DK142623B - Fotopolymeriserbar blanding indeholdende polymert bindemiddel. - Google Patents
Fotopolymeriserbar blanding indeholdende polymert bindemiddel. Download PDFInfo
- Publication number
- DK142623B DK142623B DK48172AA DK48172A DK142623B DK 142623 B DK142623 B DK 142623B DK 48172A A DK48172A A DK 48172AA DK 48172 A DK48172 A DK 48172A DK 142623 B DK142623 B DK 142623B
- Authority
- DK
- Denmark
- Prior art keywords
- exposure
- aqueous
- weight
- parts
- image area
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 41
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 title claims description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 21
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 10
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 claims description 9
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 6
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 6
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 claims description 5
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 3
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 claims description 3
- 238000010186 staining Methods 0.000 claims description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 2
- 238000003475 lamination Methods 0.000 claims description 2
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 claims description 2
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 claims description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 2
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 claims description 2
- 101100027898 Homo sapiens OCR1 gene Proteins 0.000 claims 1
- 102100026725 Ovarian cancer-related protein 1 Human genes 0.000 claims 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 claims 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 claims 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 claims 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 claims 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- -1 alkylene glycols Chemical class 0.000 description 19
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 15
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 10
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 8
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 8
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 8
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical class [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010949 copper Chemical class 0.000 description 7
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 7
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 5
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M sodium hydroxide Inorganic materials [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 5
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 5
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 5
- HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOCCOC(=O)C=C HCLJOFJIQIJXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-[(3-tert-butyl-5-ethyl-2-hydroxyphenyl)methyl]-4-ethylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CC)=CC(CC=2C(=C(C=C(CC)C=2)C(C)(C)C)O)=C1O GPNYZBKIGXGYNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N ammonium persulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O ROOXNKNUYICQNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 4
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 4
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 4
- AMPCGOAFZFKBGH-UHFFFAOYSA-N 4-[[4-(dimethylamino)phenyl]-(4-methyliminocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)methyl]-n,n-dimethylaniline Chemical compound C1=CC(=NC)C=CC1=C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 AMPCGOAFZFKBGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N benzoin Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 3
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 2-methylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3C(=O)C2=C1 NJWGQARXZDRHCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M Bicarbonate Chemical class OC([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N CI Basic red 9 Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC=C1C(C=1C=CC(N)=CC=1)=C1C=CC(=[NH2+])C=C1 JUQPZRLQQYSMEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MJVAVZPDRWSRRC-UHFFFAOYSA-N Menadione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(C)=CC(=O)C2=C1 MJVAVZPDRWSRRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 2
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 2
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical group 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910001870 ammonium persulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 2
- UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N butyl maleate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(O)=O UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- PEVJCYPAFCUXEZ-UHFFFAOYSA-J dicopper;phosphonato phosphate Chemical compound [Cu+2].[Cu+2].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O PEVJCYPAFCUXEZ-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- FTZLWXQKVFFWLY-UHFFFAOYSA-L disodium;2,5-dichloro-4-[3-methyl-5-oxo-4-[(4-sulfonatophenyl)diazenyl]-4h-pyrazol-1-yl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].CC1=NN(C=2C(=CC(=C(Cl)C=2)S([O-])(=O)=O)Cl)C(=O)C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 FTZLWXQKVFFWLY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical class CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M ethyl violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(CC)CC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 JVICFMRAVNKDOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011152 fibreglass Substances 0.000 description 2
- WDPIZEKLJKBSOZ-UHFFFAOYSA-M green s Chemical compound [Na+].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C2=CC=C(C=C2C=C(C=1O)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 WDPIZEKLJKBSOZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- FRCAGVUKJQCWBD-UHFFFAOYSA-L iodine green Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(\C=1C=CC(=CC=1)[N+](C)(C)C)=C/1C=C(C)C(=[N+](C)C)C=C\1 FRCAGVUKJQCWBD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M lithium hydroxide Inorganic materials [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPSIPYMEZZPCPY-UHFFFAOYSA-N new fuchsin Chemical compound [Cl-].C1=CC(=[NH2+])C(C)=CC1=C(C=1C=C(C)C(N)=CC=1)C1=CC=C(N)C(C)=C1 IPSIPYMEZZPCPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical class OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004053 quinones Chemical class 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 238000005201 scrubbing Methods 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- UJMBCXLDXJUMFB-GLCFPVLVSA-K tartrazine Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]C(=O)C1=NN(C=2C=CC(=CC=2)S([O-])(=O)=O)C(=O)C1\N=N\C1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 UJMBCXLDXJUMFB-GLCFPVLVSA-K 0.000 description 2
- CZIRZNRQHFVCDZ-UHFFFAOYSA-L titan yellow Chemical compound [Na+].[Na+].C1=C(C)C(S([O-])(=O)=O)=C2SC(C3=CC=C(C=C3)/N=N/NC3=CC=C(C=C3)C3=NC4=CC=C(C(=C4S3)S([O-])(=O)=O)C)=NC2=C1 CZIRZNRQHFVCDZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940096522 trimethylolpropane triacrylate Drugs 0.000 description 2
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 2
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 2
- 235000019235 yellow 2G Nutrition 0.000 description 2
- LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N (3-hydroxy-2-prop-2-enoyloxypropyl) prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(CO)COC(=O)C=C LGPAKRMZNPYPMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYECOAILUNWEAL-NUDFZHEQSA-N (4z)-4-[[2-methoxy-5-(phenylcarbamoyl)phenyl]hydrazinylidene]-n-(3-nitrophenyl)-3-oxonaphthalene-2-carboxamide Chemical compound COC1=CC=C(C(=O)NC=2C=CC=CC=2)C=C1N\N=C(C1=CC=CC=C1C=1)/C(=O)C=1C(=O)NC1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 ZYECOAILUNWEAL-NUDFZHEQSA-N 0.000 description 1
- VSKCCZIUZNTICH-ZPYUXNTASA-N (e)-but-2-enoic acid;ethenyl acetate Chemical compound C\C=C\C(O)=O.CC(=O)OC=C VSKCCZIUZNTICH-ZPYUXNTASA-N 0.000 description 1
