JP2000045002A - 金属ニッケル粉末 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 積層セラミックコンデンサの製造工程におい
て優れた焼結挙動を示し、かつ、導電ペーストを形成し
た際に優れた分散性を示すことにより、デラミネーショ
ンの発生を防止することができる金属ニッケル粉末を提
供する。 【解決手段】 ニッケル塩化物ガスと還元性ガスとを還
元反応温度域において接触させることにより生成した金
属ニッケル粉末の酸素含有量が０．１〜２．０重量％で
あって、しかも赤外線吸収スペクトルにおける波数が３
６００〜３７００ｃｍ^−１において吸収ピークを有しな
い金属ニッケル粉末である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、導電ペースト用に
用いて好適な金属ニッケル粉末に係り、特に、積層セラ
ミックコンデンサの内部電極に用いられる焼結特性およ
び分散性に優れた金属ニッケル粉末に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、銀、パラジウム、白金、金等
の貴金属粉末、あるいはニッケル、コバルト、鉄、モリ
ブデン、タングステン等の卑金属粉末は、電子材料用と
して導電ペースト、特に積層セラミックコンデンサの内
部電極用として用いられている。一般に積層セラミック
コンデンサは、誘電体セラミック層と、内部電極として
使用される金属層とが交互に重ねられ、誘電体セラミッ
ク層の両端に、内部電極の金属層に接続される外部電極
が接続された構成となっている。ここで、誘電体を構成
する材料としては、チタン酸バリウム、チタン酸ストロ
ンチウム、酸化イットリウム等の誘電率の高い材料を主
成分とするものが用いられている。一方、内部電極を構
成する金属としては、前述した貴金属粉末あるいは卑金
属粉末が用いられるが、最近はより安価な電子材料が要
求されているため、後者の卑金属粉末を利用した積層セ
ラミックコンデンサの開発が盛んに行われており、特に
金属ニッケル粉末が代表的である。

【０００３】ところで、積層セラミックコンデンサは、
一般に次のような方法で製造されている。すなわち、チ
タン酸バリウム等の誘電体粉末を有機バインダーと混合
し懸濁させ、これをドクターブレード法によりシート状
に成形して誘電体グリーンシートを作成する。一方、内
部電極用の金属粉末を有機溶剤、可塑剤、有機バインダ
ー等の有機化合物と混合して金属粉末ペーストを形成
し、これを前記グリーンシート上にスクリーン印刷法で
印刷する。次いで、乾燥、積層および圧着し、加熱処理
にて有機成分を除去してから、１３００℃前後またはそ
れ以上の温度で焼成し、この後、誘電体セラミック層の
両端に外部電極を焼き付けて積層セラミックコンデンサ
を得る。

【０００４】上記のような積層セラミックコンデンサの
製造方法にあっては、誘電体グリーンシートに金属ペー
ストを印刷し、積層及び圧着した後、加熱処理にて有機
成分を蒸発除去するが、この加熱処理は通常大気中で２
５０〜４００℃で行われる。このように酸化雰囲気中で
加熱処理を行うため、金属粉末は酸化し、それにより体
積の膨張が起きる。さらにこの有機成分除去のための加
熱処理の後、さらに高温に加熱し焼結するが、この焼結
は水素ガス雰囲気等の還元性雰囲気で行う。これによ
り、一旦酸化した金属粉末は還元されるため、体積の収
縮が起きる。

【０００５】このように、積層セラミックコンデンサを
製造する工程において、酸化還元反応により金属粉末に
膨張・収縮による体積変化が生じる。一方、誘電体自身
も焼結により体積変化が生じるが、誘電体と金属粉末と
いう異なった物質を同時に焼結するため、焼結過程での
それぞれの物質の膨張・収縮の体積変化などの焼結挙動
が異なる。このため、金属ペースト層に歪みが生じ、結
果としてクラックまたは剥離などのデラミネーションと
いわれる層状構造の破壊が起きるという問題があった。

