DE60036064T2 - Verfahren und Vorrichtung zum Bearbeiten einer Kolonne - Google Patents

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Sei Himeji-shi Nakahara
Masatoshi Himeji-shi Ueoka
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Description

  • HINTERGRUND DER ERFINDUNG
  • A. TECHNISCHES GEBIET
  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Kolonnenbehandlungsverfahren. Insbesondere ist Gegenstand der vorliegenden Erfindung ein Kolonnenbehandlungsverfahren durch eine Destillationssäule und dergleichen, das bei der Herstellung verschiedener chemischer Produkte verwendet wird, und es umfasst das Durchführen einer physikalischen Behandlung, wie Isolieren einer Behandlungsfluidumkomponente, oder einer chemischen Behandlung, wie einer Reaktion, eines Behandlungsfluidums, das in einen kolonnenförmigen Behandlungsraum, d.h. eine Behandlungskolonne, eingeführt ist, und das Entnehmen eines gebildeten gewünschten Produkts von der Kolonnenoberseite durch Verfahren wie Verflüssigung nach einmaliger Verdampfung.
  • B. TECHNISCHER HINTERGRUND
  • Bei Herstellungsverfahren für verschiedene chemische Produkte wird ein Kolonnenbehandlungsverfahren unter Verwendung von Kolonnenvorrichtungen, wie einer Destillationskolonne, einer Absorptionskolonne und einer Abstreifkolonne, großtechnisch allgemein verwendet.
  • Bei dem Kolonnenbehandlungsverfahren wird mit der Einführung eines flüssigen oder gasförmigen Behandlungsfluidums in eine Behandlungskolonne eine gewünschte physikalische oder chemische Behandlung durch Erhitzen oder Rühren des Behandlungsfluidums in der Behandlungskolonne durchgeführt oder bewirkt, dass eine Fluidumkomponente getrennt zugeführt wird; ein Teil eines Fluidums nach der Behandlung in einen oberen Bereich der Kolonne, d.h. die Kolonnenoberseite, gebracht, durch Verflüssigung an der Kolonnenspitze gewonnen und von der Kolonnenoberseite entnommen. Infolgedessen kann die obige Massenbehandlungsverarbeitung kontinuierlich und stabil durchgeführt werden.
  • Bei einem derartigen Kolonnenbehandlungsverfahren, das von einer Durchführung der Behandlung der eingeführten Behandlungsflüssigkeit mit Ausnahme eines gewünschten Produkts begleitet ist, können Verunreinigungen durch Denaturierung oder Polymerisation einer Komponente in dem Behandlungsfluidum gebildet werden. Die derart gebildeten Verunreinigungen können in dem Behandlungsfluidum ohne Entnehmen als gewünschtes Produkt verbleiben oder sich ansammeln. Ferner kommt es für Verunreinigungen, die am Anfang in dem Behandlungsfluidum, das in die Behandlungskolonne eingeführt wird, enthalten sind, ebenfalls zum Verbleiben oder zur Ansammlung in der Behandlungskolonne. Diese Verunreinigungen können sich üblicherweise am Kolonnenboden der Behandlungskolonne sammeln.
  • Die Verunreinigungen, die in dem Behandlungsfluidum verbleiben und sich ansammeln, bewirken die Probleme der Verschlechterung der Wärmeübertragungseigenschaften der Behandlungskolonne durch Ausfällung der Verunreinigungen als festes Produkt und Haften an der Innenwand der Behandlungskolonne; des Zupackens verschiedener Rohrleitungen, Geräte und dgl.; der Kontamination eines gewünschten Produkts mit einem Teil der Verunreinigungen; und einer Verschlechterung der Qualität und des Leistungsvermögens der chemischen Behandlung, die eine Behandlungslösung durchführt.
  • Das Problem wird durch ein konkretes Beispiel erläutert. (Meth)acrylsäure und Ester derselben werden unter Verwen dung einer Destillationsvorrichtung, die eine Destillationskolonne, einen Wärmetauscher und mit beiden in Verbindung stehende Rohrleitungen umfasst, gereinigt.
  • Bei dieser Destillationsbehandlung werden Polymere in der Destillationskolonne gebildet und an der Innenwand der Destillationskolonne angeheftet, da (Meth)acrylsäure und Ester derselben leicht polymerisieren. Wenn die angehefteten Polymere sich ansammeln, können auch Situationen wie das Stoppen der Destillationskolonne auftreten. Es ist notwendig, an der Innenwand angeheftete Polymere durch regelmäßiges Aufbrechen der Destillationskolonne zu entfernen, um die Behandlungsqualität der Destillationskolonne aufrecht zu erhalten und stabil zu arbeiten. Daher ist der Arbeitsaufwand groß und es kommt zu einer starken Verringerung der Produktivität.