- AAFCVNRTKWSHAI-MKWAYWHRSA-N (z)-4-butoxy-4-oxobut-2-enoic acid;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCCCOC(=O)\C=C/C(O)=O AAFCVNRTKWSHAI-MKWAYWHRSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5,6,7,8-octamethylanthracene-9,10-dione Chemical compound CC1=C(C)C(C)=C2C(=O)C3=C(C)C(C)=C(C)C(C)=C3C(=O)C2=C1C XHXSXTIIDBZEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZESNEXPGASJRZ-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetrahydrobenzo[a]anthracene-7,12-dione Chemical compound C1CCCC2=CC=C3C(=O)C4=CC=CC=C4C(=O)C3=C21 AZESNEXPGASJRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 1,3-dinitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 WDCYWAQPCXBPJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- KFQPRNVTVMCYEH-UHFFFAOYSA-N 1-amino-3-(4-methoxyphenoxy)propan-2-ol Chemical compound COC1=CC=C(OCC(O)CN)C=C1 KFQPRNVTVMCYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 1-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2Cl BOCJQSFSGAZAPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxyhexane Chemical class CCCCCCOC=C YAOJJEJGPZRYJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVOVXOXRXQFTAS-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-7-propan-2-ylphenanthrene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=C(C(C)C)C=C3C(=O)C(=O)C2=C1C WVOVXOXRXQFTAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVPKNMBRVBMTLB-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichloronaphthalene-1,4-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(Cl)=C(Cl)C(=O)C2=C1 SVPKNMBRVBMTLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIJPZYXCIHZVGP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(C)C(C)=C2 KIJPZYXCIHZVGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylanthracene-9,10-dione Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=1C=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=CC=1C1=CC=CC=C1 LZWVPGJPVCYAOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQZHOBBQNFBTJE-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-3-methylanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C(C)C(Cl)=C2 YQZHOBBQNFBTJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 2-chloroanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3C(=O)C2=C1 FPKCTSIVDAWGFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 2-ethylanthraquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC=C3C(=O)C2=C1 SJEBAWHUJDUKQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2,2-triphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C=1C=CC=CC=1)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 CKKQLOUBFINSIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpent-4-en-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(CC=C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 RZCDMINQJLGWEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-1,2-diphenylpropan-1-one Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(O)(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 DIVXVZXROTWKIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[(2-methylprop-2-enoylamino)methyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCNC(=O)C(C)=C TURITJIWSQEMDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFFYQSOLZWNGSO-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-[3-[1-[3-(2-methylprop-2-enoylamino)propoxy]ethoxy]propyl]prop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(=O)NCCCOC(C)OCCCNC(=O)C(C)=C UFFYQSOLZWNGSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTWDKFNVVLAELH-UHFFFAOYSA-N 2-methylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical compound CC1=CC(=O)C=CC1=O VTWDKFNVVLAELH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTZCFGZBDDCNHI-UHFFFAOYSA-N 2-phenylanthracene-9,10-dione Chemical compound C=1C=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C(=O)C2=CC=1C1=CC=CC=C1 NTZCFGZBDDCNHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylanthracene-9,10-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)(C)C)=CC=C3C(=O)C2=C1 YTPSFXZMJKMUJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 3-(2-methylprop-2-enoyloxy)propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCOC(=O)C(C)=C HTWRFCRQSLVESJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCOC(=O)C=C GFLJTEHFZZNCTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical class CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMRDPCUYKKPMFC-UHFFFAOYSA-N 4-hydroxy-2,2,5,5-tetramethylhexan-3-one Chemical compound CC(C)(C)C(O)C(=O)C(C)(C)C YMRDPCUYKKPMFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKCRIUIBDUVZSP-UHFFFAOYSA-N 7,8,9,10-tetrahydrotetracene-1,2-dione Chemical compound C1CCCC2=C1C=C1C=C3C=CC(=O)C(=O)C3=CC1=C2 RKCRIUIBDUVZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 9,10-phenanthroquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YYVYAPXYZVYDHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N Diacetyl Chemical group CC(=O)C(C)=O QSJXEFYPDANLFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100453790 Drosophila melanogaster Kebab gene Proteins 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical group ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WWKGVZASJYXZKN-UHFFFAOYSA-N Methyl violet 2B Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(N)=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 WWKGVZASJYXZKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 229920000388 Polyphosphate Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000220010 Rhode Species 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFQSMLBZXQOMKK-UHFFFAOYSA-N [3-[(4,8-diamino-6-bromo-1,5-dioxonaphthalen-2-yl)amino]phenyl]-trimethylazanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC(NC=2C(C3=C(N)C=C(Br)C(=O)C3=C(N)C=2)=O)=C1 RFQSMLBZXQOMKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N [4-(2-methylprop-2-enoyloxy)phenyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=C(OC(=O)C(C)=C)C=C1 MDMKOESKPAVFJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910000318 alkali metal phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001447 alkali salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 1
- VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N arsonium Chemical compound [AsH4+] VUEDNLCYHKSELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N auramine O free base Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=N)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 JPIYZTWMUGTEHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N benzil Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(=O)C1=CC=CC=C1 WURBFLDFSFBTLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N benzo[a]anthracene-7,12-dione Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C(=O)C1=CC=CC=C1C2=O LHMRXAIRPKSGDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC=C PIPBVABVQJZSAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FLHKEWQKOHJIMH-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,3-disulfonate Chemical compound C=COS(=O)(=O)C1=CC=CC(S(=O)(=O)OC=C)=C1 FLHKEWQKOHJIMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IHXBXGHGYCSRAP-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=C(C(=O)OC=C)C=C1 IHXBXGHGYCSRAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZARYXGAVDEJAY-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) butane-1,4-disulfonate Chemical compound C=COS(=O)(=O)CCCCS(=O)(=O)OC=C SZARYXGAVDEJAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) butanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCC(=O)OC=C AJCHRUXIDGEWDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N bis(ethenyl) hexanedioate Chemical compound C=COC(=O)CCCCC(=O)OC=C JZQAAQZDDMEFGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 239000001273 butane Substances 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- 125000004386 diacrylate group Chemical group 0.000 description 1
- 235000011180 diphosphates Nutrition 0.000 description 1
- FPVGTPBMTFTMRT-UHFFFAOYSA-L disodium;2-amino-5-[(4-sulfonatophenyl)diazenyl]benzenesulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=C(S([O-])(=O)=O)C(N)=CC=C1N=NC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 FPVGTPBMTFTMRT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N ethenylcyclopentane Chemical compound C=CC1CCCC1 BEFDCLMNVWHSGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- SQHOAFZGYFNDQX-UHFFFAOYSA-N ethyl-[7-(ethylamino)-2,8-dimethylphenothiazin-3-ylidene]azanium;chloride Chemical compound [Cl-].S1C2=CC(=[NH+]CC)C(C)=CC2=NC2=C1C=C(NCC)C(C)=C2 SQHOAFZGYFNDQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019233 fast yellow AB Nutrition 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 239000004120 green S Substances 0.000 description 1
- 235000012701 green S Nutrition 0.000 description 1
- PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N hepta-1,6-dien-4-one Chemical class C=CCC(=O)CC=C PBZROIMXDZTJDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 1
- JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N hex-1-en-3-one Chemical class CCCC(=O)C=C JTHNLKXLWOXOQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920006158 high molecular weight polymer Polymers 0.000 description 1
- 229960004337 hydroquinone Drugs 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000015231 kebab Nutrition 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N linalool Chemical compound CC(C)=CCCC(C)(O)C=C CDOSHBSSFJOMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- CBBVHSHLSCZIHD-UHFFFAOYSA-N mercury silver Chemical compound [Ag].[Hg] CBBVHSHLSCZIHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L methyl green Chemical compound [Cl-].[Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)[N+](C)(C)C)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 DWCZIOOZPIDHAB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical class COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 1
- IZRZMBCKGLWYSC-UHFFFAOYSA-N n'-(2-aminoethyl)ethane-1,2-diamine;2-methylprop-2-enamide Chemical compound CC(=C)C(N)=O.CC(=C)C(N)=O.CC(=C)C(N)=O.NCCNCCN IZRZMBCKGLWYSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N n,n'-methylenebisacrylamide Chemical compound C=CC(=O)NCNC(=O)C=C ZIUHHBKFKCYYJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N n-[6-(prop-2-enoylamino)hexyl]prop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NCCCCCCNC(=O)C=C YQCFXPARMSSRRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIWRFSMVIUAEBX-UHFFFAOYSA-N n-methyl-1-phenylmethanamine Chemical compound CNCC1=CC=CC=C1 RIWRFSMVIUAEBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005002 naphthylamines Chemical class 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N p-methoxyphenol Chemical compound COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L peroxydisulfate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001281 polyalkylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical class 0.000 description 1
