JP2001527099A - エラストマーの製造方法 - Google Patents

エラストマーの製造方法

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Abstract

(57)【要約】 非晶質構造およびDSCによって測定されるときの低いガラス転移温度Tgを有することに加えて、結晶化度ピークおよび40℃を越える融解温度を有するエラストマーが、C2〜C8のα−オレフィン、C4〜C15ジオレフィンおよび他のモノマーからなる群のモノマーを、塊状相、溶液相、高温の溶液相、スラリー相または気相において、式(I)または式(XIII)のメタロセン化合物またはπ錯体化合物を使用して重合(共重合)することによって製造することができる。この場合、CpIおよびCpIIは、シクロペンタジエニルを含有する構造を有するカルバニオンを表し;πIおよびπIIは、荷電したπ系または電気的に中性なπ系を表し;Dはドナー原子であり、Aはアクセプター原子であり、それによってDおよびAは可逆的な配位結合によって連結され、ドナー基は(部分的な)正電荷を受け取り、アクセプター基は(部分的な)負電荷を受け取り;Mは、ランタニドおよびアクチニドを含む(メンデレーエフ)元素周期表の遷移金属を示し;そしてXはアニオン等価体であり、nは、Mに依存して、0、1、2、3または4の数を表す。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 (技術分野) 本発明は、遷移金属が2つのπ系(特に、アニオン性シクロペンタジエニル配
位子(カルバニオン)などの芳香族π系)と錯体を形成し、かつこの2つの系が
ドナーおよびアクセプターからなる少なくとも1つの架橋によってともに可逆的
に結合しているπ系またはメタロセン化合物の使用であって、非晶質構造および
DSC測定(DSC=示差走査熱量測定)における低いガラス転移温度Tgに加
えて、+40℃を越える融解温度の結晶化度ピークを有する飽和エラストマーま
たは不飽和エラストマーを、C2〜C8のα−オレフィン、開鎖の単環および/ま
たは多環のC4〜C15ジオレフィンおよびスチレンからなる群から選択されるモ ノマーの重合(共重合)によって製造する方法における金属−有機物触媒として
のそれの使用に関する。
【0002】 (背景技術) ドナー原子とアクセプター原子との間で形成される配位結合は、(部分的な)
正電荷をドナー基にもたらし、(部分的な)負電荷をアクセプター基にもたらす
【化7】
【0003】 メタロセンおよびオレフィン重合における触媒としてのそれの使用は従来から
知られている(欧州特許公開EP−A129 368およびそれに引用される文
献)。メタロセン類は、助触媒としてのアルキルアルミニウム/水との組み合わ
せでエチレン重合の効果的な系であることもまた欧州特許公開EP−A129
368から知られている(一例として、メチルアルミノキサン(MAO)は、例
えば、1モルのトリメチルアルミニウムおよび1モルの水から作製される;他の
化学的量論的な割合もまた既に問題なく使用されている(国際特許公開WO94
/20506))。シクロペンタジエニル骨格が架橋によってともに共有結合さ
れたメタロセンもまた既に知られている。
【0004】 欧州特許公開EP−A704 461は、この分野における多数の特許および
特許出願の一例として挙げることができる:この特許で言及されている結合基は
、(置換された)メチレン基またはエチレン基、シリレン基、置換されたシリレ
ン基、置換されたゲルミレン基、または置換されたホスフィン基である。欧州特
許公開EP−A704 461はまた、オレフィン類の重合触媒としての架橋型
メタロセンをいくつか示している。この分野における多数の特許および特許出願
にも関わらず、ポリマー中に残存する触媒量を減らすことができるように高活性
であることによって区別され、そして例えば、オレフィンの熱可塑性物質および
エラストマー物質への重合および共重合、ならびにジオレフィンの必要に応じて
オレフィンとの重合および共重合に好適な改善された触媒は依然として要望され
ている。
【0005】 (発明の開示) 今回、特に好都合な触媒が、架橋したπ錯体化合物(特に、メタロセン化合物
)から調製できることが見出された。この場合、この架橋したπ錯体化合物にお
いて、2つのπ系の架橋は、1つ、2つまたは3つの可逆的なドナー−アクセプ
ター結合によって形成され、配位結合またはいわゆる供与結合がそれぞれのドナ
ー原子とその対応するアクセプター原子との間に存在し、そのような結合は少な
くとも形式的にはイオン結合が重なり、そしてドナー原子またはアクセプター原
子の一方はその対応するπ系の一部であり得る。
【0006】 ドナー−アクセプター結合の可逆性によって、DとAの間の矢印によって特徴
づけられる架橋状態が可能になるだけでなく、2つのπ系は、その固有の回転エ
ネルギーの結果として、例えば、互いに360度にわたって回転することができ
、あるいは金属錯体の一体性が破壊されることなく、より小さい角度で偏向し、
そして再び振り戻ることができる非架橋状態もまた可能になる。偏向した後また
は完全に回転した後でさえ、ドナー−アクセプター結合は再び「収まる」。ドナ
ー−アクセプター結合がいくつか存在する場合、この「収まり」は、360度未
満の回転の後で生じ得る。従って、本発明に従って使用され得るπ系(例えば、
メタロセン)は、二重の矢印によって、そして両方の状態を包含するために(I
a)および(Ib)または(XIIIa)および(XIIIb)の部分的な式に
よって表すことができる。
【0007】 従って、本発明は、助触媒で活性化され得る金属−有機物触媒の存在下、塊状
相、溶液相、高温の溶液相、スラリー相または気相において、C2〜C8のα−オ
レフィン、開鎖の単環および/または多環のC4〜C15ジオレフィンおよびスチ レンからなる群から選択されるモノマーを重合(共重合)することによって、非
晶質構造およびDSC測定における低いガラス転移温度Tgに加えて、1つまた
は複数の融解ピークを有し、その融解ピークの少なくとも1つはその最大値が+
40℃(好ましくは、50℃)を越える融解温度(Tm)であり、少なくとも1 つの融解ピークの半値幅は好ましくは多くとも30℃である飽和エラストマーま
たは不飽和エラストマーを製造する方法に関する。
【0008】 この製造方法は、使用される金属−有機物触媒が、式:
【化8】
【0009】 [式中、 CpIおよびCpIIは、1個のH原子からすべてのH原子が、直鎖または分
枝鎖のC1〜C20アルキル(ただし、ハロゲンで一置換〜全置換することができ 、フェニルで一置換〜三置換することができ、そしてビニルで一置換〜三置換す
ることができる)、C6〜C12アリール、炭素原子が6個〜12個のハロゲノア リール、およびシリル、トリメチルシリルまたはフェロセニルなどの有機金属置
換基からなる群から選択される同一または異なる基によって置換され得るシクロ
ペンタジエニル含有構造を有する同一または異なる2つのカルバニオンであり、
かつDおよびAによって一置換または二置換することができ、
【0010】 Dは、置換基をさらに有し得るドナー原子であって、その特定の結合状態にお
いて少なくとも1対の自由電子対を有するドナー原子であり、 Aは、置換基をさらに有し得るアクセプター原子であって、その特定の結合状
態において1つの電子対空位を有するアクセプター原子であり、 DおよびAは、ドナー基が(部分的な)正電荷を帯び、かつアクセプター基が
(部分的な)負電荷を帯びるような可逆的配位結合によって連結され、 Mは、ランタニドおよびアクチニドを含む(メンデレーエフ)元素周期表の第
III亜族、第IV亜族、第V亜族または第VI亜族の遷移金属であり、 Xは、1つのアニオン等価物であり、そして nは、Mの電荷に依存して、0、1、2、3または4の数である。] で示されるメタロセン化合物、
【0011】 あるいはπ錯体化合物、特に式:
【化9】
【0012】 [式中、 πIおよびπIIは、電荷を有するか、または電気的に中性な異なるπ系であ
って、1個または2個の不飽和または飽和の5員環または6員環と縮合し得るπ
系であり、 Dは、πIの置換基またはπIのπ系の一部であるドナー原子であって、その
特定の結合状態において少なくとも1対の自由電子対を有するドナー原子であり
、 Aは、πIIの置換基またはπIIのπ系の一部であるアクセプター原子であ
って、その特定の結合状態において1つの電子対空位を有するアクセプター原子
であり、
【0013】 DおよびAは、ドナー基が(部分的な)正電荷を帯び、かつアクセプター基が
(部分的な)負電荷を帯びるような可逆的配位結合によって連結され、そしてD
およびAの少なくとも一方はその対応するπ系の一部であり、 DおよびAは置換基を有することができ、 各π系および各縮合環系は、1つまたは複数のDまたはA、あるいはDおよび
Aを含有することができ、そして
【0014】 非縮合型または縮合型のπIおよびπIIにおいて、π系の1個のH原子から
すべてのH原子は、互いに独立的に、直鎖または分枝鎖のC1〜C20アルキル( ただし、ハロゲンで一置換〜全置換することができ、フェニルで一置換〜三置換
することができ、そしてビニルで一置換〜三置換することができる。)、C6〜 C12アリール、炭素原子が6個〜12個のハロゲノアリール、ならびにシリル、
トリメチルシリルおよびフェロセニルなどの有機金属置換基からなる群から選択
される同一または異なる基によって置換することができ、そしてDおよびAによ
って一置換または二置換することができ、その結果、D→Aの可逆的配位結合が
、(i)それらがともに特定のπ系または縮合環の一部である場合にはDとAの
間で形成され、あるいは(ii)DまたはAがπ系または縮合環系の一部であり
、もう一方が非縮合π系または縮合環系の置換基である場合にはDとAの間で形
成され、 MおよびXは、上記に定義されている通りであり、そして nは、Mの電荷ならびにπIおよびπIIの電荷に依存して、0、1、2、3
または4の数である。] で示されるメタロセン化合物であることを特徴とする。
【0015】 本発明によるπ系は、置換および非置換のエチレン、アリル、ペンタジエニル
、ベンジル、ブタジエン、ベンゼン、シクロペンタジエニルアニオン、ならびに
少なくとも1つのC原子をヘテロ原子で置換することによって得られる化学種で
ある。そのような化学種の中で、環状の化学種が好ましい。金属に対するそのよ
うな配位子(π系)の配位性はσ型またはπ型であり得る。
【0016】 本発明に従って使用され得る式(I)のそのようなメタロセン化合物は、下記
の反応のいずかによって調製することができる: 式(II)の化合物を式(III)の化合物と反応すること:
【化10】
【0017】 あるいは式(IV)の化合物を式(V)の化合物と反応すること:
【化11】
【0018】 あるいは、非プロトン性溶媒の存在下、M’Xを脱離させながら、式(VI)
の化合物を式(VII)の化合物と反応すること:
【化12】
【0019】 あるいは式(VIII)の化合物を式(III)の化合物と反応すること:
【化13】
【0020】 あるいは式(IV)の化合物を式(IX)の化合物と反応すること:
【化14】
【0021】 あるいは、非プロトン性溶媒の存在下または非存在下、E(R123)Xお よびF(R456)Xを脱離させながら、式(X)の化合物を式(VII)の 化合物と反応すること:
【化15】
【0022】 CpI、CpII、D、A、M、Xおよびnは上記に定義されている通りであ
り、 CpIIIおよびCpIVは、シクロペンタジエン含有構造の2つの同一また
は異なる非電荷分子基であり、そうでなければCpIおよびCpIIと同一であ