【０００６】具体的には、例えばチタン酸バリウムを主
成分とする誘電体は１０００℃以上、通常１２００〜１
３００℃で焼結が始まるが、内部電極に用いられる金属
粉末の焼結はそれよりも低い温度、例えば金属ニッケル
粉末の場合であれば通常４００〜５００℃で焼結が始ま
るので、急激な収縮による体積変化が起こって内部電極
と誘電体シート間に歪みが生じる。このような焼結開始
温度の違いが内部電極と誘電体の焼結挙動の違いとなっ
てデラミネーションを招く一つの大きな原因となってい
る。また、このように低温で急激に焼結が始まると、最
終的な焼結時点での体積変化率も大きくなり、その結果
デラミネーションが生じやすい。したがって、内部電極
に用いる金属粉末は、その焼結開始温度ができるだけ高
く、かつ急激な焼結が起こらないことが望ましい。

【０００７】上記のようなデラミネーションの問題を解
決する手段として種々の方法が提案されている。たとえ
ば、特開平８−２４６００１号公報では、特定の粒径に
対するタップ密度がある限界値以上を有する金属ニッケ
ル粉末を開示し、このような金属ニッケル粉末を用いる
ことによって、ペーストに分散されたニッケル粉と誘電
体を焼成してコンデンサとしたときに、デラミネーショ
ンが起りにくいことが記載されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た従来方法は、焼結挙動を改善する目的としてはそれな
りの効果を上げているが、必ずしもデラミネーションを
防止する方法としては十分ではなかった。一方、コンデ
ンサ−の小型化、大容量化に伴い、内部電極の薄層化・
低抵抗化等の要求から、内部電極として使用する金属粉
末は、粒径１μｍ以下は勿論、粒径０．５μｍ以下の超
微粉が要望されている。このような超微粒子の金属粉末
を有機溶媒等と混合した際、分散性が悪くなり、金属粉
末どうしが凝集し、粗粉が増加することにより内部電極
の薄層化が困難となり、さらに、電極表面に凹凸が生じ
ることによりショートの原因となったり、また結果とし
てデラミネーションの原因となったりしていた。このよ
うに金属粉末の導電ペーストを形成する際の金属粉末の
有機溶媒等に対する分散性については、なお改善の余地
が残されている。

【０００９】さらに、前述したように、近年安価な電子
材料が求められていることから、ニッケル等の卑金属粉
末を内部電極とした積層セラミックコンデンサが開発さ
れているが、このようなニッケルを代表とする卑金属粉
末を内部電極とした際に、デラミネーションの発生を防
止することができる導電ペーストに適した金属粉末の更
なる開発が求められている。したがって、本発明は、積
層セラミックコンデンサの製造工程において優れた焼結
挙動を示し、さらに導電ペーストを形成した際には優れ
た分散性を示し、結果としてデラミネーションを防止で
きる特に導電ペースト用に適した金属ニッケル粉末を提
供することを目的としている。より具体的には、加熱処
理した際に酸化還元反応による体積変化や重量変化が少
なく、さらに、焼結開始温度が従来の金属ニッケル粉末
に比べてより高く、積層セラミックコンデンサを製造す
る際に用いる誘電体の焼結開始温度により近いことによ
り、デラミネーションの発生を防止することができる導
電ペーストに適した金属ニッケル粉末を提供することを
目的としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、金属ニッ
ケル粉末の分散性について鋭意研究を重ねた結果、金属
ニッケル粉末の酸化被膜中に含まれるニッケルの水酸化
物（例えばＮａ（ＯＨ）_２）のＯＨ基の極性によって、
粉末どうしが集合して分散性が損なわれるのではないか
との推論に達した。本発明は、このような推論に基づい
て各種実験を行った結果なされたもので、酸素含有量が
０．１〜２．０重量％であって、しかも赤外線吸収スペ
クトルにおける波数が３６００〜３７００ｃｍ^−１にお
いて吸収ピークを有しないことを特徴としている。

【００１１】酸素を含有する金属ニッケル粉末に赤外線
吸収スペクトル分析を行うと、波数３６４４ｃｍ^−１付
近に強いピークが見られる。このピークは、金属ニッケ
ルに化学的に結合するＯＨ基に起因するピークである。
本発明は、そのようなピークを有しない金属ニッケル粉
末とすることにより、ＯＨ基を極力除去して極性による
粉末どうしの集合を抑制するものである。

