクロペンタン)が、1,5−ヘキサジエンから形
成される:
【化26】
【0055】トリアルキルシリル置換α,ω−ジオレフ
ィンを使用する場合、官能基を、その後に、重合タイプ
の反応によって導入することができる。
ィンを使用する場合、官能基を、その後に、重合タイプ
の反応によって導入することができる。
【0056】さらに、オレフィンおよびジオレフィン
は、例えばフェニル、置換フェニル、ハロゲン、エステ
ル化カルボキシル基、酸無水物基によって置換されてよ
く、このような化合物は、例えばスチレン、メチルスチ
レン、クロロスチレン、フルオロスチレン、インデン、
4−ビニルビフェニル、ビニルフルオレン、ビニルアン
トラセン、メチルメタクリレート、エチルアクリレー
ト、ビニルシラン、トリメチルアリルシラン、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、テトラフルオロエチレン、イソブ
チレン、ビニルカルバゾール、ビニルピロリドン、アク
リロニトリル、ビニルエーテルおよびビニルエステルで
ある。
は、例えばフェニル、置換フェニル、ハロゲン、エステ
ル化カルボキシル基、酸無水物基によって置換されてよ
く、このような化合物は、例えばスチレン、メチルスチ
レン、クロロスチレン、フルオロスチレン、インデン、
4−ビニルビフェニル、ビニルフルオレン、ビニルアン
トラセン、メチルメタクリレート、エチルアクリレー
ト、ビニルシラン、トリメチルアリルシラン、塩化ビニ
ル、塩化ビニリデン、テトラフルオロエチレン、イソブ
チレン、ビニルカルバゾール、ビニルピロリドン、アク
リロニトリル、ビニルエーテルおよびビニルエステルで
ある。
【0057】例えば、ラクトン(例えばε−カプロラク
トンもしくはδ−バレロラクトン)またはラクタム(例
えばε−カプロラクタム)の開環重付加も本発明によっ
て可能である。使用されうるシクロオレフィンは、WO-9
8/01483およびWO-98/01484に記載される。
トンもしくはδ−バレロラクトン)またはラクタム(例
えばε−カプロラクタム)の開環重付加も本発明によっ
て可能である。使用されうるシクロオレフィンは、WO-9
8/01483およびWO-98/01484に記載される。
【0058】好ましいモノマーは、エチレン、プロピレ
ン、ブテン、ヘキセン、オクテン、1,5−ヘキサジエ
ン、1,6−オクタジエン、シクロオレフィン、メチル
メタクリレート、ε−カプロラクタム、δ−バレロラク
タンおよびアセチレンである。分子量を調節するために
水素の存在下で上記の(共)重合を行うことも可能であ
る。本発明による供与体−受容体相互作用を有する担持
触媒によって行われる単独重合もしくは共重合または重
付加は、特有の温度または圧力の範囲内で、断熱的また
は等温的に行われる。プロセスは、オートクレーブまた
はチューブ状反応器中の高圧プロセス、チューブ状反応
器またはループ状反応器中の溶液重合、塊状重合、懸濁
重合、気相重合を含み、関連して、懸濁、溶液および気
相重合の圧力は65barを超えない。そのような重合
は、水素の存在下で行われ得る。すべての重合方法は、
当業者には周知であり、利用できる。
ン、ブテン、ヘキセン、オクテン、1,5−ヘキサジエ
ン、1,6−オクタジエン、シクロオレフィン、メチル
メタクリレート、ε−カプロラクタム、δ−バレロラク
タンおよびアセチレンである。分子量を調節するために
水素の存在下で上記の(共)重合を行うことも可能であ
る。本発明による供与体−受容体相互作用を有する担持
触媒によって行われる単独重合もしくは共重合または重
付加は、特有の温度または圧力の範囲内で、断熱的また
は等温的に行われる。プロセスは、オートクレーブまた
はチューブ状反応器中の高圧プロセス、チューブ状反応
器またはループ状反応器中の溶液重合、塊状重合、懸濁
重合、気相重合を含み、関連して、懸濁、溶液および気
相重合の圧力は65barを超えない。そのような重合
は、水素の存在下で行われ得る。すべての重合方法は、
当業者には周知であり、利用できる。
【0059】本発明による供与体−受容体相互作用を有
する担持触媒は、供与体−受容体橋によって、2つのシ
クロペンタジエニル格子または2つの配位子の中で得ら
れるくちばし方式の特有な開口を可能にし、さらに、高
い活性および高い立体選択性、制御された分子量分布お
よびコモノマーの均一な組み込みを確実にする。特有の
くちばし様開口の結果として、嵩高いコモノマーのため
の空間がある。分子量分布の高い均一性は、さらに、挿
入によって生じる重合の均一および特有の部位(単独部
位触媒)によって達成される。
する担持触媒は、供与体−受容体橋によって、2つのシ
クロペンタジエニル格子または2つの配位子の中で得ら
れるくちばし方式の特有な開口を可能にし、さらに、高
い活性および高い立体選択性、制御された分子量分布お
よびコモノマーの均一な組み込みを確実にする。特有の
くちばし様開口の結果として、嵩高いコモノマーのため
の空間がある。分子量分布の高い均一性は、さらに、挿
入によって生じる重合の均一および特有の部位(単独部
位触媒)によって達成される。
【0060】D/A構造は、高い温度までの触媒の格別
な安定性を生み、触媒を、80〜250℃、好ましくは
80〜180℃の高い温度で使用することができる。供
与体−受容体結合の可能な熱的解離は、可逆的であり、
この自己組織化工程および自己修復機構の結果として、
特に望ましい触媒特性を導く。熱的解離は、例えば分子
量分布を特別に広げることができ、それによってポリマ
ーをより容易に加工できる。この効果は、例えば、これ
らの触媒において、配位子、例えばCpIおよびCpI
Iが、それぞれ共有結合およびD/A橋によって連結さ
れる場合に現われる。本発明によるD/Aメタロセン構
造は、例えば、常套の触媒で達成できないある程度の欠
点のないポリエチレン形成を可能にする。エテンポリマ
ーは、相応して、極めて高い溶融温度、例えば135〜
160℃(DSCカーブの最大値)を示し得る。重合工
程で直接形成され、140〜160℃(DSCカーブの
最大値)、好ましくは142〜160℃、特に好ましく
は144〜160℃を有するそのような直鎖状ポリエチ
レンは、新規である。そのような新規の高溶融点のポリ
エチレンは、例えば、既知のポリエチレンと比較して向
上した機械的性質および熱変形の安定性(医学用途での
滅菌適性)を示し、それによって、ポリエチレンでは以
前には不可能であった新しい潜在的な用途(例えば、こ
れまでは、高タクチックポリプロピレンのみにより満た
される用途)を開く。さらなる特徴は、高溶融エンタル
ピーおよび高いポリエチレン分子量である。
な安定性を生み、触媒を、80〜250℃、好ましくは
80〜180℃の高い温度で使用することができる。供
与体−受容体結合の可能な熱的解離は、可逆的であり、
この自己組織化工程および自己修復機構の結果として、
特に望ましい触媒特性を導く。熱的解離は、例えば分子
量分布を特別に広げることができ、それによってポリマ
ーをより容易に加工できる。この効果は、例えば、これ