り、 M’は、アルカリ(アルカリ土類)金属またはTlの1つのカチオン等価物で
あり、 EおよびFは互いに独立して、Si、GeまたはSnのいずれかの元素であり
、そして R1、R2、R3、R4、R5およびR6は互いに独立して、直鎖または分枝鎖のC 1 〜C20アルキル、C6〜C12アリール、C1〜C6アルキル−C6〜C12アリール 、C6〜C12アリール−C1〜C6アルキル、ビニル、アリルまたはハロゲンであ り、
【0023】 式(VIII)、式(IX)および式(X)において、E(R123)およ びF(R456)は水素で置換することができ、この場合、各Xはまた、R2
型のアミドアニオン、R3C型のカルバニオンまたはRO型のアルコラートアニ オンであり、そして式(V)または式(IX)の化合物の存在下で式(II)ま
たは式(VIII)の化合物を式(VII)の遷移金属化合物と直接反応するこ
とができる。
【0024】 (VIII)と(III)との反応、(IV)と(IX)との反応、または(
X)と(VII)との反応において、構造(I)は、最後に述べた変化形の場合
には、R2NHまたはR2NE(R123)またはR2NF(R456)のアミ ン、R3CHまたはR3CE(R123)またはR3CF(R456)の式の炭 化水素化合物、あるいはROE(R123)またはROF(R456)のエー
テルの脱離を伴って形成される:この場合、有機基Rは、同一または異なってお
り、そして互いに独立して、C1〜C20アルキル、C6〜C12アリール、置換また
は非置換のアリル、ベンジル、または水素である。
【0025】 脱離するアミン、炭化水素、エーテル、シラン、スタンナンまたはゲルマンの
可能な例は、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ(n−プロピル)アミン、ジ
(イソプロピル)アミン、ジ(tert−ブチル)アミン、tert−ブチルア
ミン、シクロヘキシルアミン、アニリン、メチルフェニルアミン、ジ(アリル)
アミン、メタン、トルエン、トリメチルシリルアミン、トリメチルシリルエーテ
ル、テトラメチルシラン、ヘキサメチルジシラザンなどである。
【0026】 式(II)または式(VIII)の化合物を式(V)または式(IX)の化合
物の存在下で式(VII)の遷移金属化合物と直接反応することも可能である。
【0027】 π系が環状および芳香族である式(XIII)のπ錯体化合物(メタロセン)
は、下記の化合物を適切に使用して同様の方法で調製することができる:
【化16】
【0028】
【化17】
【0029】 非環状のπ錯体化合物は、ドナー基およびアクセプター基を取り込むことによ
って当業者に知られている方法で調製される。
【0030】 本発明により、重合は、塊状相、溶液相、高温の溶液相、スラリー相または気
相において、−60℃〜250℃の温度(好ましくは、0℃〜+200℃の温度
)および1bar〜65barの圧力で、飽和炭化水素または芳香族炭化水素あ
るいは飽和ハロゲノ炭化水素または芳香族ハロゲノ炭化水素の存在下または非存
在下、および水素の存在下または非存在下で行われ、メタロセン化合物またはπ
錯体化合物は1molのメタロセン化合物またはπ錯体化合物に対して101m ol〜1012molの全モノマー量で触媒として使用される。重合は、ルイス酸
、ブレンステッド酸またはピアソン酸の存在下で、あるいは必要に応じて追加的
にルイス塩基の存在下で行うことができる。
【0031】 そのようなルイス酸の例は、ボラン類またはアラン類、例えば、アルキルアル
ミニウム化合物、ハロゲン化アルミニウム、アルミニウムアルコラート、有機ホ
ウ素化合物、ハロゲン化ホウ素、ホウ酸エステルあるいはハライドおよびアルキ
ル置換基またはアリール置換基またはアルコラート置換基の両方を含有するホウ
素化合物およびアルミニウム化合物、ならびにそれらの混合物、あるいはトリフ
ェニルメチルカチオンである。アルミノキサン、またはアルミニウム含有ルイス
酸と水との混合物が特に好ましい。現在の知識により、すべての酸は、配位性が
低い嵩高いアニオンによって電荷が相殺されるメタロセニウムカチオンを形成さ
せるイオン化剤として作用する。
【0032】 本発明により、そのようなイオン化剤と式(I)のメタロセン化合物または式
(XIII)のπ錯体化合物との反応生成物を使用することもまた可能である。
それらは式(XIa)〜式(XId)によって記載することができる:
【化18】 または
【0033】
【化19】 または
【0034】
【化20】 または
【0035】
【化21】
【0036】 上式において、Anionは、全体的に嵩高く配位性が低いアニオンであり、
Baseはルイス塩基を表す。
【0037】 配位性が低いそのようなアニオンの例は、B(C654、B(C654、B
(CH3)(C653
【化22】
【0038】 トシラートまたはトリフラートなどのスルホネート、テトラフルオロボレート、
ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネート、パークロレート
、およびカルボランタイプの嵩高いクラスター分子アニオン(例えば、C29 12 またはCB1112)である。そのようなアニオンが存在する場合、メタロセン
化合物はまた、アルミノキサンの非存在下で高効率の重合触媒として作用し得る
。これは、特に、1つのX配位子がアルキル基またはアリル基またはベンジル基
である場合に当てはまる。
【0039】 しかし、嵩高いアニオンを有するそのようなメタロセン錯体は、都合よいこと
に、(CH33Al、(C253Al、(n−/i−プロピル)3Al、(n−
/t−ブチル)3Al、(i−ブチル)3Al、あるいはペンチルアルミニウム化
合物またはヘキシルアルミニウム化合物またはオクチルアルミニウム化合物の各
異性体、あるいはメチルLiまたはベンジルLiまたはブチルLiなどのアルキ
ルリチウム化合物、あるいはグリニャール化合物などの対応有機マグネシウム化
合物、あるいは有機亜鉛化合物を組み合わせて使用することができる。そのよう
な金属アルキルは、一方ではアルキル基を中心金属に転移し、他方では、重合反
応中の反応媒体またはモノマーに由来する水または触媒毒を捕捉する。上記タイ
プの金属アルキルはまた、都合よいことに、例えば、アルミノキサンの必要量を
減らすためにアルミノキサン助触媒と組み合わせて使用することができる。
【0040】 そのようなアニオンは、例えば、下記の化合物を使用したときに導入される: ホウ素化合物、例えば: トリエチルアンモニウム=テトラフェニルボラート、 トリプロピルアンモニウム=テトラフェニルボラート、 トリ(n−ブチル)アンモニウム=テトラフェニルボラート、 トリ(t−ブチル)アンモニウム=テトラフェニルボラート、 N,N−ジメチルアニリニウム=テトラフェニルボラート、 N,N−ジエチルアニリニウム=テトラフェニルボラート、 N,N−ジメチル(2,4,6−トリメチルアニリニウム)=テトラフェニルボ
ラート、
【0041】 トリメチルアンモニウム=テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、 トリエチルアンモニウム=テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、 トリプロピルアンモニウム=テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、 トリ(n−ブチル)アンモニウム=テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラ
ート、トリ(sec−ブチル)アンモニウム=テトラキス(ペンタフルオロフェ
ニル)ボラート、 N,N−ジメチルアニリニウム=テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラー
ト、 N,N−ジエチルアニリニウム=テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラー
ト、N,N−ジメチル(2,4,5−トリメチルアニリニウム)=テトラキス(
ペンタフルオロフェニル)ボラート、 トリメチルアンモニウム=テトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフェニ
ル)ボラート、
【0042】 トリエチルアンモニウム=テトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフェニ
ル)ボラート、 トリプロピルアンモニウム=テトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロフェ
ニル)ボラート、 トリ(n−ブチル)アンモニウム=テトラキス(2,3,4,6−テトラフルオ
ロフェニル)ボラート、 ジメチル(t−ブチル)アンモニウム=テトラキス(2,3,4,6−テトラフ
ルオロフェニル)ボラート、
【0043】 N,N−ジメチルアニリニウム=テトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロ
フェニル)ボラート、 N,N−ジエチルアニリニウム=テトラキス(2,3,4,6−テトラフルオロ
フェニル)ボラート、および N,N−ジメチル(2,4,6−トリメチルアニリニウム)=テトラキス(2,
3,4,6−テトラフルオロフェニル)ボラート、 ジアルキルアンモニウム塩、例えば: ジ(i−プロピル)アンモニウム=テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラ
ート、および ジシクロヘキシルアンモニウム=テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラー
トなど;
【0044】 三置換ホスホニウム塩、例えば: トリフェニルホスホニウム=テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、 トリ(o−トリル)ホスホニウム=テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラ
ート、 トリ(2,6−ジメチルフェニル)ホスホニウム=テトラキス(ペンタフルオロ
フェニル)ボラートなど; トリトリルメチル=テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート; トリフェニルメチル=テトラフェニルボラート(トリチル=テトラフェニルボ
ラート); トリチル=テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート; テトラフェニルホウ酸銀; トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン; トリス(トリフルオロメチル)ボラン;およびそれらのAl化合物類似体。
【0045】 代わりになり得るさらなる可能性は、1個〜3個のフッ素置換基を有し、フッ
素化されているが他において類似のホウ素化合物およびアルミニウム化合物であ
る。
【0046】 配位性が低い他のアニオンは、下記タイプのジボラニル化合物またはジアラニ
ル化合物から得ることができる:
【化23】
【0047】 本発明に従って使用され得るメタロセン化合物またはπ錯体化合物は、純粋な
物質として単離された形態で重合(共重合)反応に用いることができるが、当業
者に知られている方法で重合(共重合)反応器において「その場(in sit
u)」で調製して使用することもできる。
【0048】 シクロペンタジエニル骨格を有する第1および第2のカルバニオンCpIおよ
びCpII、またはπIおよびπII(それらがシクロペンタジエニル骨格を表