- HXHCOXPZCUFAJI-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoic acid;styrene Chemical compound OC(=O)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 HXHCOXPZCUFAJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-N propynoic acid Chemical compound OC(=O)C#C UORVCLMRJXCDCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 238000007342 radical addition reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004334 sorbic acid Substances 0.000 description 1
- 229940075582 sorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010199 sorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- HISNRBVYBOVKMB-UHFFFAOYSA-N stibonium Chemical compound [SbH4+] HISNRBVYBOVKMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPSWFOCTMJQJIS-UHFFFAOYSA-N sulfanium;hydroxide Chemical class [OH-].[SH3+] LPSWFOCTMJQJIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004149 tartrazine Substances 0.000 description 1
- 235000012756 tartrazine Nutrition 0.000 description 1
- 229960000943 tartrazine Drugs 0.000 description 1
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 description 1
- UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N tetrachloro-1,4-benzoquinone Chemical compound ClC1=C(Cl)C(=O)C(Cl)=C(Cl)C1=O UGNWTBMOAKPKBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003698 tetramethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- CRUVUWATNULHFA-UHFFFAOYSA-M tetramethylphosphanium;hydroxide Chemical compound [OH-].C[P+](C)(C)C CRUVUWATNULHFA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J tetrapotassium;phosphonato phosphate Chemical class [K+].[K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])(=O)OP([O-])([O-])=O RYCLIXPGLDDLTM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- MPCYPRXRVWZKGF-UHFFFAOYSA-J tetrasodium 5-amino-3-[[4-[4-[(8-amino-1-hydroxy-3,6-disulfonatonaphthalen-2-yl)diazenyl]phenyl]phenyl]diazenyl]-4-hydroxynaphthalene-2,7-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[Na+].C1=C(S([O-])(=O)=O)C=C2C=C(S([O-])(=O)=O)C(N=NC3=CC=C(C=C3)C3=CC=C(C=C3)N=NC3=C(C=C4C=C(C=C(C4=C3O)N)S([O-])(=O)=O)S([O-])(=O)=O)=C(O)C2=C1N MPCYPRXRVWZKGF-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M trimethylphenylammonium hydroxide Chemical class [OH-].C[N+](C)(C)C1=CC=CC=C1 HADKRTWCOYPCPH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000001226 triphosphate Substances 0.000 description 1
- 235000011178 triphosphate Nutrition 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N vinyl methyl ketone Chemical class CC(=O)C=C FUSUHKVFWTUUBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/0073—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
- H05K3/0076—Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the composition of the mask
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K2203/00—Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
- H05K2203/12—Using specific substances
- H05K2203/122—Organic non-polymeric compounds, e.g. oil, wax or thiol
- H05K2203/124—Heterocyclic organic compounds, e.g. azole, furan
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
- H05K3/061—Etching masks
- H05K3/064—Photoresists
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/38—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
- H05K3/389—Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by the use of a coupling agent, e.g. silane
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Description
GU FREMLÆGGELSESSKRIFT 142623 (¾ χ-Β/ DANMARK (Bu int.ci.3 c oe f 291/00 «(21) Ansøgning nr. 48l/72 (22) Indleveret den 3· feb· 1972 (24) Lebedag 3· feb. 1972 (44) Ansøgningen fremlagt og fremlæggelsesskriftet offentliggjort den 1 · dec . 1 9^0
Dl REKTORATET FOR
PATENT-OG VAREMÆRKEVÆSENET (3°) Pnontet begæret fra den
4. feb. 1971, 112797, US
(71) DYNACHEM CORPORATION, 13000 East Firestone Boulevard, Santa Fe Springs, "California, US.
(72) Opfinder: Michael Nicholas Gilano, 911 Rancho Circle, Orange, Fullerton, California, US: Melvin Alan-Lipson, 2829 Altivo Place, Orange, Fullerton, California, US: Richard Edmund Beaupre, 11 Anthony Road, Kent, West Bar= rington, Rhode Island, US.
(74) Fuldmægtig under sagens behandling:
Ingeniørfirmaet Hofman-Bang & Boutard. ___ (54) Fotopo lymeris erbar blanding indeholdende polymert bindemiddel.
Opfindelsen angår en fotopolymeriserbar blanding af den i indledningen til krav 1 angivne art. Især angår opfindelsen en lysfølsom blanding, der let kan fremkaldes ved hjælp af en alkalisk, vandig opløsning til frembringelse af et produkt, der er anvendeligt til trykkeplader og fotoreservager. Denne blanding er særlig anvendelig til fremstilling af de trykte kredsløb, fordi de reservager, der er fremstillet på basis deraf, er impermeable over for konventionelle pletteringsopløsninger. Den fotopolymeriserbare blanding ifølge opfindelsen er ny og forbedret.
Man har længe været klar over ønskværdigheden af at kunne tildanne lysfølsomme blandinger, der kan fremkaldes uden nødvendigheden 2 142623 af de konventionelle, organiske opløsningsmidler. Organiske opløsningsmidler er dyre og risikable hvad angår toxicitet og brændbarhed, og de forurener luft og vand.
Fordelene véd sådanne vandige systemer blev bemærket så langt tilbage i tiden som i 1956 i forbindelse med U.S.A. patent nr.
2 760 863; imidlertid blev der ikke beskrevet nogen specifik blanding, og det. kan antages, at patenthaveren ikke var i stand til at finde nogen tilfredsstillende blanding. Andre henvisninger til sådanne vandopløselige blandinger forefindes i U.S.A. patent nr. 2 927 022 og 2 893 868. Uanset hvilke tekniske fordele de blandinger, der er beskrevet i disse patenter, udviser, er det klart, at sådanne blandinger i det omfang, i hvilket de kunne fremkaldes med vandige, alkaliske opløsninger, enten ikke var tilstrækkeligt uopløselige på de eksponerede dele eller også var i stand til at kunne angribes ved den konventionelle plettering og af æt-seopløsninger, hvor fotoreservagen blev anvendt til et trykt kredsløb.
Især kan det i forbindelse med U.S.A. patent nr. 2 893 868 anføres, at alle de polymere, der dannes i henhold til dette patent, indeholder en saltbinding, og at det har vist sig, at den på basis af denne kendte blanding dannede reservage ved elektroplettering løfter sig af og går bort i flager under pletteringen.
Det er opfindelsen formål at angive en fotopolymeriserbar blanding, som dels kan fremkaldes med vandige, alkaliske opløsninger, og hvor yderligere de eksponerede dele af disse blandinger har tilfredsstillende modstandsdygtighed overfor alkaliske pletteringsopløsninger .
Den fotopolymeriserbare blanding ifølge opfindelsen er ejendommelig ved det i den kendetegnende del af krav 1 angivne. De polymere, der dannes i den fotopolymeriserbare blanding ifølge opfindelsen, indeholder således ikke nogen salt binding, således som det er tilfældet i forbindelse med U.S.A. patent nr. 2 893 868.
Det har således i henhold til opfindelsen vist sig, at den fotopolymeriserbare blanding ifølge opfindelsen kan fremkaldes med vandige, alkaliske opløsninger. Yderligere har de eksponerede dele Γ 3 142623 af disse blandinger fremragende modstandsdygtighed over for alkaliske opløsninger, herunder de alkaliske ætsemidler og de alkaliske pletteringsopløsninger, der hyppigt forekommer under fremstillingen af trykte kredsløb og ad kemisk vej bearbejdede dele.
En særlig foretrukken udførelsesform for den fotopolymeriserbare blanding ifølge opfindelsen er ejendommelig ved det i den kendetegnende del af krav 2 angivne. Dette fotopolymeriserbare materiale udviser den fordel, at det danner en særligt holdbar reservage.
En særlig foretrukken udførelsesform for den polymeriserbare blanding ifølge opfindelsen er ejendommelig ved det i den kendetegnende del af krav 3 angivne. Dette fotopolymeriserbare materiale fremkaldes særligt let.
En særlig foretrukken udførelsesform for den fotopolymeriserbare blanding ifølge opfindelsen er ejendommelig ved det i den kendetegnende del af krav 4 angivne. Denne særlige fotopolymeriserbare blanding har de fysiske egenskaber, der er nødvendige til dannelse af et tørt filmlaminat.
En særlig foretrukken udførelsesform for den fotopolymeriserbare blanding ifølge opfindelsen er ejendommelig ved det i den kendetegnende del af krav 5 angivne. Denne særlige fotopolymeriserbare blanding har de fysiske egenskaber, der er nødvendige til dannelse' af et tørt filmlaminat.
Fordelen ifølge opfindelsen fremkommer ved at udvælge et forud dannet, forligeligt, makromolekylært, polymert bindemiddel, der er en copolymer af (1) en monomer af en ikke-sur vinylmonomer, og (2) en umættet, carboxylgruppeholdig monomer, hvorved bestanddelene (l) og (2) er underkastet de i krav 1 angivne begrænsninger. Anvendelsen af den her beskrevne blanding eliminerer fuldstændigt nødvendigheden af organiske opløsningsmidler og tilvejebringer en i høj grad opløsningsmiddelresistent reservage.