らの触媒において、配位子、例えばCpIおよびCpI
Iが、それぞれ共有結合およびD/A橋によって連結さ
れる場合に現われる。本発明によるD/Aメタロセン構
造は、例えば、常套の触媒で達成できないある程度の欠
点のないポリエチレン形成を可能にする。エテンポリマ
ーは、相応して、極めて高い溶融温度、例えば135〜
160℃(DSCカーブの最大値)を示し得る。重合工
程で直接形成され、140〜160℃(DSCカーブの
最大値)、好ましくは142〜160℃、特に好ましく
は144〜160℃を有するそのような直鎖状ポリエチ
レンは、新規である。そのような新規の高溶融点のポリ
エチレンは、例えば、既知のポリエチレンと比較して向
上した機械的性質および熱変形の安定性(医学用途での
滅菌適性)を示し、それによって、ポリエチレンでは以
前には不可能であった新しい潜在的な用途(例えば、こ
れまでは、高タクチックポリプロピレンのみにより満た
される用途)を開く。さらなる特徴は、高溶融エンタル
ピーおよび高いポリエチレン分子量である。
【0061】ポリエチレン(PE)分子量は、重合温度
を上昇させることによって広い温度範囲で減少するが、
活性のかなりの減少はなく、全体として工業的に興味の
ある高いPE分子量および高いPE溶融点はなお保持さ
れている。
を上昇させることによって広い温度範囲で減少するが、
活性のかなりの減少はなく、全体として工業的に興味の
ある高いPE分子量および高いPE溶融点はなお保持さ
れている。
【0062】さらに、本発明による担持触媒は、適した
対称の供与体−受容体相互作用によって、上記の温度範
囲の上限部分で同じモノマー上でモノマー単位の増加す
る非特異的(アタクチック)カップリングを開始しない
で、適したモノマー上で領域特性(イソタクチック、シ
ンジオタクチック)重合を行うことが観測される。この
現象は、イオン結合と重なっている配位結合、例えば本
発明においてメタロセン化合物中の供与体−受容体結合
が、高い温度で向上する可逆性を示すことに一致してい
るが、まだ充分には研究されていない。したがって、例
えばエチレン−プロピレン共重合において、両方のコポ
リマーの同じ有効性によって、高いプロピレン含量のコ
ポリマーが低い重合温度で形成され、一方でプロピレン
含量が、重合温度を上昇させると減少し、最後には、主
にエチレンを含有するポリマーが、高い温度で形成され
ることが観測される。
対称の供与体−受容体相互作用によって、上記の温度範
囲の上限部分で同じモノマー上でモノマー単位の増加す
る非特異的(アタクチック)カップリングを開始しない
で、適したモノマー上で領域特性(イソタクチック、シ
ンジオタクチック)重合を行うことが観測される。この
現象は、イオン結合と重なっている配位結合、例えば本
発明においてメタロセン化合物中の供与体−受容体結合
が、高い温度で向上する可逆性を示すことに一致してい
るが、まだ充分には研究されていない。したがって、例
えばエチレン−プロピレン共重合において、両方のコポ
リマーの同じ有効性によって、高いプロピレン含量のコ
ポリマーが低い重合温度で形成され、一方でプロピレン
含量が、重合温度を上昇させると減少し、最後には、主
にエチレンを含有するポリマーが、高い温度で形成され
ることが観測される。
【0063】D/A構造の可逆的な解離および会合なら
びにそれによって可能になる互いの配位子(例えばCp
骨格)の回転は、以下のように図示されうる:
びにそれによって可能になる互いの配位子(例えばCp
骨格)の回転は、以下のように図示されうる:
【化27】
【0064】本発明による供与体−受容体相互作用を有
する担持触媒のさらに価値ある特性は、自己活性化でき
ることであり、高価な共触媒を、特にダイアニオン誘導
体の場合に使用しなくてよいことである。D/Aメタロ
セン化合物の開いた状態の受容体原子Aは、X−配位子
(例えば、双イオン構造を形成したダイアニオンの片
側)に結合し、それによって、遷移金属で負電荷を生
み、一方で受容体原子Aは、負電荷を採る。このこと
は、2つのX−配位子のキレート配位子(すなわち、ブ
タジエンジイル誘導体)への好ましいカップリングを例
にして示される:
する担持触媒のさらに価値ある特性は、自己活性化でき
ることであり、高価な共触媒を、特にダイアニオン誘導
体の場合に使用しなくてよいことである。D/Aメタロ
セン化合物の開いた状態の受容体原子Aは、X−配位子
(例えば、双イオン構造を形成したダイアニオンの片
側)に結合し、それによって、遷移金属で負電荷を生
み、一方で受容体原子Aは、負電荷を採る。このこと
は、2つのX−配位子のキレート配位子(すなわち、ブ
タジエンジイル誘導体)への好ましいカップリングを例
にして示される:
【化28】
【0065】遷移金属MとHまたは置換もしくは非置換
C(上記式ではブタジエンジイルジアニオンがまだ結合
しているC)の間の結合部位は、重合のためのオレフィ
ン挿入部位である。
C(上記式ではブタジエンジイルジアニオンがまだ結合
しているC)の間の結合部位は、重合のためのオレフィ
ン挿入部位である。
【0066】本発明に従って使用され、供与体−受容体
相互作用を有する担持触媒は、上記のさまざまな製造工
程に従って、熱可塑性および弾性ポリマーを製造するの
に適していて、それによって最適な溶融範囲を有する高
い結晶性のポリマーならびに最適ガラス転移点を有する
アモルファスポリマーが得られ得る。このようにして得
られたポリマーは、あらゆる種類の成形品、特にシー
ト、チューブ、異形材、円盤、光データ記録媒体、ケー
ブル外装および押出物を製造するために適している。以
下の実施例は、本発明を例示するもので、限定するもの
ではない。
相互作用を有する担持触媒は、上記のさまざまな製造工
程に従って、熱可塑性および弾性ポリマーを製造するの
に適していて、それによって最適な溶融範囲を有する高
い結晶性のポリマーならびに最適ガラス転移点を有する
アモルファスポリマーが得られ得る。このようにして得
られたポリマーは、あらゆる種類の成形品、特にシー
ト、チューブ、異形材、円盤、光データ記録媒体、ケー
ブル外装および押出物を製造するために適している。以
下の実施例は、本発明を例示するもので、限定するもの
ではない。
【0067】
【実施例】実施例1 エチレン重合 アルゴン流中、200℃で2時間乾燥したモンモリロナ
イト(200±20m 2/gの表面積)(Fluka AG Buch
s)1.25gを、仕切弁を通して、アルゴン雰囲気下
で、酸素を含まない加熱した300mL V4Aスチー
ルオートクレーブ中に添加した。トルエン中1モル溶液
として、トリイソブチルアンモニウム(TIBA)1.
5mmoleをシリンジによって注入し、オートクレー
ブの内容物をマグネチックスターラーによって室温で1
時間攪拌した。
イト(200±20m 2/gの表面積)(Fluka AG Buch
s)1.25gを、仕切弁を通して、アルゴン雰囲気下
で、酸素を含まない加熱した300mL V4Aスチー
ルオートクレーブ中に添加した。トルエン中1モル溶液
として、トリイソブチルアンモニウム(TIBA)1.