  • Als Verfahren zur Lösung dieses Problems ist ein Verfahren, das die Einführung von Sauerstoffgas vom Kolonnenboden zur Verhinderung einer Polymerisation in der Destillationskolonne umfasst, in JP-B-34606/1977 und JP-B-61015/1982 offenbart. Ein Verfahren, das das Entnehmen eines in einer Rektifizierkolonne herabfallenden Lösungsstroms, das Abtrennen eines Polymers in der Lösung und das Zirkulieren des Polymers erneut in die Rektifizierkolonne umfasst, ist in JP-A-239341/1996 offenbart.
  • Weder das obige Verfahren des Standes der Technik, das das Einführen von Sauerstoffgas umfasst, noch das obige Verfahren des Standes der Technik, das die Abtrennung eines Polymers aus einer herabfallenden refluxierenden Lösung umfasst, kann in einer Behandlungslösung angesammelte Verunreinigungen, wie ein Polymer, ausreichend entfernen.
  • Obwohl ein Problem wie das Stoppen einer Destillationsko lonne oder einer Rektifizierkolonne bei Kurzzeitbetrieb nicht verursacht wird, werden Polymere schrittweise produziert und an einer Abziehleitung für eine Kolonnenbodenlösung, einer Förderpumpe für eine Kolonnenbodenlösung, einer Leitung, die Kolonnen wie ein Nachverdampfer umfasst, einem Wärmetauscher und Innenbereichen einer Leitung bei Langzeitbetrieb angeheftet und es wird unmöglich, die Destillation wegen des Verursachens einer baldigen Blockierung fortzusetzen. Mit Ausnahme der während der Behandlung produzierten Polymere können Ausfällungen wie die im vorhergehenden genannten Verunreinigungen, die in der Behandlungslösung enthalten sind, und denaturierte Produkte, die während der Behandlung produziert werden, das gleiche Problem verursachen. Ferner werden Ausfällung und Polymerisation durch Anheften dieser Polymere und Ausfällungen in den Rohrleitungen und Geräten erhöht.
  • Zusätzlich kann überlegt werden, das Eindringen von Verunreinigungen in eine Behandlungskolonne durch Filtration einer Behandlungslösung vor Einführen in die Behandlungskolonne zu verhindern. Jedoch ist dieses Verfahren für Verunreinigungen, die in der Behandlungskolonne produziert werden, nicht wirksam. Verfahren zur Verhinderung des Transports der Verunreinigungen in eine Behandlungsvorrichtung der nächsten Stufe oder Verhinderung des Anheftens der Verunreinigungen an Rohrleitungen zur nächsten Stufe können durch Filtration der gesamten, vom Kolonnenboden abgezogenen Lösung und danach Förderung der Lösung in die nächste Stufe überlegt werden. Jedoch ist es nicht günstig, das Anheften von Verunreinigungen in der Behandlungskolonne zu verhindern, und es ist schwierig, die vom Kolonnenboden abgezogene Lösung, die eine Menge Verunreinigungen enthält, effektiv zu filtrieren.
  • Diese früheren Behandlungsverfahren können das Anheften von festen Produkten in den Rohrleitungen und Vorrichtungen nicht ausreichend verhindern.
  • Die US-A-4 034 005 offenbart ein Verfahren zur Herstellung einer aromatischen Carbonsäure hoher Reinheit durch Zuführen eines im wesentlichen Gleichgewichtshydrolysegemischs eines aromatischen Nitrils in eine reaktive Destillationskolonne, die bei einer Temperatur von etwa 200°C bis etwa 325°C mit autogenem Druck arbeitet, wobei das Gleichgewichtsgemisch gleichzeitig einer weiteren Hydrolyse und Destillation von Ammoniak unterzogen wird, wobei Wasserdampf und Ammoniak von der Kolonnenspitze entfernt wird, das verbliebene Gleichgewichtshydrolysegemisch einer weiteren Hydrolyse und Destillation in einem Nachverdampfer unterzogen wird, Dampf aus dem Nachverdampfer zur Destillationskolonne zurückgeführt wird, eine wässrige Lösung der Produktsäure aus dem Nachverdampfer entfernt wird, die abgetrennte Lösung gekühlt wird, das Säureprodukt abgetrennt wird und, um die Produktreinheit zu verbessern, das wässrige Filtrat von dem abgetrennten Säureprodukt in einen unteren Bereich der Kolonne zurückgeführt wird. In einer Ausführungsform wird das Hydrolysegemisch durch Durchführen einer wässrigen Hydrolyse eines Nitrils von der Ammoxidation einer aromatischen Alkylverbindung in einem geschlossenen Reaktor bei etwa 200°C bis etwa 325°C, bis ein im wesentlichen vollständiges Gleichgewicht erhalten wird, erhalten.