【００１２】上記ピークは、金属ニッケル表面に物理吸
着した水やアルコール等に起因するものではなく、水酸
化ニッケルに起因するものである。また、本発明の金属
ニッケル粉末は、上記のように赤外線吸収スペクトルに
波数３６４４ｃｍ^−１付近の強いピークを有しないもの
であり、このピークには、例えば細かいノイズピーク等
は含まれず、ベースラインを引いたときに、そのピーク
の強度または面積が測定可能であるようなピークのこと
を意味する。また、本発明は、酸素を含有していること
を前提とし、積層セラミックコンデンサへの用途を考慮
してその含有量を０．１〜２．０重量％と規定した。酸
素の含有量は０．３〜１．０重量％であることが好まし
く、０．３〜０．８重量％であればさらに好適である。

【００１３】本発明の金属ニッケル粉末の粒子性状につ
いては、導電ペースト用として使用して支障のない限り
特に制限はない。しかしながら、近年の電子製品の軽量
小型化に伴い、その部品である積層セラミックコンデン
サも小型化が要求されており、その内部電極に使用され
る金属粉末もより粒径の小さいものが要求される。した
がって、本発明の金属ニッケル粉末の平均粒径は、０．
１〜１μｍであることが好ましく、０．１〜０．５μｍ
の範囲の微粒子であればさらに好適である。また、金属
ニッケル粉末のＢＥＴによる比表面積は、1〜２０ｍ^２
／ｇであることが好ましい。さらに、金属ニッケル粉末
の粒子形状は、球状であることが焼結特性また分散性を
向上させるために望ましい。

【００１４】また、本発明の金属ニッケル粉末では、Ｘ
線光電子分光分析法により測定した金属ニッケル含有率
が０〜１０アトミック％であることが好ましい。なお、
金属ニッケル含有率が０％とは、Ｘ線が酸化被膜によっ
て阻止されて金属ニッケルまで達しないことを示し、こ
の場合には金属ニッケル粉末の酸化が最も抑制される。
金属ニッケル含有率は、好ましくは０〜８アトミック
％、より好ましくは０〜５アトミック％が好適である。

【００１５】Ｘ線光電子分光分析法（以下「ＸＰＳ」と
略記することがある。）は、励起Ｘ線の波長により内殻
電子準位から起こる光電子放出を利用し、この光電子ス
ペクトルを測定するものである。主に固体の試料の分析
に利用され、光電子が脱出可能な深度、すなわち、非弾
性散乱を受けずに電子が固体から飛び出すことができる
固体の極く薄い表面層に含まれる元素の同定、および定
量分析に広く応用されている。

【００１６】通常、酸化被膜を有する金属ニッケル粉末
をＸＰＳを用いて分析すると、含有するニッケル成分と
して、金属ニッケル、酸化ニッケルおよび水酸化ニッケ
ルに起因するニッケル原子がそれぞれ同定することがで
き、標準試料と比較を行えば定量可能である。ここで、
金属ニッケル粉末の表面は酸化被膜に覆われているの
で、ＸＰＳにより同定および定量されるニッケル成分の
うち金属ニッケルは、この酸化被膜直下の金属ニッケル
に起因するものである。すなわち、酸化被膜が薄ければ
この金属ニッケルの比率が多くなり、また酸化被膜が厚
ければ金属ニッケルの比率は少なくなる。さらに、同じ
厚さの酸化被膜をもつ金属ニッケル粉末であっても、酸
化被膜の緻密度と金属ニッケルの比率との間に相関関係
が存在し、緻密度が低ければ金属ニッケルの比率は多く
なり、緻密度が高ければ金属ニッケルの比率は小さくな
る。

【００１７】上記のような金属ニッケル粉末は、表面部
の金属ニッケルが０〜１０アトミック％と比較的少ない
含有率である。換言すると、本発明の金属ニッケル粉末
の表面に形成された酸化被膜は、ある程度の厚さを有
し、かつ緻密な酸化被膜であることがいえる。このよう
にある程度強固な酸化被膜を形成していることによっ
て、加熱処理した際に、特に、積層セラミックコンデン
サの製造工程で有機成分除去のための３００〜４００℃
の温度域で加熱された際に、ニッケルの酸化還元による
体積および重量の変化を少なく抑えることが可能とな
る。

