NO141804B

NO141804B - Fotopolymeriserbart preparat.

Info

Publication number: NO141804B
Application number: NO177/72A
Authority: NO
Inventors: Richard Edmund Beaupre; Michael Nicholas Gilano; Melvin Alan Lipson
Original assignee: Dynachem Corp
Priority date: 1971-02-04
Filing date: 1972-01-25
Publication date: 1980-02-04
Also published as: BE778729A; DE2205146C2; IT949005B; DK144184C; CA965291A; NL7201460A; CH592322A5; DK142623C; IL38677A; ES399317A1; JPH0136924B2; IL38677A0; AU3839272A; RO64896A; BG26673A3; NL176021C; JPS5538961B1; NL176021B; SE390218B; PL83391B1

Description

Foreliggende oppfinnelse angår et nytt og forbedret fotpolymeriserbart preparat. Mer spesielt angår foreliggende oppfinnelse et lyssensitivt preparat som lett kan fremkalles

ved hjelp av en alkalisk vandig oppløsning slik at de gir et produkt som er brukbart til trykkplater og fotoresister.

Disse preparater er spesielt brukbare ved fremstilling av trykte kretser på grunn av at de derav dannede resister er overlegne vanlige plateringsoppløsninger.

Ønsket om tilgjengelige lyssensitive preparater som kan fremkalles uten behovet for de vanlige organiske oppløsnings - midler, er lenge erkjent. Organiske oppløsningsmidler er kost-bare, farlige med henblikk på toksisitet og brennbarhet, og de forurenser luft og vann.

Fordelene ved slike vandige systemer ble bemerket så langt tilbake som i 1956 i US-patent nr. 2.760.86 3; imidlertid ble det ikke beskrevet noe spesielt preparat, og det er nær-liggende å anta at søkeren ikke var i stand til å finne et til-fredsstillende preparat. Andre referanser til slike vannoppløse-lige preparater er nevnt i US-patent'nr. 2.927.022 og US-patent nr. 2.893.868. Hvilken fordel preparatene ifølge disse patenter enn kunne ha, ser det ut til at slike preparater, i den grad de kunne fremkalles med vandige alkaliske oppløsninger, enten ikke var tilstrekkelig uoppløselige i de eksponerte andeler, eller de var offer for angrep av de vanlige platerings- og etseopp-løsninger der fotoresistene ble brukt i en trykket krets.

Ifølge oppfinnelsen er det nå oppdaget at det kan frem-stilles fotopolymeriserbare preparater som kan fremkalles med vandige alkaliske oppløsninger, og der de eksponerte andeler har fremragende motstand overfor alkaliske oppløsninger, inkludert de alkaliske etseoppløsninger og alkaliske plateringsopp-løsninger som hyppig benyttes i fremstillingen av trykte kretser og kjemisk fremstilte deler.

Foreliggende oppfinnelse angår et fotopolymeriserbart preparat som inneholder

a) et addisjonspolymeriserbart materiale,

b) et fotoaktiverbart initieringssystem for addisjonspolymerisering,

c) en termisk addisjonspolymeriseringsinhibitor og

d) et polymert bindemiddel,

samt eventuelt opp til 1 vekt-% av et triazol, og preparatet er

karakterisert ved at det addisjonspolymeriserbare materiale a)

i det vesentlige består av 10-60 vektdeler av en eller flere ikke-gassformige forbindelser med et kokepunkt over 100°C ved atmosfærisk trykk.og inneholdende minst to etyleniske terminal-grupper; at det fotoaktiverbare initieringssystem for addisjonspolymerisering b) består av 0,001-10 vektdeler av et system som virker ved dannelse av frie radikaler, at inhibitoren c) anvendes i en mengde av 0,0 01-5 vektdeler og at det polymere bindemiddel

d) utgjøres av 40-90 vektdeler av et fordannet makromolekylært bindemiddel som er en polymer av et første monomermateriale som

inneholder en eller flere ikke-sure vinylforbindelser valgt blant de med formelen

eller

der R er hydrogen, en alkylgruppe med 1-6 karbonatomer eller et halogenatom, og der X er hydrogen og Y er OOCR^, OR^, OCR^,