De fotopolymeriserbare blandinger ifølge opfindelsen kan desuden indeholde passende farvestoffer og pigmenter og andre additiver, såsom blødgøringsmidler og adhæsionspromotorer, der kan være nødvendige til at forbedre de fysiske og kemiske egenskaber af den ^ 142623 fot op olymeri serbare blanding.
Den ethylenisk umættede forbindelse må indeholde mindst to terminale, ethyleniske grupper (CH2=C <.) og have et kogepunkt over 100°C under atmosfæretryk og være i stand til at danne en højmolekylær polymer ved en fotoinitieret, kædeoverførende additionspolymerisation, hvorved der gøres brug af frie radikaler. Sådanne forbindelser er beskrevet i U.S.A. patent nr. 2 760 863.
Passende forbindelser, der kan anvendes alene eller i kombination, omfatter et alkylen- eller et polyalkylenglycoldiacrylat fremstillet ud fra de alkylenglycoler, der indeholder 2 til 15 carbonato-mer, eller de polyalkylenetherglycoler, der indeholder 1 til 10 etherbindinger.
På grund af materialernes generelt hurtige uopløseliggørelses-hastighed ved eksponering, formentlig hidrørende fra en relativt hurtig etablering af en polymer netværks struktur, er en fremtrædende kategori af de lavmolekylære, additionspolymeriserbare bestanddele sådanne, der har et større antal additionspolymeriserbare, ethyleniske bindinger, især når de foreligger i form af terminale bindinger, og især sådanne, i hvilke i det mindste en og fortrinsvis de fleste af sådanne bindinger er konjugeret med et dobbeltbundet carbonatom, herunder carbon, der er dobbeltbundet til carbon og til sådanne heteroatomer som nitrogen, oxygen og svovl.
Sådanne materialer, i hvilke de ethylenisk umættede grupper, især vinylidengruppeme, er konjugerede med ester- eller amidstrukturer, skal især fremhæves. Ifølge opfindelsen anvendes som nævnt: umættede estere af polyoler, især sådanne estere af methylencar-boxylsyrerne, for eksempel ethylendiacrylat, diethylenglycol-diacrylat, glyceroldiacrylat, glyceroltrxacrylat, ethylendime-thacrylat, 1,3-propylendimethacrylat, 1,2,4-butantri oltrimetha-crylat, 1,4-benzendioldimethacrylat, pentaerythritoltetrametha-crylat, 1,3-propandioldiacrylat, 1,5-pentandioldimethacrylat, bisacrylaterne og methacrylateme af polyethylenglycoler med molekylvægt 200 - 500, umættede amider, især af methylenearboxyl-syreme, og især af alfa, omega-diaminer og oxygenafbrudte omega-diaminer, såsom methylenbisacrylamid, methylen-bis-methacryl-amid, 1,6-hexamethylen-bis-acrylamid, diethylentriamin-tris- 142623 5 t methacrylamid, bis-(methacrylamidopropoxy)-ethan, B-methacryl-amidoethylmethacrylat, N-(B-hydroxyethyl)-oxyethyl)-acrylamid og vinylestere, såsom divinylsuccinat, divinyladipat, divinyl-phthalat, divinylterephthalat, divinylbenzen-1,3-disulfonat og divinylbutan-1,4-disulfonat.
De foretrukne monomere forbindelser er de di- og polyfunktionelie, men man kan også anvende monofunktionelle monomere. Mængden af den tilsatte monomer varierer med den særlige termoplastiske polymer.
Bestanddelen af styrentypen af det polymere bindemiddel har den almene formel: R-C=CHo 6 hvor R er hydrogen eller en alkylgruppe med mellem 1 og 6 earbon-atomer eller et halogenatom. Mest foretrukken blandt disse forbindelser er styren og alfa-methylstyren.
Den ikke-sure vinylmonomerbestanddel af det polymere bindemiddel har den almene formel:
CH~=C-Y
t
X
hvor symbolerne har den i krav 1 angivne betydning.
Eksempler på disse vinylmonomere er vinylacetat, vinylbutyrat, 6 142623 vinylbenzoat, vinylchlorid, methylacrylat, acrylonitril, alkyl-substituerede acrylamider, vinylmethylketon, vinylpropylketon, vinylmethylether, vinylethylether og vinylhexylether.
Den anden comonomere, der indgår i bindemidlet, er en eller flere umættede, carboxylgruppeholdige monomere med fra 3 til 15 carbonatomer, men fortrinsvis fra 3 til 6 carbonatomer. De mest foretrukne forbindelser er acrylsyre og methacrylsyre. Andre syrer, som kan anvendes, er kanelsyre, crotonsyre, sorbinsy-re, itaconsyre, propiolsyre, maleinsyre og fumarsyre, eller de tilsvarende halvestere deraf eller - hvor det er muligt - det tilsvarende anhydrid.
Forholdet mellem styren- eller vinylbestanddelen og den sure comonomer i det polymere bindemiddel vælges sådan, at den copoly-mere er opløselig i den 2% vandige opløsning af trinatriumphos-phat. Hvis mængden af den styren- eller vinylmonomere er for høj, vil den ikke-eksponerede del ikke være tilstrækkeligt opløselig; hvis på den anden side mængden af den styren- eller vinylmonomere er for lav·, vil det eksponerede areal være klæbrigt, opsvulmet eller opløst i den 2% vandige opløsning af trinatriumphosphat.
Som et bekvemt kriterium bør den som bindemiddel tjenende copolymer være af en sådan art, at en k0% opløsning i ketoner eller alkoholer vil have en viskositet på fra 100 til 50.000 cP.
Repræsentative comonomerforhold i det polymere bindemiddel ligger mellem 70:30 og 85:15 for styrenacrylsyre eller -methacrylsyre, mellem 35:65 og 70:30 for styrenmonobutylmaleat og mellem 70:30 og 95:5 for vinylacetatcrotonsyre. Polymerisationsgraden af den som bindemiddel tjenende copolymer er af en sådan art, at bindemidlet danner en ikke-klæbrig, kontinuerlig film efter eksponering og fremkaldelse. Stort set ligger molekylvægten mellem 1000 og 500.000. Intervallerne for copolymerforholdene og polymerisationsgraden for de særlige bindemidler kan let bestemmes ved at undersøge opløseligheden i den fortyndede, alkaliske opløsning af repræsentative polymere. Dette repræsenterer en molekylvægt på fra ca. 1000 til 500.000.
Som anført er reservagen fremstillet ud fra den fotopolymeriser- 7 142623 bare blanding ifølge opfindelsen resistent over for de sædvanlige pletterings- og ætseopløsninger. Mest overraskende er dens resistens over for det kobberpyrophosphat, der anvendes ved mønster-plettering, og som repræsenterer en ekstremt høj alkalinitet. Andre opløsninger, der efterlader reservagen upåvirket, omfatter ferrichlorid, ammoniumpersulfat og chromsvovlsyre.
De fotoinitiatorer, der anvendes i blandingerne, er fortrinsvis sådanne, som er aktiverbare med aktinisk lys og termisk inaktive ved 185° C eller derunder. Disse omfatter de substituerede eller usubstituerede polynucleære quinoner, 9,10 anthraquinon, 1-chlor-anthraquinon, 2-chloranthraquinon, 2-methylanthraquinon, 2-ethyl-anthraquinon, 2-tert.-butylanthraquinon, octamethylanthraquinon, 1,4-naphthoquinon, 9,10-phenanthrenquinon, 1,2-benzanthraquinon, 2,3-benzanthraquinon, 2-methyl-l,4—naphthoquinon, 2,3-dichlor-naphthoquinon, 1,4-dimethylahthraquinon, 2,3-dimethylanthraquinon, 2-phenylanthraquinon, 2,3-diphenylanthraquinon, natriumsalt af anthraquinon-alfa-sulfonsyre, 3-chlor-2-metbyl-anthraquinon, retenquinon, 7,8,9,10-tetrahydronaphthacenquinon, 1,2,3,4-tetra-hydrobenz(a)anthracen-7,12-dion.
