JP2000204162A - シロキサンの重合方法 - Google Patents

シロキサンの重合方法

Info

Publication number
JP2000204162A
JP2000204162A JP11350533A JP35053399A JP2000204162A JP 2000204162 A JP2000204162 A JP 2000204162A JP 11350533 A JP11350533 A JP 11350533A JP 35053399 A JP35053399 A JP 35053399A JP 2000204162 A JP2000204162 A JP 2000204162A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
siloxane
catalyst
polymerization
phosphazene
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP11350533A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4883827B2 (ja
Inventor
Peter C Hupfield
ピーター・シー・ハプフィールド
Avril E Surgenor
エイヴリル・イー・サージェナー
G Taylor Richard
リチャード・ジー・テイラー
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dow Silicones Corp
Original Assignee
Dow Corning Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dow Corning Corp filed Critical Dow Corning Corp
Publication of JP2000204162A publication Critical patent/JP2000204162A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4883827B2 publication Critical patent/JP4883827B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/06Preparatory processes
    • C08G77/10Equilibration processes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/06Preparatory processes
    • C08G77/08Preparatory processes characterised by the catalysts used
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00Use of organic ingredients
    • C08K5/49Phosphorus-containing compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ホスファゼン塩基によって触媒されるシロキ
サンの重合を提供すること。 【解決手段】 水存在下で、ホスファゼン塩基触媒と一
緒に、シリコン結合基R’を有するシロキサンとシリコ
ン結合基R’のない環状または線状シロキサンとを混合
する工程、およびシリコン結合基R’を有するシロキサ
ンが縮合し、シリコン結合基R’のない環状または線状
シロキサンが平衡により重合する工程を含む重合方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明が属する技術分野】本発明は、あるホスファゼン
塩基によって触媒されたシロキサンの重合に関するもの
である。
【従来の技術および課題】欧州公開特許0860461
−Aには、水の存在下で、シクロシロキサンとシクロシ
ロキサンの重量に対して1〜500ppmのホスファゼ
ン塩基とを接触させる工程を含む、シクロシロキサンの
開環重合のための方法が記載されている。英国特許23
11994号には、温度0〜200℃および圧力350
torr以下で、シラノール含有オルガノシロキサンと
前記オルガノシロキサンの重縮合に効果的な量の過アル
キル化されたホスファゼン塩基とを接触させる工程を含
む、重縮合を行う方法が記載されている。好ましい過ア
ルキル化されたホスファゼン塩基は、下記式
【0002】
【化2】
【0003】(式中、R#はC1-4のアルキル基であり、
*はC1-10のアルキル基であり、nは2または3であ
る)を有する。英国特許2279945号には、式、O
Cl2P(NPCl2nNPCl2OH、OCl2P(N
PCl2nN(H)PCl2OまたはOCl2P(NPC
2nNPCl3の短鎖線状の酸性ホスファゼンと、そ
の水、アルコールおよびオルガノシロキサンとの反応生
成物が、オルガノシロキサンポリマーの重縮合および再
分配法のための活性化触媒であることが記載されてい
る。米国特許5380902号には、式、Cl3P=N
(−PCl2=N)n−PCl2OまたはHO−PCl2
N(−PCl2=N)n−PCl2Oの酸素含有ホスファ
ゼンの存在下で、オルガノシリコン化合物の縮合および
/または平衡化のための方法が記載されている。
【0004】
【発明を解決するための手段】本発明者らは、ホスファ
ゼン塩基が、平衡による重合および縮合が同時に行われ
る組合された重合のための触媒として、従来技術の触媒
よりもすくなくとも効果的であることを見出した。これ
は通常、両反応間の触媒速度が、実質上相違するので予
期されないことである。
【0005】平衡を経た重合の速度は、本発明において
記載されている縮合反応のそれよりも実質的に速いと思
われる。したがって、平衡による重合に対して安定であ