5mmoleをシリンジによって注入し、オートクレー
ブの内容物をマグネチックスターラーによって室温で1
時間攪拌した。
【0068】トルエン2mL中のD/A−メタロセン
[(cp)MePhPBCl2(cp)ZrCl2]0.5μmoleを注入し、
次いで全混合物をさらに1時間攪拌した。この工程の後
に、100mLを、ナトリウム乾燥トルエンを媒介とし
て、オートクレーブに移し、オートクレーブを45℃に
加熱して、エチレンを10barの圧力下で圧入し、混
合物を一定加圧下で30分間重合した。オートクレーブ
の温度が、発熱反応のために45℃から54℃に上昇し
た。オートクレーブの圧力を解放し、オートクレーブ内
容物を1Lエタノール中で攪拌し、固体物を吸引濾過
し、エタノールで洗浄し、減圧乾燥キャビネット中で8
0℃で恒量に乾燥した。触媒活性は、26.0t PE
(ポリエチレン)/mole Zr ×時間であった。分析デー
タを決定するために、ポリエチレンを、保護ガス下で1
20℃でo-ジクロロベンゼン中に溶解し、無機物質を濾
去によって分離し、ポリマーをエタノール中に沈殿し、
上記のように単離した。140℃でのo-ジクロロベンゼ
ン中の固有粘度ηは、4.15dl/gであり、これ
は、平均分子量Mv=402kg/moleに対応す
る。第2加熱でのDSC測定は、融点Tm=133℃、
溶融エンタルピーHm=140J/gを示した。
[(cp)MePhPBCl2(cp)ZrCl2]0.5μmoleを注入し、
次いで全混合物をさらに1時間攪拌した。この工程の後
に、100mLを、ナトリウム乾燥トルエンを媒介とし
て、オートクレーブに移し、オートクレーブを45℃に
加熱して、エチレンを10barの圧力下で圧入し、混
合物を一定加圧下で30分間重合した。オートクレーブ
の温度が、発熱反応のために45℃から54℃に上昇し
た。オートクレーブの圧力を解放し、オートクレーブ内
容物を1Lエタノール中で攪拌し、固体物を吸引濾過
し、エタノールで洗浄し、減圧乾燥キャビネット中で8
0℃で恒量に乾燥した。触媒活性は、26.0t PE
(ポリエチレン)/mole Zr ×時間であった。分析デー
タを決定するために、ポリエチレンを、保護ガス下で1
20℃でo-ジクロロベンゼン中に溶解し、無機物質を濾
去によって分離し、ポリマーをエタノール中に沈殿し、
上記のように単離した。140℃でのo-ジクロロベンゼ
ン中の固有粘度ηは、4.15dl/gであり、これ
は、平均分子量Mv=402kg/moleに対応す
る。第2加熱でのDSC測定は、融点Tm=133℃、
溶融エンタルピーHm=140J/gを示した。
【0069】実施例2 プロピレン重合 アルゴン流中、200℃で2時間乾燥したモンモリロナ
イト(200±20m 2/gの表面積)1.25gを、
仕切弁を通して、アルゴン雰囲気下で、酸素を含まない
加熱した300mL V4Aスチールオートクレーブ中
に添加した。トルエン中1モル溶液として、トリイソブ
チルアンモニウム(TIBA)1.5mmoleをシリ
ンジによって注入し、マグネチックスターラーによって
室温で1時間攪拌した。
イト(200±20m 2/gの表面積)1.25gを、
仕切弁を通して、アルゴン雰囲気下で、酸素を含まない
加熱した300mL V4Aスチールオートクレーブ中
に添加した。トルエン中1モル溶液として、トリイソブ
チルアンモニウム(TIBA)1.5mmoleをシリ
ンジによって注入し、マグネチックスターラーによって
室温で1時間攪拌した。
【0070】トルエン2mL中のD/A−メタロセン
[(cp)MePhPBCl2(cp)ZrCl2]0.5μmoleを注入し、
次いで全混合物をさらに1時間攪拌した。プロピレン約
1moleを加圧下でオートクレーブに添加し、オートクレ
ーブの内容物を30℃に加熱して、30分間重合した。
内部温度が、発熱反応のために30℃から41℃に上昇
した。オートクレーブの圧力を解放し、形成したポリマ
ーをトルエン中に溶解し、無機物質を濾過によって分離
した。トルエン中に溶解したポリマー溶液を1Lエタノ
ール中に沈殿させ、エタノールで洗浄し、ポリマーを濾
過によって分離し、減圧乾燥キャビネット中で80℃で
恒量に乾燥した。触媒活性は、17.2tPP(ポリプ
ロピレン)/mole Zr ×時間であった。140℃でのo-
ジクロロベンゼン中の固有粘度ηは、0.79dl/g
であった。第2加熱でのDSC測定は、ガラス転移点T
g=−3℃、溶融エンタルピーHm=1J/gを示した。 NMR分光法: イソタクチックインデックス II 57% 三成分分析 mm 30% mr/rm 54% rr 16%
[(cp)MePhPBCl2(cp)ZrCl2]0.5μmoleを注入し、
次いで全混合物をさらに1時間攪拌した。プロピレン約
1moleを加圧下でオートクレーブに添加し、オートクレ
ーブの内容物を30℃に加熱して、30分間重合した。
内部温度が、発熱反応のために30℃から41℃に上昇
した。オートクレーブの圧力を解放し、形成したポリマ
ーをトルエン中に溶解し、無機物質を濾過によって分離
した。トルエン中に溶解したポリマー溶液を1Lエタノ
ール中に沈殿させ、エタノールで洗浄し、ポリマーを濾
過によって分離し、減圧乾燥キャビネット中で80℃で
恒量に乾燥した。触媒活性は、17.2tPP(ポリプ
ロピレン)/mole Zr ×時間であった。140℃でのo-
ジクロロベンゼン中の固有粘度ηは、0.79dl/g
であった。第2加熱でのDSC測定は、ガラス転移点T
g=−3℃、溶融エンタルピーHm=1J/gを示した。 NMR分光法: イソタクチックインデックス II 57% 三成分分析 mm 30% mr/rm 54% rr 16%
【0071】実施例3 エチレン−プロピレン−ENB
三元重合 アルゴン流中、200℃で2時間乾燥したモンモリロナ
イト(200±20m 2/gの表面積)1.25gを、
仕切弁を通して、アルゴン雰囲気下で、酸素を含まない
加熱した300mL V4Aスチールオートクレーブ中
で添加した。トルエン中1モル溶液として、トリイソブ
チルアンモニウム(TIBA)1.5mmoleをシリ
ンジによって注入し、マグネチックスターラーによって
室温で1時間攪拌した。
三元重合 アルゴン流中、200℃で2時間乾燥したモンモリロナ
イト(200±20m 2/gの表面積)1.25gを、
仕切弁を通して、アルゴン雰囲気下で、酸素を含まない
加熱した300mL V4Aスチールオートクレーブ中
で添加した。トルエン中1モル溶液として、トリイソブ
チルアンモニウム(TIBA)1.5mmoleをシリ
ンジによって注入し、マグネチックスターラーによって
室温で1時間攪拌した。
【0072】トルエン2mL中のD/A−メタロセン
[(cp)Me2PBCl2(cp)ZrCl2]0.5μmoleを注入し、さ
らに1時間攪拌した。次に、ナトリウムで乾燥したトル
エン100mLおよび5−エチリデン−2−ノルボルネ
ン(ENB)1gをオートクレーブに入れた。オートク
レーブを45℃に加熱した後、プロピレン10gを、仕
切弁装置を通して圧入し、オートクレーブ中の内部圧力
を、エチレンを添加することによって約3barから7