Følgende fotoinitiatorer, der er beskrevet i U.S.A.-patent nr. 2.760.863, og hvoraf nogle kan være termisk aktive ved temperaturer, der er så lave som 85° C, kan også anvendes: vicinale ketaldonyl- forbindelser, såsom diacetyl og benzil, alfa-ketaldonylalkoholer, såsom benzoin og pivaloin, acyloinethere, for eksempel benzoin-methyl- og ethylethere, og alfa-carbonhydridsubstituerede, aromatiske acyloiner, såsom alfa-methylbenzoin, alfa-allylbenzoin og alfa-phenylbenzoin.
Sølvpersulfat er også anvendeligt som en initiator, der danner frie radikaler, og som kan aktiveres ved aktinisk udstråling. Tisse aromatiske ketoner, for eksempel benzophenon og 4,4'-bis-dialkyl-aminobenzophenoner, er også anvendelige.
Blandingerne ifølge opfindelsen indeholder også termiske additionspolymerisationsinhibitorer. Disse omfatter p-methoxyphenol, hydroqui-non og alkyl- og arylsubstituerede hydroquinoner og quinoner, tert.- 8 142623 butylcatechol, pyrogallol, kobberresinat, naphthylaminer, beta-naph-tbol, cupro chl orid., 2,6-di-tert.-butyl-p-cresol, 2,2-methylen-bis-(4-ethyl-6-t.-butylphenol), pheno-triazin, pyridin, nitrobenzen, dinitrobenzen, p-toluquinon, chloranil, arylphosphiter og arylalkyl-phosphiter.
Om ønsket kan blandingerne indeholde farvestoffer og pigmenter. Passende farvende midler vil være forligelige med de fotosensitive blandinger og ikke interferere i større omfang med blandingens fotosensitivitet. De følgende specifike forbindelser tjener som illustrationer: Euchsin (C.I. 42510), auraminbase (C.I. 4100B), calcoid grønt S (C.I. 44090), Para Magenta (C.I. 42500), tryparosan (C.I* 42505), ny magenta (C.I. 42520), surt violet RRH (C.I. 42425), rødviolet 5RS (C.I. 42690), nilblå 2B (C.I. 51185), nyt methylenblåt GG (C.I. 51195), C.I. basisk blåt 20 (C.I. 42585), iodongrønt (C.I, 42556), natgrønt B (C.I. 42115), C.I. direkte gult 9 (C.I. 19540), C.I. surt gult 17 (C.I. 18965), C.I. surt gult 29 (C.I. 18900), tartrazin (C.I. 19140), supramingult G- (C.I. 19300), buffalosort 10B (C.I. 27790), naphthalensort 12R (C.I. 20350), fast black L (C.I. 51215), ethylviolet (C.I. 42600), pontacyluldblåt BL (C.I, 50315), pontacyluldblåt GL (C.I. 52320) (Tallene hidrører fra den anden udgave af Color Index).
Den fotopolymeriserbare blanding udsættes for en kilde for aktinisk udstråling. . Dette kan foregå gennem et halvtonebillede eller et proceslysbillede, for eksempel et procesnegativ eller -positiv, en stencil eller en maske. Eksponeringen kan også gennemføres gennem et negativt eller positivt billede med en kontinuerlig tone. Eksponeringen kan foretages ved kontakt- eller projektionsmetoden, med eller uden en dækplade over det fotopolymeriserbare lag eller ved projektion under anvendelse af et dæklag. Disse metoder er kendt af sagkyndige.
Da additionspolymerisationsinitiatorer, der danner frie radikaler, og som er aktiverbare ved aktinisk udstråling, sædvanligsvis udviser deres maksimale følsomhed i det ultraviolette område, bør udstrålingskilden tilvejebringe en effektiv mængde af denne udstråling. Både kilder, som frembringer punktudstråling og bred- · ,· ·;Τ#-ρι , 9 142623 spektret udstråling, er effektive. Sådanne kilder omfatter kul·*· buer, kviksølvdampbuer, fluorescerende la&per med emitterende phosphor ved ultraviolet bestråling,'argonglødelamper, elektroniske blitzlys og fotografiske projektørlamper.' Blandt disse er kvik--sølvdamplamperne, især højfjeldssole, mest velegnet. Under visse omstændigheder kan det være fordelagtigt at eksponere med synligt ' lys, idet man anvender en fotoinitiator, der er følsom i spektrets synlige område, for eksempel 9,10-phenanthrenquinon. 1 sådanne tilfælde bør udstrålingskilden tilvejebringe en effektiv mængde synlig udstråling. Mange af de i det foregående angivne udstrå- ' ' lingskilder tilvejebringer den krævede mængde synligt lys.
De fotopolymeriserbare blandinger kan efter eksponering blive fremkaldt, for eksempel ved dynamisk påvirkning fra stråler ved nedsænkning under omrøring, eller ved børstning eller skrubning til ønskede billeder med vandige baser, dvs. vandige opløsninger af vandopløselige baser i koncentrationer, der almindeligvis ligger inden for intervallet mellem 0,01 og 10 vægtprocent.
Passende baser til fremkaldelsen omfatter alkalimetalhydroxideme, for eksempel lithium-, natrium- og kaliumhydroxid, de basisk reagerende alkalimetalsalte af svage syrer, for eksempel lithium-, natrium-og kaliumcarbonater og -bicarbonater, aminer med en baseioniseringskonstant, der er større end ca. 1 x 10”^, for eksempel primære aminer, såsom benzyl-, butyl- og allylaminer, sekundære aminer, for eksempel dimethylamin og benzylmethylamin, tertiære aminer, for eksempel trimethylamin og triethylamin, primære, sekundære og tertiære hydroxyaminer, for eksempel propanol-, diethanol- og tri-'' ethanolaminer, og 2-amino-2-hydroxymethyl-l,5-propandiol, cycliske aminer, for eksempel morpholin, piperidin, piperazin og pyridin, polyaminer, såsom hydrazin, ethylen- og hsxamethylenaminer, de vandopløselige basiske salte, for eksempel earbonateme og bi-carbonateme af de ovenfor angivne aminer, ammoniumhydroxid og tetrasubstituerede ammoniumhydroxider, for eksempel tetramethyl-, tetraethyl-, trimethylbenzyl-, og trimethylphenylammoniumhydroxider, sulfoniumhydroxider, for eksempel trimethyl-, diethylmethyl-, di-methylbenzylsulfoniumhydroxider og de basiske, opløselige salte 10 142623 deraf, for eksempel carbonateme, bicarbonateme og sulfiderne, alkalimetalphosphater og pyrophosphater, for eksempel natrium- og kaliumtriphos phater og natrium- og kaliumpyrophosphater, tetra-substitueret (fortrinsvis udelukkende alkyl) phosphonium-, arsonium- og stiboniumhydroxid, for eksempel tetramethylphosphonium-hydroxid.
De fotopolymeriserede blandinger kan almindeligvis fjernes ved nedsænkning i opvarmede, vandige opløsninger af stærke alkaliske stoffer eller om ønsket i f j emingspræparater, der er kendt af sagkyndige.
De følgende eksempler skal illustrere den fotopolymeriserbare blanding ifølge opfindelsen.
Eksempel 1
Den i det følgende angivne opløsning blev påført ved overtrækning på en polyesterfilm, hvis tykkelse er 0,0025 cm, og tørret i luft. Den tørre tykkelse af det sensibiliserede lag var ca. 0,0025 cm.
Det tørrede lag blev dækket med en polyethylenfilm, hvis tykkelse var 0,0025 cm.