  • Die EP-A-0 561 730 offenbart ein Abgasentschwefelungsverfahren, das die Stufen der Absorption und Abtrennung von Schwefeloxiden aus einem Verbrennungsabgas unter Verwendung einer Ca-Verbindung und – als Absorptionshilfsstoff – einer organischen Säure, die Carboxylgruppen an entgegengesetzten Enden eines geradkettigen Kohlenwasserstoffs, der 1 bis 4 Kohlenstoffatome enthält, aufweist, in einer Abgasentschwe felungsvorrichtung, der Trennung des aus der Entschwefelungsvorrichtung ausgetragenen Abwassers in einer Elektrodialysevorrichtung, die eine abwechselnde Anordnung von einwertigen selektiven Anionenaustauschmembranen und Kationenaustauschmembranen umfasst, in zwei Lösungen: eine konzentrierte Lösung, in der Metall- und Chlorionen konzentriert sind, und eine verdünnte Lösung, in der die Metall- und Chlorionen verdünnt sind, und wobei die organische Säure zurückbleibt, und der anschließenden Rückführung der verdünnten Lösung als Absorptionsmittel in die Abgasentschwefelungsvorrichtung umfasst.
  • Die GB-A-788 212 offenbart ein Verfahren zur Herstellung von Phthalsäure, das die Stufen der Oxidation eines Xylols mit Luft unter Bildung einer Toluylsäure, der Oxidation eines Esters einer Toluylsäure und eines Alkanols, das nicht mehr als 3 Kohlenstoffatome enthält, unter Bildung eines Phthalsäuremonoesters, des Erhitzens der Toluylsäure und des Phthalsäuremonoesters in einer Umwandlungszone unter Bildung einer Phthalsäure und eines Esters von der Toluylsäure und dem Alkanol, der Trennung der Phthalsäure und des Toluylsäureesters und der Rückführung des Esters zur weiteren Oxidation umfasst.
  • ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
  • A. AUFGABE DER ERFINDUNG
  • Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung eines Kolonnenbehandlungsverfahrens unter Verwendung der im vorhergehenden genannten Destillationskolonne und dgl., wobei das Verfahren die effektive Entfernung fester Verunreinigungen, wie Ausfällungen und Polymere, die in einem Behandlungsfluidum enthalten sind oder produziert werden, und dadurch einen stabilen Betrieb der Kolonnenbehandlung ermöglicht.
  • B. OFFENBARUNG DER ERFINDUNG
  • Ein Kolonnenbehandlungsverfahren gemäß der vorliegenden Erfindung gemäß Anspruch 1 umfasst: das Einführen eines Behandlungsfluidums in eine Behandlungskolonne, das Durchführen einer physikalischen und/oder chemischen Behandlung des Behandlungsfluidums in der Behandlungskolonne, das Entnehmen eines Teils eines Fluidums nach der Behandlung von der Kolonnenoberseite und das Abziehen eines verbliebenen Fluidums, das nicht von der Kolonnenoberseite entnommen wurde, sondern verblieben ist, von der Kolonnenbodenseite. Und mit fortschreitender Behandlung in der Behandlungskolonne umfasst das Verfahren ferner das kontinuierliche Durchführen der
    Stufe (a) des Abziehens des Behandlungsfluidums von der Kolonnenbodenseite aus der Behandlungskolonne,
    Stufe (b) des Entfernens fester Verunreinigungen aus dem in
    Stufe (a) abgezogenen Behandlungsfluidum und
    Stufe (c) des Zurückführens des Behandlungsfluidums, aus dem die festen Verunreinigungen in Stufe (b) entfernt wurden, in die Behandlungskolonne.
  • Diese und andere Aufgaben und die Vorteile der vorliegenden Erfindung werden aus der im folgenden angegebenen detaillierten Offenbarung vollständiger ersichtlich.
  • KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 ist eine Strukturdarstellung einer Behandlungsvorrichtung einer Art und Weise zur Durchführung der vorliegenden Erfindung.
  • 2 ist eine Strukturdarstellung einer Behandlungsvorrichtung einer weiteren Art und Weise zur Durchführung der vorliegenden Erfindung.