る下記のような環状シロキサンまたは線状シロキサン
と、縮合重合に用いるシロキサン原料との単なる混合物
による縮合および平衡を経た組合された重合に同一触媒
が使用され得るということは驚くべきことである。その
組合された反応は、一方の重合反応が有利であって、他
方の反応が不利とはならない。
【0006】ホスファゼン塩基触媒を使用するシロキサ
ン重合のための本発明における方法は、ホスファゼン塩
基触媒と一緒に、シリコン結合基R’を有するシロキサ
ン(式中R’は、ヒドロキシル基または炭素原子1〜8
個を有するヒドロカルボノキシ基である)とシリコン結
合基R’のない環状または線状シロキサンとを混合する
工程、およびシリコン結合基R’を有するシロキサンが
縮合し、シリコン結合基R’のない環状または線状シロ
キサンが平衡により重合する工程を含んでいる。
【0007】
【発明の実施の形態】一般的に、非イオン系ホスファゼ
ン塩基は、いずれも本発明において用いるのに適当であ
る。ホスファゼン塩基は、一般的にP=N−P=Nの中
心構造(式中、Nの自由原子価は、水素または炭化水素
に結合し、すなわちアミノ基を作り、Pの自由原子価が
アミノ基に結合している)を含んでいる。
【0008】ホスファゼン塩基およびそれらの合成方法
が、文献にたとえば、1996年、Schwesingerらによ
るLiebigs Ann. 1055−1081に記載されてい
る。いくつかのホスファゼン塩基は、商業的に入手可能
であり、たとえばスイスのFluka Chemie AGから入手
可能である。
【0009】ホスファゼン塩基は、少なくとも3つのP
原子を有するのが好ましい。好ましいホスファゼン塩基
は、下記一般式: ((R1 2N)3P=N−)X(R1 2N)3-XP=NR2 (式中、R1は、各位置において、同一または異なって
もよく、水素または置換または未置換の炭化水素基であ
り、好ましくはC1−C4アルキル基であり、または同一
のN原子と結合している2つのR1基は、複素環を形成
するように結合することができ、好ましくは5−または
6−員環であり;R2は、水素または置換または未置換
の炭化水素であり、好ましくはC1−C20アルキル基で
あり、より好ましくはC1−C10アルキル基であり、x
は1、2または3であり、好ましくは2または3であ
る)の非イオン性ホスファゼンである。
【0010】とくに適当な化合物は、式中R1がメチル
であり、R2が3級ブチルまたは3級オクチルであり、
およびxが3である。
【0011】ホスファゼン塩基が、重合のための非常に
強力な触媒であり、比較的少量配合、たとえばシロキサ
ンの重量に対して、2〜200ppm存在するのがよい
ことが見出された。実際に使用される触媒の配合量は、
求められる重合の速度に応じて選択されるであろう。
【0012】本発明の方法は、水、シラノールまたはア
ルコールの存在下または不存在下で実施することができ
る。水の存在が必要でもなく、重合の開始前に水を除去
する必要もないことを見出した。水は反応において存在
することができ、好ましくはホスファゼン塩基の1mo
lに対して、少なくとも0.5または1〜10molで
ある。シラノール、たとえばトリアルキルシラノール、
またはアルコール、たとえば炭素原子1〜8個を有する
アルカノールは、同様な量において使用可能である。水
をより高配合で使用でき、これは以下にさらに詳細に記
載したように重合反応に対してより制御可能な効果を有
する。しかしながら、たとえば、大量の液体ガス界面を
促進させるシステムにおいて反応を行うことにより、水
が工程中で除去される条件で反応を行うのが好ましい。
【0013】重合は、バルクまたは溶媒の存在下で実施
できる。適当な溶媒は、液体炭化水素またはシリコーン
流体である。ホスファゼン塩基触媒は、ヘキサンまたは
ヘプタンのような炭化水素溶媒で希釈し、またはポリジ
オルガノシロキサンのようなシリコーン流体に分散させ
ることができる。ホスファゼン塩基触媒が、最初にヘキ
サンのような溶媒中に存在する場合、ヘキサンを真空下
で蒸発により除去することができ、シリコーン流体に分
散した触媒は安定な透明溶液になる。この触媒を溶解し
たシリコーンが、重合反応に用られるとき、触媒は均一
に分散し、再現性のある結果を与える。また触媒は水に
溶解され得、これは下記に示すような、重合反応に対し
て一層の制御を可能にする利点を有する。
【0014】重合反応は、室温または250℃、または
300℃以上という高温の加熱下で実施することができ
る。触媒活性が下記のように調節される場合、加熱は、
たとえば100℃またはそれより高温が適当である。好
ましい温度範囲は50℃〜170℃である。重合にかか
る時間は選択されたシステムおける触媒活性および所望
のポリマー生成物に依存している。調節しない場合、ホ
スファゼン塩基触媒は、短時間のうちにシロキサンを高
分子量ポリシロキサンガムに変換するために十分な活性
物質である。
【0015】シリコン結合基R’を有するシロキサン、
たとえば一般式(3):
【0016】
【化3】
【0017】(式中、R3は、水素または炭素原子8個
以下を有するアルキルまたはアリール基であり、各R4
は、同一または異なり、好ましくは炭素原子1〜18個
を有する1価の炭化水素基または好ましくは炭素原子1
〜18個を有するハロゲン化炭化水素基であり、tは少
なくとも2以上を有する整数である)を有するオルガノ
シロキサンである。好ましいR4は、炭素原子1〜6個
を有するアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基
である。tの値は、オルガノポリシロキサンの平均粘度
が25℃で、200mm2/s超えないのが好ましい。
【0018】適当なオルガノシロキサンは、ポリマー鎖
中にシリコン結合R’基を有するが、末端基に存在する
のが好ましい。末端シリコン結合したヒドロキシル基を
有するオルガノシロキサンは当業界でよく知られてお
り、商業的に入手可能である。前記オルガノシロキサン
