JP2000040728A - ウェハ搬送機構 - Google Patents

ウェハ搬送機構

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JP2000040728A
JP2000040728A JP10206082A JP20608298A JP2000040728A JP 2000040728 A JP2000040728 A JP 2000040728A JP 10206082 A JP10206082 A JP 10206082A JP 20608298 A JP20608298 A JP 20608298A JP 2000040728 A JP2000040728 A JP 2000040728A
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Takayuki Yamagishi
孝幸 山岸
Masae Suwada
雅栄 諏訪田
Kazuaki Furukawara
一哲 古川原
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Abstract

(57)【要約】 【課題】付加的な工程を取ることなくウェハをアームの
所定の位置に配置できる搬送機構を提供する。 【解決手段】被処理体を収納部に搬入または搬出する搬
送機構が，被処理体のエッジ部と接触可能な突起部を先
端に有し，被処理体を保持するアーム部材と，被処理体
を収納部に対して搬入または搬出するために，被処理体
を保持した状態で，該アーム部材を引戻し位置と伸長位
置との間で往復移動させる移動機構と，アーム部材の近
傍に位置し，保持された被処理体をアーム部材上の所定
の位置に配置するための，被処理体のエッジ部と接触可
能な配置付け部材と，から構成される。移動機構によ
り，アーム部材が引戻し位置へ移動するとき，配置付け
部材は，アーム部材上に保持された被処理体のエッジ部
と接触し，被処理体の移動を阻止し，アーム部材上の所
定の位置に配置する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，半導体ウェハのよ
うな被処理体を，被処理体を収納する収納部へ搬入また
は搬送する搬送装置および搬送方法に関し，特に，被処
理体を収納部の所定の位置に搬送できる搬送装置および
搬送方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造において，半導体ウェハを収
納するカセットから処理チェンバーへ一枚の半導体ウェ
ハを搬送すること，または一つの処理チェンバーから他
の処理チェンバーへ一枚のウェハを搬送することが行わ
れている。その搬送に利用される典型的な従来の搬送機
構の斜視図を図１に示す。
【０００３】この搬送機構1は，前方に半導体ウェハWを
保持できるアーム2を有する。そのアーム2のウェハを保
持する部分は，ウェハが収まる凹所が設けられている
（図３を参照）。そのアーム2の後端には，一端同士が
枢着された二つの補助アーム3および4の一方の補助アー
ム3に枢着されている。他方の補助アーム4の他端は，補
助アーム4を回動させる回転機構5に連結されている。図
には示されていない，アーム2をその軸線方向にのみ往
復移動可能にするガイドが設けられている。したがっ
て，回転機構5により補助アーム4が回転すると，アーム
2は補助アーム3を介して，ウェハを供給する位置と，ウ
ェハを保持して引き戻る（またはウェハが例えば，処理
チェンバーにおいて処理されている間引き込んでいる）
位置との間を往復移動することができる。
【０００４】図２には，アームがウェハを保持して引き
込み位置にある搬送機構の斜視図を示す。この状態で，
搬送機構全体を回転させることにより，または移動させ
ることにより（以下，このような回転または移動を単に
「移動」という），一つの処理チェンバーから他方の処
理チェンバーにウェハを移送することができる。
【０００５】この従来の搬送機構を用いて，ウェハを処
理チェンバーからアンロードする動作およびそこへロー
ドする動作を図３および図４に示めす。図３（a）に示
されているように，ウェハWは処理チェンバー（図示せ
ず）内のウェハステージ21の中心にウェハWの中心が整
合するように複数のピン22で支持されている。処理後，
ウェハWをアンロードするために，図１のようにアーム4
が回転し，これにしたがってアーム2が伸長する。アー
ム2のウェハ保持の中心（図では白三角で示す）がウェ
ハWの中心（図では黒三角で示す）に整合する位置（伸
長位置）まで，アーム2は伸長する。次に，図3（b）に