【００１８】また、上記のような金属ニッケル粉末で
は、表面に強固な酸化被膜を有しているので、焼結開始
温度が従来の金属ニッケル粉末に比べてより高く、積層
セラミックコンデンサを製造する際に用いる誘電体の焼
結開始温度により近い。したがって、本発明の金属ニッ
ケル粉末では、加熱時の酸化挙動また焼結挙動が従来の
金属ニッケル粉末に比べ優れているので、デラミネーシ
ョンを有効に防止することができる。

【００１９】さらに、上記のような酸化被膜は、２ｎｍ
以上の厚さを有することが好ましく、２．５ｎｍ以上で
あればさらに好ましく、２．５〜５ｎｍの範囲であれば
さらに好適である。

【００２０】上記のような金属ニッケル粉末は、化学気
相法あるいはプラズマ法等の公知の方法により製造する
ことができる。特に、金属ニッケル塩化物ガスと還元性
ガスとを接触させることにより金属ニッケル粉末を生成
させる気相還元法は、生成する金属ニッケル粉末の粒子
径を容易にコントロールでき、しかも球状の粒子を効率
良く製造することができるので、好適に用いることがで
きる。また、気相還元法は、金属ニッケル塩化物ガスと
水素のような還元性ガスを反応させる製造方法であり、
従来のように、固体の塩化ニッケルを加熱し蒸発させて
金属ニッケル塩化物ガスを生成させることができる。し
かしながら、塩化ニッケルの酸化防止およびエネルギー
効率を考慮すると、金属ニッケルに塩素ガスを接触させ
て金属ニッケル塩化物ガスを連続的に発生させ、この金
属ニッケル塩化物ガスを還元工程に直接供給し、還元性
ガスと接触させ塩化ニッケルを連続的に還元し製造する
方法が有利である。

【００２１】気相還元反応による金属ニッケル粉末の製
造過程では、金属ニッケル塩化物ガスと還元性ガスとが
接触した瞬間にニッケル原子が生成し、金属ニッケル原
子どうしが衝突・凝集することによって超微粒子が生成
され、成長してゆく。そして、還元工程の雰囲気中の金
属ニッケル塩化物ガスの分圧や温度等の条件によって、
生成される金属ニッケル粉末の粒径が決まる。上記のよ
うな金属ニッケル粉末の製造方法によれば、塩素ガスの
供給量に応じた量の金属ニッケル塩化物ガスが発生する
から、塩素ガスの供給量を制御することで還元工程へ供
給する金属ニッケル塩化物ガスの量を制御することがで
きる。さらに、金属ニッケル塩化物ガスは、塩素ガスと
金属ニッケルとの反応で発生するから、固体塩化ニッケ
ルの加熱蒸発により金属ニッケル塩化物ガスを発生させ
る方法と異なり、キャリアガスの使用を少なくすること
ができるばかりでなく、製造条件によっては使用しない
ことも可能である。よって、キャリアガスの使用量低減
とそれに伴う加熱エネルギーの低減により、製造コスト
を低減することができる。

【００２２】また、塩化工程で発生した金属ニッケル塩
化物ガスに不活性ガスを混合することにより、還元工程
における金属ニッケル塩化物ガスの分圧を制御すること
ができる。このように、塩素ガスの供給量もしくは還元
工程に供給する金属ニッケル塩化物ガスの分圧を制御す
ることにより、金属ニッケル粉末の粒径を制御すること
ができ、金属ニッケル粉末の粒径を安定させることがで
きるとともに、粒径を任意に設定することができる。

【００２３】上記のような気相還元法による金属ニッケ
ル粉末の製造条件について一概には特定できないが、出
発原料である金属ニッケルの粒径は約５ｍｍ〜２０ｍｍ
の粒状、塊状、板状などが好ましく、またその純度は慨
して９９．５％以上が好ましい。金属ニッケルを先ず塩
素ガスと反応させ、金属ニッケル塩化物ガスを生成させ
る製造方法を採用する場合には、その際の温度は反応を
十分進めるために８００℃以上とし、ニッケルの融点で
ある１４８３℃以下とする。反応速度と塩化炉の耐久性
を考慮すると、実用的には９００℃〜１1００℃の範囲
が好ましい。次いで、この金属ニッケル塩化物ガスを還
元工程に直接供給し、還元性ガスである水素ガスと接触
反応させる。その際に、窒素やアルゴンなどの不活性ガ
スを、金属ニッケル塩化物ガスに対し１モル％〜3０モ
ル％混合し、この混合ガスを還元工程に導入してもよ
い。還元反応の温度は反応完結に充分な温度以上であれ
ば良いが、固体状の金属ニッケル粉末を生成する方が取
扱いが容易であるので、ニッケルの融点以下が好まし
く、経済性を考慮すると９００℃〜１１００℃が実用的
である。