は、当業界において知られている技術、たとえばクロロ
シランを加水分解し、加水分解によって製造された線状
および環状物質を分離し、続いて線状物質を重合するこ
とによって製造することができる。好ましい適当なオル
ガノシロキサンは、それぞれの末端基において、一つの
シリコン結合したヒドロキシル基を有し、少なくとも8
0%のR4基がメチル基であるものである。非イオンホ
スファゼン触媒が使用される重合プロセスにおける試薬
として用いるのに適切なオルガノシロキサンは、たとえ
ばヒドロキシルジメチルシロキサン末端停止ポリジメチ
ルシロキサン、ヒドロキシルジメチルシロキサン末端停
止ポリジメチルポリメチルフェニルシロキサン共重合体
のような末端ヒドロキシジオルガノシロキサン単位を有
するオルガノシロキサン類である。
【0019】環状シロキサンとしても知られる適当なシ
クロシロキサンは、一般式(R2 2SiO)n(式中R2
上記と同じであり、好ましくは水素または炭素原子8個
以下を有する置換または未置換のアルキル、アルケニ
ル、アリール、アルカリルまたはアラルキル基であり、
nは3〜12の整数である)を有する。R2は、たとえ
ばフッ素または塩素のようなハロゲンにより置換されて
いてもよい。アルキル基は、たとえばメチル、エチル、
n−プロピル、トリフルオロプロピル、n−ブチル、s
ec−ブチル、およびtert−ブチルが挙げられる。
アルケニル基は、たとえばビニル、アリル、プロペニ
ル、ブテニルおよびヘキセニルが挙げられる。アリール
およびアラルキル基は、たとえばフェニル、トリルおよ
びベンゾイルが挙げられる。好ましい基は、メチル、エ
チル、フェニル、ビニルおよびトリフルオロプロピルで
ある。全てのR2基の少なくとも80%が、メチルまた
はフェニル基であることが好ましく、もっとも好ましい
のがメチルである。実質的に全てのR2基がメチル基で
あるのがもっとも好ましい。nの好ましい値は、3〜6
であり、もっとも好ましいのは4〜5である。適当な環
状シロキサンは、たとえばオクタメチルシクロテトラシ
ロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、シクロ
ペンタ(メチルビニル)シロキサン、シクロテトラ(フ
ェニルメチル)シロキサンおよびシクロペンタメチルヒ
ドロシロキサンである。とくに適当であり、商業的に入
手可能な物質の一つは、オクタメチルシクロ−テトラシ
ロキサンおよびデカメチルシクロペンタシロキサンの混
合物である。
【0020】平衡重合のための出発物質は、上記のよう
な環状シロキサンの代わりとして、またはこれに加えて
一般式R5 aSiO4-a/2(式中、R5は、水素原子、炭素
原子1〜18個を有する炭化水素基、炭素原子1〜18
個を有する置換炭化水素基または炭素原子18個以下を
有する(ヒドロカルボノキシ)基であり、aは上記して
いるが、好ましくは1〜3の平均値を有し、好ましくは
1.8〜2.2である)の単位を有するオルガノシロキ
サン物質であることができる。好ましいオルガノシロキ
サンは、ジアルキルシロキサンであり、もっとも好まし
いのは、ジメチルシロキサンである。式R5 3SiO1/2
のシロキサン基で末端停止した実質的に線状物質が好ま
しい。
【0021】したがって本発明における方法は、一般式
R”aSiO4-a/2(2)(式中、R”は、ヒドロキシル
または炭化水素であり、aは、0〜3の値を有する)の
単位を有するオルガノポリシロキサンを製造するために
使用され得る。全てのR”基の少なくとも80%が、ア
ルキルまたはアリール基であるのが好ましく、より好ま
しいのはメチル基である。もっとも好ましいのは実質的
に全てのR”基が、アルキルまたはアリール基であり、
とくにメチル基である。オルガノポリシロキサンは、末
端停止単位を除いて、式中のaの値がとくに全ての単位
で2であるのが好ましく、シロキサンが、一般式R”
(R”2SiO)pSiR”3(3)の実質的に線状ポリ
マーであるものが好ましい。式中R”は上記と同じであ
り、pは整数である。しかしながら、aの値が0または
1である単位を少量存在させることができる。鎖中にお
けるそのような単位を用いるポリマーは、少量の枝別れ
を有する。本発明における触媒を使用する方法で製造さ
れるオルガノポリシロキサンの粘度は、25℃で、10
00〜数100万mm2/sの範囲であるが、これは本
発明の方法で使用される反応条件および原料に依存す
る。
【0022】本発明における方法は、たとえば1×10
6〜100×106amuの高分子量の液体ポリマーまた
はガムを含むオルガノポリシロキサンの全範囲を製造す
るために使用可能である。オルガノポリシロキサンの分
子量は、末端基を与える反応において使用される原料の
濃度によって影響される。適当な原料は、短鎖ポリマ
ー、たとえばR’基一つのみおよびシランを含有する
R’Siを有するオルガノシロキサンを含んでいる。本
発明における方法において使用される末端基付与原料が
ない場合、分子量は触媒濃度により決定される。末端停
止基を与える原料は、所望の分子量のポリマーを製造す
るために計算された割合で添加するのがよい。さらに水
はヒドロキシル官能基の導入で、末端停止剤として働
く。本発明において使用される触媒は、低触媒濃度で、
合理的な時間内でポリマーを生成可能にするために十分
な活性を有する。形成され得るのに適当な平衡ポリマー
のための末端停止剤は、160以上の分子量範囲のポリ
シロキサンであり、とくに一般式MDxM(式中、Mは
トリメチルシリルであり、Dは−Si(CH3)2O-であり、x
は0〜20の値である)のポリジメチルシロキサンを含
む。末端停止剤はヒドロキシル、ビニルまたは水素のよ
うな一つまたはそれ以上の官能基を有する。
【0023】縮合および平衡反応の組み合わせを用いる
ことにより、試薬混合を最終製品の制御に利用すること
ができる。これは、たとえば末端停止を生ずるために使
用される原料の量およびタイプを調整することにより、
また縮合を経て重合したシロキサンと平衡を経て重合し
たシロキサンとの割合を変えることにより可能である。