COOR , CN, CH=CH2,

eller Cl, eller X er metyl og Y er COOR1, CN, CH=CH2, eller

eller både X og Y er Cl; og der R, er en alkylgruppe med 1-12 karbonatomer, en fenylgruppe eller en benzylgruppe, og R^ og R^ er like eller forskjellige og er hydrogen, en alkylgruppe med 1-12 karbonatomer eller en benzylgruppe; og et andre monomermateriale som i det vesentlige består av en eller flere alfa, beta-umettede karboksylholdige monomerer med 3-15 karbonatomer; der forholdet mellom det første og det andre monomermateriale er tilstrekkelig til å gjøre bindemidlet oppløselig i en 2%-ig vandig oppløsning av trinatriumfosfat.

Fordelene ifølge oppfinnelsen oppnås ved å velge et forfremstilt, forenelig makromolekylært polymerbindemiddel som er en kopolymer av (1) en styrentype- eller en ikke-sur vinylmonomer og (2) en umettet karboksylholdig monomer. Bruken av preparatet som heri definert, eliminerer helt behovet for organiske oppløsningsmidler og gir en motstand med høy motstands-dyktighet overfor oppløsningsmidler.

Preparatene kan også inneholde egnede fargestoffer og pigmenter og andre additiver, slik som myknere og adhesjonspro-motorer, slik disse kan være nødvendige for å forbedre de fysikalske og kjemiske egenskaper i det fotopolymeriserbare preparat.

Den etylenisk umettede forbindelse må inneholde minst

to endestående etyleniske grupper (CH2=CC), ha et kokepunkt på over 100°C ved atmosfærisk trykk og være i stand til å danne en høy polymer ved en fri-radikal fotoinitiert kjedefremmende addisjonspolymerisering. Slike forbindelser er beskrevet i US-patent nr. 2.760.863.

Egnede forbindelser som kan benyttes alene eller i kombinasjon, omfatter et alkylen- eller et polyalkylenglykol-diakrylat fremstilt fra alkylenglykolene, med fra 2 til 15 karbonatomer eller polyalkyleneterglykoler med 1-10 eterbindinger.

På grunn av deres vanligvis hurtigere uoppløseliggjør-ing ved eksponering, antagelig på grunn av en relativt hurtig etablering av en polymer nettverkstruktur, representerer de forbindelser en overlegen klasse addisjonspolymeriserbare be-standdeler med lav molekylvekt som har flere addisjonspolymeriserbare etyleniske bindinger, spesielt når disse foreligger som endestående bindinger, og spesielt hvor minst én og helst de fleste av disse bindingene er konjugert med et dobbeltbundet karbon, inkludert karbon som er dobbeltbundet til karbon og til slike heteroatomer som nitrogen, oksygen og svovel. De stoffer er overlegne hvori de etylenisk umettede grupper, spesielt vinylidengruppene, er konjugert med ester- eller amidstrukturer.

De følgende spesielle forbindelser er videre illustrerende for denne klasse: umettede estere av polyoler, spesielt slike estere av metylenkarboksylsyrene, f.eks. etylendiakrylat; dietylen-glykoldiakrylat; glyceroldiakrylat; glyceroltriakrylat; etylen-dimetakrylat; 1,3-propylendimetakrylat; 1,2,4-butantrioltrimet-akrylat ; 1,4-benzendioldimetakrylat; pentaerytritoltetrametakry-lat; 1,3-propandioldiakrylat; 1,5-pentandioldimetakrylat; bis-akrylåtene og metakrylåtene av polyetylenglykoler med molekylvekt på 200-500 o.l.; umettede amider, spesielt de av metylenkarboksylsyrene, og spesielt de av alfa, omega-diaminer og oksygenavbrutte omega-diaminer, slik som metylenbisakrylamid; metylenbismetakrylamid; 1,6-heksametylenbisakrylamid; dietylen-triamintrismetakrylamid; bis-(metakrylamidopropoksy)-etan; B-metakrylamidoetylmetakrylat; N-.(B-hydroksyetyl) -oksyetyl) -akryl-amid; vinylestere slik som divinylsuccinat, divinyladipat, divinyl-ftalat, divinyltereftalat, divinylbenzen-1,3-disulfonat og divinylbutan-1,4-disulfonat; og umettede aldehyder, slik som sorbaldehyd (heksadienal).