barへ4bar上昇させた。30分の重合後、オート
クレーブの圧力を解放し、オートクレーブ内容物をトル
エンで希釈し、50μm濾過布によって濾過し、濾液を
1Lエタノール中に沈殿させ、ポリマーを濾過によって
単離し、エタノールで洗浄し、減圧乾燥キャビネット中
で80℃に恒量に乾燥した。触媒活性は、16.8t
EPDM/mole Zr ×時間であった。140℃でのo-ジ
クロロベンゼン中の固有粘度ηは、1.19dl/gで
あった。第2加熱のDSC測定は、ガラス転移点Tg=
−45℃、ガラス転移点Te=−49℃、溶融エンタル
ピーHm=28J/gを示す。IR分光法によって測定
されたEPDMゴムの組成は、以下のとおりであった: エテン 61重量% プロペン 31重量% ENB 8重量%
[(cp)Me2PBCl2(cp)ZrCl2]0.5μmoleを注入し、さ
らに1時間攪拌した。次に、ナトリウムで乾燥したトル
エン100mLおよび5−エチリデン−2−ノルボルネ
ン(ENB)1gをオートクレーブに入れた。オートク
レーブを45℃に加熱した後、プロピレン10gを、仕
切弁装置を通して圧入し、オートクレーブ中の内部圧力
を、エチレンを添加することによって約3barから7
barへ4bar上昇させた。30分の重合後、オート
クレーブの圧力を解放し、オートクレーブ内容物をトル
エンで希釈し、50μm濾過布によって濾過し、濾液を
1Lエタノール中に沈殿させ、ポリマーを濾過によって
単離し、エタノールで洗浄し、減圧乾燥キャビネット中
で80℃に恒量に乾燥した。触媒活性は、16.8t
EPDM/mole Zr ×時間であった。140℃でのo-ジ
クロロベンゼン中の固有粘度ηは、1.19dl/gで
あった。第2加熱のDSC測定は、ガラス転移点Tg=
−45℃、ガラス転移点Te=−49℃、溶融エンタル
ピーHm=28J/gを示す。IR分光法によって測定
されたEPDMゴムの組成は、以下のとおりであった: エテン 61重量% プロペン 31重量% ENB 8重量%
【0073】実施例4 エチレン−プロピレン−ENB
三元重合 [(cp)Et2PBCl2(cp)ZrCl2]をD/A−メタロセンとして
使用する以外は実施例3に記載の方法を繰り返した。オ
ートクレーブの内部温度は、重合の間に45℃から48
℃に上昇した。触媒活性は、約13t EPDM/mole
Zr ×時間であった。アモルファスゴムの140℃での
o-ジクロロベンゼン中の固有粘度ηは、約1dl/gで
あった。第2加熱でのDSC測定は、ガラス転移点Tg
=−51℃を示した。IR分光法によって測定されたE
PDMゴムの組成は、次のとおりであった: エテン 55重量% プロペン 39重量% ENB 6重量%
三元重合 [(cp)Et2PBCl2(cp)ZrCl2]をD/A−メタロセンとして
使用する以外は実施例3に記載の方法を繰り返した。オ
ートクレーブの内部温度は、重合の間に45℃から48
℃に上昇した。触媒活性は、約13t EPDM/mole
Zr ×時間であった。アモルファスゴムの140℃での
o-ジクロロベンゼン中の固有粘度ηは、約1dl/gで
あった。第2加熱でのDSC測定は、ガラス転移点Tg
=−51℃を示した。IR分光法によって測定されたE
PDMゴムの組成は、次のとおりであった: エテン 55重量% プロペン 39重量% ENB 6重量%
【0074】実施例5 プロピレン重合rac -[2-Me-ind)-Et2PBCl2(2-Me-ind)ZrCl2]をD/A−
メタロセンとして使用し、モンモリロナイトを200℃
で6×10-3mbarで5時間乾燥した以外は実施例2
に記載の方法を繰り返した。オートクレーブ内容物を約
40℃でプロピレンの存在下で加熱した。形成されたポ
リプロピレンの140℃でのo-ジクロロベンゼン中の固
有粘度ηは、2.13dl/gであった。第2加熱での
DSC測定は、ガラス転移点−6℃および融点最大値1
51℃を示した。
メタロセンとして使用し、モンモリロナイトを200℃
で6×10-3mbarで5時間乾燥した以外は実施例2
に記載の方法を繰り返した。オートクレーブ内容物を約
40℃でプロピレンの存在下で加熱した。形成されたポ
リプロピレンの140℃でのo-ジクロロベンゼン中の固
有粘度ηは、2.13dl/gであった。第2加熱での
DSC測定は、ガラス転移点−6℃および融点最大値1
51℃を示した。
【0075】実施例6 エチレン−プロピレン−ENB
三元重合 トリイソブチルアルミニウム3mmoleとともにモン
モリロナイト2gに対しD/Aメタロセン1μmole
を使用する以外は実施例3に記載の方法を繰り返した。
触媒活性は、約12t EPDM/mole Zr ×時間であ
った。 η(o-ジクロロベンゼン、140℃)=1.1dl/g Tg(DSC、第2加熱)=−48℃ IR:エテン 57重量% プロペン 35重量% ENB 8重量%
三元重合 トリイソブチルアルミニウム3mmoleとともにモン
モリロナイト2gに対しD/Aメタロセン1μmole
を使用する以外は実施例3に記載の方法を繰り返した。
触媒活性は、約12t EPDM/mole Zr ×時間であ
った。 η(o-ジクロロベンゼン、140℃)=1.1dl/g Tg(DSC、第2加熱)=−48℃ IR:エテン 57重量% プロペン 35重量% ENB 8重量%
【0076】比較例7 エチレン−プロピレン−ENB
三元重合 アルゴン流中、200℃で2時間で、まず第一に乾燥し
たモンモリロナイトシリカゲル(Grace Type 332)を担
体材料として使用する以外は実施例6を繰り返した。触
媒活性は、たった0.4t 形成ポリマー/mole Zr ×
時間であった。
三元重合 アルゴン流中、200℃で2時間で、まず第一に乾燥し
たモンモリロナイトシリカゲル(Grace Type 332)を担
体材料として使用する以外は実施例6を繰り返した。触
媒活性は、たった0.4t 形成ポリマー/mole Zr ×
時間であった。
【0077】実施例8 触媒の製造 すべての反応を、厳密に嫌気性条件下で、Schlenk技術
または高い真空技術を用いて行った。使用した溶媒を、
乾燥し、アルゴンで飽和した。化学シフトδは、それぞ
れの標準1H(テトラメチルシラン)、11B(ボラント
リフルオライドエーテラート)、13C(テトラメチルシ
ラン)、31P(85%、リン酸)に対するppmで示さ
れる。負の印は、より高い領域へのシフトを示す。
または高い真空技術を用いて行った。使用した溶媒を、
乾燥し、アルゴンで飽和した。化学シフトδは、それぞ
れの標準1H(テトラメチルシラン)、11B(ボラント
リフルオライドエーテラート)、13C(テトラメチルシ
ラン)、31P(85%、リン酸)に対するppmで示さ
れる。負の印は、より高い領域へのシフトを示す。
【0078】(ジメチルホスフィノ−ジクロロボラニ
ル)−結合ビス(シクロ−ペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロライド[(cp)Me2 PBC2 (cp)ZrCl2 トリメチルシリル−シクロペンタジエン(Fluka)0.