す場合)は、同一であり得るし、あるいは異なり得る。シクロペンタジエニル骨
格とは、例えば、シクロペンタジエン、置換されたシクロペンタジエン、インデ
ン、置換されたインデン、フルオレン、および置換されたフルオレンからなる群
から選択される骨格であり得る。これらには、1個のシクロペンタジエン環また
は縮合ベンゼン環当たり1個〜4個の置換基が存在し得る。
【0049】 このような置換基は、C1〜C20アルキル(例えば、メチル、エチル、プロピ ル、イソプロピル、ブチルまたはイソブチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ド
デシル、ヘキサデシル、オクタデシルまたはエイコシルなど)、C1〜C20アル コキシ(例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ
またはイソブトキシ、ヘキシルオキシ、オクチルオキシ、デシルオキシ、ドデシ
ルオキシ、ヘキサデシルオキシ、オクタデシルオキシあるいはエイコシルオキシ
など)、ハロゲン(例えば、フッ素、塩素または臭素など)、C6〜C12アリー ル(例えば、フェニルなど)、C1〜C4アルキルフェニル(例えば、トリル、エ
チルフェニル、(i−)プロピルフェニル、(i−/tert−)ブチルフェニ
ルまたはキシリルなど)、ハロゲノフェニル(例えば、フルオロフェニル、クロ
ロフェニルまたはブロモフェニルなど)、ナフチルまたはビフェニリル、トリ有
機シリル(例えば、トリメチルシリル(TMS)など)、フェロセニル、あるい
は上記のように定義されたDまたはAであり得る。縮合芳香環はまた、縮合環お
よびシクロペンタジエン環の両方が寄与する二重結合は残った二重結合だけであ
るように部分的または完全に水素化することができる。ベンゼン環はまた、イン
デンまたはフルオレンの場合のように、1個または2個のさらなる縮合ベンゼン
環を含むことができる。シクロペンタジエン環またはシクロペンタジエニル環お
よび縮合ベンゼン環はともに別の縮合ベンゼン環を含むこともさらに可能である
【0050】 それらのアニオンの形態において、上記のシクロペンタジエン骨格は遷移金属
に対する優れた配位子であり、必要に応じて置換された形態の各シクロペンタジ
エニルカルバニオンは錯体における中心金属の1つの正電荷を相殺する。そのよ
うなカルバニオンの具体的な例を下記に示す:
【0051】 シクロペンタジエニル、メチルシクロペンタジエニル、1,2−ジメチルシク
ロペンタジエニル、1,3−ジメチルシクロペンタジエニル、インデニル、フェ
ニルインデニル、1,2−ジエチルシクロペンタジエニル、テトラメチルシクロ
ペンタジエニル、エチルシクロペンタジエニル、n−ブチルシクロペンタジエニ
ル、n−オクチルシクロペンタジエニル、β−フェニルプロピルシクロペンタジ
エニル、テトラヒドロインデニル、プロピルシクロペンタジエニル、t−ブチル
シクロペンタジエニル、ベンジルシクロペンタジエニル、ジフェニルメチルシク
ロペンタジエニル、トリメチルゲルミルシクロペンタジエニル、トリメチルスタ
ンニルシクロペンタジエニル、トリフルオロメチルシクロペンタジエニル、トリ
メチルシリルシクロペンタジエニル、ペンタメチルシクロペンタジエニル、フル
オレニル、テトラヒドロフルオレニルまたはオクタヒドロフルオレニル、6員環
にベンゾ縮合したフルオレニル類およびインデニル類、N,N−ジメチルアミノ
シクロペンタジエニル、ジメチルホスフィノシクロペンタジエニル、メトキシシ
クロペンタジエニル、ジメチルボラニルシクロペンタジエニル、および(N,N
−ジメチルアミノメチル)シクロペンタジエニル。
【0052】 存在しなければならないDとAの間の第1のドナー−アクセプター結合に加え
て、さらなるD基および/またはA基が特定のシクロペンタジエン系の置換基と
して、あるいはπ系の置換基またはその一部として存在する場合には、別のドナ
ー−アクセプター結合が形成され得る。すべてのドナー−アクセプター結合は、
上記のようにその可逆性によって特徴づけられる。いくつかのD基またはA基が
存在する場合、これらは、記載されている位置において異なる位置を占めること
ができる。従って、本発明は、(Ia)または(XIIIa)の架橋した分子状
態と、(Ib)または(XIIIb)の架橋していない状態との両方を含む。D
基の数は、A基の数と同じにすることができ、あるいはAの数と異なるようにす
ることができる。CpIおよびCpIIまたはπIおよびπIIは、好ましくは
、1つのドナー−アクセプター架橋のみによって連結される。
【0053】 共有結合的架橋もまた、本発明によるD/A架橋と同様に存在し得る。この場
合、D/A架橋により触媒の立体的剛直性および熱安定性が強化される。D/A
結合は閉じた状態と空状態との間で変化しているので、ブロックポリマーが、異
なる化学的組成のコポリマーの場合に得られるようになる。
【0054】 π錯体化合物もまた、ドナー原子D(1個または複数)とアクセプター原子A
(1個または複数)との間における少なくとも1つの配位結合の存在によって特
徴づけられる。この場合、DおよびAはともに、その対応するπ系(πIまたは
πII)の置換基あるいはπ系の一部であり得るが、DおよびAの少なくとも1
個は常にπ系の一部である。π系は、この場合、必要に応じて1個または2個の
環と縮合した完全なπ系を意味することが理解される。これにより、下記の実施
形態が得られる: ・Dはπ系の一部であり、Aはπ系の置換基である; ・Dはπ系の置換基であり、Aπ系の一部である; ・DおよびAはその対応するπ系の一部である。
【0055】 下記は、DまたはAが環系の一部である複素環系の例として挙げることができ
る:
【化24】
【0056】 重要な複素環系は、(a)、(b)、(c)、(d)、(g)、(m)、(n
)および(o)によって示される系である。(a)、(b)、(c)および(m
)によって示される環系は特に重要である。
【0057】 DおよびAの一方がその対応する環系の置換基である場合、後者は、電荷を有
する3員、4員、5員、6員、7員または8員であり、あるいは電荷を有さない
3員、4員、5員、6員、7員または8員であり、そして示されているようにさ
らに置換および/または縮合され得る。5員および6員の環系が好ましい。負電
荷を有するシクロペンタジエニル系が特に好ましい。
【0058】 第1または第2のπ系のπIまたはπIIが環系の形態であるとき、第1また
は第2のπ系のπIまたはπIIは、DおよびAの一方が環系の置換基である場
合にはCpIまたはCpIIに対応し得る。
【0059】 可能なドナー基は、特に、ドナー原子Dが(メンデレーエフ)元素周期表の第
5主族、第6主族または第7主族(好ましくは、第5主族または第6主族)の元
素であり、かつ少なくとも1つの自由電子対を有する基である。ただし、ドナー
原子は、第5主族の元素の場合には置換基を有する結合状態にあり、そして第6
主族の元素の場合にはそのような状態であり得る;第7主族のドナー原子は置換
基を有さない。これを、ドナー原子の例として、リンP、酸素Oおよび塩素Cl
を使用して下記に例示する。「Subst」は前記の置換基を表し、「−Cp」
はシクロペンタジエニル含有カルバニオンに対する結合を表し、矢印を伴った線
分は式(I)に示される配位結合を示し、他の線分は利用可能な電子対を表して
いる。
【0060】
【化25】
【0061】 可能なアクセプター基は、特に、アクセプター原子Aが(メンデレーエフ)元
素周期表の第3主族の元素(例えば、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジ
ウムまたはタリウムなど)であり、置換基を有する結合状態にあり、かつ電子空
位を有する基である。
【0062】 DおよびAは配位結合によって連結され、Dは(部分的な)正電荷を帯び、A
は(部分的な)負荷電を帯びている。
【0063】 従って、ドナー原子Dとドナー基、ならびにアクセプター原子Aとアクセプタ
ー基は区別される。配位結合D→Aが、ドナー原子Dとアクセプター原子Aとの
間で形成される。ドナー基は、ドナー原子D、置換基(存在する場合)、および
利用可能な電子対を含むユニットである。類似して、アクセプター基は、アクセ
プター原子A、置換基および利用可能な電子空位を含むユニットである。
【0064】 ドナー原子またはアクセプター原子とシクロペンタジエニル含有カルバニオン
との結合にはスペーサー基が介在して、D−スペーサー−CpまたはA−スペー
サー−Cpであってよい。上記例の3番目の式において、=C(R)は、OとC
pの間におけるそのようなスペーサーを表す。そのようなスペーサー基の例を下
記に示す:
【0065】 ジメチルシリル、ジエチルシリル、ジ−n−プロピルシリル、ジイソプロピル
シリル、ジ−n−ブチルシリル、ジ−t−ブチルシリル、ジ−n−ヘキシルシリ
ル、メチルフェニルシリル、エチルメチルシリル、ジフェニルシリル、ジ(p−
t−ブチルフェネチル)シリル、n−ヘキシルメチルシリル、シクロペンタメチ
レンシリル、シクロテトラメチレンシリル、シクロトリメチレンシリル、ジメチ
ルゲルマニル、ジエチルゲルマニル、フェニルアミノ、t−ブチルアミノ、メチ
ルアミノ、t−ブチルホスフィノ、エチルホスフィノ、フェニルホスフィノ、メ
チレン、ジメチルメチレン(i−プロピリデン)、ジエチルメチレン、エチレン
、ジメチルエチレン、ジエチルエチレン、ジプロピルエチレン、プロピレン、ジ
メチルプロピレン、ジエチルプロピレン、1,1−ジメチル−3,3−ジメチル
プロピレン、テトラメチルジシロキサン、1,1,4,4−テトラメチルジシリ
ルエチレン、およびジフェニルメチレン。
【0066】 好ましくは、DおよびAは、スペーサーを伴うことなく、シクロペンタジエニ
ル含有カルバニオンに結合する。
【0067】 DおよびAは、互いに独立して、シクロペンタジエン(シクロペンタジエニル
)環に、あるいは縮合ベンゼン環または縮合複素環に、あるいはCpIまたはC
pIIまたはπI/πIIの別の置換基に存在することができる。いくつかのD
基またはA基が存在する場合、これらは、述べられた位置において異なる位置を
占めることができる。
【0068】 ドナー原子(N、P、As、Sb、Bi、O、S、SeまたはTe)およびア
クセプター原子(B、Al、Ga、InまたはTl)における置換基の例を下記
に示す:C1〜C12(シクロ)アルキル(例えば、メチル、エチル、プロピル、 i−プロピル、シクロプロピル、ブチル、i−ブチル、tert−ブチル、シク
ロブチル、ペンチル、ネオペンチル、シクロペンチル、ヘキシル、シクロヘキシ
ル、および異性体を含むヘプチル類、オクチル類、ノニル類、デシル類、ウンデ
シル類およびドデシル類など);対応するC1〜C12アルコキシ基;
【0069】 ビニル、ブテニルおよびアリル;C6〜C12アリール(例えば、フェニル、ナフ チルまたはビフェニリル、およびベンジルなど)(これらは、ハロゲン、1個ま
たは2個のC1〜C4アルキル基、C1〜C4アルコキシ基、ニトロ基またはハロゲ
ノアルキル基、C1〜C6アルキルカルボキシル、C1〜C6アルキルカルボニルま
たはシアノによって置換され得る:例えば、ペルフルオロフェニル、m,m’−
ビス(トリフルオロメチル)フェニル、および当業者に知られている類似する置
換基);類似するアリールオキシ基;インデニル;ハロゲン(例えば、F、Cl
、BrおよびIなど);1−チエニル;二置換アミノ(例えば、(C1〜C12ア ルキル)2アミノ、ジフェニルアミノ、(C1〜C12アルキル)(フェニル)アミ
ノ、および(C1〜C12アルキルフェニル)アミノなど);トリス(C1〜C12
ルキル)シリル;NaSO3−アリール(例えば、NaSO3−フェニルおよびN
