JP4883827B2 - シロキサンの重合方法 - Google Patents
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Description
【発明が属する技術分野】
本発明は、あるホスファゼン塩基によって触媒されたシロキサンの重合に関するものである。
【従来の技術および課題】
欧州公開特許0860461−Aには、水の存在下で、シクロシロキサンとシクロシロキサンの重量に対して1〜500ppmのホスファゼン塩基とを接触させる工程を含む、シクロシロキサンの開環重合のための方法が記載されている。英国特許2311994号には、温度0〜200℃および圧力350torr以下で、シラノール含有オルガノシロキサンと前記オルガノシロキサンの重縮合に効果的な量の過アルキル化されたホスファゼン塩基とを接触させる工程を含む、重縮合を行う方法が記載されている。好ましい過アルキル化されたホスファゼン塩基は、下記式
【0002】
【化2】
【0003】
(式中、R#はC1-4のアルキル基であり、R*はC1-10のアルキル基であり、nは2または3である)を有する。英国特許2279945号には、式、OCl2P(NPCl2)nNPCl2OH、OCl2P(NPCl2)nN(H)PCl2OまたはOCl2P(NPCl2)nNPCl3の短鎖線状の酸性ホスファゼンと、その水、アルコールおよびオルガノシロキサンとの反応生成物が、オルガノシロキサンポリマーの重縮合および再分配法のための活性化触媒であることが記載されている。米国特許5380902号には、式、Cl3P=N(−PCl2=N)n−PCl2OまたはHO−PCl2=N(−PCl2=N)n−PCl2Oの酸素含有ホスファゼンの存在下で、オルガノシリコン化合物の縮合および/または平衡化のための方法が記載されている。
【0004】
【発明を解決するための手段】
本発明者らは、ホスファゼン塩基が、平衡による重合および縮合が同時に行われる組合された重合のための触媒として、従来技術の触媒よりもすくなくとも効果的であることを見出した。これは通常、両反応間の触媒速度が、実質上相違するので予期されないことである。
【0005】
平衡を経た重合の速度は、本発明において記載されている縮合反応のそれよりも実質的に速いと思われる。したがって、平衡による重合に対して安定である下記のような環状シロキサンと、縮合重合に用いるシロキサン原料との単なる混合物による縮合および平衡を経た組合された重合に同一触媒が使用され得るということは驚くべきことである。その組合された反応は、一方の重合反応が有利であって、他方の反応が不利とはならない。
【0006】
ホスファゼン塩基触媒を使用するシロキサン重合のための本発明における方法は、ホスファゼン塩基触媒と一緒に、シリコン結合基R'を有するシロキサン(式中R'は、ヒドロキシル基または炭素原子1〜8個を有するヒドロカルボノキシ基である)とシリコン結合基R'のない環状シロキサンとを混合する工程、およびシリコン結合基R'を有するシロキサンが縮合し、シリコン結合基R'のない環状シロキサンが平衡により重合する工程を含んでいる。
【0007】
【発明の実施の形態】
一般的に、非イオン系ホスファゼン塩基は、いずれも本発明において用いるのに適当である。ホスファゼン塩基は、一般的にP=N−P=Nの中心構造(式中、Nの自由原子価は、水素または炭化水素に結合し、すなわちアミノ基を作り、Pの自由原子価がアミノ基に結合している)を含んでいる。
【0008】
ホスファゼン塩基およびそれらの合成方法が、文献にたとえば、1996年、SchwesingerらによるLiebigs Ann. 1055−1081に記載されている。いくつかのホスファゼン塩基は、商業的に入手可能であり、たとえばスイスのFluka Chemie AGから入手可能である。
【0009】
ホスファゼン塩基は、少なくとも3つのP原子を有するのが好ましい。好ましいホスファゼン塩基は、下記一般式:
((R1 2N)3P=N−)x(R1 2N)3-xP=NR2
(式中、R1は、各位置において、同一または異なってもよく、水素または未置換の炭化水素基であり、好ましくはC1−C4アルキル基であり、または同一のN原子と結合している2つのR1基は、複素環を形成するように結合することができ、好ましくは5−または6−員環であり;R2は、水素または未置換の炭化水素であり、好ましくはC1−C20アルキル基であり、より好ましくはC1−C10アルキル基であり、xは1、2または3であり、好ましくは2または3である)の非イオン性ホスファゼンである。