示されいるように，ピン22が下降し，ウェハWはアーム2
の凹所に位置する。そして，図３（c）に示されている
ように，アーム4の回転によりアーム2はウェハWを保持
したまま，引戻り位置まで戻る。
【０００６】ウェハWに対して次の処理を行うために，
他の処理チェンバの位置へウェハWを移動さるために，
図３（d）に示されているように，ウエハの保持の中心
とウェハWの中心とを一致させたまま，図２に示されて
いるように搬送機構全体を移動（回転）させる。
【０００７】そして，他の処理チャンバーの位置まで来
たとき，図４（a）に示されているように，再度アーム4
が回転し，アーム2が他の処理チャンバーの処理位置
（ウェハステージの中心とウェハの中心が一致する位
置）へと伸長する。ここで，ピンが上昇してウェハはウ
ェハステージに移り（図４（b）），アーム4が回転し
て，アーム2は引戻り位置に戻る。上述した処理位置と
引戻り位置は，他のウェハについてアンロード，ロード
動作が再現されるように，搬送機構の制御部に記憶され
る。
【０００８】このような図示の搬送機構の外に，真空吸
着によりウェハをアームに保持する方式の機構もある。
この方式は，アームのウェハ保持部と真空源とを連通
し，ウェハがアーム上に位置したとき，真空力によりウ
ェハを保持するものである。真空力による保持は，アー
ムにウェハ保持のための凹部を設ける必要性をなくして
アームの小型化を可能にし，また高速でのウェハの移
動，回転を可能にする。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかし，アームの凹所
にウェハを配置する従来の搬送機構（図１）でのアンロ
ードにおいて，ウェハステージ上のウェハが，ピンの下
降によりウェハの凹所に移されるが，このとき，例えば
プラズマを用いてウェハに所定のプロセスを行う処理チ
ェンバーにおいては，プラズマ発生に伴う電荷の影響等
で，ウェハの位置がずれる場合がある。
【００１０】アーム2に形成されている凹所は，アー
ム，アーム同士の連結，回転機構等の機械的な誤差を考
慮して，そこに収納するウェハより若干大きくしている
ものの（通常は，直径方向で2mm以下程度大きくしてい
る），それ以上にウェハの位置がずれると，ウェハは凹
所に収納されず，凹所の段差部分に乗り上げた状態とな
り，搬送エラーとなる。位置のずれを予め予測し，凹所
の大きさをさらに大きくすることで，このようなことを
回避できるが，この場合，凹所内でのウェハの位置が定
まらず，位置の精度の信頼性，再現性が悪くなる。
【００１１】また，アームの往復移動，引戻り位置での
アームの回転移動の際に，ウェハがウェハより大きい凹
所内で動き，位置のずれを引き起こしかねない。これを
防止するためには，アームの移動（回転）の速度を低速
にしなければならず，ウェハの搬送速度の高速化，搬送
時間の短縮化がはかれない。真空吸引式のアームにおい
ては，このような問題はなく，搬送速度を高速化するこ
ともできる一方，真空吸着の際にウェハの裏面とアーム
との強い接触のために，パーティクルが発生しやすくな
る。また，この方式はそもそも大気中でなければ使用で
きない。
【００１２】本発明は上記課題を解決するためになされ
たもので，その目的は，付加的な工程を取ることなく被
処理体を，被処理体を保持するアーム部材の所定の位置
に配置できる搬送機構および搬送方法を提供することで
ある。
【００１３】本発明の他の目的は，被処理体のアーム部
材への移送が簡便で，かつウェハをアームの所定の位置
に配置できる搬送機構および搬送方法を提供することで
ある。
【００１４】さらに，本発明の他の目的は，ウェハを収
納する一方の収納部から他方の収納部への搬送を高速化
することができる搬送機構および搬送方法を提供するこ
とである。
【００１５】さらに，本発明の他の目的は，常圧下でも
真空下でも被処理体の搬送を行える搬送機構および搬送
方法を提供することである。
【００１６】さらに，本発明の他の目的は，既存の装置
に適用できる搬送機構および搬送方法を提供することで
ある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の，被処理体を収納部に搬入または搬出する搬送機構
は，（a）被処理体のエッジ部と接触可能な突起部を先
端に有し，被処理体を保持するアーム部材と，（b）被
処理体を収納部に対して搬入または搬出するために，被
処理体を保持した状態で，該アーム部材を引戻し位置と
伸長位置との間で往復移動させる移動機構と，（c）ア
ーム部材の近傍に位置し，保持された被処理体をアーム