aSO3−トリルなど);C65−C≡C−;
【0070】 脂肪族C1〜C20シリルおよび芳香族C1〜C20シリル(そのアルキル置換基は、
上記の置換基に加えて、オクチル、デシル、ドデシル、ステアリルまたはエイコ
シルであり得る;そのアリール置換基は、フェニル、トリル、キシリル、ナフチ
ルまたはビフェニリルであり得る);および−CH2−を介してドナー原子また はアクセプター原子に結合している置換されたシリル基(例えば、(CH33
iCH2−);上記のアリール基を含むC6〜C12アリールオキシ;C1〜C8ペル
フルオロアルキル;およびペルフルオロフェニル。好ましい置換基は、C1〜C6 アルキル、C5〜C6シクロアルキル、フェニル、トリル、C1〜C6アルコキシ、
6〜C12アリールオキシ、ビニル、アリル、ベンジル、ペルフルオロフェニル 、F、Cl、Br、ジ(C1〜C6アルキル)アミノ、およびジフェニルアミノで
ある。
【0071】 ドナー基は、自由電子対が、N、P、As、Sb、Bi、O、S、Se、Te
、F、Cl、BrまたはIに存在している基である。好ましい原子は、N、P、
OおよびSである。ドナー基の例として、下記の基を挙げることができる:(C
32N−、(C252N−、(C372N−、(C492N−、(C652N−、(CH32P−、(C252P−、(C372P−、(i−C372P−、(C492P−、(t−C492P−、(シクロヘキシル)2P−、
(C652P−、CH3O−、CH3S−、C65S−、−C(C65)=O、 −C(CH3)=O、−OSi(CH33、および−OSi(CH32−t−ブ チル(この場合、NおよびPはそれぞれ1個の自由電子対を有し、OおよびSは
それぞれ2個の自由電子対を有し、そして言及した最後の2つの例における二重
結合の酸素はスペーサー基を介して結合している)、ならびにNとは異なる環構
成原子もまたスペーサーとして作用するピロリドン環のような系。
【0072】 アクセプター基は、電子対空位が、B、Al、Ga、InまたはTl(好まし
くは、B、AlまたはGe)に存在している基である。そのような例として、下
記の基を挙げることができる:(CH32B−、(C252B−、H2B−、(
652N−、(CH3)(C65)B−、(ビニル)2B−、(ベンジル)2
−、Cl2B−、(CH3O)2B−、Cl2Al−、(CH3)Al−、(i−C492Al−、(Cl)(C252Al−、(CH32Ga−、(C372
a−、((CH33Si−CH22Ga−、(ビニル)2Ga−、(C652
a−、(CH32In−、((CH33Si−CH22In−、および(シクロ
ペンタジエニル)2In−。これらの化学種において、他の考えられる基は、1 個または複数のH原子がフッ素で置換されている基である。
【0073】 他の可能なドナー基およびアクセプター基は、キラル中心を含む基であり、あ
るいは2つの置換基がD原子またはA原子と環を形成する基(考えられる例を下
記に示す)である。
【0074】
【化26】
【0075】 下記はCpIとCpIIとの好ましいドナー−アクセプター架橋の例である:
【化27】
【0076】 π系のπIおよびπIIの一方または両方は、上記の環系(a)〜(r)の形
態の複素環として存在し得る。この場合、Dは、好ましくは、(メンデレーエフ
)元素周期表の第5主族または第6主族の元素であり、Aは、好ましくはホウ素
である。そのようなヘテロπ系(特に、複素環)の具体的な例を下記に示す:
【0077】
【化28】 R,R’=H、アルキル、アリールまたはアルクアリール、例えば、メチル、エ
チル、t−ブチル、フェニルまたはo,o’−ジ(i−プロピル)フェニル。
【0078】 複素環の例を下記に示す:ピロリル、メチルピロリル、ジメチルピロリル、ト
リメチルピロリル、テトラメチルピロリル、t−ブチルピロリル、ジ−t−ブチ
ルピロリル、インドリル、メチルインドリル、ジメチルインドリル、t−ブチル
インドリル、ジ−t−ブチルインドリル、テトラメチルホスホリル、テトラフェ
ニルホスホリル、トリフェニルホスホリル、トリメチルホスホリル、ホスファイ
ンデニル、ジベンゾホスホリル(ホスファフルオレニル)およびジベンゾピロリ
ル。
【0079】 下記は、πIとπIIとの好ましいドナー−アクセプター架橋の例である:N
→B、N→Al、P→B、P→Al、O→B、O→Al、Cl→B、Cl→Al
、C=O→B、およびC=O→Al。この場合、これらのドナー−アクセプター
架橋の両原子はヘテロπ系の一部であり得るし、あるいは一方の原子(ドナーま
たはアクセプター)はπ系の一部であり、もう一方は第2のπ系の置換基であり
、あるいは両原子はその特定の環の置換基であり、そして環の1つはヘテロ原子
をさらに含有する。
【0080】 上記の記載により、2つの配位子系(πIおよびπII)は、1つまたは2つ
または3つのドナー−アクセプター架橋によって連結され得る。これは、本発明
によれば、式(Ia)は記載されたD→A架橋を含むが、配位子系のπIおよび
πIIはまた置換基としての他のD基およびA基またはヘテロπ中心を有し得る
からである:この場合に得られるさらなるD→A架橋の数は0または1または2
である。πIまたはπIIにおけるD置換基またはA置換基の数は同じにするこ
とができ、あるいは異なるようにすることができる。2つの配位子系(πIおよ
びπII)はさらに共有結合的に架橋させることができる(共有結合的な架橋の
例はスペーサー基として上記に記載されている)。しかし、好ましい化合物は、
共有結合的な架橋を有さず、従って、πIおよびπIIは、1つのドナー−アク
セプター結合だけによって連結される化合物である。
【0081】 Mは、ランタニドおよびアクチニドを含む(メンデレーエフ)元素周期表の第
3亜族、第4亜族、第5亜族または第6亜族の遷移金属である。例として下記の
元素を挙げることができる:Sc、Y、La、Sm、Nd、Lu、Ti、Zr、
Hf、Th、V、Nb、TaおよびCr。Ti、Zr、Hf、VおよびNbが好
ましい。
【0082】 メタロセン構造またはπ錯体構造の形成において、遷移金属Mの1つの正電荷
は、1つのシクロペンタジエニル含有カルバニオンによって相殺される。中心金
属Mに依然として残っている正電荷は、他のアニオンによって、多くの場合には
一価のアニオンXによって中和される。2つの同一または異なるアニオンXが連
結して一緒になること(ジアニオンX−X)も可能である:例えば、同一または
異なる直鎖または分枝鎖の飽和または不飽和の炭化水素類、アミン類、ホスフィ
ン類、チオアルコール類、アルコール類またはフェノール類からなる一価または
二価の負荷電の基。モノアニオン(例えば、CR3 -、NR2 -、PR2 -、OR-、 SR-など)は、ジアニオンを形成させるために、飽和炭化水素または不飽和炭 化水素あるいはシランの架橋によって連結させることができる。架橋原子の数は
0、1、2、4、5または6であり得るが、0〜4個の架橋原子が好ましく、1
個または2個の架橋原子が特に好ましい。H原子とは異なり、架橋原子は、さら
なる炭化水素置換基Rを有することができる。
【0083】 モノアニオン間の可能な架橋の例は、−CH2−、−CH2−CH2−、−(C H23−、−CH=CH−、−(CH=CH)2−、−CH=CH−CH2−、−
CH2−CH=CH−CH2−、−Si(CH32−、および−C(CH32−で
ある。Xの例を下記に示す:ヒドリド、クロリド、メチル、エチル、フェニル、
フルオリド、ブロミド、ヨージド、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチ
ル基、アミル基、i−アミル基、ヘキシル基、i−ブチル基、ヘプチル基、オク
チル基、ノニル基、デシル基、セチル基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブ
トキシ、フェノキシ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ、
ジ−t−ブチルアミノ、ジフェニルアミノ、ジフェニルホスフィノ、ジシクロヘ
キシルホスフィノ、ジメチルホスフィノ、メチリデン、エチリデン、プロピリデ
ン、およびエチレングリコールジアニオン。
【0084】 ジアニオンの例を下記に示す:1,4−ジフェニル−1,3−ブタジエンジイ
ル、3−メチル−1,3−ペンタジエンジイル、1,4−ジベンジル−1,3−
ブタジエンジイル、2,4−ヘキサジエンジイル、1,3−ペンタジエンジイル
、1,4−ジトリル−1,3−ブタジエンジイル、1,4−ビス(トリメチルシ
リル)−1,3−ブタジエンジイルおよび1,3−ブタジエンジイル。1,4−
ジフェニル−1,3−ブタジエンジイル、1,3−ペンタジエンジイル、1,4
−ジベンジル−1,3−ブタジエンジイル、2,4−ヘキサジエンジイル、3−
メチル−1,3−ペンタジエンジイル、1,4−ジトリル−1,3−ブタジエン
ジイル、および1,4−ビス(トリメチルシリル)−1,3−ブタジエンジイル
が特に好ましい。ジアニオンの別の例は、例えば、下記の構造のヘテロ原子を有
するジアニオンである:
【0085】
【化29】 架橋は定義されている通りである。さらに、上記タイプの低配位性アニオンまた
は電荷相殺のために特に好ましい。
【0086】 そのような嵩高いアニオンによる活性化は、例えば、D/Aのπ錯体化合物(
特に、D/Aメタロセン)を、トリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン、トリ
フェニルボラン、トリフェニルアルミニウム、トリチル=テトラキス(ペンタフ
ルオロフェニル)ボラートまたはN,N−ジアルキルフェニルアンモニウム=テ
トラキス(ペンタフルオロフェニル)ボラート、ならびに対応するアランおよび
アラナート、あるいはボラートまたはアラナートの対応するホスホニウム塩また
はスルホニウム塩、あるいはボラート、アラナート、カルボナート、トシラート
、トリフラート、ペルフルオロカルボキシラート(例えば、トリフルオロアセタ
ートなど)または対応する酸のアルカリ金属(アルカリ土類金属)塩、タリウム
塩または銀塩と反応することによって行われる。
【0087】 使用されるD/Aメタロセンは、好まくは、アニオン等価物Xがアルキル基、
アリル基、アリール基またはベンジル基であるD/Aメタロセンである。そのよ
うな誘導体はまた、他のアニオン等価物X(例えば、F、Cl、Br、ORなど
)を有するD/Aメタロセンを、アルキルアルミニウム化合物、有機リチウム化
合物、グリニャール化合物あるいはアルキル亜鉛化合物またはアルキル鉛化合物
と最初に反応することによって「その場(in situ)」で調製することが
できる。得られる反応生成物は、前もって単離することなく、上記のボラン類、
ボラート類、アラン類、アラナート類によって活性化することができる。
【0088】 Mの電荷に依存して、下付きのnは、0、1、2、3または4の値を採り、好
ましくは0、1または2である。従って、特に、金属がどの亜族に属するかに依
存して、上記の亜族金属は、2〜6(好ましくは、2〜4)の原子価/電荷を有
することができ、その内の2つはメタロセン化合物のカルバニオンにより相殺さ
れる。従って、下付きのnは、La3+の場合には1の値を採り、Zr4+の場合に
は2の値を採り、Sm2+の場合にはn=0である。
【0089】 式(I)のメタロセン化合物は、上記の式(II)の化合物を上記の式(II
I)の化合物と反応すること、あるいは上記の式(IV)の化合物を上記の式(
V)の化合物と反応すること、あるいは上記の式(VI)の化合物を上記の式(
VII)の化合物と反応すること、あるいは上記の式(VIII)の化合物を上