【0024】所望のポリマーが生成された時、通常、生
成物を安定させるため、およびさらなる反応を防ぐため
に触媒を中和するのが望ましい。適当な中和剤は、酢
酸、リン酸シリル、ポリアクリル酸、塩素置換シラン、
ホスホン酸シリルまたは二酸化炭素である。
【0025】本発明者らは、空気は触媒溶液と非常に速
く反応し、曇りがかった材料となり、結果として不溶性
液体相を導くことを見出した。これは二酸化炭素と触媒
との反応により、炭酸塩を形成するためであることを考
えられる。本発明者らは、この触媒の失活がたとえば加
熱、不活性ガスのパージまたは混合物を減圧に施すこと
によりもどることを見出した。これは重合反応を調節ま
たは調整することが可能である。これは触媒が調節され
ない時に生ずる非常に急速な反応を考慮するととくに有
利である。これらの反応において使用される触媒は、非
常に低量(1〜10ppmという少量)なので、水およ
び二酸化炭素の反応は、その反応を抑制することや、再
現性のある結果を得ることを考慮すると必要である。水
中でホスファゼン塩基を溶解することにより(非常に溶
解し、非常に安定している)触媒活性がさらにいっそう
調整可能であり、生成されたポリマーは低分子量であ
る。これは触媒抑制剤および末端停止剤として働く水に
より生ずる。水の抑制効果は、たとえば加熱によって水
の量を減らすことにより減少させることができる。10
0℃以下の温度における重合速度は、水および/または
二酸化炭素の存在下で、たとえばガム粘度に到達するた
めに24時間以上かかることから比較的遅い。100℃
以上(たとえば100−150℃)の温度における重合
はより速くなり、たとえばガム粘度に到達するために5
−60分かかる。そのような反応の調整は、水がアルコ
ール(たとえばメタノールまたはエタノールのようなC
1−C6アルコール)に置き換わり、または一緒に混合さ
れても達成され得る。
【0026】本発明者らは、重合がシクロシロキサンお
よびホスファゼン塩基触媒の混合物を大気および/また
は二酸化炭素または大量の水にさらすことによって防止
され得ることを見出した。重合は、大気および/または
二酸化炭素または水を除去することによって、たとえば
混合物を(たとえば数分間100℃〜170℃で)加熱
することによって(制御された重合を)簡単に開始する
ことができる。オクタメチルシクロテトラシロキサンと
触媒2〜50ppmとの混合物は、長期間(7日間以
内)20℃の大気中で安定である。
【0027】本発明にしたがって生成されたポリマーの
熱重量分析は、熱安定性が増加していることを示してい
る。高分子量ガムは、450℃以上の分解開始温度で生
成し、シリコーン流体は、500℃以上の分解開始温度
で生成する。増加した熱安定性は、生成物中に残留する
触媒残留物を非常に少量にしている。また少量の触媒残
留物は、濾過工程が通常必要ではなく、そのことは非常
に有利な方法であることを意味している。
【0028】
【実施例】以下、実施例により本発明を説明する。特記
しない限り、全ての割合および百分率は重量に対するも
のであり、全ての粘度は25℃で測定されたものであ
る。
【0029】実施例1:粘度60mm2/sを有するシ
ラノール末端停止ポリジメチルシロキサン(120.5
g)、オクタメチルシクロテトラシロキサン(177.
2g)および粘度5mm2/sを有するポリジメチルシ
ロキサン末端停止剤(12.2g)を、反応容器中で一
緒に混合し、1−tert−ブチル−4,4,4−トリ
ス(ジメチルアミノ)−2,2−ビス(トリス(ジメチ
ルアミノ)−ホスホラニルイデナミノ(phosphoranylid
enamino))−2λ5,4λ5−カテナジ(catenadi)(ホ
スファゼン))(50ppm)を添加した。その反応混
合物を、150mbarの減圧にて、100℃で、2.
5時間加熱した。反応混合物を冷却し、過剰のビス−
(ジメチルビニルシリル)ビニルホスホネートで中和し
た。1時間、145℃にて回収後、最終生成物は、粘度
1831mm2/sおよび97.1%の不揮発分量であ
った。
【0030】実施例2:粘度14mm2/sを有するシ
ラノール末端停止ポリジメチルシロキサンおよびシクロ
ジメチルシロキサンが50/50の混合物(96.1
g)および粘度5mm2/sを有するポリジメチルシロ
キサン末端停止剤(3.9g)を、反応容器中で一緒に
混合し、その反応混合物を、150mbarの減圧下
で、100℃で加熱した。1−tert−ブチル−4,
4,4−トリス(ジメチルアミノ)−2,2−ビス(ト
リス(ジメチルアミノ)−ホスホラニルイデナミノ(ph
osphoranylidenamino))−2λ5,4λ5−カテナジ(ca
tenadi)(ホスファゼン))(150ppm)を添加し
た。5時間後、反応混合物を冷却し、1時間、145℃
にて回収する前に、過剰のビス−(ジメチルビニルシリ
ル)ビニルホスホネートで中和した。最終生成物は、粘
度863.5mm2/sおよび98.0%の不揮発分量
であった。
【0031】実施例3:粘度14mm2/sを有するシ
ラノール末端停止ポリジメチルシロキサンおよびシクロ
ジメチルシロキサンが50/50の混合物(85.6
g)、オクタメチルシクロテトラシロキサン(13.1
g)およびヘキサメチルジシロキサン末端停止剤(1.
4g)を、反応容器中で一緒に混合し、反応混合物を大
気圧にて、100℃で加熱した。その温度で1−ter
t−ブチル−4,4,4−トリス(ジメチルアミノ)−
2,2−ビス(トリス(ジメチルアミノ)−ホスホラニ
ルイデナミノ(phosphoranylidenamino))−2λ5,4
λ5−カテナジ(catenadi)(ホスファゼン))(150
ppm)を添加した。1時間後、反応混合物を冷却し、
1時間、145℃にて回収する前に、過剰のビス−(ジ
メチルビニルシリル)ビニルホスホネートで中和した。
最終生成物は、粘度747mm2/sおよび98.0%
の不揮発分量であった。
【0032】実施例4:粘度14mm2/sを有するシ