部材上の所定の位置に配置するための，被処理体のエッ
ジ部と接触可能な配置付け部材と，から構成される。
【００１８】配置付け部材は，移動機構によりアーム部
材が引戻し位置へ移動するとき，アーム部材上に保持さ
れた被処理体のエッジ部と接触し，被処理体の移動のみ
を阻止し，アーム部材上の所定の位置に配置する。
【００１９】一方の収納部から他方の収納部に被処理体
を搬送するときは，移動機構は，アーム部材を引戻し位
置に維持した状態で，各収納部に向けて移動させる移動
手段を有する。このとき，配置付け部材は移動手段に取
り付けられる。
【００２０】本発明の搬送方法は，一方の収納部から他
方の収納部に被処理体を搬送する方法であって，（a）
先端に被処理体のエッジ部と接触可能な突起部を有し，
被処理体を保持するアーム部材を一方の収納部内に，そ
の中に収納された被処理体のエッジ部と突起部との間に
クリアランスができる伸長位置まで挿入し，被処理体を
アーム部材に移す工程と，（b）アーム部材の近傍に位
置する配置付け部材に，移された被処理体のエッジ部が
接するまで，アーム部材を引き戻す工程と，（c）さら
に，配置付け部材がアーム部材上の被処理体と接し，そ
の移動を妨げ，アーム部材の所定の位置に配置する引戻
し位置までアーム部材を引き戻す工程と，（d）引戻し
位置にあるアーム部材を維持して，他方の収納部に向け
て移動させる工程と，（e）他方の収納部内に，所定の
位置に配置された被処理体を保持した状態で，アーム部
材を挿入する工程と，を有する。
【００２１】
【発明の実施の形態】図５は，本発明の搬送装置51の斜
視図を示す。図１に示した従来の搬送装置1との違い
は，アーム52に凹所が設けられず，先端にのみ，半導体
ウェハWの外周のエッジ部にそった形状をもつ突起部5
2’を有する点と，アームが引込み位置あるとき，アー
ムの近傍に配置付け部材60を有する点である。
【００２２】図１において説明したように，本発明の搬
送装置51においても，アーム52が伸長位置と引戻し位置
とを往復移動できるように二つの補助アーム53，54を介
して回転機構55に取り付けられている。さらに，図に示
されていないがアーム52をその軸線方向にのみ往復移動
を可能にするガイドが設けられる。したがって，回転機
構55によりアーム54が回転すると，アーム52は，アーム
53を介して往復移動ができる。
【００２３】本発明の特徴である，アーム52は，図のよ
うに，ウェハWを保持する部分は柄の部分より広くな
り，先端二カ所に突起部52’を有する。この突起部52’
はウェハWのエッジ部と接することから，ウェハを傷つ
けないように，接する部分に弾性部材，たとえばバネ部
材を有することが望ましい。
【００２４】配置付け部材60はアーム52の近傍で，回転
機構55に取り付けられている。この配置付け部材60は，
アーム52の上方に位置し，両端が膨出した部分を有する
水平部分61とその水平部分を回転機構55に取り付ける垂
直部分62からなり，水平部分61の内側は，台形の凹所が
形成され，さらにウェハのエッジ部と弾力的に接する弾
性片63，たとえばバネ体が取り付けられている。弾性片
は，ウェハWに対して弾力的接するために好適なもので
あるが，必須の要素ではなく，水平部分の台形凹所とウ
ェハのエッジ部とが接するようにしてもよい。
【００２５】図示の例において，水平部分61には台形の
凹所が形成され，，ウェハのエッジ部と二カ所と接する
ようにしているが，一カ所と接するような形状でもよ
く，また三カ所以上と接するような形状でもよい。接触
する箇所が多いほど，後述するように，ウェハWをアー
ム52上の所定の位置に配置し易くなるが，異なる直径の
ウェハに対応しにくくなる。
【００２６】配置付け部材60が取り付けられた搬送機構
51において，回転機構55によりアーム54が回転し，アー
ム53を介してアーム52が引き戻る方向に移動すると，ア
ーム52の上に保持されてウェハWはアーム52と一緒に引
き戻され，図６に示されているように，配置付け部材60
の弾性部材63，63と接する。さらに，アーム52が引き戻
されるとき，配置付け部材60は，ウェハWがアームと一
緒に移動することを阻止しする。したがって，ウェハW
は，アーム52上で，アームの突起部52’，52’へと押や
られる。その突起部52’，52’と配置付け部分の弾性部
材63，63とにより挟まれる。このとき，ウェハWがアー
ム52上に配置される位置を所定の位置とすると，アーム
52が引き戻される動作の時に，必ずウェハWは，アーム5
2上の所定の位置に配置されることになる。
【００２７】ウェハWはアーム52上の所定の位置で突起