De foretrukne monomere forbindelser er di- eller poly-funksjonelle, men monofunksjonelle monomerer kan også benyttes. Mengden tilsatt monomer varierer med det spesielle termoplast-iske monomer.

Styrentypebestanddelen av det polymere bindemiddel kan

ha den generelle formel:

der R betyr hydrogen eller en alkylgruppe med fra 1 til 6 karbonatomer eller en halogengruppe. Benzenringen kan være ringsubstituert med fra 1 til 5 andre funksjonelle grupper,

slik som hitro, alkoksy, acyl, karboksyl, sulfo, hydroksyl

eller halogengrupper. Helst er substituenten en enkel alkylgruppe slik som en metyl eller t-butylgruppe. Mest foretrukket av disse forbindelser er styren, alfa-metylstyren, para-metylstyren og para-t-butylstyren.

Den ikke-sure vinylmonomerbestanddel av det polymere bindemiddel har den generelle formel:

der X er hydrogen og Y er OOCP^, OR^, OCR^ COOR^ CN, CH2=CH2,

CNR3R4 eller Cl, eller X er metyl og Y er COOR^ CN, CH2=CH2,

eller CNR^R^; eller både X og Y er Cl; og hvor R, er en alkylgruppe med fra 1 til 12 karbonatomer eller fenylgruppe eller en benzylgruppe, og R^ og R4 er like eller forskjellige og er hydrogen, en alkylgruppe med fra 1 til 12 karbonatomer eller en benzylgruppe.

Eksempler på disse vinylmonomerer er vinylacetat, vinyl-butyrat, vinylbenzoat, vinylklorid, vinylidenklorid, metylmeta-krylat og metylakrylat, akrylonitril og metakrylonitril, met-akrylamid og alkylsubstituerte akrylamider, vinylmetylketon, vinylpropylketon, vinylmetyleter, vinyletyleter og vinylheksyl-eter.

Den andre komonomer kan være en eller flere umettede karboksylholdige monomerer med fra 3 til 15 karbonatomer, helst fra 3 til 6. De meste foretrukne forbindelser er akrylsyre og metakrylsyre. Andre syrer som kan benyttes, er kanelsyre, kro-tonsyre, sorbinsyre, itakonsyre, propargylsyre, maleinsyre og fumarsyre, eller de tilsvarende halvestere eller, hvis mulig, det tilsvarende anhydrid.

Forholdet mellom styren eller vinylbestanddel og den sure komonomer velges slik at kopolymeren er oppløselig i det vandige alkaliske medium. Hvis mengden av styren eller vinylmonomer er for høy, ville den ikke-eksponerte andel ikke være tilstrekkelig oppløslig; hvis på den annen side mengden styren eller vinylmonomer er for lav, vil det eksponerte område være klebrig, svellet eller oppløst i den vandige alkaliske oppløsning. Som et hensiktsmessig kriterium, bør bindemiddelkopolymeren være slik at en 40%-ig oppløsning i ketoner eller alkoholer har en viskositet på fra 100-50.000 centipoise.

Representative komonomerforhold er 70:30 til 85:15 for styrenakrylsyre eller metakrylsyre; 35:65 til 70:30 for styren-monobutylmaleat og 70:30 til 95:5 for vinylacetatkrotonsyre. Polymeriseringsgraden for bindemiddelkopolymeren er slik at bindemidlet danner en ikke-klebrig kontinuerlig film etter eksponering og fremkalling. Vanligvis er molekylvekten fra 1000 til 500.000. Områdene for kopolymerforholdene og for polymeriseringsgraden for det spesielle bindemiddel kan lett undersøkes ved å prøve oppløseligheten i den fortynnede alkaliske oppløsning for representative polymerer. Disse representerer en molekylvekt på fra omkring 1000 til 500.000.

Som ovenfor nevnt, er dekkmidlene ifølge oppfinnelsen motstandsdyktige overfor vanlige pletterings og etseoppløsninger. Mest overraskende er motstandsevnen overfor kobberpyrofosfat

som brukes ved mønsterplettering og som har en ekstremt høy alkalitet. Andre oppløsninger som ikke påvirker dekkmidlene, omfatter jern(Ill)klorid, ammoniumpersulfat og krom-svovelsyre.