記の式(III)の化合物と反応すること、あるいは上記の式(IV)の化合物
を上記の式(IX)の化合物と反応すること、あるいは上記の式(X)の化合物
を上記の式(VII)の化合物と反応することのいずれかを、アルカリ金属−X
化合物、アルカリ土類金属−X2化合物、シリル−X化合物、ゲルミル−X化合 物、スタンニル−X化合物、またはHX化合物を脱離させながら、非プロトン性
溶媒中において、−78℃〜+120℃(好ましくは、−40℃〜+70℃)の
温度で、(II):(III)、(IV):(V)、(VI):(VII)、(
VIII):(III)、(IV):(IX)または(X):(VII)のモル
比が1:0.5〜2で、好ましくは1:0.8〜1.2で、特に好ましくは1:
1で行うことによって調製することができる。
【0090】 (VIII)と(III)との反応、(IV)と(IX)との反応、または(
X)と(VII)との反応の場合、(VIII)または(IX)または(X)が
反応条件のもとで液体であるならば、非プロトン性溶媒の使用を避けることがで
きる。前記の脱離化合物の例を下記に示す:TlCl、LiCl、LiBr、L
iF、LiI、NaCl、NaBr、KCl、KF、MgCl2、MgBr2、C
aCl2、CaF2、トリメチルクロロシラン、トリエチルクロロシラン、トリ(
n−ブチル)クロロシラン、トリフェニルクロロシラン、トリメチルクロロシラ
ン、トリメチルクロロゲルマン、トリメチルクロロスタンナン、ジメチルアミン
、ジエチルアミン、ジブチルアミン、および当業者が上記の置換様式から認識す
ることができる他の化合物。
【0091】 従って、式(II)または式(IV)の化合物は、D/A架橋のために使用さ
れるドナー基、共有結合されるドナー基、あるいは複素環構成体としてのドナー
基が1個〜3個組み込まれ、そしてシクロペンタジエニル骨格の負電荷に対する
対イオンとしてのカチオンを含有するシクロペンタジエニル骨格または複素環骨
格を有するカルバニオンを表す。式(VIII)の化合物は、非荷電の環状骨格
であり、D/A架橋に使用される1個〜3個のドナー基を同様に有するが、イオ
ン基の代わりに、シリル基、ゲルミル基またはスタンニル基または水素などの容
易に切断され得る脱離基E(R123)を有する。
【0092】 本発明に従って使用され得るメタロセン化合物を得るための第2の成分、すな
わち、式(III)または式(V)の化合物もまた、化合物(II)または化合
物(IV)のシクロペンタジエニル骨格と同一または異なるシクロペンタジエニ
ル骨格を有するカルバニオンを表し、ドナー基の代わりに1個〜3個のアクセプ
ター基を有する。類似的に、式(IX)の化合物は、1個〜3個のアクセプター
基を有し、そして容易に切断され得る脱離基F(R456)を同様に有する非 荷電のシクロペンタジエニル骨格である。
【0093】 完全な類似により、式(VI)または式(X)の化合物は、予め形成されたD
→A結合を有する出発物質である。これは、合計で1個〜3個のD→A結合が可
能な非電荷のシクロペンタジエン骨格またはカルバニオン対カチオン化合物を表
し、式(VII)の化合物との反応によりメタロセン化合物(I)をもたらす。
【0094】 製造方法における両方の出発物質、すなわち、(II)および(III)、(
IV)および(V)、(VI)および(VII)、(VIII)および(III
)、(IV)および(IX)、または(X)および(VII)は、一緒にされる
と自発的に反応して、ドナー−アクセプター基の−D→A−が同時に形成され、
あるいは金属カチオンMは錯形成し、そしてM’X、E(R123)X、F( R456)XまたはHXが脱離する。分かり易くするために、DおよびAにお ける置換基はドナー−アクセプター基の表示においては省略されている。
【0095】 M’は、Li、Na、K、1/2Mg、1/2Ca、1/2Srまたは1/2
Baまたはタリウムなどのアルカリ金属(アルカリ土類金属)の1つのカチオン
等価物である。 式(XIIIa+b)の化合物は、上記の方法で類似的に調製される。
【0096】 製造方法に使用される溶媒は、脂肪族炭化水素および芳香族炭化水素または脂
肪族ハロゲノ炭化水素および芳香族ハロゲノ炭化水素などの極性溶媒または非極
性溶媒である。原理的には、当業者に知られている溶媒などの他の非プロトン性
溶媒もまた使用することができるが、沸点が極端に高い溶媒は作業性の容易さの
点からあまり好ましくない。代表的な溶媒は、n−ヘキサン、シクロヘキサン、
ペンタン、ヘプタン、石油エーテル、トルエン、ベンゼン、クロロベンゼン、塩
化メチレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、およびエチレングリコー
ルジメチルエーテルである。
【0097】 式(II)、式(III)、式(IV)および式(V)の出発物質は、文献に
おいて知られている手順によって、あるいは類似する手順によって調製すること
ができる。従って、例えば、J.of Organometallic Che
m.(1971)、29、227に類似して、市販のトリメチルシリルシクロペ
ンタジエンを最初にブチルリチウムと反応し、次いで塩化トリメチルシリルと反
応して、ビス(トリメチルシリル)シクロペンタジエンを得ることができる。次
に、これを三塩化ホウ素と反応して、トリメチルシリルシクロペンタジエニルジ
クロロボランを得ることができる(J.of Organometallic
Chem.(1971)、169、327に類似する)。
【0098】 最後にこれを四塩化チタンと反応して、ジクロロボリルシクロペンタジエニル
チタン=トリクロリドを得ることができる(J.of Organometal
lic Chem.(1971)、169、373に類似する)。この最後の化
合物は既に式(III)の化合物の原型であり、さらにトリメチルアルミニウム
と選択的に反応させることができる:この場合、ホウ素原子に結合している2個
の塩素原子がメチル基に交換して、式(III)の別の化合物が得られる。
【0099】 J.Am.Chem.Soc.(1983)、105、3882およびOrg
anometallics(1982)、1、1591に記載される手順に類似
して、市販のシクロペンタジエニルタリウムをクロロジフェニルホスフィンと反
応し、さらにブチルリチウムと反応して、式(II)の化合物の原型を得ること
ができる。例として挙げることができる別の例は、既に上記に記載されているよ
うにインデンを最初にブチルリチウムと反応し、次いでクロロジフェニルホスフ
ィンと反応することによるジメチルスタンニルジフェニルホスフィノインデンの
生成である;さらに、最初にブチルリチウムと再び反応し、次いでクロロトリブ
チルスズと反応することによって標的化合物が得られ、これは、四塩化ジルコニ
ウムとのさらなる反応の後に、式(IV)の化合物の一例として、ジフェニルホ
スフィノインデニルジルコニウム=トリクロリドにされる。そのような合成手順
および調製手順は、金属有機化学および元素有機化学に従事する当業者にはよく
知られており、多数の参考文献に発表されている。そのごく少数が例として上記
に引用されている。
【0100】 下記に示す例は、本発明によるそのような複素環前駆体または触媒がどのよう
にして得られるかを示している。例えば、ピロリルリチウム(式II)は、例え
ば、J.Amer.Chem.Soc.(1982)、104、2031に記載
されているように、ブチルリチウムとの反応によってピロールから調製すること
ができる。トリメチルスタンニルホスホール(式VIII)は、1−フェニルホ
スホールをリチウムと反応し、次いで三塩化アルミニウムと反応してホスホリル
リチウム(式II)にし、次にトリメチルスタンニルホスホールを得るためにト
リメチルクロロスタンナンとさらに反応することによって得られる:J.Che
m.Soc.Chem.Comm.(1988)、770を参照のこと。この化
合物は、四塩化チタンと反応してホスホリルチタン=トリクロリド(式IV)に
することができる。
【0101】 101mol〜1012molのコモノマーが、1molのπ錯体化合物または メタロセン化合物に対して反応する。π錯体化合物またはメタロセン化合物は助
触媒と一緒に使用することができる。メタロセン化合物またはπ錯体化合物およ
び助触媒の相対的な割合は、1molのメタロセン化合物またはπ錯体化合物に
対して、助触媒が1mol〜100,000molである。アルミノキサン化合
物は助触媒の例である。このようなアルミノキサン化合物は、下記の式の化合物
を意味するものとして理解される:
【0102】
【化30】 [式中、 RはC1〜C20アルキル、C6〜C12アリールまたはベンジルであり、そして nは2〜50の数であり、好ましくは10〜35である。]
【0103】 種々のアルミキサンの混合物またはその前駆体(アルキルアルミニウム化合物
)の混合物を水(蒸気、液体、固体または結合体の形態の水、例えば結晶水とし
ての水)と組み合わせて使用することも可能である。水はまた、重合媒体、モノ
マー、またはシリカゲルのような担体における(残留)水分として導入され得る
。式(XII)に類似するホウ素化合物もまた好適である。
【0104】 式(XII)の括弧から突き出た結合は、オリゴマー状アルミノキサンの末端
基としてのR基またはAlR2基を有する。そのようなアルミノキサンは、通常 、鎖長が異なるいくつかの混合物として存在する。詳細な研究により、環状構造
またはケージ様構造のアルミノキサンもまた明らかにされている。アルミノキサ
ンは市販の化合物である。特にR=CH3の場合、そのようなアルミノキサンは 、メチルアルミノキサン(MAO)と呼ばれている。
【0105】 他の助触媒は、アルキルアルミニウム化合物、アルキルリチウム化合物、グリ
ニャール化合物などの有機マグネシウム化合物、または部分的に加水分解された
有機ホウ素化合物である。好ましい助触媒はアルミノキサンである。 助触媒による活性化あるいは非配位性または低配位性の嵩高いアニオンの作製
は、オートクレーブまたは別個の反応容器(予備生成)で行うことができる。活
性化は、重合するモノマーの存在下または非存在下で行うことができる。活性化
は、脂肪族溶媒または芳香族溶媒またはハロゲン化溶媒あるいは懸濁剤の中にお
いて行うことができる。
【0106】 π錯体化合物またはメタロセン化合物およびアルミノキサンは、均一型形態で
、あるいは個々に、あるいは担体での不均一型形態でそのように使用することが
できる。前記の担体は、シリカゲル、Al23、B23、MgCl2、NaCl 、ポリシロキサン、セルロース誘導体、デンプン誘導体および他のポリマーなど
の無機物または有機物であり得る。この場合、π錯体化合物またはメタロセン化
合物を最初に担体に、あるいはアルミノキサンを最初に担体に適用し、次いで他
方の成分を適用することができる。しかし、同じことを行うことによって、均一
型形態または不均一型形態のπ錯体化合物またはメタロセン化合物をアルミノキ
サンで活性化し、次いで活性化されたメタロセン化合物を担体に適用することも
可能である。
【0107】 担体は、好ましくは、水分量またはOH基濃度を所定の値に調節するか、また
はそれらをできる限り低く保つために熱的前処理および/または化学的前処理が
行われる。化学的な前処理は、例えば、担体とアルキルアルミニウム化合物との
反応の際に行われる。無機担体は、通常、使用前に100℃〜1000℃で1時
間〜100時間にわたって加熱される。そのような無機担体、特にシリカ(Si
2)の表面積は、10m2/g〜1000m2/gの間であり、好ましくは10 0m2/g〜800m2/gの間である。粒子直径は0.1ミクロン(μ)〜50
0ミクロン(μ)の間であり、好ましくは10μ〜200μの間である。