部52’と配置付け部分60とのより固定されていることか
ら，例えば図６に示されているように，搬送機構51が回
転移動しても，また図示されていないが搬送機構51全体
が並進移動しても，ウェハWは所定の位置からずれるこ
とがない。
【００２８】上記本発明の搬送機構51を使用して，処理
チェンバーからウェハをアンロードし，それを他の処置
チェンバーにロードする動作を，図７および図８を参照
して説明する
【００２９】処理チェンバー内のウェハステージ21上の
処理位置にある処理されたウェハをアンロードするため
に，図７（a）に示されているように，処理位置にある
ウェハのエッジ部とアーム52の突起部52’との間に形成
される間隔，すなわちクリアランスが所定だけ生じる位
置（伸長位置）まで，アーム52をウェハＷの下方で，ピ
ン55の間を通るように，処理チェンバー内に伸長させ
る。このクリアランスは，たとえばプラズマ発生による
電荷の影響でウェハの位置がずれても，突起部52’に乗
り上げない程度，通常は2mm程度になるようにする。
【００３０】次に，図７（b）に示されているように，
ピン22が下降し，ウェハWはアーム上に移される。この
とき，ウェハの中心（図では黒三角により示されてい
る）と，ウェハがアーム上の所定の位置にあるときにウ
エハの中心位置（図では白三角により示されている）と
は，一般的に一致していない。そして，回転機構55によ
りアーム54が回転すると，アーム52は引き戻され，ウエ
ハWを処理チェンバーより排出する（図７（c））。
【００３１】アーム52がウェハWを保持したまま，引き
戻されると，配置付け部材60の弾性片63に接する。弾性
片63はアーム52上のウェハWの移動のみを阻止する。さ
らに，アーム52が引き戻されると，弾性片63はウェハW
をアーム52上で突起部52’へと押しやることになる。そ
して，ウェハWのエッジ部が突起部52’と接したとき，
アーム54の回転が停止し，アーム52の引き戻しが終了す
る（図７（d））。かくして，ウェハWはアーム52上の所
定の位置に，すなわち，ウェハWの中心と，アーム52の
所定の位置における中心とが一致する位置に配置される
ことになる。
【００３２】ウェハを他の処理チェンバーへと向けると
きは，図６に示されているように，搬送機構5全体を回
転移動させる。ウェハは配置付け部材60と突起部52’と
に挟まれているから，この回転移動により所定の位置か
らずれることはなく，したがって，高速でウェハを他の
処理チェンバーに向けることができる。このとき，配置
付け部材60はアーム52と一緒に回転できるように，回転
機構55に取り付けられる必要がある。なお，この例は搬
送機構51全体を回転移動することで，他の処理チェンバ
ーへ向けたが，搬送機構51全体を並進移動させる移動手
段により，他の処理チェンバーにウェハをロードできる
位置へ移動させることてもよいことはいうまでもないこ
とである。
【００３３】ウェハWが他の処理チェンバーに向けられ
たとき，図８（a）に示されているように，アーム52は
処理チェンバー内に伸長する。アーム52の伸長は，アー
ム上のウェハWの中心（図において，白三角印）がウェ
ハステージ21’の中心（図において，黒三角印）と一致
するまで行われる。
【００３４】前述したように，アーム上のウェハは配置
付け部材と突起部52’により挟まれ，所定の位置に配
置，維持さていることから，アーム52は所望だけ伸長す
るだけで，アーム上のウェハWの中心とウェハステージ2
1’の中心と一致させることができる。そして，ピン2
2’が上昇し，アーム52が引き戻されると（図８（b），
図８（c）），ウェハWはウェハステージ21’の所望の位
置，すなわち，処理位置に配置されることになる。
【００３５】このようにウェハがアームの突起部と配置
付け部材とにより挟まれることから，アームが伸長する
だけで，正確に処理チェンバー内に配置できる。この配
置に厳密な正確性が要求されない搬送においては，アー
ムの引き戻しの際に，ウェハのエッジ部と突起部との間
に間隙があったもよい。しかし，ウェハの処理において
は，この間隙は広くても2ｍｍ，好適には1.5mm以下とす
ることが望ましい。
【００３６】上記説明した例は，一つの処理チェンバー
から，他の処理チェンバーへウェハを搬送するものであ
るが，これに限らず，ウェハを収納するカセットから処
理チェンバーへまたはその逆に搬送する場合に本発明の
搬送機構は適用できる。また搬送する物もウェハに限定
されないことは理解されよう。
【００３７】なお，半導体ウェハにおける搬送において
は，パーティクルの発生は重要な問題であるから，搬送
速度，アームの形状，ウェハと接触する突起部，配置付