  • Erklärung der Symbole:
    • 10: Destillationskolonne, 12: Einführungseinlass, 16: Abziehauslass, 14: Entnahmeauslass, 18: Rückführungseinlass, 20: Einführungsleitung, 22: Entnahmeleitung, 30: Nachverdampfer, 32: Zirkulationsleitung, 40: Siebfilter, 42: Pumpe, 44: Zirkulationsleitung, 52: Förderleitung.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER ERFINDUNG
  • Kolonnenbehandlungsverfahren
  • Eine turmförmige Behandlungsvorrichtung, d.h. eine Behandlungskolonne, kann derart verwendet werden, dass physikalische Behandlungsverfahren, wie Destillation, Absorption, Abstreifen, Rektifikation, Abtrennung, Extraktion, Adsorption, Sammeln und weitere, oder chemische Behandlungsverfahren oder Behandlungsverfahren, bei denen die physikalischen und chemischen Behandlungsverfahren gleichzeitig durchgeführt werden, durchgeführt werden können.
  • Insbesondere wird das Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung für eine Behandlungskolonne zur Durchführung einer physikalischen Behandlung verwendet und noch besser für eine Destillationskolonne oder Rektifizierkolonne von den Behandlungskolonnen zur Durchführung einer physikalischen Behandlung verwendet. Der Grund hierfür liegt darin, dass ein Behandlungsfluidum bei den physikalischen Behandlungen wie Destillation, Absorption und Rektifikation häufig einer vergleichsweise hohen Temperatur ausgesetzt wird und sich ein festes Produkt leicht in der Säule, insbesondere auf der Kolonnenbodenseite wegen der Polymerisation oder des Brennens eines Behandlungsfluidums dann ansammeln kann. Von diesen weisen die Destillationskolonne und die Rektifizier kolonne Bereiche, in denen es leicht zu einer Polymerisation und einem Brennen kommt, beispielsweise einem Nachverdampfer an der Bodenseite, und an denen sich das feste Produkt am stärksten ansammeln kann, auf. Diese Behandlungskolonnen können stabil durch Verwendung des Verfahrens und der Vorrichtung gemäß der vorliegenden Erfindung betrieben werden.
  • Eine fundamentale Form der Behandlungskolonne kann gleich der einer üblichen Behandlungskolonne sein.
  • Eine Behandlungskolonne, die ein Behandlungsfluidum durchlaufen kann, umfasst einen Einführungseinlass zur Einführung des Behandlungsfluidums. Der Einführungseinlass ist üblicherweise in der Mitte der Behandlungskolonne platziert. Jedoch kann der Einführungseinlass an beliebiger Stelle von der Kolonnenoberseite bis zur Kolonnenbodenseite entsprechend den Behandlungsbedingungen der Behandlungskolonne platziert sein. Die Kolonnenbodenseite wird in der Bedeutung von nicht nur wörtlich dem Kolonnenboden sondern auch einschließlich einer Position, die vergleichsweise niedriger als die Behandlungskolonne mit dem im folgenden genannten Entnahmeauslass ist, auch wenn die Position in der Richtung eines seitlichen oder mittleren Bereichs der Behandlungskolonne ist, verwendet. Die Einführungseinlässe können in einem Bereich oder mehreren Bereichen platziert sein.
  • Das Behandlungsfluidum ist eine Flüssigkeit oder ein Gas. Das Behandlungsfluidum umfasst eine Behandlungskomponente, die ein anorganisches oder organisches Behandlungsmaterial, ein Lösemittel und dgl. umfasst. Das Behandlungsfluidum kann ein festes Produkt umfassen. Eine Art des Behandlungsfluidums kann eingeführt werden und mehrere Arten der Behandlungsfluida können ausgehend von dem gleichen Einfüh rungseinlass oder einem anderen Einführungseinlass in die Behandlungskolonne eingeführt werden. Das Behandlungsfluidum kann in die Behandlungskolonne kontinuierlich oder intermittierend eingeführt werden.
  • Der innere Bereich der Behandlungskolonne ist vollständig leer, wobei er ein Trennelement oder Leitelement zur Steuerung eines Stroms des Behandlungsfluidums umfasst, einen Wärmeaustauschmechanismus zum Erhitzen oder Kühlen des Behandlungsfluidums, einen Rührmechanismus zum Rühren des Behandlungsfluidums umfasst oder mit einem festen Produkt zur Umsetzung mit dem Behandlungsfluidum oder Ausüben bestimmter Wirkungen auf dieses gepackt ist. Diese inneren Mechanismen können in Kombination mit der gleichen Mechanismusstruktur wie die einer üblichen Behandlungskolonne entsprechend dem Unterschied der obigen Behandlung zur Behandlung des Behandlungsfluidums platziert sein.