【0108】 重合(共重合)によって反応し得るオレフィンおよびジオレフィンの例は、エ
チレン、プロピレン、ブタ−1−エン、ペンタ−1−エン、ヘキサ−1−エン、
オクタ−1−エン、3−メチルブタ−1−エン、4−メチルペンタ−1−エン、
4−メチルヘキサ−1−エン、1,4−ヘキサジエン、1,5−ヘキサジエン、
1,6−オクタジエン、1,7−オクタジエン、分枝鎖の非共役ジエン、ならび
に当業者に知られている他のオレフィンおよびジオレフィンである。
【0109】 そのようなオレフィンおよびジオレフィンはまた、例えば、フェニルまたは置
換フェニルによって置換され得る:このタイプの化合物の例は、スチレン、ビニ
ルシランおよびトリメチルアリルシランである。好ましいモノマーは、エチレン
、プロピレン、ブテン、ヘキセン、オクテン、1,4−ヘキサジエン、1,6−
オクタジエン、1,7−オクタジエン、および末端二重結合を有するメチル置換
オクタジエン(例えば、7−メチル−1,6−オクタジエン)である。
【0110】 原理的には、20個までの炭素原子を有するα−オレフィンもまた使用するこ
とができる。2個〜4個の炭素原子を有するα−オレフィンが高級α−オレフィ
ンまたは高級ジエンまたは他のコモノマーと一緒に使用される場合、C2〜C4
α−オレフィンは、全重量に基づいて、25wt%〜95wt%の割合で存在し
、好ましくは30wt%〜80wt%の割合で存在する。一方で、例えば、1−
オクテンは、5wt%〜35wt%の量で、好ましくは7.5wt%〜25wt
%の量で存在し、1種またはそれ以上の前記ジオレフィンもまた0.1wt%〜
20wt%の量で存在する。
【0111】 上記ジエンとは別に、下記の開鎖ジエンおよび単環ジエンおよび多環ジエンも
また挙げることができる:5−メチル−1,4−ヘキサジエン、3,7−ジメチ
ル−1,6−オクタジエン、シクロペンタジエン、1,4−ヘキサジエン、1,
5−シクロオクタジエン、テトラヒドロインデン、メチルテトラヒドロインデン
、ジシクロペンタジエン、ビシクロ(2.2.1)−2,5−ヘプタジエン、な
らびにアルケニル、アルキリデン、シクロアルケニルまたはシクロアルキリデン
などの置換基を有するノルボルネン類(例えば、5−メチレン−2−ノルボルネ
ン(MNB)、5−エチリデン−2−ノルボルネン、5−イソプロピリデン−2
−ノルボルネンおよび5−ビニル−2−ノルボルネン)、アリルシクロヘキセン
、およびビニルシクロヘキセン。
【0112】 上記モノマーに加えて他の好ましいモノマーは、ジシクロペンタジエン、1,
4−ヘキサジエン、5−メチル−2−ノルボルネン、5−エチリデン−2−ノル
ボルネン、および5−ビニル−2−ノルボルネンである。当然なことではあるが
、これらのモノマーのいくつかの混合物を使用することもまた可能である。
【0113】 本発明による方法は、上記タイプの可溶性触媒または不溶性触媒が使用される
どうかに依存して、塊状相、溶液相、高温の溶液相、スラリー相または気相で行
うことができる。溶液相またはスラリー相は、コモノマーのみから、すなわち、
さらなる溶媒を使用せずに作製することができる。
【0114】 溶媒が使用される場合、不活性の溶媒がこの目的に適する:その例は、脂肪族
炭化水素またはシクロ脂肪族炭化水素(例えば、プロパン、ブタン、ペンタン、
ヘキサン、シクロヘキサンなど)、およびプロペン(これは同時にモノマー(コ
モノマー)である)、石油ナフサ留分またはディーゼル油留分(必要に応じて水
素化されたもの)、トルエン、クロロベンゼン、o−ジクロロベンゼンまたはク
ロロナフタレンである。低沸点溶媒の場合、液相は、十分な反応圧を加えること
によって維持することができる:そのような相関関係は当業者に知られている。
本発明により、本方法は、1つまたは複数の反応器または反応帯域において、例
えば、反応器列で行われる。この場合、異なる重合条件を用いることができる。
【0115】 上記の温度および圧力が用いられる。適用される温度は、塊状法、溶液法およ
びスラリー法では約0℃〜150℃の範囲であり、高温の液体法では40℃〜2
00℃の範囲であり、気相の場合には約20℃〜100℃の範囲である。経済的
な理由のために、圧力は、多くの場合、30bar(好ましくは、20bar)
の値を超えることはない。本発明により、本方法は、1つまたは複数の反応器ま
たは反応帯域において、例えば、反応器列で行われる:いくつかの反応器が使用
される場合、異なる重合条件を用いることができる。
【0116】 本発明に従って調製することができるエラストマーの例は、下記のタイプのエ
ラストマーである:エチレン/プロピレンコポリマー(EPM)、エチレン/ブ
テンコポリマー(EBM)、エチレン/ペンテンコポリマー、エチレン/ヘキセ
ンコポリマー(EHM)、エチレン/ヘプテンコポリマー、エチレン/オクテン
コポリマー(EOM)およびエチレン/プロピレン/ブテンコポリマー(これら
は架橋モノマーを含まない)、ならびにエチレン/プロピレン/ジエンコポリマ
ー(EPDM)、エチレン/ブテン/ジエンコポリマー(EBDM)およびエチ
レン/ヘキセン(またはオクテン)/ジエンコポリマー(EHDMまたはEOD
M)(これらはエチリデンノルボルネンなどの架橋モノマーを含有する:架橋モ
ノマー(例えば、ジエン)の割合は、全コモノマーの20wt%までであり、例
えば0.1wt%〜20wt%であり、好ましくは1wt%〜12wt%であり
、特に好ましくは2wt%〜8wt%である)。好ましいエラストマーはEPM
タイプおよびEPDMタイプのエラストマーである。
【0117】 そのようなエラストマーは、温度が低い場合でも良好な弾性によって、そして
低いガラス転移温度Tgを有する少なくとも部分的な非晶質構造(中程度または
低結晶化度、すなわち、当業者に知られている方法(特に、DSC)によって測
定される30%未満の結晶化度、好ましくは20%未満の結晶化度、特に好まし
くは10%未満の結晶化度)によって区別される。Tgは、好ましくは−20℃
未満であり、特に好ましくは−40℃未満である。前記のエラストマーは、10
kg/molを越える分子量Mwを有し、好ましくは100kg/molを越え る分子量Mwを有し、特に好ましくは200kg/molを越える分子量Mwを有
する。Mwの値は、10,000kg/molの値にまで、特に5,000kg /molの値にまで達し得る。本発明により、特に、前記の高分子量を達成する
ことができ、そしてコモノマーの均一な分布を達成することができる。
【0118】 ジエンまたは他の架橋コモノマーの場合、均一な分布により、大きな架橋度が
加硫中に可能になる。長い分枝鎖を有する生成物を得ることもまた可能である。
本発明によって調製することができるエラストマーのすべては、特に、1つまた
は複数の融解ピークを特徴とする。このような融解ピークの少なくとも1つは、
その最大値が+40℃を越える融解温度Tmであり、好ましくは+50℃を越え 、特に好ましくは60℃を越える。そのような融解ピークは、その半値幅によっ
てさらに特徴づけられる。好ましくは、融解ピークの少なくとも1つは、多くと
も30℃の半値幅を有する。本発明に従って調製することができるエラストマー
は、改善された生強度を示す。
【0119】 ドナー−アクセプター架橋により、本発明に従って使用され得るπ錯体化合物
(特に、メタロセン化合物)は、くちばしのような様式で2つのシクロペンタジ
エニル骨格からなる一定の開口部を可能にし、それによって高い活性だけでなく
、制御された選択性、制御された分子量分布およびモノマー(コモノマー)の均
一な取り込みが保証される。一定のくちばし様の開口部の結果として、嵩高いモ
ノマー(コモノマー)に対する場もまた存在する。非常に均一な分子量分布は、
挿入によって得られる均一で一定の重合部位の結果でもある(単部位触媒)。
【0120】 分子量分布は、材料特性の特定の特徴を得るために、いくつかのD/A触媒を
同時に使用することによって特異的に変化させる(広げる)ことができる。従っ
て、1つまたは複数のD/A触媒を、D/A架橋を有さない他のメタロセンと組
み合わせて使用することもまた可能である。
【0121】 D/A構造によって、高温に適した触媒の大きな安定性を得ることができ、そ
の結果、触媒は、80℃〜250℃(好ましくは、80℃〜200℃)の範囲の
高温においても用いることができる。ドナー−アクセプター結合の可能な熱解離
は可逆的であり、これにより、この自己組織化方法および自己修復機構を介して
、特に高品質な触媒特性が得られる。
【0122】 本発明に従って使用され得るメタロセン化合物の共重合挙動は温度とともに変
化することもまた認められている。この現象は、まだ十分に研究されていないが
、イオン結合が重なる配位結合は、本発明によるメタロセン化合物におけるドナ
ー−アクセプター結合のように、より高い温度で可逆性が大きくなるという観測
と一致し得る。従って、例えば、エチレンおよびプロピレンの共重合において、
同じ開始量の両コモノマーを用いた場合、大きなプロピレン含有量のコポリマー
が低い共重合温度で形成され、その一方で、重合温度の上昇とともにプロピレン
含有量が低下し、最終的には主としてエチレンを含有するポリマーが高い温度で
形成されることが認められている。D/A構造の可逆的な解離および会合ならび
にこれらによって可能になるCp骨格の相対的な回転は、概略的には下記のよう
に表すことができる:
【0123】
【化31】 または
【0124】
【化32】
【0125】 本発明によるD/Aのπ錯体化合物(特に、D/Aメタロセン化合物)の別の
有用な特性は自己活性化の可能性であり、従って、高価な触媒を使用することな
く、特にジアニオン性のX−X誘導体の場合に自己活性化され得ることである。
【0126】 この場合、D/Aのπ錯体化合物(例えば、D/Aメタロセン化合物)の開放
型形態において、アクセプター原子Aは、X配位子と、例えば、ジアニオンの一
方と結合して、双性イオン型のメタロセン構造が得られ、これによって、正電荷
が遷移金属にもたらされ、そしてアクセプター原子Aは負電荷を帯びる。前記の
自己活性化は分子内または分子間で生じ得る。分子内機構は、2つのX配位子が
1つのキレート配位子(すなわち、ブタジエンジイル誘導体)に好ましく連結す
ることによって例示することができる:
【0127】
【化33】 または
【0128】
【化34】
【0129】 遷移金属Mと、Hまたは置換Cまたは非置換C(形式的な例で示されているブ
タジエンジイルジアニオンの置換C)との結合部位が、この場合には、重合のオ
レフィン挿入部位になる。
【0130】 図1a〜1fは、本発明のEPDMサンプルに対する2回目の加熱のDSC測
定例を示す。
【0131】 (実施例) すべての反応は、シュレンク技術または高真空技術を使用する絶対的な嫌気条
件下で行った。使用溶媒は乾燥してアルゴンを飽和させた。化学シフトδは適切
な標準品に対するppm単位で示されている:1H(テトラメチルシラン)、13 C(テトラメチルシラン)、31P(85%H3PO4)、11B(三フッ化ホウ素エ
ーテラート、δ=−18.1ppm)。負号は高磁場側へのシフトを示す。
【0132】実施例1 (ビス(トリメチルシリル)シクロペンタジエン、化合物1) 14.7g(0.106mol)のトリメチルシリルシクロペンタジエン(F
lukaから購入)および150mlのテトラヒドロフラン(THF)を反応フ
ラスコに入れ、0℃に冷却した。47.4mlのブチルリチウムのn−ヘキサン
溶液(2.3mol/l;総量:0.109mol)を20分かけて滴下して加
えた。添加終了後、黄色の溶液をさらに1時間攪拌し、次いで冷却浴を除いた。
室温で溶液をさらに1時間攪拌し、次いで−20℃に冷却した。次いで、14.