Fotoinitiatorene som benyttes i preparatene, er helst

de som aktiveres av aktinisk lys og som er termisk uaktive ved 185°C eller lavere. Disse omfatter substituerte eller ikke-substituerte polynukleære kinoner, 9,10-antrakinon; 1-klorantrakinon, 2-klorantrakinon, 2-metylantrakinon; 2-etylantrakinon; 2-tert.-butylantrakinon; oktametylantrakinon; 1,4-naftokinon; 9,10-fenantrenkinon; 1,2-benzantrakinon; 2,3-benzantrakinon; 2-metyl-1,4-naftokinon; 2,3-diklornaftokinon; 1,4-dimetylantrakinon; 2.3- dimetylantrakinon; 2-fenylantrakinon; 2,3-difenylantrakinon; natriumsaltet av antrakinon-alfa-sulfonsyre; 3-klor-2-metylantrakinon; retenkinon; 7,8,9,10-tetrahydronaftacenkinon; 1,2, 3.4- tetrahydrobenz(a)antracen-7,12-dion.

De følgende fotoinitiatorer, beskrevet i US-patent nr. 2.760.863, av hvilke noen kan være termisk aktive ved tempera-turer ned til 85°C, kan det også brukes: vicinale ketaldonyl-forbindelser slik som diacetyl og benzil; alfa-ketaldonylalko-holer slik som benzoin og pivaloin; acyloineter, f.eks. benzo-inmetyl og etyletere; og alfa-hydrokarbonsubstituerte aromatiske acyloiner slik som alfa-metylbenzoin; alfa-allylbenzoin; og alfa-fenylbenzoin.

Sølvpersulfat er også brukbar som en fri-radikaldannende initiator som kan aktiveres ved aktinisk stråling. Spesielle aromatiske ketoner, f.eks- benzofenon og 4,4<1->bis-dialkylamino-benzofenoner er også brukbare.

Termiske polymeriseringsinhibitorer er også tilstede i preparatene. Disse omfatter p-metoksyfenol, hydrokinon og alkyl og arylsubstituerte hydrokinoner og kinoner, tert.-butylkatekol, pyrrogallol, kobberresinat, naftylaminer, beta-naftol, kobber(I)-klorid, 2,6-di-tert.-butyl-p-kresol, 2,2-metylen-bis-(4-etyl-6-t-butylfenol), fenotiazin, pyridin, nitrobenzen, dinitrobenzen, p-tolukinon, kloranil, arylfosfitter og arylalkylfosfitter.

Hvis ønskelig kan preparatene inneholde fargestoffer og pigmenter. Egnede fargestoffer må kunne anvendes sammen med de fotosensitive preparater og ikke påvirke disse preparaters fotosensitivitet i vesentlig grad. Følgende spesielle forbindelser er illustrerende: "Fuchsine" (fargeindeks nr. 42510); "Auramin Base" (fargeindeks nr. 4100B); "Calcocid Green S"

(fargeindeks nr. 44090); "Para Magenta" (fargeindeks nr. 42500); "Tryparosan" (fargeindeks 42505); "New Magenta" (fargeindeks 42520); "Acid Violet RRH" (fargeindeks 42425); "Red Violet 5RS"

(fargeindeks 42690); "Nile Blue 2B" (fargeindeks 51185); "New Methylene Blue GG" (fargeindeks 51195); "Basic Blue 20" (fargeindeks 42585); "Iodone Green"(fargeindeks 42556) ; "Night Green B"

(fargeindeks 42115); "Direct Yellow 9" (fargeindeks 19540); "Acid Yellow 17" (fargeindeks 18965); "Acid Yellow 29" (fargeindeks 18900); "Tartrazine" (fargeindeks 19140); "Supramine Yellow G" (fargeindeks 193O0); Buffalo Black 10B" (fargeindeks nr. 27790); "Naphtalene Black 12"R" (fargeindeks nr. 20350); "Fast Black L" (fargeindeks nr. 51215); "Ethyl Violet" (fargeindeks nr. 42600) ; "Pontacyl Wool Blue BL" (fargeindeks nr. 50315); "Pontacyl Wood Blue GL" (fargeindeks nr. 523201. INxutimerne fra den andre utgave av Fargeindeksen) .