【0010】
とくに適当な化合物は、式中R1がメチルであり、R2が3級ブチルまたは3級オクチルであり、およびxが3である。
【0011】
ホスファゼン塩基が、重合のための非常に強力な触媒であり、比較的少量配合、たとえばシロキサンの重量に対して、2〜200ppm存在するのがよいことが見出された。実際に使用される触媒の配合量は、求められる重合の速度に応じて選択されるであろう。
【0012】
本発明の方法は、水、またはアルコールの存在下または不存在下で実施することができる。水の存在が必要でもなく、重合の開始前に水を除去する必要もないことを見出した。水は反応において存在することができ、好ましくはホスファゼン塩基の1molに対して、少なくとも0.5または1〜10molである。アルコール、たとえば炭素原子1〜8個を有するアルカノールは、同様な量において使用可能である。水をより高配合で使用でき、これは以下にさらに詳細に記載したように重合反応に対してより制御可能な効果を有する。しかしながら、たとえば、大量の液体ガス界面を促進させるシステムにおいて反応を行うことにより、水が工程中で除去される条件で反応を行うのが好ましい。
【0013】
重合は、バルクまたは溶媒の存在下で実施できる。適当な溶媒は、液体炭化水素またはシリコーン流体である。ホスファゼン塩基触媒は、ヘキサンまたはヘプタンのような炭化水素溶媒で希釈し、またはポリジオルガノシロキサンのようなシリコーン流体に分散させることができる。ホスファゼン塩基触媒が、最初にヘキサンのような溶媒中に存在する場合、ヘキサンを真空下で蒸発により除去することができ、シリコーン流体に分散した触媒は安定な透明溶液になる。この触媒を溶解したシリコーンが、重合反応に用られるとき、触媒は均一に分散し、再現性のある結果を与える。また触媒は水に溶解され得、これは下記に示すような、重合反応に対して一層の制御を可能にする利点を有する。
【0014】
重合反応は、室温または250℃、または300℃以上という高温の加熱下で実施することができる。触媒活性が下記のように調節される場合、加熱は、たとえば100℃またはそれより高温が適当である。好ましい温度範囲は50℃〜170℃である。重合にかかる時間は選択されたシステムおける触媒活性および所望のポリマー生成物に依存している。調節しない場合、ホスファゼン塩基触媒は、短時間のうちにシロキサンを高分子量ポリシロキサンガムに変換するために十分な活性物質である。
【0015】
シリコン結合基R’を有するシロキサン、たとえば一般式(3):
【0016】
【化3】
【0017】
(式中、R3は、水素または炭素原子8個以下を有するアルキルまたはアリール基であり、各R4は、同一または異なり、好ましくは炭素原子1〜18個を有する1価の炭化水素基または好ましくは炭素原子1〜18個を有するハロゲン化炭化水素基であり、tは少なくとも2以上を有する整数である)を有するオルガノシロキサンである。好ましいR4は、炭素原子1〜6個を有するアルキル基であり、さらに好ましくはメチル基である。tの値は、オルガノポリシロキサンの平均粘度が25℃で、200mm2/s超えないのが好ましい。
【0018】
適当なオルガノシロキサンは、ポリマー鎖中にシリコン結合R’基を有するが、末端基に存在するのが好ましい。末端シリコン結合したヒドロキシル基を有するオルガノシロキサンは当業界でよく知られており、商業的に入手可能である。前記オルガノシロキサンは、当業界において知られている技術、たとえばクロロシランを加水分解し、加水分解によって製造された線状および環状物質を分離し、続いて線状物質を重合することによって製造することができる。好ましい適当なオルガノシロキサンは、それぞれの末端基において、一つのシリコン結合したヒドロキシル基を有し、少なくとも80%のR4基がメチル基であるものである。非イオンホスファゼン触媒が使用される重合プロセスにおける試薬として用いるのに適切なオルガノシロキサンは、たとえばヒドロキシルジメチルシロキサン末端停止ポリジメチルシロキサン、ヒドロキシルジメチルシロキサン末端停止ポリジメチルポリメチルフェニルシロキサン共重合体のような末端ヒドロキシジオルガノシロキサン単位を有するオルガノシロキサン類である。