8ml(0.117mol)の塩化トリメチルシリルを10分かけて滴下して加
え、この反応混合物を−10℃で2時間攪拌した。
【0133】 次いで冷却浴を除き、反応溶液を室温に加熱し、その後さらに1時間攪拌した
。反応混合物をセライトで濾過し、濾材をヘキサンで洗浄し、一緒にした濾液か
らヘキサンを減圧下で除いた。0.4mbarにおいて26℃で蒸留すると、粗
生成物から19gの純粋な化合物1が得られた(理論収量の85%)。沸点およ
びNMRデータは文献と一致する(J.Organometallic Che
m.29(1971)、227;同書、30(1971)、C57;J.Am.
Chem.Soc.102(1980)、4429;J.Gen.Chem.U
SSR.Eng.Transl.43(1973)、1970;J.Chem.
Soc.Dalton Trans.1980、1156)。 1H−NMR(400MHz、C66):δ=6.74(m、2H)、6.4 3(m、2H)、−0.04(s、18H)。
【0134】実施例2 (トリメチルシリルシクロペンタジエニルジクロロボラン、化合物2
) 16g(0.076mol)の化合物1を、ドライアイス冷却浴を備えた丸底
フラスコに入れた。8.9g(0.076mol)のBCl3をシュレンク管に −78℃で凝縮させ、次いで5分かけてフラスコに滴下して加えた。反応混合物
を室温に1時間かけてゆっくり加熱し、次いで55℃〜60℃でさらに2時間保
った。すべての揮発性化合物を減圧下(3mmHg=4mbar)で除いた。そ
の後の39℃および0.012mbarでの蒸留によって、14.1gの化合物
2が得られた(理論収量の85%)。1H−NMRデータは文献と一致する。多 数の異性体が調製されたことが1H−NMRデータにより明らかにされた(J. Organometallic Chem.169(1979)、327を参照
のこと)。11B−NMR(64.2MHz、C66):δ=+31.5。
【0135】実施例3 (トリブチルスタニルジフェニルホスフィノインデン、化合物3) 10g(0.086mol)のインデンを丸底フラスコに入れ、200mlの
ジエチルエーテルで希釈し、−20℃に冷却した。36mlの濃度2.36mo
l/lのブチルリチウム(0.085mol)のn−ヘキサン溶液をこの溶液に
加えると、この溶液は直ちに黄色になった。冷却浴を除き、反応混合物を室温に
まで暖め、さらに1時間攪拌した。次いで反応混合物を再び0℃に冷却し、そし
て19g(15.9ml、0.086mol)のジフェニルクロロホスフィンを
加えると、沈殿物が生じた。冷却浴を再び除き、溶液を室温にまで暖めることが
でき、さらに1時間攪拌を続けた。次いで溶液を−20℃に再び冷却し、36m
l(0.085mol)のブチルリチウム/n−ヘキサンを滴下して加えた。
【0136】 添加終了後、冷却浴を再び除き、温度を室温にまで上げた。溶液をさらに1.
5時間攪拌した。次いで懸濁液を0℃に再び冷却し、28g(0.086mol
)の塩化トリブチルスズを滴下して加えた。得られた懸濁液を室温にまで加熱し
、さらに1.5時間攪拌した。次いでフリットで濾過し、溶媒を減圧下で除いて
、46.9gの化合物3が濃黄色オイルの形態で得られた(理論収量の92%)
【0137】 1H−NMR(400MHz、CDCl3):δ=7.5〜7.3(m、6H)
、7.28(bs、6H)、7.14(擬dt、7.3Hz/1.0Hz、1H
)、7.08(t、J=7.3Hz、1H)、6.5(bm、1H)、4.24
(bs、1H)、1.4〜1.25(m、6H)、1.25〜1.15(m、6
H)、0.82(t、J=7.2Hz、9H)、0.53(t、J=8Hz、6
H);31P−NMR(161.9MHz、CDCl3):δ=−20.6。
【0138】実施例4 (ジフェニルホスフィノインデニルジルコニウム=トリクロリド、化
合物4)
【化35】
【0139】 37g(0.0628mol)の化合物3を溶解した300mlのトルエンを
、3時間かけて、14.6gのZrCl4(99.9%純度、0.0628mo l、Aldrichから購入)を懸濁した100mlのトルエンに室温で加えた
。溶液は直ちに赤色になり、そしてゆっくりオレンジ色になり、最終的には黄色
になった。4時間攪拌した後、黄色沈殿を濾過して除き、トルエンで洗浄し、次
いでヘキサンで洗浄した。固体を真空下で乾燥して、15.3gの化合物4が易
流動性の黄色粉末の形態で得られた(理論収量の50%)。収量は、より低い温
度で操作することによって、例えば、−30℃で30分および0℃で5時間操作
することによって容易に増大し得た。生成物を、ソックスレー抽出器でペンタン
を使用して残留スズ化合物を洗い出すことによってさらに精製することができた
(抽出時間:8時間)。
【0140】実施例5 ((C652P−BCl2架橋のインデニルシクロペンタジエニルジ
ルコニウム=ジクロリド、化合物5)
【化36】
【0141】 4.43g(0.0089mol)の精製した化合物4および100mlのト
ルエンをシュレンク管に入れた。1.95g(0.0089mol)の化合物2
をこの懸濁液に加えた。黄色の懸濁液を室温で6時間攪拌した。この間に白色の
沈殿物が生成した。この沈殿物を濾過によって回収した(4.1g、理論収量の
75%)。これは本質的に純粋な物質であることが見出された。
【0142】 1H−NMR(500MHz、CD2Cl2):δ=7.86(擬ddd、J= 8.5/2.5/1Hz、1H)、7.75〜7.55(m、10H)、7.3
5(擬ddd、J=8.5/6.9/0.9Hz、1H)、7.32(bt、J
=3.1Hz、1H)、7.22(擬ddd、J=8.8/6.8/1.1Hz
、1H)、7.06(擬ddd、J=3.4/3.4/0.8Hz、1H)、6
.92(m、1H)、6.72(m、1H)、6.70(bm、1H)、6.6
1(擬q、J=2.3Hz、1H)、6.53(bd、8.7Hz、1H); 31P−NMR(161.9MHz、CD2Cl2):δ=6.2(bm); 11B−NMR(64.2MHz、CD2Cl2):δ=−1.8(b)。
【0143】実施例6 (触媒アルキル化) 11mg(18・10-6molに対応)のドナー−アクセプターメタロセン5
をアルゴン下の乾燥シュレンク反応容器に入れ、1.8mmolのトリイソブチ
ルアルミニウム(TIBA)を含有する1.8mlのトルエンに溶解して、室温
で30分間攪拌した。次いで黄褐色溶液を、0.05mmolのTIBAを含有
する10mlのトルエンで希釈した。この溶液の一部(すなわち、0.65ml
)を重合に使用した。
【0144】実施例7 (EPDM合成) 不活性ガス下で蒸留した乾燥トルエンの100ml、ナトリウムの存在下で蒸
留したエチリデンノルボルネン(ENB)の1g、0.1mmolのTIBA、
および10gのプロペンを乾燥した無酸素の300mlのV4Aスチール製オー
トクレーブに入れて、磁気的に攪拌しながら80℃に加熱した。約7barの得
られた内圧をエテンで2bar増大させて9barにした。圧力ロックによって
、実施例6の0.65mlの溶液で1・10-6molのアルキル化D/Aメタロ
セン5をオートクレーブに移した。次いで、重合を、圧力ロックによって、4・
10-6mol(3.2mg)のN,N−ジメチルアニリニウム=テトラキス(ペ
ンタフルオロフェニル)ボラートを含むアルゴン飽和の3.7mlのクロロベン
ゼン(水素化カルシウムの存在下で蒸留したもの)を加えることによって直ちに
開始した。
【0145】 内温は82℃に上昇した。30分の重合を行った後、反応をエタノールの添加
によって停止させ、ポリマーを500mlのエタノール/濃塩酸(90/10)
中に沈殿させ、1時間攪拌し、その後、濾過して除いた。ポリマーをエタノール
で洗浄して、一定重量になるまで真空乾燥器において90℃で乾燥した。
【0146】 EPDM収量:3.6g 触媒活性:触媒1molあたり1時間に7.2tのEPDM 固有粘度(o−ジクロロベンゼン、140℃):1.08dl/g 化学組成(FT−IR分析による):64wt%のエテン 32wt%のプロペン 4wt%のENB DSC(2回目の加熱) 転移温度:Te=−53℃ ガラス転移温度:Tg=−47℃ 融解温度:Tm1=+18℃ Tm2=+111℃ 第2の融解ピークの半高幅(半値幅):11℃ 融解エンタルピー ΔHm=38J/g
【図面の簡単な説明】
【図1a】 50℃を越える小さな融解ピークを有し、融解エンタルピーが
わずかに2J/g〜3J/gである(これは1%以下の結晶化度に対応する)非
晶質タイプのEPDMを表す。
【図1b】 90℃を越える顕著な融解ピークを有し、融解エンタルピーが
約29J/gである(これは約10%の結晶化度に対応する)部分的な結晶性タ
イプを示す。
【図1c】 低温結晶化(Tm1=−10℃、ΔHm=15J/g)、および 本発明による126℃での離れた融解ピークTm2を有する部分的な結晶化タイプ
を示す。
【図1d】 −54℃の低いガラス転移温度Tg、および100℃での離れ た融解ピーク(これは約3%(ΔHm=8J/g)の結晶化度に対応する)を有 する部分的な結晶性物質を示す。
【図1e】 Tgが−52℃であり、高温結晶化度が約4%であり、Tmが1
12℃であるゴムを示す。
【図1f】 実施例7のEPDMに関する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,SD,SZ,UG,ZW),EA(AM ,AZ,BY,KG,KZ,MD,RU,TJ,TM) ,AL,AM,AT,AU,AZ,BA,BB,BG, BR,BY,CA,CH,CN,CU,CZ,DE,D K,EE,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM ,HR,HU,ID,IL,IN,IS,JP,KE, KG,KP,KR,KZ,LC,LK,LR,LS,L T,LU,LV,MD,MG,MK,MN,MW,MX ,NO,NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE, SG,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,TT,U A,UG,US,UZ,VN,YU,ZW Fターム(参考) 4J028 AC08A AC10A AC18A AC20A AC26A AC28A AC31A AC37A AC39A AC42A AC49A AC50A BC12A BC12B BC25A BC25B EB02 EB04 EB05 EB07 EB08 EB09 EB10 EB16 EB17 EB18 EB21 EB26 EC01 EC02 EC03 EC05 FA02

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 助触媒によって活性化され得る金属−有機物触媒の存在下、