De fotopolymeriserbare elementer eksponeres til en

kilde for aktinisk stråling. Dette kan skje gjennom et halv-tonebilde eller en prosesstransparent, f.eks. en prosessnega-tiv eller -positiv, en stensil eller en maske. Eksponeringen kan også sitje gjennom et negativt eller et positivt bilde med kontinuerlig tone. Eksponeringen kan skje ved kontakt- eller projeksjonsmetoden, med eller uten et dekkark over det fotopolymeriserbare sjikt, eller ved projisering ved bruk av et dekkark. Disse fremgangsmåter er alle vel kjent for fagmannen.

Da fri-radikaldannende addisjonspolymeriseringsinitia-torer som kan aktiveres ved aktinisk stråling, vanligvis viser den maksimale følsomhet i det ultrafiolette område, bør strål-ingskilden gi en effektiv mengde av denne stråling. Både punkt-strålingskilder og brede strålingskilder er virksomme. Slike kilder omfatter karbonbuer, kvikksølvdampbuer, fluoriserende lamper med fosfor som utstråler ultrafiolett stråling, argon-glødelamper, elektroniske lynlysenheter og fotografiske belys-ningslamper. Av disse er kvikksølvdampbuene, spesielt "høyfjells-soler", mest egnet. Under spesielle omstendigheter kan det være fordelaktig å eksponere med synlig lys, ved bruk av en fotoinitiator som er følsom i det synlige område av spektret, f.eks. 9,10-fenantrenkinon. I slike tilfelle må strålings-kilden gi en effektiv mengde synlig stråling. Mange av de ovenfor angitte strålingskilder gir den ønskede mengde synlig lys.

De fotopolymeriserbare preparater kan fremkalles etter eksponering, f.eks. ved behandling med spraystråler, med skylling eller vasking ved agitert neddypping til oppnåelse av de ønskede bilder med vandige baser, dvs. vandige oppløsninger av vannoppløselige baser i konsentrasjoner vanligvis i området fra 0,01-10 vekt-%.

Egnede baser for fremkallingen omfatter alkalimetall-hydroksyder, f.eks. litium; natrium- og kaliumhydroksyd; de basisk reagerende alkalimetallsalter av svake syrer, f.eks. litium-, natrium- og kaliumkarbonater og -bikarbonater; aminer med en baseioniseringskonstant større enn omkring lx 10 ^, f.eks. primære aminer slik som benzyl-, butyl- og allylaminer; sekundære aminer, f.eks. dimetylamin og benzylmetylamin;

tertiære aminer, f.eks. trimetylamin og trietylamin; primære, sekundære og tertiære hydroksyaminer, f.eks. propanol-, dieta-nol- og trietanolaminer, og 2-amino-2-hydroksymetyl-l,3-propan-diol; cykliske aminer, f.eks. morfolin, piperidin, piperazin og pyridin; polyaminer slik som hydrazin, etylen og heksametyi-enaminer; vannoppløselige basiske salter, f.eks. karbonater og bikarbonater av de ovenfor nevnte aminer; ammoniumhydroksyd og tetrasubstituerte ammoniumhydroksyder,. f.eks. tetrametyl-, tetraetyl-, trimetylbenzyl- og trimetylfenylammoniumhydroksyder, sulfoniumhydroksyder, f.eks. trimetyl-, dietylmetyl-, dimetyl-

benzylsulfoniumhydroksyder og de basiske oppløselige salter derav, f.eks. karbonatene, bikarbonatene og sulfidene; alkalimetall-fosfater og -pyrofosfater, f.eks. natrium- og kaliumtrifosfater og natrium- og kaliumpyrofosfater; tetra-substituert (helst ute-lukkende alkyl) fosfonium-, arsonium- og stiboniumhydroksyd, f.eks. tetrametylfosfoniumhydroksyd.

De fotopolymeriserte preparater kan vanligvis fjernes

ved neddypping i oppvarmede vandige oppløsninger av sterke alkalier eller, hvis ønskelig, i kommersielt oppnåelige fjern-ingspreparater, vel kjent i teknikkens stand.

For videre å illustrere oppfinnelsen henvendes oppmerk-somheten på de følgende eksempler.