1moleを、Schlenkフラスコ中に入れ、乾燥ジエチ
ルエーテル700mLで希釈し、−20℃に冷却した。
ブチルリチウム(ヘキサン中2.5モル溶液)0.1m
oleを、この溶液に滴下し、得られた懸濁液を室温で
2時間攪拌した。次いで、ジエチルエーテル50mL中
のジメチルクロロホスファン0.1moleを室温で一
晩攪拌し、溶媒を減圧下で除去し、次いで残留物をヘキ
サン200mL中に溶解した。濾過後、溶媒を減圧下で
除去し、シリル化供与体配位子Me2P(cp)SiMe3を10-2T
orrの圧力下で再び濃縮した。
ル)−結合ビス(シクロ−ペンタジエニル)ジルコニウ
ムジクロライド[(cp)Me2 PBC2 (cp)ZrCl2 トリメチルシリル−シクロペンタジエン(Fluka)0.
1moleを、Schlenkフラスコ中に入れ、乾燥ジエチ
ルエーテル700mLで希釈し、−20℃に冷却した。
ブチルリチウム(ヘキサン中2.5モル溶液)0.1m
oleを、この溶液に滴下し、得られた懸濁液を室温で
2時間攪拌した。次いで、ジエチルエーテル50mL中
のジメチルクロロホスファン0.1moleを室温で一
晩攪拌し、溶媒を減圧下で除去し、次いで残留物をヘキ
サン200mL中に溶解した。濾過後、溶媒を減圧下で
除去し、シリル化供与体配位子Me2P(cp)SiMe3を10-2T
orrの圧力下で再び濃縮した。
【0079】トルエン100mL中のシリル化供与体配
位子0.07mole溶液を、トルエン200mL中の
ジルコニウムテトラクロライド0.07moleの0℃
へ冷却した懸濁液に約3時間かけて添加し、黄色の懸濁
液を室温で一晩攪拌した。かすかに溶解できる黄色のD-
ハーフ−サンドイッチ錯体を、濾過によって分離し、ト
ルエンによって洗浄し、減圧下(10-3Torr)で乾燥
し、シリル化受容体配位子と反応させ、D/Aメタロセ
ンを形成した。次いで、D−ハーフ−サンドイッチ錯体
0.01moleをトルエン200mL中で再懸濁し、
40mLトルエン中のシリル化受容体配位子BCl2(cp)Si
Me3をゆっくり0℃で滴下した。
位子0.07mole溶液を、トルエン200mL中の
ジルコニウムテトラクロライド0.07moleの0℃
へ冷却した懸濁液に約3時間かけて添加し、黄色の懸濁
液を室温で一晩攪拌した。かすかに溶解できる黄色のD-
ハーフ−サンドイッチ錯体を、濾過によって分離し、ト
ルエンによって洗浄し、減圧下(10-3Torr)で乾燥
し、シリル化受容体配位子と反応させ、D/Aメタロセ
ンを形成した。次いで、D−ハーフ−サンドイッチ錯体
0.01moleをトルエン200mL中で再懸濁し、
40mLトルエン中のシリル化受容体配位子BCl2(cp)Si
Me3をゆっくり0℃で滴下した。
【0080】室温でさらに一晩反応させた後、錯体を濾
過し、濾液を濁り始めるまで減圧下で蒸発することによ
り濃縮し、次いで深い冷却キャビネット中で結晶化し
た。D/Aメタロセンは、トルエンからの再結晶によっ
て、X線構造分析のための細い針形態で得られた。 X線構造分析 1: d(PB)=198.25(13)pm d(centroid CppZr)=221.5pm d(Zr-cpB centroid)=219.2pm 角度(centroid-Zr-centroid)=127.9° 角度(Cl-Zr-Cl)=96.562(12)°31 P{1H}NMR(162MHz、CD2Cl2)δ=-7.7(m)11 B{1H}NMR(128MHz、CD2Cl2)δ=-0.1(d, 1J31P
11B=120Hz)11 C{1H}NMR(101MHz、CD2Cl2)δ=+8.7(d, 1J31P
11C=41Hz, CH3),+104.1(d, 1J31P13C=66Hz, C p-α)+11
9.4(s,C B-β),+120.2(d, 2J31P13C=8Hz, C p-β),+123.2
(d, 3J31P13C=7Hz, C p-γ)+125.7(s,C B-γ)1 H NMR(400MHz、CD2Cl2)δ=+1.94(d, 2J31P1H=1
2.0Hz, CH3),+6.56(m, C B-βH), +6.74(pseudo-q,3Hz,
Cp-γH), +6.79(pseudo-t,3Hz, CB-γH), +7.01(pseud
o-q,3Hz, Cp-βH). この帰属は、2D NMR spectr
a 1H NOESY, 1H13CHMQC, 1H13C HMBCに基づく。
過し、濾液を濁り始めるまで減圧下で蒸発することによ
り濃縮し、次いで深い冷却キャビネット中で結晶化し
た。D/Aメタロセンは、トルエンからの再結晶によっ
て、X線構造分析のための細い針形態で得られた。 X線構造分析 1: d(PB)=198.25(13)pm d(centroid CppZr)=221.5pm d(Zr-cpB centroid)=219.2pm 角度(centroid-Zr-centroid)=127.9° 角度(Cl-Zr-Cl)=96.562(12)°31 P{1H}NMR(162MHz、CD2Cl2)δ=-7.7(m)11 B{1H}NMR(128MHz、CD2Cl2)δ=-0.1(d, 1J31P
11B=120Hz)11 C{1H}NMR(101MHz、CD2Cl2)δ=+8.7(d, 1J31P
11C=41Hz, CH3),+104.1(d, 1J31P13C=66Hz, C p-α)+11
9.4(s,C B-β),+120.2(d, 2J31P13C=8Hz, C p-β),+123.2
(d, 3J31P13C=7Hz, C p-γ)+125.7(s,C B-γ)1 H NMR(400MHz、CD2Cl2)δ=+1.94(d, 2J31P1H=1
2.0Hz, CH3),+6.56(m, C B-βH), +6.74(pseudo-q,3Hz,
Cp-γH), +6.79(pseudo-t,3Hz, CB-γH), +7.01(pseud
o-q,3Hz, Cp-βH). この帰属は、2D NMR spectr
a 1H NOESY, 1H13CHMQC, 1H13C HMBCに基づく。
【0081】実施例9 エチレン−ヘキサン共重合 アルゴン流中、200℃で2時間乾燥したモンモリロナ
イト(200±20m 2/gの表面積)(KIO)0.75
gを、仕切弁を通して、アルゴン雰囲気下で、酸素を含
まないトーチ乾燥した300mL V4Aオートクレー
ブ中に添加した。トルエン中1モル溶液として、トリイ
ソブチルアンモニウム(TIBA)0.75mmole
をシリンジによって注入し、マグネチックスターラーに
よって室温で1時間攪拌した。
イト(200±20m 2/gの表面積)(KIO)0.75
gを、仕切弁を通して、アルゴン雰囲気下で、酸素を含
まないトーチ乾燥した300mL V4Aオートクレー
ブ中に添加した。トルエン中1モル溶液として、トリイ
ソブチルアンモニウム(TIBA)0.75mmole
をシリンジによって注入し、マグネチックスターラーに
よって室温で1時間攪拌した。
【0082】トルエン0.5mL中のD/A−メタロセ
ン[(cp)Et2PBCl2(cp)ZrCl2]0.25mmoleを注入
し、次いでさらに1時間攪拌した。乾燥アルゴン飽和1
−ヘキセン100g(148.6mL)をオートクレー
ブに入れ、混合物を40℃に加熱し、エテン圧力を10
barsに調節した。内部温度は、40℃から44℃に
上昇した。30分の重合後、オートクレーブを脱圧し、
透明かつ粘着性のオートクレーブ内容物をトルエンで希
釈し、濾過し、コポリマーを、エタノール1L中で沈殿
させ、濾過によって単離し、エタノールによって洗浄
し、減圧乾燥キャビネット中で80℃で一定重量に乾燥
した。 収量:5g 触媒活性:40t コポリマー/mole Zr ×時間 コポリマー組成(NMR): ヘキセン 58.4重量%および31.8モル% エテン 41.6重量%および68.2モル% o−ジクロロベンゼン中の固有粘度:1.22dl/g DSC(第2加熱): ガラス転移温度 Te=−67℃ ガラス転移温度 Tg=−65℃
ン[(cp)Et2PBCl2(cp)ZrCl2]0.25mmoleを注入
し、次いでさらに1時間攪拌した。乾燥アルゴン飽和1
−ヘキセン100g(148.6mL)をオートクレー
ブに入れ、混合物を40℃に加熱し、エテン圧力を10
barsに調節した。内部温度は、40℃から44℃に
上昇した。30分の重合後、オートクレーブを脱圧し、
透明かつ粘着性のオートクレーブ内容物をトルエンで希
釈し、濾過し、コポリマーを、エタノール1L中で沈殿
させ、濾過によって単離し、エタノールによって洗浄
し、減圧乾燥キャビネット中で80℃で一定重量に乾燥