【００２４】このようにして還元反応を行って金属ニッ
ケル粉末を生成し、生成金属ニッケル粉末を冷却する。
冷却の際には、還元反応を終えた１０００℃付近のガス
流を、４００℃〜８００℃程度まで空気あるいは窒素ガ
スなどの不活性ガスを吹き込むことにより急速冷却させ
ることが望ましい。これにより、生成したニッケルの一
次粒子どうしの凝集による二次粒子の生成を防止し、所
望の粒径の金属ニッケル粉末を得ることができる。その
後、生成した金属ニッケル粉末を、たとえばバグフィル
ター、水中捕集分離手段、油中捕集分離手段および磁気
分離手段の１種または２種以上の組合せることにより分
離、回収する。

【００２５】上記のようにして得られた金属ニッケル粉
末に対して、酸化性雰囲気下において加熱処理すること
が望ましい。加熱処理の雰囲気は、酸化性であればその
種類は問わない。たとえば、大気中で加熱処理しても良
く、また、アルゴンガスで希釈した酸素ガス雰囲気下で
行っても良い。

【００２６】酸化性雰囲気で行なう熱処理温度は、２０
０℃〜４００℃で行なうことが好ましい。この温度範囲
の上限を超えた範囲で熱処理を行なうと、金属ニッケル
粉末どうしの焼結に伴って互いに凝集するという問題が
生じる。また上記温度範囲の下限未満では、熱処理時間
をかなり長く設定する必要が生じて実用的でない。加熱
に要する時間は、１分〜１０時間の範囲で選定するのが
好ましい。この時間範囲の上限を超えると、金属ニッケ
ル粉末どうしの焼結に伴って互い凝集し、粒子成長が生
じる。一方、加熱時間が上記下限未満では、熱処理を十
分に行なうことができない。

【００２７】気相還元法で得られた金属ニッケル粉末に
対しては、できれば速やかに前記した熱処理を行なうの
が良い。その理由は、生成直後のニッケル粉を大気中に
放置すると、水分を吸収して水酸化ニッケルを生成し、
これを除去する為に前記した熱処理に時間を要するから
である。

【００２８】本発明の金属ニッケル粉末は、上記のよう
な方法で製造した金属ニッケル粉末を酸化性雰囲気下に
おいて加熱処理することにより、赤外線吸収スペクトル
によって現われる水酸化ニッケルに起因する強ピークが
検出されなくなる。この加熱処理を行なった金属ニッケ
ル粉末の焼結開始温度は、同加熱処理を行なわないもの
に比して高温側にシフトする傾向を示すようになる。こ
れは、前記したように積層セラミックコンデンサの焼成
時にデラミネーションの発生が起り難くなることを意味
する。

【００２９】上記のようにして得られた本発明の金属ニ
ッケル粉末は、積層セラミックコンデンサの製造工程に
おいて優れた焼結挙動を示し、デラミネーションが起り
難くなるという効果を奏する。より具体的には、焼結開
始温度が従来の金属粉末に比べてより高く、積層セラミ
ックコンデンサを製造する際に用いる誘電体の焼結開始
温度により近く、結果としてデラミネーションの起りに
くい金属ニッケル粉末が得られる。