Eksempel 1

Den følgende oppløsning ble belagt på en 0,025 mm tykk polyesterfilm og tørket i luft. Tørrtykkelsen av det følsomme sjikt var omkring 0,025 mm. Det tørkede sjikt ble dekket med en 0,025 mm tykk polyetylenfilm.

Et stykke kobberbelagt, epoksyfiberglass ble renset

ved skrubbing med et slipemiddel, pussing og grundig skylling i vann. Den ble deretter gitt en 20 sekunders neddypping i en fortynnet HCl-oppløsning (2 volumdeler vann + 1 volumdel konsen-tert HC1), en andre skylling med vann og deretter tørket med luftstråler.

Polyetylendekkfilmen ble fjernet fra en del av det polymeriserbare element. Det blottede dekkmiddelbelegg med polyesterbæreren ble laminert på det rene kobber med overflaten av det polymeriserbare sjikt i kontakt med kobberoverflaten.

Lamineringen ble utført ved hjelp av gummikledde valser som arbeidet ved 120°C med et trykk på 535,7 g/lineær cm i gapet

og med en hastighet på 0,6 m/min. Den resulterende følsomgjorte kobberkledte plate kunne, hvis nødvendig, lagres for senere bruk slik den var beskyttet av polyesterfilmen. I dette tilfelle ble den eksponert til lys gjennom et høykontrast transparent bilde

hvori det ledende mønster viste seg som transparente områder på en lys ugjennomskinnelig bakgrunn. Eksponeringen ble utført ved å anbringe den følsomgjorte kobberbelagte plate (med polyesterfilmen fremdeles intakt) og transparenten i en fotografisk trykkramme. Eksponeringen skjedde i et tidsrom på 45 sekunder til en 400 watts 50 ampere's kvikksølvdamplampe i en avstand på 0,3 meter. Polyetylentereftalatbærefilmen ble trukket av og det eksponerte dekkmiddelsjiktet fremkalt ved agitering av platen i et kar som inneholdt 2% natriumkarbonat i vann i 3^ min, fulgt av vannskyIling. Den resulterende plate hadde et farget dekk-sjiktmønster fra de klare områder av eksponeringstransparenten.

Platen ble nå etset méd en 45° Baume-oppløsning av jern(III)klorid, deretter skylt og tørket. Dekkmidlet ble fjernet fra det gjenværende kobber ved dypping i to min i en 3%-ig oppløsning av natriumhydroksyd i vann av 70°C. Resultatet var en trykket kretsplate av høy kvalitet.

Eksempel 2

Den følgende oppløsning ble belagt på 0,025 mm tykt polyesterfilm og ble tillatt å tørke under omgivelsesbetingelser i 30 min.

Tørrtykkelsen av det følsomgjorte sjikt var omkring 0T033 mm. Det belagte stoff ble deretter laminert på en renset kobberbelagt plate slik som i eks. 1. Eksponeringen skjedde gjennom en transparent som hadde et ugjennomskinnelig mønster av et kjent areal i 1^ min med en eksponeringsenhet slik som beskrevet i eks. 1. Polyesterbærefilmen ble trukket av og det eksponerte dekkmiddelsjikt fremkalt ved agitering av platen i et kar som inneholdt 2% trinatriumfosfat i vann i 2 min, fulgt av vannskylling.

Overflaten av det eksponerte kobber ble videre renset etter utvikling ved dypping av platen i et 20%-ig ammoniumper-sulfatbad i 30 sekunder, rikelig vasking med vann, dypping i 30 sekunder i en 20%-ig oppløsning av HC1 i vann, skylling med vann og deretter tørking av platene i luftstrømmer. Denne rensede plate ble deretter plettert i 45 min ved 322,8 ampere pr. m<2>

i et kobberpyrofosfat-pletteringsbad av 55°C.