け部材の形状，弾力性はパーティクルの発生しないよう
適宜決定されるものである。
【００３８】
【発明の効果】本発明により，被処理体を搬送するアー
ム部材は単に先端に突起部を有するのみで，被処理体を
納める凹所は不要となり，そのため，収納された被処理
体をアーム部材に移す際に， 収納部内に収納された被
処理体の位置にアーム部材を正確に位置付けることが不
要とり，搬送制御が簡便となる。そして，被処理体は，
搬送工程のうちの引き戻り動作において，アーム部材の
所定の位置に配置され，したがって，単にアーム部材を
伸長させるだけで被処理体を所望の位置に搬送できる。
【００３９】また，被処理体は，アーム部材の突起部と
配置付け部材とにより挟まれて，アーム部材上に保持さ
れることから，アーム部材上の所定の位置からずれるこ
とがなく，そのため，被処理体をアーム部材上の所定の
位置に保持したまま，他の収納部へ高速で移動させるこ
とができる。これにより搬送の高速化をはかることがで
きる。
【００４０】さらに，本発明は，被処理体を吸引力を用
いずに保持することから，常圧下での搬送でも，減圧下
での搬送においても適用できる。
【００４１】さらにまた，本発明は，配置付け部材は必
要なものの，アーム部材を利用する搬送機構を実質的な
改変をなすことなく，これを利用して実施できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の搬送機構の斜視図を示す。
【図２】全体が回転移動する状態を示す図１の従来の搬
送機構の斜視図を示す。
【図３】図１の搬送機構を使用して，ウェハを処理チェ
ンバーからアンロードする各動作を示す。
【図４】図１の搬送機構を使用して，ウェハを処理チェ
ンバーへロードする各動作を示す。
【図５】本発明の搬送機構の斜視図を示す。
【図６】全体が回転移動する状態を示す図５の搬送機構
の斜視図を示す。
【図７】図５の搬送機構を使用して，ウェハを処理チェ
ンバーからアンロードする各動作を示す。
【図８】図５の搬送機構を使用して，ウェハを処理チェ
ンバーへロードする各動作を示す。
【符号の説明】
51 本発明の搬送機構 52 アーム 52’ 突起部 53 アーム 54 アーム 55 回転機構 60 配置付け部材 61 水平部分 62 垂直部分 63 弾性片
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１０年９月１７日（１９９８．９．１
７）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００１
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は，半導体ウェハのよ
うな被処理体を，被処理体を収納する収納部へ搬入また
は搬出する搬送装置および搬送方法に関し，特に，被処
理体を収納部の所定の位置に搬送できる搬送装置および
搬送方法に関する。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００５】この従来の搬送機構を用いて，ウェハを処
理チェンバーからアンロードする動作およびそこへロー
ドする動作を図３および図４に示す。図３（a）に示さ
れているように，ウェハWは処理チェンバー（図示せ
ず）内のウェハステージ21の中心にウェハWの中心が整
合するように複数のピン22で支持されている。処理後，
ウェハWをアンロードするために，図１のようにアーム4
が回転し，これにしたがってアーム2が伸長する。アー
ム2のウェハ保持の中心（図では白三角で示す）がウェ
ハWの中心（図では黒三角で示す）に整合する位置（伸
長位置）まで，アーム2は伸長する。次に，図3（b）に
示されているように，ピン22が下降し，ウェハWはアー
ム2の凹所に位置する。そして，図３（c）に示されてい
るように，アーム4の回転によりアーム2はウェハWを保
持したまま，引戻し位置まで戻る。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００６】ウェハWに対して次の処理を行うために，
他の処理チェンバーの位置へウェハWを移動させるため
に，図３（d）に示されているように，ウエハの保持の
中心とウェハWの中心とを一致させたまま，図２に示さ
れているように搬送機構全体を移動（回転）させる。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００７】そして，他の処理チェンバーの位置まで来
たとき，図４（a）に示されているように，再度アーム4