した。 収量:5g 触媒活性:40t コポリマー/mole Zr ×時間 コポリマー組成(NMR): ヘキセン 58.4重量%および31.8モル% エテン 41.6重量%および68.2モル% o−ジクロロベンゼン中の固有粘度:1.22dl/g DSC(第2加熱): ガラス転移温度 Te=−67℃ ガラス転移温度 Tg=−65℃
【0083】以上、種々の実施例を挙げて本発明を詳し
く説明したが、これらの実施例は、単に本発明を説明す
るために開示したものであって、この開示から、当業者
ならば、種々の変形例をなすことができ、これらの変形
例は、本発明の精神および請求の範囲を逸脱しない限
り、本発明に包含されるものと理解すべきである。
く説明したが、これらの実施例は、単に本発明を説明す
るために開示したものであって、この開示から、当業者
ならば、種々の変形例をなすことができ、これらの変形
例は、本発明の精神および請求の範囲を逸脱しない限
り、本発明に包含されるものと理解すべきである。
【0084】本発明の好ましい態様は、以下のとおりで
ある。 A.イオン交換担体材料が、モンモリロナイトまたはモ
ンモリロナイト含有混合物である請求項1に記載の触媒
系。 B.共触媒が、アルミノキサンである請求項1に記載の
触媒系。 C.アルミノキサンがメチルアルミノキサン(MAO)
である前項Bに記載の触媒系。 D.共触媒がアルキルアルミニウムまたはアルキルリチ
ウムである請求項1に記載の触媒系。 E.アルキルアルミニウムが、トリメチルアルミニウ
ム、トリエチルアルミニウム、トリ(n−プロピル)ア
ルミニウム、ジブチルアルミニウムハイドライド、トリ
イソブチルアルミニウム、トリ(n−ブチル)アルミニ
ウム、トリ(n−ヘキシル)アルミニウム、トリ(n−
オクチル)アルミニウムまたはトリイソオクチルアルミ
ニウムからなる群から選択される前項Dに記載の触媒
系。
ある。 A.イオン交換担体材料が、モンモリロナイトまたはモ
ンモリロナイト含有混合物である請求項1に記載の触媒
系。 B.共触媒が、アルミノキサンである請求項1に記載の
触媒系。 C.アルミノキサンがメチルアルミノキサン(MAO)
である前項Bに記載の触媒系。 D.共触媒がアルキルアルミニウムまたはアルキルリチ
ウムである請求項1に記載の触媒系。 E.アルキルアルミニウムが、トリメチルアルミニウ
ム、トリエチルアルミニウム、トリ(n−プロピル)ア
ルミニウム、ジブチルアルミニウムハイドライド、トリ
イソブチルアルミニウム、トリ(n−ブチル)アルミニ
ウム、トリ(n−ヘキシル)アルミニウム、トリ(n−
オクチル)アルミニウムまたはトリイソオクチルアルミ
ニウムからなる群から選択される前項Dに記載の触媒
系。
【0085】F.アルミノキサンがメチルアルミノキサ
ン(MAO)である請求項4に記載の方法。 G.共触媒がアルキルアルミニウムまたはアルキルリチ
ウムである請求項2に記載の方法。 H. アルキルアルミニウムが、トリメチルアルミニウ
ム、トリエチルアルミニウム、トリ(n−プロピル)ア
ルミニウム、ジブチルアルミニウムハイドライド、トリ
イソブチルアルミニウム、トリ(n−ブチル)アルミニ
ウム、トリ(n−ヘキシル)アルミニウム、トリ(n−
オクチル)アルミニウムまたはトリイソオクチルアルミ
ニウムからなる群から選択される前項Gに記載の方法。 I.a)少なくとも1つの供与体−受容体相互作用を有
する遷移金属化合物、 b)層状格子構造を有するイオン交換担体材料および c)任意の1またはそれ以上の共触媒 を含有する触媒系によるモノマーの反応を含んでなる重
合方法によって製造されるポリマー。 J.a)少なくとも1つの供与体−受容体相互作用を有
する遷移金属化合物、 b)層状格子構造を有するイオン交換担体材料および c)任意の1またはそれ以上の共触媒 を含有する触媒系によるモノマーの反応を含んでなる重
合方法によって製造されたポリマーを含んでなる成形
品。
ン(MAO)である請求項4に記載の方法。 G.共触媒がアルキルアルミニウムまたはアルキルリチ
ウムである請求項2に記載の方法。 H. アルキルアルミニウムが、トリメチルアルミニウ
ム、トリエチルアルミニウム、トリ(n−プロピル)ア
ルミニウム、ジブチルアルミニウムハイドライド、トリ
イソブチルアルミニウム、トリ(n−ブチル)アルミニ
ウム、トリ(n−ヘキシル)アルミニウム、トリ(n−
オクチル)アルミニウムまたはトリイソオクチルアルミ
ニウムからなる群から選択される前項Gに記載の方法。 I.a)少なくとも1つの供与体−受容体相互作用を有
する遷移金属化合物、 b)層状格子構造を有するイオン交換担体材料および c)任意の1またはそれ以上の共触媒 を含有する触媒系によるモノマーの反応を含んでなる重
合方法によって製造されるポリマー。 J.a)少なくとも1つの供与体−受容体相互作用を有
する遷移金属化合物、 b)層状格子構造を有するイオン交換担体材料および c)任意の1またはそれ以上の共触媒 を含有する触媒系によるモノマーの反応を含んでなる重
合方法によって製造されたポリマーを含んでなる成形
品。
Claims (4)
- 【請求項1】 a)少なくとも1種の供与体−受容体相
互作用を有する遷移金属化合物、 b)層状格子構造を有するイオン交換担体材料および c)任意の1またはそれ以上の共触媒 を含有する触媒系。 - 【請求項2】 a)少なくとも1種の供与体−受容体相
互作用を有する遷移金属化合物、 b)層状格子構造を有するイオン交換担体材料および c)任意の1またはそれ以上の共触媒 を含有する触媒系によって、モノマーの相互作用を有す
るα−オレフィン、i−オレフィン、シクロオレフィ
ン、アルケンおよび/またはジオレフィンを製造する方
法。 - 【請求項3】 イオン交換担体材料が、モンモリロナイ
トまたはモンモリロナイト含有混合物である請求項2に
記載の方法。 - 【請求項4】 共触媒が、アルミノキサンである請求項
2に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19915108-3 | 1999-04-01 | ||
DE19915108A DE19915108A1 (de) | 1999-04-01 | 1999-04-01 | Geträgerte Katalysatoren mit einer Donor-Akzeptor-Wechselwirkung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000319313A true JP2000319313A (ja) | 2000-11-21 |
Family
ID=7903407
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2000100908A Pending JP2000319313A (ja) | 1999-04-01 | 2000-04-03 | 供与体−受容体相互作用を有する担持触媒 |
Country Status (12)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6353064B1 (ja) |
EP (1) | EP1041086B1 (ja) |
JP (1) | JP2000319313A (ja) |
KR (1) | KR20000071523A (ja) |
CN (2) | CN1118480C (ja) |
AT (1) | ATE259836T1 (ja) |
CA (1) | CA2302890A1 (ja) |
DE (2) | DE19915108A1 (ja) |
ES (1) | ES2215507T3 (ja) |
NO (1) | NO20001674L (ja) |
RU (1) | RU2277101C2 (ja) |
SA (1) | SA00210230B1 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6214946B1 (en) * | 1999-05-19 | 2001-04-10 | Union Carbide Chemicals & Plastics Technology Corporation | Inert particulate material passivation for single-site catalyst in EPDM production |
US20040010102A1 (en) * | 2000-10-24 | 2004-01-15 | Devore David D. | Bridged ylide group containning metal complexes |
DE10114345A1 (de) | 2001-03-23 | 2002-09-26 | Bayer Ag | Katalysator mit einer Donor-Akzeptor-Wechselwirkung |