Eksempel 3

Et kobberbelagt stykke av en epoksyfiberglassplate ble renset slik som beskrevet i eks. 1. Den rensede, tørkede plate ble gjort følsom.ved helling av den følgende oppløsning over platens overflate:

Den overskytende oppløsning ble helt av platen ved rom-temperatur i 2 min. Belegget ble ytterligere tørket ved opp-varming i en luftstrømsovn ved 60°C i 5 min. Etter avkjøling ble den belagte plate eksponert slik som beskrevet i eks. 1. Resisten ble fremkalt ved agitering av platen i en oppløsning

av 2% trinatriumfosfat i vann i 1 min, fulgt av en vannskylling. Platen ble nå etset i jern(III)klorid slik som beskrevet i eks. 1. Etter etsing ble den eksponerte resist fjernet fra det beskyttede

kobber ved å dyppe platen i en 3%-ig oppløsning av natriumhydroksyd i vann av 50°C i 2 min. Resultatet er en trykket kretsplate med høy kvalitet.

Eksempel 4

Den følgende oppløsning ble belagt på en 0,025 mm tykk polyesterfilm og tørket i luft.

Tørrtykkelsen av det følsommgjorte sjikt var omkring 0,025 mm. Det ble preparert en kobberbelagt plate, resistbeleg-get laminert på denne og det resulterende element eksponert nøyaktig slik som i eks. 1. Bærerfilmen ble trukket av og det eksponerte resistsjikt fremkalt ved agitering av platen i et kar inneholdende 2% trinatriumfosfat i 2 min, fulgt av en vannskylling.

Platen ble nå etset slik som i eks. 1,slik at det ga

en tr 0ykket kretsplate av høy kvalitet.

Eksempel 5

Den fotosensitive oppløsning som er beskrevet i eks. 1, ble belagt på sink-, magnesium- og kobbertrykkplater. Etter tørking i varm luft til en tørrtykkelse på omkring 0,025 mm, ble det fotosensitive sjikt belagt med en fortynnet vandig opp-løsning av polyvinylalkohol og tørket igjen med varmluft. Den vannoppløselige polymer dannet et tynt beskyttende sjikt overfor oksygen. Disse forfølsomgjorte metallplater kan lagres i utstrakte perioder.

Ved eksponering til aktinisk lys gjennom et egnet fotografisk negativ, kan det ikke-eksponerte fotosensitive sjikt og det vannoppløselige toppsjikt fremkalles samtidig, og metall-platen er ferdig for etsing. Det fotopolymeriserte billedareal tjener deretter som et utmerket dekkmiddel for dypetsingspros-esser slik som vanlig i fremstilling av metalltrykkplater. Resultatene er mostandsdyktige overfor vanlige etsemidler, f.eks. jern(III)klorid og salpetersyre, filmdannende midler og midler som vanligvis tilsettes til etsingsblandingen for å regulere etsingens geometri.

Eksempel 6

Fremgangsmåten i eks. 5 ble fulgt, bortsett fra at det benyttes en 0,025 mm tykk film av polyester som beskyttende sjikt i stedet for en vannoppløselig polymer. Etter eksponeringen til aktinisk lys, trekkes det beskyttende sjikt av før fremkalling i en vandig alkalisk oppløsning. Som i eks. 5, tjener det fotopolymeriserte billedareal som en utmerket resist for dypetsing av trykkplater.

E ksempel 7

Den fotosensitive oppløsning som er beskrevet i eks. 1, belegges på en 0,025 mm tykk polyesterfilm, tørkes i luft og dekkes med en 0,025 mm tykk polyetylenfilm. Denne tresjikts-film kan lagres i ark eller ruller lyssikkert i ubegrenset tidsrom. Før bruk trekkes polyetylenfilmen av og det fotosensitive sjikt anbringes i kontakt med en metallisk plate av den type som er beskrevet i eks. 5 og festes ved laminering. Ved eksponering til aktinisk lys trekkes det beskyttende polyestersjikt av, og fremkallingen skjer i vandig alkalisk oppløsning. Slik som i eks. 5, er det fotopolymeriserte billedareal et utmerket dekksjikt for dypetsing av trykkplater.

Eksempel 8

Den fotosensitive oppløsning slik den er beskrevet i eks. 1, belegges på tynne aluminiumplater slik de vanligvis brukes ved offsetlitografi, ved fremgangsmåter beskrevet i eks. 5, 6 og 7. Etter eksponering til aktinisk lys og fremkalling i vandig alkalisk oppløsning, tjener det fotopolymeriserte billedareal som en utmerket trykksvertemottaker. Det har også overlegen slitasjonemotstandsdyktighet. De resulterende plater kan med utmerkede resultater benyttes til offsetlitografisk trykking.