ラノール末端停止ポリジメチルシロキサンおよびシクロ
ジメチルシロキサンが50/50の混合物(95g)、
およびヘキサメチルジシロキサン末端停止剤(5g)
を、反応容器中で一緒に混合し、反応混合物を大気圧に
て、100℃で加熱した。その温度で1−tert−ブ
チル−4,4,4−トリス(ジメチルアミノ)−2,2
−ビス(トリス(ジメチルアミノ)−ホスホラニルイデ
ナミノ(phosphoranylidenamino))−2λ5,4λ5
カテナジ(catenadi)(ホスファゼン))(150pp
m)を添加した。1時間後、反応混合物を冷却し、1時
間、145℃にて回収する前に、過剰のビス−(ジメチ
ルビニルシリル)ビニルホスホネートで中和した。最終
生成物は、粘度91mm 2/sおよび98.0%の不揮
発分量であった。
【0033】実施例5:粘度14mm2/sを有するシ
ラノール末端停止ポリジメチルシロキサンおよびシクロ
ジメチルシロキサンが50/50の混合物(90g)、
およびヘキサメチルジシロキサン末端停止剤(10g)
を、反応容器中で一緒に混合し、反応混合物を大気圧に
て、100℃で加熱した。その温度で1−tert−ブ
チル−4,4,4−トリス(ジメチルアミノ)−2,2
−ビス(トリス(ジメチルアミノ)−ホスホラニルイデ
ナミノ(phosphoranylidenamino))−2λ5,4λ5
カテナジ(catenadi)(ホスファゼン))(150pp
m)を添加した。1時間後、反応混合物を冷却し、1時
間、145℃にて回収する前に、過剰のビス−(ジメチ
ルビニルシリル)ビニルホスホネートで中和した。最終
生成物は、粘度39mm2/sおよび95.0%の不揮
発分量であった。
【0034】実施例6:粘度60mm2/sを有するシ
ラノール末端停止ポリジメチルシロキサン(83.4
g)、低沸点シラノール末端停止ポリジメチルシロキサ
ンおよびシクロジメチルシロキサンの混合物(12.7
g)、および粘度5mm2/sを有するポリジメチルシ
ロキサン末端停止剤(3.9g)を、反応容器中で一緒
に混合し、反応混合物を200mbarの減圧下、10
0℃で加熱した。その温度で1−tert−ブチル−
4,4,4−トリス(ジメチルアミノ)−2,2−ビス
(トリス(ジメチルアミノ)−ホスホラニルイデナミノ
(phosphoranylidenamino))−2λ5,4λ5−カテナ
ジ(catenadi)(ホスファゼン))(150ppm)を添
加した。15分後、中和剤ビス−(ジメチルビニルシリ
ル)ビニルホスホネートを過剰に添加した。1時間、1
45℃にて回収後、最終生成物は、粘度2891mm2
/sおよび97%の不揮発分量であった。
【0035】実施例7:粘度60mm2/sを有するシ
ラノール末端停止ポリジメチルシロキサン(83.4
g)、低沸点シラノール末端停止ポリジメチルシロキサ
ンおよびシクロジメチルシロキサンの混合物(12.8
g)、および粘度5mm2/sを有するポリジメチルシ
ロキサン末端停止剤(3.9g)を、反応容器中で一緒
に混合し、反応混合物を400mbarの減圧下、13
0℃で加熱した。その温度で1−tert−ブチル−
4,4,4−トリス(ジメチルアミノ)−2,2−ビス
(トリス(ジメチルアミノ)−ホスホラニルイデナミノ
(phosphoranylidenamino))−2λ5,4λ5−カテナ
ジ(catenadi)(ホスファゼン))(150ppm)を添
加した。5分後、中和剤ビス−(ジメチルビニルシリ
ル)ビニルホスホネートを過剰に添加した。1時間、1
45℃にて回収後、最終生成物は、粘度309mm 2
sおよび95%の不揮発分量であった。
【0036】実施例8:シラノール末端停止ポリジメチ
ルシロキサンおよびシクロジメチルシロキサンの74/
26の混合物(95g)および粘度10mm2/sを有
するポリジメチルシロキサン末端停止剤(5g)を、反
応容器中で一緒に混合し、反応混合物を500mbar
の減圧下、134℃で加熱した。その温度で1−ter
t−ブチル−4,4,4−トリス(ジメチルアミノ)−
2,2−ビス(トリス(ジメチルアミノ)−ホスホラニ
ルイデナミノ(phosphoranylidenamino))−2λ5,4
λ 5−カテナジ(catenadi)(ホスファゼン))(65p
pm)を添加した。5分後、中和剤ビス−(ジメチルビ
ニルシリル)ビニルホスホネートを過剰に添加した。1
時間、165℃にて回収後、最終生成物は、粘度448
mm2/sおよび98%の不揮発分量であった。
【0037】実施例9:実施例8のプロセスを、130
℃および30分の反応温度および反応時間(λ 5,4
λ5)を用いて繰返した。1時間、145℃にて回収
後、最終生成物は、粘度1207mm2/sおよび99
%の不揮発分量であった。
【0038】実施例10:シラノール末端停止ポリジメ
チルシロキサンおよびシクロジメチルシロキサンの26
/74の混合物(95g)および粘度10mm2/sを
有するポリジメチルシロキサン末端停止剤(5g)を、
反応容器中で一緒に混合し、反応混合物を大気圧下、1
35℃で加熱した。その温度で1−tert−ブチル−
4,4,4−トリス(ジメチルアミノ)−2,2−ビス
(トリス(ジメチルアミノ)−ホスホラニルイデナミノ
(phosphoranylidenamino))−2λ5,4λ5−カテナ
ジ(catenadi)(ホスファゼン))(150ppm)を添
加した。15分後、中和剤ビス−(ジメチルビニルシリ
ル)ビニルホスホネートを過剰に添加した。1時間、1
45℃にて回収後、最終生成物は、粘度932mm2
sおよび98.4%の不揮発分量であった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 エイヴリル・イー・サージェナー イギリス国、カーディフ・シーエフ23・8 ピービー、ゲートサイド・クローズ 7、 ウエストウェイ (72)発明者 リチャード・ジー・テイラー イギリス国、バリー・シーエフ63・8エイ チティ、セイント・ポールズ・アベニュー 11