Copolymer af 37 1» styren og 63 % mono-butylmaleat, gennemsnitlig molekylvægt 20.000, viskositet af 10 % vandig opløsning af ammoniumsalt = 150 cP 67,0 g
Trimethylolpropantriacrylat 22,0 g
Tetraethylenglycoldiacrylat 11,0 g
Benzophenon 2,3 g 4-, 4-' -bis- (dime thyl amino) -benzophenon 0,3 g 2,2'-methylen-bis-(4-e thyl-6-tert.- butylphenol) 0,1 g
Methylviolet 2B base 0,7 g
Benzotriazol 0,20g
Me thyle thylketon 140,0 g
Et stykke af en kobberbeklædt plade af epoxyfiberglas blev renset ved skuring med et slibende rensemiddel, svabring og grundig skylning i vand. Den blev derpå udsat for en neddypning i 20 sekunder i en fortyndet saltsyreopløsning (2 volumina vand plus 1 volumen koncentreret saltsyre), en sekundær skylning med vand og derpå en tørring med luftstråler.
11 142623
Den af polyethylen bestående dækfilm blev fjernet fra en sektion af det som et sandwich-aggregat foreliggende fotopolymeriserbare ':v element. Det blottede reservageovertræk med sin polyester-understøtning blev lamineret til det rene kobber med overfladen af det * fotopolymeriserhare lag i kontakt med kobberoverfladen. Lamine- ,sv ringen blev gennemført ved hjælp af gummibeklædte valser, der arbejdede ved 121° C under et tryk på 0,54· kg pr. lineær cm ved indsnævringen og æd en hastighed på 0,61 m pr* minut. Den resulterende, sensibiliserede, kobberbeklædte plade, der er beskyttet på den angivne måde ved hjælp af polyesterfilmen, kunne i om nødvendigt : opbevares med henblik på senere anvendelse. I dette tilfælde blav den eksponeret for lys gennem et lysbillede, der havde en høj kontrast, og hvori det ledende mønster fremtrådte som gennemsigtige arealer på en uigennemsigtig baggrund. Eksponeringen blev gennem-, ført ved at anordne den sensibiliserede, kebberbeklædte plade (med sin polyesterfilm, der stadig er intakt) og lysbilledet i en fotografisk trykkeramme. Eksponeringen blev foretaget i 45 sekunder med en 400 Watt, 50 Ampere kviksølvdamplampe i en afstand på 30,5 cm. Den understøttende polyethylenterephthalatfilm blev skrællet af, og det eksponerede reservagelag blev fremkaldt ved ^ at holde pladen under omrøring i et trug, der indeholdt 2 £ na-triumcarbonat i vand i 3,5 minutter efterfulgt af en skylning med : vand. Den resulterende plade indeholdt et tørret reservagemønster af de klare arealer af eksponeringslysbilledet.
Pladen blev nu ætset med en 45° Baumé-opløsning af ferrichlorid, derpå skyllet og tørret. Reservagen blev fjernet fra det resterende kobber ved neddypning i 2 minutter i en 3 % opløsning af natriumhydroxid i vand ved 70° C. Resultatet var en plade af høj kvalitet med et trykt kredsløb.
Eksempel 2
Den følgende opløsning blev påført ved overtrækning på en 0,0025 cm tyk polyesterfilm, og man lod den tørre under omgivelsernes tilstande i 30 minutter.
Copolymer af 75 $> styren og 25 $ methacryl-syre, viskositet af en 40 % opløsning i methylethylketon er 10.360 cP 11,00 g
Trimethylolpropantriacrylat 4,66 g
Tetraethylenglycoldiacrylat 2,33 g 12 142623
Benzophenon 0,75 g 4,4'-bis-(dimethylamino)-benzophenon 0,10 g 2,2'-methylen-bis-(4-ethyl-6-tert.- butylphenol) 0,3 g
Methylviolet 2B "base 0,2 g
Benzotriazol 0,07 g
Methylethylketon 30,0 g
Den tørre tykkelse af det sensibiliserede lag var ca. 0,0034 cm.
Det overtrukne materiale blev derpå lamineret på en renset, kobberbeklædt plade som i eksempel 1. Eksponering blev foretaget gennem et lysbillede, der indeholdt et uigennemsigtigt mønster af kendt areal i 1,5 minutter med en eksponeringsenhed som beskrevet i eksempel 1. Den af polyester bestående understøtningsfilm blev skrællet af, og det eksponerede reservagelag blev fremkaldt ved at holde pladen under omrøring i et trug, der indeholdt 2 5i tri-natriumphosphat i vand i 2 minutter efterfulgt af en skylning med vand.
Overfladen af det eksponerede kobber blev yderligere renset efter fremkaldelse ved at dyppe pladen i et bad af 20 % ammoniumpersulfat i 30 sekunder, vaske med rigelige mængder vand, dyppe i .30 sekunder i en 20 # opløsning af saltsyre i vand, skylle med vand, og derpå tørre pladen med luftstrømme. Denne rensede plade blev 2 derpå pletteret i 45 minutter ved 0,032 Ampere pr. cm i et pletteringsbad med kobberpyrophosphat ved 55° 0.
Eksempel 3
Et kobberbeklædt stykke af en plade af epoxyfiberglas blev renset som beskrevet i eksempel 1. Den rensede, tørrede plade blev sensibiliseret ved at lade følgende opløsning strømme over pladens overflade:
Copolymer af 37 % styren og 63 % monobutyl-maleat, gennemsnitlig molekylvægt 20.000, viskositet af 10 % vandig opløsning af ammoniumsalt = 15 cP 40,0 g
Pentaerythritoltetraacrylat 23,0 g
Benzophenon 1,5 g 4,4'-bis-(dimethylamino)-benzophenon 0,2 g 2,2'-methylen-bis-(4-ethyl-6-tert.- butylphenol) 0,6 g 13 142623
Methylviolet 2B base 0,4 g
Me thyle thylke ton 100,0 g
Benzotriazol 0,15 g
Den tørre tykkelse af det sensibiliserede lag var ca. 0,0025 cm.
Der fremstilledes en kobberbeklædt plade, reservageovertrækket blev lamineret dertil, og det resulterende element blev eksponeret nøjagtigt på samme måde som i eksempel 1. Den understøttende film blev skrællet af, og det eksponerede reservagelag blev fremkaldt ved at holde pladen under omrøring i et trug, der indeholdt 2 # trinatriumphosphat i 2 minutter efterfulgt af en skylning med vand.
Pladen blev nu ætset som i eksempel 1 til dannelse af en plade af høj kvalitet med et trykt kredsløb.
Eksempel 4 Følgende opløsning overtrækkes på en 0,025 mm tyk polyesterfilm og lufttørres:
Copolymer af 95 % vinylacetat og 5 % crotonsyre, gennemsnitlig molekylvægt 90.000, viskositet af ,6 io opløsning af ethylalkohol mellem 15 og 18 cP 70,0 g
Pentaerythritoltetraacrylat 30,0. g
Benzophenon 2,3 g 4,4'-bis-(dimethylamino)-benzophenon 0,3 g 2,2'-methylen-bis-(4-ethyl-6-tert.- butylphenol) 0,1 g
Methylviolet 2B base 0,07 g
Benzotriazol 0,20 g
Methylethylketon 150,0 g
Tykkelsen af det fotofølsomme lag efter tørringen er 0,025 cm. Der fremstilles en plade med et kobberovertræk, og herpå klæbes den behandlede polyesterfilm, hvorefter laminatet eksponeres som angivet i eksempel 1. Bærefilmen trækkes af, og det eksponerede reservagelag fremkaldes ved at bevæge pladen i en skål indeholdende 2'Jé trinatriumphosphat i 2 minutter, hvorefter pladen skylles i vand.
Pladen ætses dernæst som anført i eksempel 1, hvorved der opnås et trykt kredsløb af høj kvalitet.
14 142623
Eksempel 5 (Eks. 5-9 er anvendeiseseks.)
Een fotosensitive opløsning, der er beskrevet i eksempel 1, overtrækkes på zink-, magnesium- og kobbertrykkeplader. Efter tørring i varm luft til en tør tykkelse på ca. 0,0025 cm bliver det fotosensitive lag overtrukket med en fortyndet, vandig opløsning af polyvinylalkohol og gentørret med varm luft. Een vandopløselige polymer danner en tynd, beskyttende barriere over for oxygen. Eisse forsensibiliserede metalplader kan opbevares i udstrakte tidsrum.