    塊状相、溶液相、高温の溶液相、スラリー相または気相において、C2〜C8のα
    −オレフィン、開鎖の単環および/または多環のC4〜C15ジオレフィンおよび スチレンからなる群から選択されるモノマーを重合(共重合)することによって
    、非晶質構造およびDSC測定における低いガラス転移温度Tgに加えて、1つ
    または複数の融解ピークを有し、その融解ピークの少なくとも1つはその最大値
    が+40℃を越える融解温度(Tm)である飽和エラストマーまたは不飽和エラ ストマーを製造する方法であって、 使用される金属−有機物触媒は、式: 【化1】 [式中、 CpIおよびCpIIは、1個のH原子からすべてのH原子が、直鎖または分
    枝鎖のC1〜C20アルキル(ただし、ハロゲンで一置換〜全置換することができ 、フェニルで一置換〜三置換することができ、そしてビニルで一置換〜三置換す
    ることができる)、C6〜C12アリール、炭素原子が6個〜12個のハロゲノア リール、およびシリル、トリメチルシリルまたはフェロセニルなどの有機金属置
    換基からなる群から選択される同一または異なる基によって置換され得るシクロ
    ペンタジエニル含有構造を有する同一または異なる2つのカルバニオンであり、
    かつDおよびAによって一置換または二置換することができ、 Dは、置換基をさらに有し得るドナー原子であって、その特定の結合状態にお
    いて少なくとも1対の自由電子対を有するドナー原子であり、 Aは、置換基をさらに有し得るアクセプター原子であって、その特定の結合状
    態において1つの電子対空位を有するアクセプター原子であり、 DおよびAは、ドナー基が(部分的な)正電荷を帯び、かつアクセプター基が
    (部分的な)負電荷を帯びるような可逆的配位結合によって連結され、 Mは、ランタニドおよびアクチニドを含む(メンデレーエフ)元素周期表のI
    II亜族、IV亜族、V亜族またはVI亜族の遷移金属であり、 Xは、1つのアニオン等価物であり、そして nは、Mの電荷に依存して、0、1、2、3または4の数である。] で示されるメタロセン化合物、 あるいは π錯体化合物、特に式: 【化2】 [式中、 πIおよびπIIは、電荷を有するか、または電気的に中性な異なるπ系であ
    って、1個または2個の不飽和または飽和の5員環または6員環と縮合し得るπ
    系であり、 Dは、πIの置換基またはπIのπ系の一部であるドナー原子であって、その
    特定の結合状態において少なくとも1対の自由電子対を有するドナー原子であり
    、 Aは、πIIの置換基またはπIIのπ系の一部であるアクセプター原子であ
    って、その特定の結合状態において1つの電子対空位を有するアクセプター原子
    であり、 DおよびAは、ドナー基が(部分的な)正電荷を帯び、かつアクセプター基が
    (部分的な)負電荷を帯びるような可逆的配位結合によって連結され、そしてD
    およびAの少なくとも一方はその対応するπ系の一部であり、 DおよびAは置換基を有することができ、 各π系または各縮合環系は、1つまたは複数のDまたはA、あるいはDおよび
    Aを含有することができ、そして 非縮合型または縮合型のπIおよびπIIにおいて、π系の1個のH原子から
    すべてのH原子は、互いに独立的に、直鎖または分枝鎖のC1〜C20アルキル( ただし、ハロゲンで一置換〜全置換することができ、フェニルで一置換〜三置換
    することができ、そしてビニルで一置換〜三置換することができる。)、C6〜 C12アリール、炭素原子が6個〜12個のハロゲノアリール、ならびにシリル、
    トリメチルシリルおよびフェロセニルなどの有機金属置換基からなる群から選択
    される同一または異なる基によって置換することができ、そしてDおよびAによ
    って一置換または二置換することができ、その結果、D→Aの可逆的配位結合が
    、(i)それらがともに特定のπ系または縮合環の一部である場合にはDとAの
    間で形成され、あるいは(ii)DまたはAがπ系の一部であり、もう一方が非
    縮合π系または縮合環系の置換基である場合にはDとAの間で形成され、あるい
    は(iii)DおよびAの両方がともにそのような置換基である場合にはDとA
    の間で形成され、ただし、(iii)の場合には、少なくとも1つのさらなるD
    またはAあるいはその両方がπ系または縮合環系の一部であり、 MおよびXは、上記に定義されている通りであり、そして nは、Mの電荷ならびにπIおよびπIIの電荷に依存して、0、1、2、3
    または4の数である。] で示されるメタロセン化合物である製造方法。
  2. 【請求項2】 前記メタロセン化合物または前記π錯体化合物は、1mol
    のメタロセン化合物またはπ錯体化合物に対して101mol〜1012molの モノマー量で触媒として使用されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  3. 【請求項3】 溶媒が存在する場合には、使用される溶媒は、飽和炭化水素
    および芳香族炭化水素または飽和ハロゲノ炭化水素または芳香族ハロゲノ炭化水
    素からなる群から選択されることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  4. 【請求項4】 前記メタロセン化合物において、CpIおよびCpIIの前
    記カルバニオンまたは前記π系πIは、シクロペンタジエン、置換されたシクロ
    ペンタジエン、インデン、置換されたインデン、フルオレン、および置換された
    フルオレンからなる群から選択されるシクロペンタジエニル骨格(ただし、1個
    〜4個の置換基が、C1〜C20アルキル、C1〜C20アルコキシ、ハロゲン、C6 〜C12アリール、ハロゲノフェニルからなる群から選択される)であり、Dおよ
    びAは各シクロペンタジエン環または各縮合ベンゼン環に存在し、DおよびAは
    請求項1において定義されている通りであり、そして縮合芳香族環は部分的また
    は完全に水素化することができることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  5. 【請求項5】 前記メタロセン化合物において、N、P、As、Sb、Bi
    、O、S、Se、Te、F、Cl、BrおよびIからなる群から選択される元素
    、好ましくはN、P、OおよびSからなる群から選択される元素がドナー原子D
    として存在することを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  6. 【請求項6】 前記メタロセン化合物において、B、Al、Ga、Inおよ
    びTlからなる群から選択される元素、好ましくはB、AlおよびGeからなる
    群から選択される元素がアクセプター原子Aとして存在することを特徴とする、
    請求項1に記載の方法。
  7. 【請求項7】 前記メタロセン化合物または前記π錯体化合物において、N
    →B、N→Al、P→B、P→Al、O→B、O→Al、Cl→B、Cl→Al
    、C=O→B、およびC=O→Alからなる群から選択されるドナー−アクセプ
    ター架橋が存在することを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  8. 【請求項8】 前記メタロセン化合物において、Mは、Sc、Y、La、S
    m、Nd、Lu、Ti、Zr、Hf、Th、V、Nb、TaまたはCrであり、
    好ましくはTi、Zr、Hf、V、NbまたはTaであることを特徴とする、請
    求項1に記載の方法。
  9. 【請求項9】 前記メタロセン化合物または前記π錯体化合物を、触媒系と
    して、アルミノキサン、アランまたはアラナート、ボランまたはボラート、およ
    び必要に応じて他の助触媒および/または金属アルキルとともに使用することを
    特徴とする、請求項1に記載の方法。
  10. 【請求項10】 自己活性化のもとでの請求項1に記載のメタロセン化合物
    またはπ錯体化合物の転位生成物であって、D/A結合が開放された後に、アク
    セプター原子AがX配位子と結合して双性イオン型のメタロセン錯体構造または
    π錯体構造が形成され、正電荷が遷移金属Mに生じ、負荷電がアクセプター原子
    Aに生じ、そして他の1つのX配位子はHまたは置換Cまたは非置換Cであり、
    前記遷移金属Mに対するその結合においてオレフィンの挿入が重合のために生じ
    、好ましくは2個のX配位子が1個のキレート配位子に連結されている転位生成
    物を使用することを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  11. 【請求項11】 請求項1に記載のπ錯体化合物であって、原子Dまたは原
    子Aの少なくとも1つ(好ましくは、原子D)が対応π系の環の一部であるπ錯
    体化合物を使用することを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  12. 【請求項12】 イオン化剤と式(I)または式(XIII)のメタロセン
    化合物またはπ錯体との式(XI)または式(XIa)の反応生成物: 【化3】 または 【化4】 または 【化5】 または 【化6】 [上式において、Anionは、全体的に嵩高く配位性が低いアニオンであり、
    Baseはルイス塩基を表す。] を使用することを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  13. 【請求項13】 前記メタロセン化合物または前記π錯体化合物を不均一触
    媒として担体上で使用することを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  14. 【請求項14】 EPMおよびEPDMの調製を目的とすることを特徴とす
    る、請求項1に記載の方法。
  15. 【請求項15】 少なくとも1つの融解ピークの融解温度Tmは+50℃を 越えることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
  16. 【請求項16】 少なくとも1つの融解ピークの半強度幅が多くとも30℃
    であることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
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