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 シリコン結合基R’(R’は、ヒドロキ
    シル基または炭素原子1〜8個を有するヒドロカルボノ
    キシ基である)を有するシロキサンを、シリコン結合基
    R’がない環状または線状シロキサンおよびホスファゼ
    ン塩基触媒と混合し、重合させることによって、前記シ
    リコン結合基R’を有するシロキサンが縮合し、かつ前
    記のシリコン結合R’基がない環状または線状シロキサ
    ンが平衡により重合することを特徴とするホスファゼン
    触媒を用いるシロキサンの重合方法。
  2. 【請求項2】 シロキサンおよび触媒を水、シラノール
    またはアルコールと混合することを特徴とする請求項1
    に記載の方法。
  3. 【請求項3】 ホスファゼン塩基が下記一般式: ((R1 2N)3P=N−)X(R1 2N)3-XP=NR2 式中R1は、各位置において同一または異なってもよ
    く、水素または置換または未置換の炭化水素基であり、
    または同一のN原子に結合している二つのR1基は、複
    素環を形成するように結合することができ、R2は、水
    素または置換または未置換の炭化水素基であり、xは
    1、2または3であることを特徴とする請求項1または
    2に記載の方法。
  4. 【請求項4】 シリコン結合R’基を有するシロキサン
    が下記一般式: 【化1】 (式中R3は、水素または炭素原子8個以下を有するア
    ルキルまたはアリール基であり、各R4は同一または異
    なり、炭素原子1〜18個を有する1価の炭化水素基ま
    たは炭素原子1〜18個を有するハロゲン化炭化水素基
    であり、tは少なくとも2以上の値を有する)オルガノ
    シロキサンであることを特徴とする請求項1ないし3の
    いずれか1項に記載の方法。
  5. 【請求項5】 シロキサンおよび触媒が、R’基一つの
    み有するオルガノシロキサン、式R’Siの基を含有す
    るシランおよび一般式MDXM(式中、Mはトリメチル
    シリルであり、Dは−Si(CH32O−であり、xは
    0〜20の値を有する)のポリジメチルシロキサンから
    選択される末端停止剤と混合されることを特徴とする請
    求項1ないし4のいずれか1項に記載の方法。
JP35053399A 1998-12-09 1999-12-09 シロキサンの重合方法 Expired - Lifetime JP4883827B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB9827085.3 1998-12-09
GBGB9827085.3A GB9827085D0 (en) 1998-12-09 1998-12-09 Polymerisation of siloxanes