KR100914423B1 (ko) * | 2001-09-14 | 2009-08-27 | 바젤 폴리올레핀 게엠베하 | 올레핀의 중합 방법 |
DE10244213A1 (de) * | 2002-09-23 | 2004-04-01 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Homo-, Copolymeren und/oder Blockcopolymeren mit Metallocenen mit einer Donor-Akzeptor-Wechselwirkung nach der lebenden Polymerisation |
DE10244214A1 (de) * | 2002-09-23 | 2004-04-01 | Bayer Ag | Übergangsmetallverbindungen mit Donor-Akzeptor-Wechselwirkung und speziellem Substitutionsmuster |
US7119153B2 (en) * | 2004-01-21 | 2006-10-10 | Jensen Michael D | Dual metallocene catalyst for producing film resins with good machine direction (MD) elmendorf tear strength |
WO2005108435A1 (en) * | 2004-04-23 | 2005-11-17 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Phosphorus bridged metallocene compounds for olefin polymerization |
KR100988055B1 (ko) * | 2007-04-30 | 2010-10-18 | 주식회사 엘지화학 | 헤테로 원자를 포함하는 새로운 4족 전이금속 화합물 |
CN110935489B (zh) * | 2019-05-31 | 2021-10-26 | 东华大学 | 通过氢键作用的负载型过渡金属催化剂体系及其制备方法 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5580939A (en) | 1983-06-06 | 1996-12-03 | Exxon Chemical Patents Inc. | Process and catalyst for polyolefin density and molecular weight control |
US5324800A (en) | 1983-06-06 | 1994-06-28 | Exxon Chemical Patents Inc. | Process and catalyst for polyolefin density and molecular weight control |
JPH07100724B2 (ja) * | 1986-12-18 | 1995-11-01 | 三井東圧化学株式会社 | エチレンとα−オレフインの共重合方法 |
TW218884B (ja) * | 1991-05-01 | 1994-01-11 | Mitsubishi Kakoki Kk | |
US5332708A (en) | 1992-11-23 | 1994-07-26 | Phillips Petroleum Company | Catalyst compositions and catalytic processes |
GB9304521D0 (en) | 1993-03-05 | 1993-04-21 | Exxon Chemical Patents Inc | Improved alumoxane,method for its preparation and polymerisation process using such alumoxane |
JPH0753621A (ja) | 1993-08-12 | 1995-02-28 | Mitsubishi Chem Corp | オレフィン重合用触媒及びオレフィン重合体の製造方法 |
DE69412047T2 (de) | 1993-12-17 | 1999-04-15 | Tosoh Corp | Olefinpolymerisationkatalysator und Verfahren zur Olefinpolymerisation |
JP3429088B2 (ja) | 1994-05-18 | 2003-07-22 | 三菱化学株式会社 | エチレン系重合体 |
JP3376091B2 (ja) | 1994-05-18 | 2003-02-10 | 三菱化学株式会社 | オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 |
EP0683180B1 (en) | 1994-05-18 | 2002-03-06 | Mitsubishi Chemical Corporation | Catalyst for polymerizing an olefin and method for polymerizing the olefin |
JPH07309906A (ja) | 1994-05-18 | 1995-11-28 | Mitsubishi Chem Corp | オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 |
MY112177A (en) | 1994-09-30 | 2001-04-30 | Mitsui Chemicals Inc | Olefin polymerization catalyst and process for olefin polymerization |
JP3572328B2 (ja) | 1995-06-16 | 2004-09-29 | 東ソー株式会社 | エチレン系重合体の製造方法 |
JPH09291112A (ja) | 1996-04-25 | 1997-11-11 | Tosoh Corp | 超高分子量エチレン系重合体、その粉末及びそれらの製造方法 |
US5747404A (en) | 1996-05-28 | 1998-05-05 | Lyondell Petrochemical Company | Polysiloxane supported metallocene catalysts |
DE19627064C2 (de) * | 1996-07-05 | 1998-12-03 | Bayer Ag | Metallocen-Verbindungen, Verfahren zu deren Herstellung, sowie ihre Verwendung |
JP3383155B2 (ja) | 1996-06-26 | 2003-03-04 | 三菱化学株式会社 | エチレン系重合体 |
US6174974B1 (en) * | 1996-07-05 | 2001-01-16 | Bayer Aktiengesellschaft | Method for producing thermoplastic elastomers |
US6021380A (en) | 1996-07-09 | 2000-02-01 | Scanis, Inc. | Automatic semiconductor wafer sorter/prober with extended optical inspection |
JP3635822B2 (ja) | 1996-11-06 | 2005-04-06 | 東ソー株式会社 | オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 |
EP1312619B1 (en) * | 1996-12-09 | 2007-11-14 | Mitsubishi Chemical Corporation | Catalyst for the polymerisation of alpha olefins |
JPH10168111A (ja) | 1996-12-09 | 1998-06-23 | Mitsubishi Chem Corp | オレフィン重合用触媒およびオレフィンの重合方法 |
US5906955A (en) | 1996-12-20 | 1999-05-25 | Tosoh Corporation | Catalyst for polymerization of an olefin, and method for producing an olefin polymer |
JP3629113B2 (ja) | 1996-12-24 | 2005-03-16 | 三菱化学株式会社 | オレフィンの多段階重合方法 |