Eksempel 9

Den fotosensitive oppløsning slik den er beskrevet i eks. 1, belegges på et vevet nettlignende substrat ved fremgangsmåter som er beskrevet i eks. 5, 6 og 7. Etter eksponering til aktinisk lys og fremkalling i vandig alkalisk oppløsning,

tjener det fotopolymeriserte billedareal som en utmerket maske.

Denne anvendelse har vist brukbarhet ved trykking av silketrykk-

typen.

Claims

1. Fotopolymeriserbart preparat som inneholder

a) et addisjonspolymeriserbart materiale, b) et fotoaktiverbart initieringssystem for addisjonspolymerisering, c) en termisk addisjonspolymeriseringsinhibitor og d) et polymert bindemiddel, samt eventuelt opp til 1 vekt-% av et triazol, karakterisert ved at det addisjonspolymeriserbare materiale a) i det vesentlige består av 10-60 vektdeler av en eller flere ikke-gassformige forbindelser med et kokepunkt over 100°C ved atmosfærisk trykk og inneholdende minst to etyleniske terminal-grupper; at det fotoaktiverbare initieringssystem for addisjonspolymerisering b) består av 0,001-10 vektdeler av et system som virker ved dannelse av frie radikaler, at inhibitoren c) anvendes i en mengde av 0,001-5 vektdeler og at det polymere bindemiddel d) utgjøres av 40-90 vektdeler av et fordannet makromolekylært bindemiddel som er en polymer av et første monomermateriale som inneholder en eller flere ikke-sure vinylforbindelser valgt blant de med formelen eller der R er hydrogen, en alkylgruppe med 1-6 karbonatomer eller et halogenatom, og der X er hydrogen og Y er OOCR^, OR^, OCR^, COORlf CN, CH=CH2, eller Cl, eller X er metyl og Y er COOR^ CN, CH=CH2, eller eller både X og Y er Cl; og der R^ er en alkylgruppe med 1-12 karbonatomer, en fenylgruppe eller en benzylgruppe, og R^ og R^ er like eller forskjellige og er hydrogen, en alkylgruppe med 1-12 karbonatomer eller en benzylgruppe; og et andre monomermateriale som i det vesentlige består av en eller flere alfa, beta-umettede karboksylholdige monomerer med 3-15 karbonatomer; der forholdet mellom det første og det andre monomermateriale er tilstrekkelig til å gjøre bindemidlet oppløselig i en 2%-ig vandig oppløsning av trinatriumfosfat.

2. Sammensetning ifølge krav 1, karakterisert ved at bindemidlet er en kopolymer av styren og en umettet karboksylholdig monomer av angitt slag.

3. Sammensetning ifølge krav 1, karakterisert ved at bindemidlet er en kopolymer av vinylacetat og en umettet karboksylholdig monomer av angitt slag.

4. Sammensetning ifølge et hvilket som helst av de foregå-ende krav, karakterisert ved at den umettede karboksylholdige monomer er metakrylsyre eller akrylsyre.

5. Sammensetning ifølge et hvilket som helst av kravene l-3,karaterisert ved. at den umettede karboksylholdige monomer er maleinsyreanhydrid, maleinsyre, en halv-ester av maleinsyre eller en blanding av to eller flere av disse forbindelser.

6. Sammensetning ifølge et hvilket som helst av de foregå-ende krav, karakterisert ved at det addisjonspolymeriserbare materiale er en blanding av trimetylprop-antriakrylat og tetraetylenglykoldiakrylat.

7. Sammenetning ifølge et hvilket som helst av kravene 1-5, karakterisert ved at det addisjonspolymeriserbare materiale er en blandet akrylatester av pentaerytritol.

8. Sammensetning ifølge et hvilket som helst av kravene 1-5, karakterisert ved at det addisjonspolymeriserbare materiale er en blanding av blandede akrylatestere av pentaerytritol og tetraetylenglykoldiakrylat.

9. Sammensetning ifølge et hvilket som helst av de foregå-ende krav, karakterisert "ved at det fri-radikal-dannende addisjonspolymeriseringsinitieringssystem b) inneholder benzofenon, 4,4<1->bis-(dimetylamino)-benzofenon eller en blanding derav.