が回転し，アーム2が他の処理チェンバーの処理位置
（ウェハステージの中心とウェハの中心とが一致する位
置）へと伸長する。ここで，ピンが上昇してウェハはウ
ェハステージに移り（図４（b）），アーム4が回転し
て，アーム2は引戻し位置に戻る。上述した処理位置と
引戻し位置は，他のウェハについてアンロード，ロード
動作が再現されるように，搬送機構の制御部に記憶され
る。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１１】また，アームの往復移動，引戻し位置での
アームの回転移動の際に，ウェハがウェハより大きい凹
所内で動き，位置のずれを引き起こしかねない。これを
防止するためには，アームの移動（回転）の速度を低速
にしなければならず，ウェハの搬送速度の高速化，搬送
時間の短縮化がはかれない。真空吸引式のアームにおい
ては，このような問題はなく，搬送速度を高速化するこ
ともできる一方，真空吸着の際にウェハの裏面とアーム
との強い接触のために，パーティクルが発生しやすくな
る。また，この方式はそもそも大気中でなければ使用で
きない。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２１】
【発明の実施の形態】図５は，本発明の搬送装置51の斜
視図を示す。図１に示した従来の搬送装置1との違い
は，アーム52に凹所が設けられず，先端にのみ，半導体
ウェハWの外周のエッジ部にそった形状をもつ突起部5
2’を有する点と，アームが引戻し位置にあるとき，そ
のアームの近傍に配置付け部材60を有する点である。
【手続補正１１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２４】配置付け部材60はアーム52の近傍で，回転
機構55に取り付けられている。この配置付け部材60は，
アーム52の上方に位置し，両端が膨出した部分を有する
水平部分61とその水平部分を回転機構55に取り付ける垂
直部分62からなり，水平部分61の内側は，台形の凹所が
形成され，さらにウェハのエッジ部と弾力的に接する弾
性片63，たとえばバネ体が取り付けられている。弾性片
は，ウェハWに対して弾力的に接するために好適なもの
であるが，必須の要素ではなく，水平部分の台形凹所と
ウェハのエッジ部とが接するようにしてもよい。
【手続補正１２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２５
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２５】図示の例において，水平部分61には台形の
凹所が形成され，ウェハのエッジ部に二カ所で接するよ
うにしているが，一カ所で接するような形状でもよく，
また三カ所以上で接するような形状でもよい。接触する
箇所が多いほど，後述するように，ウェハWをアーム52
上の所定の位置に配置し易くなるが，異なる直径のウェ
ハに対応しにくくなる。
【手続補正１３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２６】配置付け部材60が取り付けられた搬送機構
51において，回転機構55によりアーム54が回転し，アー
ム53を介してアーム52が引き戻る方向に移動すると，ア
ーム52の上に保持されてウェハWはアーム52と一緒に引
き戻され，図６に示されているように，配置付け部材60
の弾性部材63，63と接する。さらに，アーム52が引き戻
されるとき，配置付け部材60は，ウェハWがアームと一
緒に移動することを阻止する。したがって，ウェハW
は，アーム52上で，アームの突起部52’，52’へと押し
やられる。その突起部52’，52’と配置付け部分の弾性
部材63，63とにより挟まれる。このとき，ウェハWがア
ーム52上に配置される位置を所定の位置とすると，アー
ム52が引き戻される動作の時に，必ずウェハWは，アー
ム52上の所定の位置に配置されることになる。
【手続補正１４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２７
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２７】ウェハWはアーム52上の所定の位置で突起
部52’と配置付け部分60とにより固定されていることか
ら，例えば図６に示されているように，搬送機構51が回
転移動しても，また図示されていないが搬送機構51全体
が並進移動しても，ウェハWは所定の位置からずれるこ
とがない。