Ved eksponering for aktinisk lys gennem et passende, fotografisk negativ kan det ueksponerede, fotofølsomme lag og det vandopløselige øverste overtræk fremkaldes samtidigt, hvorved metalpladen efterlades parat til ætsning. Eet fotopolymeriserede billedareal tjener derpå som en udmærket reservage for de dybætseprocesser, der normalt anvendes ved fremstillingen af metaltrykkeplader. Eisse resulterende produkter er resistente over for almindelige ætsemidler, for eksempel ferrichlorid og salpetersyre, filmdannende midler og volddannende midler, der sædvanligvis tilsættes til ætseblandingen for at kontrollere ætsningens geometri.
Eksempel 6
Man følger den i eksempel 5 angivne fremgangsmåde, med undtagelse af, at der anvendes en 0,0025 cm tyk film af polyester som et beskyttende lag i stedet for en vandopløselig polymer. Efter eksponering for aktinisk lys skrælles det beskyttende lag af før fremkaldelsen i en vandig, alkalisk opløsning. Som i eksempel 5 tjener det fotopolymeriserede billedareal som en udmærket reservage for dybætsningen af trykkeplader.
Eksempel 7
Een fotofølsomme opløsning, der er beskrevet i eksempel 1, påføres ved overtrækning på en 0,0025 cm tyk polyesterfilm, tørres i luft og dækkes med en 0,0025 cm tyk polyethylenfilm. Eette af tre lag bestående, sandwichagtige filmaggregat kan opbevares i plader eller ruller i lystætte områder i ubegrænsede tidsrum. Før anvendelsen skrælles den dækkende polyethylenfilm af, og det fotofølsomme lag anbringes i kontakt med en metallisk plade af den type, der er beskrevet i eksempel 5, og der foretages en understøtning
Claims (2)
15 142623 ved laminering. Ved eksponering over for aktinisk lys skrælles det beskyttende polyesterlag af, og fremkaldelsen foretages i en vandig, alkalisk opløsning. Som i eksempel 5 er det fotopolymeri-serede billedareal en udmærket reservage for dybætsningen af trykkeplader. Eksempel 8 Den fotofølsomme opløsning, der er beskrevet i eksempel 1, påføres ved overtrækning på tynde aluminiumsplader, der sædvanligvis anvendes ved offset-lithografi under anvendelse af de metoder, der er beskrevet i eksempel 5, 6 og 7. Efter eksponering for aktinisk lys og fremkaldelse i vandige, alkaliske opløsninger tiener det fotopolymeriserede billedareal som en udmærket sværteoptager. Det har også fremragende slidresistens. De resulterende plader kan anvendes med udmærkede resultater til lithografisk offset-trykning. Eksempel 9 Den fotofølsomme opløsning, der er beskrevet i eksempel 1, påføres ved overtrækning på et vævet, netværkslignende underlag under anvendelse af metoder, der er beskrevet i eksempel 5, 6 og 7. Efter eksponering for aktinisk lys og fremkaldelse i vandig, alkalisk opløsning tjener det fotopolymeriserede billedareal som en udmærket maske. Denne anvendelse har bevist sin anvendelighed ved trykning af silkeskærmstypen.
1. Fotopolymeriserbar blanding indeholdende A) et additionspoly-meriserbart materiale, B) et fotoinitierbart initiatorsystem for additionspolymerisation, C) en inhibitor for termisk additionspolymerisation og D) et polymert bindemiddel, til anvendelse i blandt andet trykkeplader og fot ore servager, kendetegnet ved, at den indeholder: (A) fra 10 til 60 vægtdele af det additionspolymeri s erbare materiale bestående i det væsentlige af en eller flere ikke-gasformige forbindelser, der har et kogepunkt over 100° C under atmosfæ- 16 162623 retryk, som indeholder mindst to terminale ethyleniske grupper, og som er en umættet ester af en polyol, et umættet a-mid eller en vinylester, (B) mellem 0,001 og 10 vægtdele af det fotoinitierhare initiator-system, der danner fire radikalér, (C) mellem 0,001 og 5 vægtdele af inhibitoren for termisk additionspolymerisation, og (D) mellem 40 og 90 vægtdele af det polymere hindemiddel, der er forud dannet og makromolekylært, og som er en copolymer af: et primært monomert materiale, der indeholder en eller flere, ikke sure vinylforhindelser, der er udvalgt blandt dem, der har den almene formel r-c=ch2 6 eller ch2=(|:-y X hvor R er hydrogen, en alkylgruppe med mellem 1 og 6 carhonatomer eller et halogenatom, og hvor X er hydrogen og Y er 00CR1 OR·*". OCR1, COOR1, CN, CH=CH2, !Lr3r4 eller Cl; eller X er methyl og Y er COOR1, CN, CH=CH2, eller 1 34 CNR^R*;
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DK1673A DK145357C (da) | 1971-02-04 | 1973-01-03 | Laminat til fremstilling af trykkeplader eller fotoreservager |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11279771A | 1971-02-04 | 1971-02-04 | |
US11279771 | 1971-02-04 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DK142623B true DK142623B (da) | 1980-12-01 |
DK142623C DK142623C (da) | 1981-08-03 |
Family
ID=22345895
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DK48172AA DK142623B (da) | 1971-02-04 | 1972-02-03 | Fotopolymeriserbar blanding indeholdende polymert bindemiddel. |
DK1773A DK144184C (da) | 1971-02-04 | 1973-01-03 | Fremgangsmaade til fremstilling af en fotoreservage |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DK1773A DK144184C (da) | 1971-02-04 | 1973-01-03 | Fremgangsmaade til fremstilling af en fotoreservage |
Country Status (23)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JPS5538961B1 (da) |
AU (1) | AU461461B2 (da) |
BE (1) | BE778729A (da) |
BG (1) | BG26673A3 (da) |
CA (1) | CA965291A (da) |
CH (1) | CH592322A5 (da) |
DD (1) | DD101035A5 (da) |
DE (1) | DE2205146C2 (da) |
DK (2) | DK142623B (da) |
ES (1) | ES399317A1 (da) |
FI (1) | FI57429C (da) |
FR (1) | FR2124974A5 (da) |
GB (1) | GB1361298A (da) |
HK (1) | HK28382A (da) |
IL (1) | IL38677A (da) |
IT (1) | IT949005B (da) |
LU (1) | LU64712A1 (da) |
NL (1) | NL176021C (da) |
NO (1) | NO141804C (da) |
PL (1) | PL83391B1 (da) |
RO (1) | RO64896A (da) |
SE (1) | SE390218B (da) |
ZA (1) | ZA72345B (da) |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1507704A (en) * | 1974-04-23 | 1978-04-19 | Du Pont | Photopolymerisable compositions |
ZA757984B (en) * | 1974-10-04 | 1976-12-29 | Dynachem Corp | Polymers for aqueous processed photoresists |
JPS5917414B2 (ja) * | 1975-10-07 | 1984-04-21 | 村上スクリ−ン (株) | スクリ−ン版用感光性組成物及び感光膜 |
JPS5944615B2 (ja) * | 1976-02-16 | 1984-10-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性樹脂組成物及びそれを用いた金属画像形成材料 |
SU941918A1 (ru) * | 1976-08-10 | 1982-07-07 | Предприятие П/Я Г-4444 | Сухой пленочный фоторезист |
US4239849A (en) | 1978-06-19 | 1980-12-16 | Dynachem Corporation | Polymers for aqueous processed photoresists |
WO1980001321A1 (en) * | 1978-12-25 | 1980-06-26 | N Smirnova | Dry film photoresist |
DE3034343A1 (de) * | 1979-02-21 | 1981-04-09 | Panelgraphic Corp | Radiation curable cellulosic polyacrylic abrasion resistant coating |