【0019】
環状シロキサンとしても知られる適当なシクロシロキサンは、一般式(R2 2SiO)n(式中R2は上記と同じであり、好ましくは水素または炭素原子8個以下を有する置換または未置換のアルキル、アルケニル、アリール、アルカリルまたはアラルキル基であり、nは3〜12の整数である)を有する。R2は、たとえばフッ素または塩素のようなハロゲンにより置換されていてもよい。アルキル基は、たとえばメチル、エチル、n−プロピル、トリフルオロプロピル、n−ブチル、sec−ブチル、およびtert−ブチルが挙げられる。アルケニル基は、たとえばビニル、アリル、プロペニル、ブテニルおよびヘキセニルが挙げられる。アリールおよびアラルキル基は、たとえばフェニル、トリルおよびベンゾイルが挙げられる。好ましい基は、メチル、エチル、フェニル、ビニルおよびトリフルオロプロピルである。全てのR2基の少なくとも80%が、メチルまたはフェニル基であることが好ましく、もっとも好ましいのがメチルである。実質的に全てのR2基がメチル基であるのがもっとも好ましい。nの好ましい値は、3〜6であり、もっとも好ましいのは4〜5である。適当な環状シロキサンは、たとえばオクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、シクロペンタ(メチルビニル)シロキサン、シクロテトラ(フェニルメチル)シロキサンおよびシクロペンタメチルヒドロシロキサンである。とくに適当であり、商業的に入手可能な物質の一つは、オクタメチルシクロ−テトラシロキサンおよびデカメチルシクロペンタシロキサンの混合物である。
【0021】
したがって本発明における方法は、一般式R”aSiO4-a/2(2)(式中、R”は、ヒドロキシルまたは炭化水素であり、aは、0〜3の値を有する)の単位を有するオルガノポリシロキサンを製造するために使用され得る。全てのR”基の少なくとも80%が、アルキルまたはアリール基であるのが好ましく、より好ましいのはメチル基である。もっとも好ましいのは実質的に全てのR”基が、アルキルまたはアリール基であり、とくにメチル基である。オルガノポリシロキサンは、末端停止単位を除いて、式中のaの値がとくに全ての単位で2であるのが好ましく、シロキサンが、一般式R”(R”2SiO)pSiR”3(3)の実質的に線状ポリマーであるものが好ましい。式中R”は上記と同じであり、pは整数である。しかしながら、aの値が0または1である単位を少量存在させることができる。鎖中におけるそのような単位を用いるポリマーは、少量の枝別れを有する。本発明における触媒を使用する方法で製造されるオルガノポリシロキサンの粘度は、25℃で、1000〜数100万mm2/sの範囲であるが、これは本発明の方法で使用される反応条件および原料に依存する。
【0022】
本発明における方法は、たとえば1×106〜100×106amuの高分子量の液体ポリマーまたはガムを含むオルガノポリシロキサンの全範囲を製造するために使用可能である。オルガノポリシロキサンの分子量は、末端基を与える反応において使用される原料の濃度によって影響される。適当な原料は、短鎖ポリマー、たとえばR’基一つのみおよびシランを含有するR’Siを有するオルガノシロキサンを含んでいる。本発明における方法において使用される末端基付与原料がない場合、分子量は触媒濃度により決定される。末端停止基を与える原料は、所望の分子量のポリマーを製造するために計算された割合で添加するのがよい。さらに水はヒドロキシル官能基の導入で、末端停止剤として働く。本発明において使用される触媒は、低触媒濃度で、合理的な時間内でポリマーを生成可能にするために十分な活性を有する。形成され得るのに適当な平衡ポリマーのための末端停止剤は、160以上の分子量範囲のポリシロキサンであり、とくに一般式MDxM(式中、Mはトリメチルシリルであり、Dは−Si(CH3)2O-であり、xは0〜20の値である)のポリジメチルシロキサンを含む。末端停止剤はヒドロキシル、ビニルまたは水素のような一つまたはそれ以上の官能基を有する。
【0023】
縮合および平衡反応の組み合わせを用いることにより、試薬混合を最終製品の制御に利用することができる。これは、たとえば末端停止を生ずるために使用される原料の量およびタイプを調整することにより、また縮合を経て重合したシロキサンと平衡を経て重合したシロキサンとの割合を変えることにより可能である。