【手続補正１５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００２８】上記本発明の搬送機構51を使用して，処理
チェンバーからウェハをアンロードし，それを他の処理
チェンバーにロードする動作を，図７および図８を参照
して説明する
【手続補正１６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３０】次に，図７（b）に示されているように，
ピン22が下降し，ウェハWはアーム上に移される。この
とき，ウェハの中心（図では黒三角により示されてい
る）と，ウェハがアーム上の所定の位置にあるときのウ
エハの中心位置（図では白三角により示されている）と
は，一般的に一致していない。そして，回転機構55によ
りアーム54が回転すると，アーム52は引き戻され，ウエ
ハWを処理チェンバーより排出する（図７（c））。
【手続補正１７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３２
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３２】ウェハを他の処理チェンバーへと向けると
きは，図６に示されているように，搬送機構5全体を回
転移動させる。ウェハは配置付け部材60と突起部52’と
に挟まれているから，この回転移動により所定の位置か
らずれることはなく，したがって，高速でウェハを他の
処理チェンバーに向けることができる。このとき，配置
付け部材60はアーム52と一緒に回転できるように，回転
機構55に取り付けられる必要がある。なお，この例は搬
送機構51全体を回転移動することで，他の処理チェンバ
ーへ向けたが，搬送機構51全体を並進移動させる移動手
段により，他の処理チェンバーにウェハをロードできる
位置へ移動させてもよいことはいうまでもないことであ
る。
【手続補正１８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３４】前述したように，アーム上のウェハは配置
付け部材と突起部52’とにより挟まれ，所定の位置に配
置，維持さていることから，アーム52は所望に伸長する
だけで，アーム上のウェハWの中心とウェハステージ2
1’の中心とを一致させることができる。そして，ピン2
2’が上昇し，アーム52が引き戻されると（図８（b），
図８（c）），ウェハWはウェハステージ21’の所望の位
置，すなわち，処理位置に配置されることになる。
【手続補正１９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正内容】
【００３８】
【発明の効果】本発明により，被処理体を搬送するアー
ム部材は単に先端に突起部を有するのみで，被処理体を
納める凹所は不要となり，そのため，収納された被処理
体をアーム部材に移す際に，収納部内に収納された被処
理体の位置にアーム部材を正確に位置付けることが不要
となり，搬送制御が簡便となる。そして，被処理体は，
搬送工程のうちの引き戻し動作において，アーム部材の
所定の位置に配置され，したがって，単にアーム部材を
伸長させるだけで被処理体を所望の位置に搬送できる。
【手続補正２０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４０
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４０】さらに，本発明は，被処理体を，吸引力を
用いずに保持することから，常圧下での搬送でも，減圧
下での搬送においても適用できる。
【手続補正２１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４１
【補正方法】変更
【補正内容】
【００４１】さらにまた，本発明は，配置付け部材は必
要なものの，アーム部材を利用する搬送機構を実質的に
改変することなく，これを利用して実施できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 古川原 一哲 東京都多摩市永山６丁目23番地１ 日本エ ー・エス・エム株式会社内 Ｆターム(参考） 3F061 AA01 BA03 BB09 BD08 BE06 BE24 BF00 DB04 DB06 5F031 CC04 CC12

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】被処理体を収納部に搬入または搬出する搬
    送機構であって，（a）被処理体のエッジ部と接触可能
    な突起部を先端に有し，前記被処理体を保持するアーム