JPS5619752A (en) * | 1979-07-27 | 1981-02-24 | Hitachi Chemical Co Ltd | Photosensitive resin composition laminate |
DE3560654D1 (en) * | 1984-02-18 | 1987-10-22 | Basf Ag | Photosensitive recording material |
DD250593A1 (de) * | 1984-04-03 | 1987-10-14 | Wolfen Filmfab Veb | Fotopolymerisierbares material |
DE3504254A1 (de) | 1985-02-08 | 1986-08-14 | Basf Ag, 6700 Ludwigshafen | Lichtempfindliches aufzeichnungselement |
DE3619129A1 (de) * | 1986-06-06 | 1987-12-10 | Basf Ag | Lichtempfindliches aufzeichnungselement |
DE3841025A1 (de) * | 1988-12-06 | 1990-06-07 | Hoechst Ag | Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes aufzeichnungsmaterial |
JP2613462B2 (ja) * | 1988-12-28 | 1997-05-28 | コニカ株式会社 | 画像形成材料及び画像形成方法 |
JP2515885Y2 (ja) * | 1990-09-28 | 1996-10-30 | アンリツ株式会社 | 測定装置の表示部 |
DE19638032A1 (de) * | 1996-09-18 | 1998-03-19 | Du Pont Deutschland | Photopolymerisierbares Gemisch mit geringerer Sauerstoffempfindlichkeit zur Herstellung von Farbprüfdrucken |
US7052824B2 (en) | 2000-06-30 | 2006-05-30 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for thick film circuit patterning |
US20100209843A1 (en) | 2009-02-16 | 2010-08-19 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for thick film circuit patterning |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA614181A (en) * | 1961-02-07 | J. Mcgraw William | Photopolymerizable compositions, elements and processes | |
US2893868A (en) * | 1955-08-22 | 1959-07-07 | Du Pont | Polymerizable compositions |
NL218803A (da) * | 1956-07-09 | |||
GB835849A (en) * | 1957-04-26 | 1960-05-25 | Du Pont | Photopolymerisable compositions and uses thereof |
US3458311A (en) * | 1966-06-27 | 1969-07-29 | Du Pont | Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers |
US3469982A (en) * | 1968-09-11 | 1969-09-30 | Jack Richard Celeste | Process for making photoresists |
-
1972
- 1972-01-18 ZA ZA720345A patent/ZA72345B/xx unknown
- 1972-01-25 NO NO177/72A patent/NO141804C/no unknown
- 1972-01-27 AU AU38392/72A patent/AU461461B2/en not_active Expired
- 1972-01-29 ES ES399317A patent/ES399317A1/es not_active Expired
- 1972-01-31 FR FR7203150A patent/FR2124974A5/fr not_active Expired
- 1972-01-31 BE BE778729A patent/BE778729A/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-01-31 IL IL38677A patent/IL38677A/xx unknown
- 1972-02-01 CH CH142672A patent/CH592322A5/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-02-01 RO RO7269624A patent/RO64896A/ro unknown
- 1972-02-01 SE SE7201145A patent/SE390218B/xx unknown
- 1972-02-02 GB GB481472A patent/GB1361298A/en not_active Expired
- 1972-02-02 LU LU64712A patent/LU64712A1/xx unknown
- 1972-02-02 FI FI271/72A patent/FI57429C/fi active
- 1972-02-02 JP JP1214572A patent/JPS5538961B1/ja active Pending
- 1972-02-02 CA CA133,755A patent/CA965291A/en not_active Expired
- 1972-02-03 PL PL1972153265A patent/PL83391B1/pl unknown
- 1972-02-03 DK DK48172AA patent/DK142623B/da not_active IP Right Cessation
- 1972-02-03 DE DE2205146A patent/DE2205146C2/de not_active Expired - Lifetime
- 1972-02-03 IT IT67324/72A patent/IT949005B/it active
- 1972-02-04 BG BG019648A patent/BG26673A3/xx unknown
- 1972-02-04 NL NLAANVRAGE7201460,A patent/NL176021C/xx not_active IP Right Cessation
- 1972-12-08 DD DD167452A patent/DD101035A5/xx unknown
-
1973
- 1973-01-03 DK DK1773A patent/DK144184C/da active
-
1982
- 1982-06-24 HK HK283/82A patent/HK28382A/xx unknown
- 1982-11-26 JP JP57207462A patent/JPS58144824A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
NL176021C (nl) | 1987-07-16 |
DK144184B (da) | 1982-01-04 |
PL83391B1 (da) | 1975-12-31 |
RO64896A (ro) | 1980-01-15 |
HK28382A (en) | 1982-07-02 |
AU3839272A (en) | 1973-08-02 |
DK142623C (da) | 1981-08-03 |
FI57429C (fi) | 1980-08-11 |
BG26673A3 (bg) | 1979-05-15 |
NL176021B (nl) | 1984-09-03 |
IL38677A0 (en) | 1972-03-28 |
ES399317A1 (es) | 1974-12-16 |
DE2205146A1 (de) | 1972-11-23 |
GB1361298A (en) | 1974-07-24 |
DK144184C (da) | 1982-06-14 |
CA965291A (en) | 1975-04-01 |
JPH0136924B2 (da) | 1989-08-03 |
NL7201460A (da) | 1972-08-08 |
FR2124974A5 (da) | 1972-09-22 |
NO141804B (no) | 1980-02-04 |
JPS58144824A (ja) | 1983-08-29 |
NO141804C (no) | 1980-05-14 |
CH592322A5 (da) | 1977-10-31 |
JPS5538961B1 (da) | 1980-10-07 |
AU461461B2 (en) | 1975-05-12 |
DD101035A5 (da) | 1973-10-12 |
FI57429B (fi) | 1980-04-30 |
SE390218B (sv) | 1976-12-06 |
BE778729A (fr) | 1972-07-31 |
ZA72345B (en) | 1973-03-28 |
DE2205146C2 (de) | 1990-03-08 |
IT949005B (it) | 1973-06-11 |
IL38677A (en) | 1974-12-31 |
LU64712A1 (da) | 1973-09-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3953309A (en) | Polymerization compositions and processes having polymeric binding agents | |
DK142623B (da) | Fotopolymeriserbar blanding indeholdende polymert bindemiddel. | |
US4239849A (en) | Polymers for aqueous processed photoresists | |
EP0128014B1 (en) | Photopolymerizable composition, products made therefrom and processes for preparing such products | |
US4064287A (en) | Process for treating selected areas of a surface with solder | |
US4065315A (en) | Phototropic dye system and photosensitive compositions containing the same | |
DE2602410C2 (de) | Photopolymerisierbares Material | |
US3718473A (en) | Photopolymerizable elements containing hydro philic colloids and polymerizable monomers for making gravure printing plate resists | |
JPS6344216B2 (da) | ||
US3445229A (en) | Photopolymerizable compositions,elements,and processes | |
US3202508A (en) | Image photopolymerization transfer process | |
US4610951A (en) | Process of using a flexible, fast processing photopolymerizable composition | |
US4239609A (en) | Photopolymerizable coating and recording materials containing a photoinitiator and an organic halogen compound | |
US3787213A (en) | Process for modifying surfaces using photopolymerizable elements comprising hydrophilic colloids and polymerizable monomers | |
US3255004A (en) | Process for production of photopolymerized relief images | |
JPH02161442A (ja) | 光重合性組成物 | |
JP2982398B2 (ja) | 新規な感光性樹脂組成物 | |
DK145357B (da) | Laminat til fremstilling af trykkeplader eller fotoreservager | |
JP3859934B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、感光性エレメント、レジストパターンの製造法及びプリント配線板の製造法 | |
EP2063318A1 (en) | Photosensitive resin composition, photosensitive element, method for forming resist pattern, and method for producing printed wiring board | |
JPS5876827A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
JP4172248B2 (ja) | 感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板の製造方法 | |
JPH01224747A (ja) | 光レジスト組成物 | |
JPH0369102B2 (da) | ||
JPH0242213B2 (da) |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PUP | Patent expired |