【0024】
所望のポリマーが生成された時、通常、生成物を安定させるため、およびさらなる反応を防ぐために触媒を中和するのが望ましい。適当な中和剤は、酢酸、リン酸シリル、ポリアクリル酸、塩素置換シラン、ホスホン酸シリルまたは二酸化炭素である。
【0025】
本発明者らは、空気は触媒溶液と非常に速く反応し、曇りがかった材料となり、結果として不溶性液体相を導くことを見出した。これは二酸化炭素と触媒との反応により、炭酸塩を形成するためであると考えられる。本発明者らは、この触媒の失活がたとえば加熱、不活性ガスのパージまたは混合物を減圧に施すことによりもどることを見出した。これは重合反応を調節または調整することが可能である。これは触媒が調節されない時に生ずる非常に急速な反応を考慮するととくに有利である。これらの反応において使用される触媒は、非常に低量(1〜10ppmという少量)なので、水および二酸化炭素の反応は、その反応を抑制することや、再現性のある結果を得ることを考慮すると必要である。水中でホスファゼン塩基を溶解することにより(非常に溶解し、非常に安定している)触媒活性がさらにいっそう調整可能であり、生成されたポリマーは低分子量である。これは触媒抑制剤および末端停止剤として働く水により生ずる。水の抑制効果は、たとえば加熱によって水の量を減らすことにより減少させることができる。100℃以下の温度における重合速度は、水および/または二酸化炭素の存在下で、たとえばガム粘度に到達するために24時間以上かかることから比較的遅い。100℃以上(たとえば100−150℃)の温度における重合はより速くなり、たとえばガム粘度に到達するために5−60分かかる。そのような反応の調整は、水がアルコール(たとえばメタノールまたはエタノールのようなC1−C6アルコール)に置き換わり、または一緒に混合されても達成され得る。
【0026】
本発明者らは、重合がシクロシロキサンおよびホスファゼン塩基触媒の混合物を大気および/または二酸化炭素または大量の水にさらすことによって防止され得ることを見出した。重合は、大気および/または二酸化炭素または水を除去することによって、たとえば混合物を(たとえば数分間100℃〜170℃で)加熱することによって(制御された重合を)簡単に開始することができる。オクタメチルシクロテトラシロキサンと触媒2〜50ppmとの混合物は、長期間(7日間以内)20℃の大気中で安定である。
【0027】
本発明にしたがって生成されたポリマーの熱重量分析は、熱安定性が増加していることを示している。高分子量ガムは、450℃以上の分解開始温度で生成し、シリコーン流体は、500℃以上の分解開始温度で生成する。増加した熱安定性は、生成物中に残留する触媒残留物を非常に少量にしている。また少量の触媒残留物は、濾過工程が通常必要ではなく、そのことは非常に有利な方法であることを意味している。
【0028】
【実施例】
以下、実施例により本発明を説明する。特記しない限り、全ての割合および百分率は重量に対するものであり、全ての粘度は25℃で測定されたものである。
【0029】
実施例1:
粘度60mm2/sを有するシラノール末端停止ポリジメチルシロキサン(120.5g)、オクタメチルシクロテトラシロキサン(177.2g)および粘度5mm2/sを有するポリジメチルシロキサン末端停止剤(12.2g)を、反応容器中で一緒に混合し、1−tert−ブチル−4,4,4−トリス(ジメチルアミノ)−2,2−ビス(トリス(ジメチルアミノ)−ホスホラニルイデナミノ(phosphoranylidenamino))−2λ5,4λ5−カテナジ(catenadi)(ホスファゼン))(50ppm)を添加した。その反応混合物を、150mbarの減圧にて、100℃で、2.5時間加熱した。反応混合物を冷却し、過剰のビス−(ジメチルビニルシリル)ビニルホスホネートで中和した。1時間、145℃にて回収後、最終生成物は、粘度1831mm2/sおよび97.1%の不揮発分量であった。
【0030】
実施例2:
粘度14mm2/sを有するシラノール末端停止ポリジメチルシロキサンおよびシクロジメチルシロキサンが50/50の混合物(96.1g)および粘度5mm2/sを有するポリジメチルシロキサン末端停止剤(3.9g)を、反応容器中で一緒に混合し、その反応混合物を、150mbarの減圧下で、100℃で加熱した。1−tert−ブチル−4,4,4−トリス(ジメチルアミノ)−2,2−ビス(トリス(ジメチルアミノ)−ホスホラニルイデナミノ(phosphoranylidenamino))−2λ5,4λ5−カテナジ(catenadi)(ホスファゼン))(150ppm)を添加した。5時間後、反応混合物を冷却し、1時間、145℃にて回収する前に、過剰のビス−(ジメチルビニルシリル)ビニルホスホネートで中和した。最終生成物は、粘度863.5mm2/sおよび98.0%の不揮発分量であった。
【0031】
実施例3:
粘度14mm2/sを有するシラノール末端停止ポリジメチルシロキサンおよびシクロジメチルシロキサンが50/50の混合物(85.6g)、オクタメチルシクロテトラシロキサン(13.1g)およびヘキサメチルジシロキサン末端停止剤(1.4g)を、反応容器中で一緒に混合し、反応混合物を大気圧にて、100℃で加熱した。その温度で1−tert−ブチル−4,4,4−トリス(ジメチルアミノ)−2,2−ビス(トリス(ジメチルアミノ)−ホスホラニルイデナミノ(phosphoranylidenamino))−2λ5,4λ5−カテナジ(catenadi)(ホスファゼン))(150ppm)を添加した。1時間後、反応混合物を冷却し、1時間、145℃にて回収する前に、過剰のビス−(ジメチルビニルシリル)ビニルホスホネートで中和した。最終生成物は、粘度747mm2/sおよび98.0%の不揮発分量であった。
【0032】
実施例4:
粘度14mm2/sを有するシラノール末端停止ポリジメチルシロキサンおよびシクロジメチルシロキサンが50/50の混合物(95g)、およびヘキサメチルジシロキサン末端停止剤(5g)を、反応容器中で一緒に混合し、反応混合物を大気圧にて、100℃で加熱した。その温度で1−tert−ブチル−4,4,4−トリス(ジメチルアミノ)−2,2−ビス(トリス(ジメチルアミノ)−ホスホラニルイデナミノ(phosphoranylidenamino))−2λ5,4λ5−カテナジ(catenadi)(ホスファゼン))(150ppm)を添加した。1時間後、反応混合物を冷却し、1時間、145℃にて回収する前に、過剰のビス−(ジメチルビニルシリル)ビニルホスホネートで中和した。最終生成物は、粘度91mm2/sおよび98.0%の不揮発分量であった。
【0033】
実施例5:
粘度14mm2/sを有するシラノール末端停止ポリジメチルシロキサンおよびシクロジメチルシロキサンが50/50の混合物(90g)、およびヘキサメチルジシロキサン末端停止剤(10g)を、反応容器中で一緒に混合し、反応混合物を大気圧にて、100℃で加熱した。その温度で1−tert−ブチル−4,4,4−トリス(ジメチルアミノ)−2,2−ビス(トリス(ジメチルアミノ)−ホスホラニルイデナミノ(phosphoranylidenamino))−2λ5,4λ5−カテナジ(catenadi)(ホスファゼン))(150ppm)を添加した。1時間後、反応混合物を冷却し、1時間、145℃にて回収する前に、過剰のビス−(ジメチルビニルシリル)ビニルホスホネートで中和した。最終生成物は、粘度39mm2/sおよび95.0%の不揮発分量であった。
【0034】
実施例6:
粘度60mm2/sを有するシラノール末端停止ポリジメチルシロキサン(83.4g)、低沸点シラノール末端停止ポリジメチルシロキサンおよびシクロジメチルシロキサンの混合物(12.7g)、および粘度5mm2/sを有するポリジメチルシロキサン末端停止剤(3.9g)を、反応容器中で一緒に混合し、反応混合物を200mbarの減圧下、100℃で加熱した。その温度で1−tert−ブチル−4,4,4−トリス(ジメチルアミノ)−2,2−ビス(トリス(ジメチルアミノ)−ホスホラニルイデナミノ(phosphoranylidenamino))−2λ5,4λ5−カテナジ(catenadi)(ホスファゼン))(150ppm)を添加した。15分後、中和剤ビス−(ジメチルビニルシリル)ビニルホスホネートを過剰に添加した。1時間、145℃にて回収後、最終生成物は、粘度2891mm2/sおよび97%の不揮発分量であった。
【0035】
実施例7:
粘度60mm2/sを有するシラノール末端停止ポリジメチルシロキサン(83.4g)、低沸点シラノール末端停止ポリジメチルシロキサンおよびシクロジメチルシロキサンの混合物(12.8g)、および粘度5mm2/sを有するポリジメチルシロキサン末端停止剤(3.9g)を、反応容器中で一緒に混合し、反応混合物を400mbarの減圧下、130℃で加熱した。その温度で1−tert−ブチル−4,4,4−トリス(ジメチルアミノ)−2,2−ビス(トリス(ジメチルアミノ)−ホスホラニルイデナミノ(phosphoranylidenamino))−2λ5,4λ5−カテナジ(catenadi)(ホスファゼン))(150ppm)を添加した。5分後、中和剤ビス−(ジメチルビニルシリル)ビニルホスホネートを過剰に添加した。1時間、145℃にて回収後、最終生成物は、粘度309mm2/sおよび95%の不揮発分量であった。
【0036】
実施例8:
シラノール末端停止ポリジメチルシロキサンおよびシクロジメチルシロキサンの74/26の混合物(95g)および粘度10mm2/sを有するポリジメチルシロキサン末端停止剤(5g)を、反応容器中で一緒に混合し、反応混合物を500mbarの減圧下、134℃で加熱した。その温度で1−tert−ブチル−4,4,4−トリス(ジメチルアミノ)−2,2−ビス(トリス(ジメチルアミノ)−ホスホラニルイデナミノ(phosphoranylidenamino))−2λ5,4λ5−カテナジ(catenadi)(ホスファゼン))(65ppm)を添加した。5分後、中和剤ビス−(ジメチルビニルシリル)ビニルホスホネートを過剰に添加した。1時間、165℃にて回収後、最終生成物は、粘度448mm2/sおよび98%の不揮発分量であった。
【0037】
実施例9:
実施例8のプロセスを、130℃および30分の反応温度および反応時間(λ5,4λ5)を用いて繰返した。1時間、145℃にて回収後、最終生成物は、粘度1207mm2/sおよび99%の不揮発分量であった。
【0038】
実施例10:
シラノール末端停止ポリジメチルシロキサンおよびシクロジメチルシロキサンの26/74の混合物(95g)および粘度10mm2/sを有するポリジメチルシロキサン末端停止剤(5g)を、反応容器中で一緒に混合し、反応混合物を大気圧下、135℃で加熱した。その温度で1−tert−ブチル−4,4,4−トリス(ジメチルアミノ)−2,2−ビス(トリス(ジメチルアミノ)−ホスホラニルイデナミノ(phosphoranylidenamino))−2λ5,4λ5−カテナジ(catenadi)(ホスファゼン))(150ppm)を添加した。15分後、中和剤ビス−(ジメチルビニルシリル)ビニルホスホネートを過剰に添加した。1時間、145℃にて回収後、最終生成物は、粘度932mm2/sおよび98.4%の不揮発分量であった。
Claims (5)
- シリコン結合基R’(R’は、ヒドロキシル基または炭素原子1〜8個を有するヒドロカルボノキシ基である)を有するシロキサン、およびシリコン結合基R’がない環状シロキサンを、ホスファゼン触媒を用いて重合する方法であって、
シリコン結合基R’(R’は、ヒドロキシル基または炭素原子1〜8個を有するヒドロカルボノキシ基である)を有するシロキサンを、シリコン結合基R’がない環状シロキサンおよびホスファゼン塩基触媒と混合して重合させることによって、前記シリコン結合基R’を有するシロキサンが縮合し、かつ前記シリコン結合基R’がない環状シロキサンが平衡により重合することを特徴とする方法。 - シロキサンおよび触媒を水、またはアルコールと混合することを特徴とする請求項1に記載の方法。
- ホスファゼン塩基が下記一般式:
((R1 2N)3P=N−)x(R1 2N)3-xP=NR2
式中R1は、各位置において同一または異なってもよく、水素または未置換の炭化水素基であり、または同一のN原子に結合している二つのR1基は、複素環を形成するように結合することができ、R2は、水素または未置換の炭化水素基であり、xは1、2または3であることを特徴とする請求項1または2に記載の方法。 - シロキサンおよび触媒が、式R’Siの基を含有するシランおよび一般式MDxM(式中、Mはトリメチルシリルであり、Dは−Si(CH3)2O−であり、xは0〜20の値を有する)のポリジメチルシロキサンから選択される末端停止剤と混合されることを特徴とする請求項1ないし4のいずれか1項に記載の方法。
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