【００３０】

【実施例】以下、本発明に金属ニッケル粉末を製造する
実施例を図面を参照しながら説明することにより、本発
明の効果をより明らかにする。 −金属ニッケル粉末の製造− ［実施例 1］図１に示す金属ニッケル粉末の製造装置の
塩化炉１に、平均粒径５mmの金属ニッケル粉末１５ｋｇ
を充填し、炉内雰囲気温度を１１００℃にして４Ｎｌ／
ｍｉｎの流量で塩素ガスを導入し、金属ニッケルを塩化
して金属ニッケル塩化物ガスを発生させた。これに塩素
ガス供給量の１０％（モル比）の窒素ガスを混合し、こ
の塩化ニッケル−窒素混合ガスを１０００℃の雰囲気温
度に加熱した還元炉２に、ノズル１７から流速２．３ｍ
／秒（１０００℃換算）で導入した。同時に還元炉２の
頂部から水素ガスを流速７Ｎｌ／ｍｉｎで供給し、金属
ニッケル塩化物ガスを還元した。そして、還元反応で生
成した金属ニッケル粉末を含む生成ガスに冷却工程で窒
素ガスを２４．５Ｎｌ／分で供給し、１０００℃から４
００℃まで１００℃／秒の速度で冷却した。次いで、窒
素ガス−塩酸蒸気−金属ニッケル粉末からなる混合ガス
をオイルスクラバーに導き、金属ニッケル粉末を分離回
収した。ついで、回収した金属ニッケル粉末をキシレン
で洗浄後、乾燥した。その後、金属ニッケル粉末に対し
て、大気中において２５０℃で３０分間の熱処理を行
い、金属ニッケル粉末を得た。

【００３１】［比較例１］２５０℃で３０分間の熱処理
を行わなかった以外は実施例１と同様にして金属ニッケ
ル粉末を得た。

【００３２】−測定− 上記実施例および比較例の金属ニッケル粉末につき、酸
化被膜の厚さ、酸素含有率、ＸＰＳによる金属ニッケル
含率、平均粒径、焼結開始温度、酸化挙動、粒度分布お
よび赤外吸収スペクトル分析を下記の方法により測定
し、その結果を表１に示した。また、赤外吸収スペクト
ル分析の結果を図２に示した。図２において（ａ）は比
較例の測定結果、（ｂ）は実施例の測定結果である。

【００３３】１）焼結開始温度 金属ニッケル粉末１ｇ、しょうのう３重量％およびアセ
トン３重量％を混合し、内径５mm、長さ１０mmの円柱状
の金型に充填し、その後面圧３トンの荷重をかけ試験ピ
ースを作成した。この試験ピースを熱膨張収縮挙動（di
ratometry）測定装置（ＴＤ−５０００Ｓ、株式会社マ
ックサイエンス社製）を用い、窒素雰囲気下で昇温速度
５℃／分の条件で測定を行った。

【００３４】２）溶媒中の分散させたときの粒度分布 コールター社製粒度測定機ＬS２３０を用い、試料をエ
キネン（イソプロピルアル コール１０％、エタノール
９０％）に懸濁させ、ホモジナイザーにて３分間分 散
させて測定した。実施例、比較例には体積統計値の粒度
分布を記載した。

【００３５】３）赤外吸収スペクトル分析 日本電子製ＪＩＲ−１００型赤外分光計を用い、拡散反
射法による赤外スペクトル分析を行なった。その際、適
量の試料を拡散反射用の試料ホルダーに充填し、大気中
にて４００〜４０００ｃｍ^−１の範囲とし、分解能を４
ｃｍ^−１として測定した。

【００３６】４）平均粒径 電子顕微鏡により試料の写真を撮影し、粉末２００個の
粒径を測定してその平均を算出した。

【００３７】５）Ｘ線光電子分光分析（ＸＰＳ）測定 ＵＬＶＡＣ ＰＨＩ社製ＸＰＳ５６００ＣＩを用い、単
色ＡｌｋαをＸ線源とし、出力を３００Ｗとした。測定
試料は、５ｍｍφ×２ｍｍのアルミ容器に試料を適量充
填し、その後１００ｋｇ／ｃｍ^２でプレス成形し調製し
た。結合エネルギーは、Ｎｉ２Ｐ電子に基づくスペクト
ルを基準として用い、０〜１２００ｅＶの範囲で検出角
度６５゜にて測定した。その後、８５０〜８５７ｅＶの
間のピークについてシャーリー法によりバックグラウン
ドを差引き、残りのピークを積分し、その強度を金属ニ
ッケルの強度とした。酸素原子については５２７〜５３
５ｅＶの間のピークについて同様に強度を求め、金属ニ
ッケルと酸素原子の強度から感度係数を求めて金属ニッ
ケル含率を求めた。