    部材と，（b）前記被処理体を前記収納部に対して搬入
    または搬出するために，前記被処理体を保持した状態
    で，該アーム部材を引戻し位置と伸長位置との間で往復
    移動させる移動機構と，（c）前記アーム部材の近傍に
    位置し，保持された前記被処理体を前記アーム部材上の
    所定の位置に配置するための，被処理体のエッジ部と接
    触可能な配置付け部材と，から構成され，前記移動機構
    により，前記アーム部材が前記引戻し位置へ移動すると
    き，前記配置付け部材は，前記アーム部材上に保持され
    た前記被処理体のエッジ部と接触し，前記被処理体の移
    動を阻止し，前記アーム部材上の所定の位置に配置す
    る，ことを特徴とする搬送機構。
  2. 【請求項２】前記配置付け部材および前記突起部の少な
    くとも一方の，前記被処理体のエッジ部と接触する部分
    が弾性部材から成る，ことを特徴とする請求項１に記載
    の搬送機構。
  3. 【請求項３】前記アーム部材の前記引戻し位置への移動
    により，前記被処理体が前記所定の位置に位置したと
    き，前記被処理体は，前記突起部と前記配置付け部材と
    に接して挟まれる，ことを特徴とする請求項１に記載の
    搬送機構。
  4. 【請求項４】前記アーム部材の前記引戻し位置への移動
    により，前記被処理体が前記所定の位置に位置したと
    き，前記被処理体のエッジ部と前記突起部との間に間隙
    がある，ことを特徴とする請求項１に記載の搬送機構。
  5. 【請求項５】前記間隙が2ｍｍ以下の間隔である，こと
    を特徴とする請求項４に記載の搬送機構。
  6. 【請求項６】前記収納部は処置チェンバーであり，前記
    移動機構は，前記アーム部材の前記引戻し位置への移動
    により前記所定に配置された前記被処理体を，前記伸長
    位置に前記アーム部材を移動させることで，前記処置チ
    ェンバー内の処置位置に搬入する，ことを特徴とする請
    求項１に記載の搬送機構。
  7. 【請求項７】前記収納部は複数あり，前記移動機構は，
    前記アーム部材を前記引戻し位置に維持した状態で，前
    記各収納部に向けて移動させる移動手段を有し，前記配
    置付け部材は前記移動手段に取り付けられている，こと
    を特徴とする請求項３または４に記載の搬送装置。
  8. 【請求項８】一方の収納部から他方の収納部に，被処理
    体を搬送する方法であって，（a）先端に被処理体のエ
    ッジ部と接触可能な突起部を有し，前記被処理体を保持
    するアーム部材を前記一方の収納部内に，その中に収納
    された被処理体のエッジ部と前記突起部との間にクリア
    ランスができる伸長位置まで，挿入し，前記被処理体を
    前記アーム部材に移す工程と，（b）前記アーム部材の
    近傍に位置する配置付け部材に，前記移された被処理体
    のエッジ部が接するまで，前記アーム部材を引き戻す工
    程と，（c）さらに，前記配置付け部材が前記アーム部
    材上の前記被処理体と接し，その移動を妨げ，前記アー
    ム部材の所定の位置に配置する引戻し位置まで前記アー
    ム部材を引き戻す工程と，（d）前記引戻し位置にある
    前記アーム部材を維持して，前記他方の収納部に向けて
    移動させる工程と，（e）前記他方の収納部内に，前記
    所定の位置に配置された前記被処理体を保持した状態
    で，前記アーム部材を挿入する工程と，から成り搬送方
    法。
  9. 【請求項９】前記クリアランスが2ｍｍ以上である，こ
    とを特徴とする請求項８に記載の搬送方法。
  10. 【請求項１０】前記被処理体は，それが前記アーム部材
    上の前記所定の位置に配置されるときに，前記突起部材
    と前記配置付け部材により挟まれる，ことを特徴とする
    請求項８に搬送方法。
  11. 【請求項１１】前記アーム部材上の前記所定の位置に，
    前記被処理体を配置するときに，前記被処理体のエッジ
    部と前記突起部材との間に隙間があり，該隙間は広くて
    も1.5ｍｍである，ことを特徴とする請求項８に搬送方
    法。
  12. 【請求項１２】前記他の収納部が処理チェンバーであ
    り，その処理チェンバーの処置位置まで，前記アーム部
    材を挿入させる，ことを特徴とする請求項８に記載の搬
    送方法。
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