KR20000070006A (ko) | 1997-01-08 | 2000-11-25 | 마이클 비. 키한 | 탄화수소 수지 제조용 촉매로서의 플루오르화 고체산 |
JP3458656B2 (ja) * | 1997-05-27 | 2003-10-20 | 東ソー株式会社 | オレフィン重合用触媒およびオレフィン重合体の製造方法 |
DE19757218A1 (de) * | 1997-12-22 | 1999-06-24 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Elastomeren |
DE19757524A1 (de) * | 1997-12-23 | 1999-06-24 | Bayer Ag | eta-Komplex-Verbindungen |
WO2000005271A1 (fr) * | 1998-07-24 | 2000-02-03 | Japan Polychem Corporation | Procede relatif a l'elaboration de polymere olefinique |
KR100367463B1 (ko) * | 1999-03-03 | 2003-01-14 | 주식회사 엘지화학 | 메탈로센 화합물 및 이를 이용한 올레핀 중합 |
-
1999
- 1999-04-01 DE DE19915108A patent/DE19915108A1/de not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-03-20 EP EP00105375A patent/EP1041086B1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-20 DE DE50005290T patent/DE50005290D1/de not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-20 ES ES00105375T patent/ES2215507T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-03-20 AT AT00105375T patent/ATE259836T1/de not_active IP Right Cessation
- 2000-03-22 US US09/532,932 patent/US6353064B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-29 CA CA002302890A patent/CA2302890A1/en not_active Abandoned
- 2000-03-31 CN CN00105380A patent/CN1118480C/zh not_active Expired - Fee Related
- 2000-03-31 RU RU2000107894/04A patent/RU2277101C2/ru not_active IP Right Cessation
- 2000-03-31 KR KR1020000016758A patent/KR20000071523A/ko active IP Right Grant
- 2000-03-31 CN CNA031043550A patent/CN1510056A/zh active Pending
- 2000-03-31 NO NO20001674A patent/NO20001674L/no unknown
- 2000-04-03 JP JP2000100908A patent/JP2000319313A/ja active Pending
- 2000-07-11 SA SA00210230A patent/SA00210230B1/ar unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1041086B1 (de) | 2004-02-18 |
RU2277101C2 (ru) | 2006-05-27 |
CA2302890A1 (en) | 2000-10-01 |
CN1270082A (zh) | 2000-10-18 |
CN1510056A (zh) | 2004-07-07 |
EP1041086A2 (de) | 2000-10-04 |
SA00210230B1 (ar) | 2006-09-05 |
EP1041086A3 (de) | 2000-11-02 |
NO20001674L (no) | 2000-10-02 |
CN1118480C (zh) | 2003-08-20 |
ATE259836T1 (de) | 2004-03-15 |
DE19915108A1 (de) | 2000-10-05 |
ES2215507T3 (es) | 2004-10-16 |
NO20001674D0 (no) | 2000-03-31 |
DE50005290D1 (de) | 2004-03-25 |
US6353064B1 (en) | 2002-03-05 |
KR20000071523A (ko) | 2000-11-25 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2201935C2 (ru) | Металлоценовые соединения, способы их получения | |
AU2003211542B2 (en) | Bridged metallocene compound for olefin polymerization and method of polymerizing olefin using the same | |
JP2000514118A (ja) | 高融点ポリオレフィン類の製造方法 | |
JPH11349633A (ja) | 新規な遷移金属化合物、オレフィン重合用触媒成分およびα−オレフィン重合体の製造方法 | |
KR102024328B1 (ko) | 메탈로센 화합물, 이를 포함하는 촉매 조성물 및 이를 이용한 올레핀 중합체의 제조방법 | |
US6642400B2 (en) | Linked metallocene complexes, catalyst systems, and olefin polymerization processes using same | |
JP2000319313A (ja) | 供与体−受容体相互作用を有する担持触媒 | |
JPH11315089A (ja) | 有機金属化合物 | |
JP2004521165A (ja) | 触媒系及び重合プロセスにおけるその使用 | |
JP2000095791A (ja) | 遷移金属化合物、オレフィン重合用触媒成分およびα―オレフィン重合体の製造方法 | |
US6657027B2 (en) | Catalysts with a donor-acceptor interaction | |
JP2001527099A (ja) | エラストマーの製造方法 | |
JP3811563B2 (ja) | 新規な遷移金属化合物、α−オレフィン重合用触媒成分およびα−オレフィン重合体の製造方法 | |
JP2001527086A (ja) | π錯体化合物 | |
KR102022685B1 (ko) | 메탈로센 화합물, 이를 포함하는 촉매 조성물 및 이를 이용한 올레핀 중합체의 제조방법 | |
US6423659B1 (en) | π-complex compounds | |
JP4161448B2 (ja) | 遷移金属化合物、オレフィン重合用触媒およびそれを用いたポリオレフィンの製造方法 | |
JP3302415B2 (ja) | 内部オレフィン重合用触媒及び内部オレフィン重合体の製造方法 | |
JP3975230B2 (ja) | オレフィン重合用触媒およびそれを用いたポリオレフィンの製造方法 | |
KR102023168B1 (ko) | 메탈로센 화합물, 이를 포함하는 촉매 조성물 및 이를 이용한 올레핀 중합체의 제조방법 | |
JPH11292934A (ja) | アタクチックプロピレン(コ)ポリマ― | |
JP4009765B2 (ja) | オレフィン重合用触媒およびそれを用いたポリオレフィンの製造方法 | |
JP4496643B2 (ja) | 遷移金属化合物、それを用いたオレフィン重合用触媒およびポリオレフィンの製造方法 | |
JP2001106719A (ja) | オレフィン重合用触媒およびそれを用いたポリオレフィンの製造方法 | |
KR20000022450A (ko) | 메탈로센 화합물 |