【００３８】６）酸化被膜の厚さ まず、金属ニッケル粉末試料をコロジオン膜を張った銅
製シートメッシュ上に直接振りかけ、その後カーボンを
蒸着させ測定試料を作成した。次いで、２００ｋＶ電界
放射型透過電子顕微鏡（ＨＦ−２０００、日立製作所社
製）を用いて測定試料の格子像を観察し、金属ニッケル
粉末表面の酸化被膜厚さを測定した。

【００３９】７）酸素含有率 試料の金属ニッケル粉末をニッケル製のカプセルに充填
し、これを黒鉛るつぼに入れ、アルゴン雰囲気中で５０
０℃に加熱し、このとき発生した一酸化炭素をＩＲによ
り定量し、金属ニッケル粉末中の酸素含有率を求めた。

【００４０】８）酸化挙動 ＴＧ-ＤＴＡ測定装置にて、大気中にて５０℃／時間の
昇温速度で１１００℃まで加熱し、その際の４００℃の
時点での重量増加率（％）と、１％重量が増加したとき
の温度を確認した。

【００４１】

【表１】

【００４２】図２から判るように、比較例（同図
（ａ））の赤外吸収スペクトルでは、波数３６４４ｃｍ
^−１においてＯＨ基に起因する強い吸収ピークが検出さ
れたのに対し、実施例（同図（ｂ））の赤外吸収スペク
トルでは、そのようなピークは検出されなかった。ま
た、表１から明らかなように、実施例の金属ニッケル粉
末では、平均粒径に殆ど差がないものの、溶媒中に分散
させたときの粒度分布を見ると、実施例の金属ニッケル
粉末は比較例の金属ニッケル粉末よりも狭かった。ま
た、実施例の金属ニッケル粉末では、焼結開始温度が比
較例の金属ニッケル粉末よりも高かった。さらに、実施
例の金属ニッケル粉末では、４００℃での重量増加率が
比較例よりも小さく、重量増加率が１％のときの温度は
比較例よりも高かった。このことから、実施例の金属ニ
ッケル粉末では、比較例に較べて酸化が抑制されること
が判る。以上の結果から、本発明の金属ニッケル粉末で
は、積層セラミックコンデンサの製造工程において優れ
た焼結挙動を示し、かつ、導電ペーストを形成した際に
は優れた分散性を示し、しかも、酸化が抑制されるため
に体積の変化が小さく、したがって、デラミネーション
の防止が有効に図られることが推定される。

【００４３】

【発明の効果】以上説明したように本発明の金属ニッケ
ル粉末によれば、導電ペーストを形成した際の分散性に
優れ、焼結開始温度が従来の金属ニッケル粉末に比べて
高いことにより優れた焼結挙動を示すとともに、酸化被
膜の存在により酸化が抑制されるために体積の変化が小
さいから、積層セラミックコンデンサの製造過程におい
てデラミネーションの発生を防止することができるとい
う効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施例で用いた金属ニッケル粉末の
製造装置の構成を示す縦断面図である。

【図２】 実施例における赤外吸収スペクトル分析の結
果を示す線図であり、（ａ）は比較例、（ｂ）は実施例
の結果をそれぞれ示す。

【符号の説明】

１…塩化炉、２…還元炉、Ｍ…原料の金属ニッケル粉
末、Ｐ…製造された金属ニッケル粉末。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4K017 AA01 BA03 CA01 CA08 DA01 EK03 4K018 BA04 BB05 BC01 BC18 BD04 KA33 5E082 AB03 EE04 EE23 EE35 FG26 MM24 PP03 PP06 PP10 5G301 DA10 DD01 DE03

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 酸素含有量が０．１〜２．０重量％であ
   って、しかも赤外線吸収スペクトルにおける波数が３６
   ００〜３７００ｃｍ^−１において吸収ピークを有しない
   金属ニッケル粉末。
2. 【請求項２】 前記金属ニッケル粉末が気相化学法によ
   り生成された金属ニッケル粉末を酸化性雰囲気下で熱処
   理して得られたものであることを特徴とする請求項１に
   記載の金属ニッケル粉末。
3. 【請求項３】 前記熱処理の温度が２００℃〜４００℃
   の範囲であることを特徴とする請求項２に記載の金属ニ
   ッケル粉末。