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000204162A true JP2000204162A (ja) 2000-07-25
JP4883827B2 JP4883827B2 (ja) 2012-02-22

Family

ID=10843916

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP35053399A Expired - Lifetime JP4883827B2 (ja) 1998-12-09 1999-12-09 シロキサンの重合方法

Country Status (7)

Country Link
US (1) US6353075B1 (ja)
EP (1) EP1008611A3 (ja)
JP (1) JP4883827B2 (ja)
KR (1) KR20000047996A (ja)
CN (1) CN1256282A (ja)
BR (1) BR9905803A (ja)
GB (1) GB9827085D0 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000197823A (ja) * 1998-12-09 2000-07-18 Dow Corning Corp 重合触媒及び重合方法
JP2000204161A (ja) * 1998-12-09 2000-07-25 Dow Corning Corp シロキサン類の重合
WO2018051792A1 (ja) * 2016-09-14 2018-03-22 国立研究開発法人産業技術総合研究所 ポリシロキサン構造含有化合物の製造方法及び高分子組成物

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE60314127T2 (de) * 2002-05-01 2008-01-24 Dow Corning Corp., Midland Zusammensetzungen mit verlängerter verarbeitungszeit
US7429636B2 (en) * 2002-05-01 2008-09-30 Dow Corning Corporation Organohydrogensilicon compounds
WO2004016670A2 (en) * 2002-08-16 2004-02-26 The University Of Akron Poly(cyclosiloxane) composiiton and method of synthesis thereof
KR101028348B1 (ko) * 2002-12-20 2011-04-11 다우 코닝 코포레이션 유기수소규소 화합물로부터의 분지형 중합체
DE60324023D1 (de) * 2002-12-20 2008-11-20 Dow Corning Verzweigte polymere aus organohydrogensilizium-verbindungen
CN100374525C (zh) * 2003-03-17 2008-03-12 陶氏康宁公司 具有改进的高温粘结强度的无溶剂硅氧烷压敏粘合剂
GB0316162D0 (en) * 2003-07-10 2003-08-13 Dow Corning Silicone release coating compositions
EP1910487B1 (en) * 2005-07-28 2014-04-02 Dow Corning Corporation Release coating compositions having improved release forse profiles
US20100179289A1 (en) * 2007-06-15 2010-07-15 Peter Cheshire Hupfield Method for the Production of Cyclic Polysiloxanes
EP2788033B1 (en) 2011-12-05 2017-05-31 Factor Bioscience Inc. Methods and products for transfecting cells
JP5960014B2 (ja) * 2012-09-28 2016-08-02 日東電工株式会社 蛍光接着シート、光半導体素子−蛍光体層感圧接着体および光半導体装置
US20210246337A1 (en) 2018-06-29 2021-08-12 Dow Silicones Corporation Solventless silicone pressure sensitive adhesive and methods for making and using same
EP3814444B1 (en) 2018-06-29 2023-11-01 Dow Silicones Corporation Anchorage additive and methods for its preparation and use
PL3599256T3 (pl) 2018-07-27 2022-05-30 Henkel Ag & Co. Kgaa Sposób wytwarzania poliorganosiloksanów
CN111333846A (zh) * 2020-04-13 2020-06-26 新纳奇材料科技江苏有限公司 一种单端烷氧基单端甲基聚二甲基硅氧烷的制备方法

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000103856A (ja) * 1998-08-26 2000-04-11 Dow Corning Corp シリコ―ンポリマ―の連続製造方法
JP2000103857A (ja) * 1998-08-26 2000-04-11 Dow Corning Corp シリコ―ンポリマ―の製造方法
JP2000109559A (ja) * 1998-08-26 2000-04-18 Dow Corning Corp シリコ―ンポリマ―の連続製造方法
JP2000128849A (ja) * 1998-10-26 2000-05-09 Dainippon Ink & Chem Inc フェニルナフタレン誘導体及びその製造方法
JP2000197823A (ja) * 1998-12-09 2000-07-18 Dow Corning Corp 重合触媒及び重合方法
JP2000198849A (ja) * 1998-12-09 2000-07-18 Dow Corning Corp シロキサンの重合
JP2000204161A (ja) * 1998-12-09 2000-07-25 Dow Corning Corp シロキサン類の重合

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE626415C (de) 1933-10-10 1936-02-26 Platen Munters Refrigerating S Verfahren zum Betriebe von intermittierend arbeitenden Absorptionskaelteapparaten
US4831174A (en) * 1987-12-31 1989-05-16 Dow Corning Corporation Production of polydiorganosiloxane fluids with low silanol content
US5403909A (en) 1993-07-15 1995-04-04 General Electric Company Catalysts for polycondensation and redistribution of organosiloxane polymers
US5408025A (en) * 1993-07-15 1995-04-18 General Electric Company Synthesis of low silanol content, triorgano-stopped silicone fluids
US5585451A (en) 1995-12-14 1996-12-17 General Electric Company Silicone condensation and/or equilibration catalyst and use
US5688888A (en) 1996-04-08 1997-11-18 General Electric Company Peralkylated phosphazene base-catalyzed silanol condensation method
GB9703554D0 (en) * 1997-02-20 1997-04-09 Dow Corning Polymerisation of cyclosiloxanes
DE19719340A1 (de) * 1997-05-07 1998-11-12 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zum Äquilibrieren und/oder Kondensieren von Organosiliciumverbindungen

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000103856A (ja) * 1998-08-26 2000-04-11 Dow Corning Corp シリコ―ンポリマ―の連続製造方法
JP2000103857A (ja) * 1998-08-26 2000-04-11 Dow Corning Corp シリコ―ンポリマ―の製造方法
JP2000109559A (ja) * 1998-08-26 2000-04-18 Dow Corning Corp シリコ―ンポリマ―の連続製造方法
JP2000128849A (ja) * 1998-10-26 2000-05-09 Dainippon Ink & Chem Inc フェニルナフタレン誘導体及びその製造方法
JP2000197823A (ja) * 1998-12-09 2000-07-18 Dow Corning Corp 重合触媒及び重合方法
JP2000198849A (ja) * 1998-12-09 2000-07-18 Dow Corning Corp シロキサンの重合
JP2000204161A (ja) * 1998-12-09 2000-07-25 Dow Corning Corp シロキサン類の重合

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000197823A (ja) * 1998-12-09 2000-07-18 Dow Corning Corp 重合触媒及び重合方法
JP2000204161A (ja) * 1998-12-09 2000-07-25 Dow Corning Corp シロキサン類の重合
JP4542653B2 (ja) * 1998-12-09 2010-09-15 ダウ コーニング コーポレーション 重合触媒及び重合方法
WO2018051792A1 (ja) * 2016-09-14 2018-03-22 国立研究開発法人産業技術総合研究所 ポリシロキサン構造含有化合物の製造方法及び高分子組成物

Also Published As

Publication number Publication date
US6353075B1 (en) 2002-03-05
CN1256282A (zh) 2000-06-14
EP1008611A2 (en) 2000-06-14
KR20000047996A (ko) 2000-07-25
BR9905803A (pt) 2000-08-08
GB9827085D0 (en) 1999-02-03
EP1008611A3 (en) 2001-03-21
JP4883827B2 (ja) 2012-02-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4883827B2 (ja) シロキサンの重合方法
JP2983654B2 (ja) 末端をアルコキシシルエチレン基でブロックされたポリジオルガノシロキサンの製造方法
US6197914B1 (en) Method for preparing polyorganosiloxane resins that contain mono-and tetrafunctional units
JPH10279682A (ja) シクロシロキサンの重合
KR100643546B1 (ko) 실리콘 중합체의 연속 제조방법
US6284859B1 (en) Polymerization of siloxanes
JPH05194557A (ja) シロキサニル−ホスフェート混合体及びそのシロキサンポリマー中の金属シラノレート安定化への使用法
JPH02235931A (ja) オルガノシロキサンの分子量を縮合重合により増加させる方法
JPH08512234A (ja) オルガノシロキサンもしくはポリオルガノシロキサンの製造のための触媒
KR100643547B1 (ko) 실리콘 중합체의 연속 제조방법
JPH06240000A (ja) 分岐状オルガノポリシロキサンの製造方法
EP0515082B1 (en) Anhydrous hydrogen chloride evolving one-step process for producing siloxanes
JPH06172532A (ja) オルガノシロキサンの製造方法
EP0557958B1 (en) Method for making alkoxy radical-containing silicone resin
US6346593B1 (en) Polymerization of siloxanes
KR970006899B1 (ko) 플루오로실리콘 중합체 제조용 촉매
US5674938A (en) Liquid polysiloxanes
JP4507134B2 (ja) 鎖延長オルガノポリシロキサンの製造方法
JP4195226B2 (ja) ヒドロキシ末端直鎖状シロキサンの製造方法
JP3632736B2 (ja) オルガノポリシロキサンガムの製造方法
JP7039718B2 (ja) 分枝オルガノポリシロキサンの調製方法
JP3546727B2 (ja) オルガノポリシロキサンガムの製造方法
JPH10279683A (ja) シロキサン組成物を製造する方法
JP2657454B2 (ja) オルガノポリシロキサンの製造方法
JP3067953B2 (ja) 末端ヒドロキシ基停止オルガノハイドロジェンポリシロキサンの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061121

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20090917

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20090929

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100104

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100107

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20100129

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20100203

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100225

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110111

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110408

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20111108

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20111206

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141216

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4883827

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term