  • Als Einrichtungen, die an der Behandlungskolonne befestigt sind, können ein Nachverdampfer und dgl. außerhalb der Behandlungskolonne angebracht sein. Der Nachverdampfer führt das Behandlungsfluidum in die Behandlungskolonne zurück und er steuert die Temperatur des Behandlungsfluidums.
  • Ein Entnahmeauslass zum Entnehmen eines Teils des erhaltenen Fluidums infolge der Behandlung des Behandlungsfluidums ist an der Kolonnenoberseite der Behandlungskolonne platziert. Ein zu entnehmendes gewünschtes Produkt kann ein Gas oder eine Flüssigkeit sein. Die Kolonnenoberseite, an der der Entnahmeauslass platziert ist, bedeutet nicht nur die Kolonnenspitzenposition, sondern sie umfasst auch eine Position von einem Seitenbereich in der Umgebung der Behandlungskolonnenspitze bis mittleren Bereich der Behandlungskolonne und sie bedeutet eine zur Kolonnenspitze relativ nahe Position im Vergleich zu dem im folgenden genannten Abziehauslass für verbleibendes Fluidum. Daher kann die Kolonnenoberseite eine niedrigere Position als die unmittelbare mittlere Position der gesamten Höhe der Behandlungskolonne bedeuten. Die Entnahmeauslässe können an mehreren Bereichen wie der Spitze und der Mitte der Behandlungskolonne platziert sein.
  • Ein Abziehauslass zur Extraktion von verbleibendem Fluidum, das in der Behandlungskolonne verbleibt und nicht aus dem obigen Entnahmeauslass entnommen wird, ist an der Kolonnenoberseite der Behandlungskolonne platziert. Das verbliebene Fluidum wird als Abwasser verworfen oder genutzt, um ein weiteres gewünschtes Produkt in der nächsten Stufe zu erhalten. Das verbliebene Fluidum ist üblicherweise eine Flüssigkeit. Das verbliebene Fluidum wird aus der Behandlungskolonne kontinuierlich oder intermittierend extrahiert. Die Kolonnenbodenseite, an der der Abziehauslass platziert ist, bedeutet eine zum Kolonnenboden relativ nahe Position im Vergleich zur Anbringungsposition des Entnahmeauslasses und sie bedeutet nicht nur den Boden der Behandlungskolonne.
  • Entfernung von Verunreinigungen
  • Mit Ausnahme der Behandlungskolonne ist ein Behandlungsfluidumzirkulationsweg an der Kolonnenbodenseite der Behandlungskolonne platziert, um das Behandlungsfluidum in der Behandlungskolonne aus der Behandlungskolonne abzuziehen und das Behandlungsfluidum erneut in die Behandlungskolonne zurückzuführen, und Verunreinigungen werden auf diesem Zirkulationsweg entfernt.
  • Die Behandlungskolonne weist einen Abziehauslass und einen Rückführungseinlass für das Behandlungsfluidum in Verbindung mit dem Zirkulationsweg auf. Anbringungspositionen des Abziehauslasses und Rückführungseinlasses können unter Berücksichtigung der Betriebsbedingungen für ein Behandlungsverfahren der Behandlungskolonne passend bestimmt werden. Der Abziehauslass ist vorzugsweise am Kolonnenboden platziert. Der Rückführungseinlass ist vorzugsweise an der Kolonnenbodenseite und am Kolonnenboden oder einer zum Kolonnenboden nahen Stelle und noch besser am Kolonnenboden platziert. Die Verunreinigungen können effizient durch Abziehen eines Behandlungsfluidums an der Kolonnenbodenseite, wo sich die Verunreinigungen ansammeln können, entfernt werden. Ein Behandlungsfluidum, aus dem Verunreinigungen entfernt sind, wird in das Behandlungsfluidum mit den gleichen Komponentenverhältnissen an der Kolonnenbodenseite zurückgeführt. Daher ist es schwierig, einen schlechten Einfluss auf die Behandlung in der Behandlungskolonne auszuüben.
  • Der Zirkulationsweg kann eine herkömmliche Rohrleitung umfassen. Der Zirkulationsweg kann eine Pumpe als Fließmittel zum Fließen des Behandlungsfluidums im Zirkulationsweg umfassen. Je größer die Zirkulationsmenge des Behandlungsfluidums im Zirkulationsweg ist, desto effektiver können die Verunreinigungen entfernt werden. Jedoch kann die Menge in passender Weise unter Berücksichtigung der Mengen und Eigenschaften der festen Verunreinigungen in der Behandlungslösung bestimmt werden. Eine Menge der Behandlungslösung, die üblicherweise die 0,05- bis 100-fache, vorzugsweise 0,1- bis 20-fache, noch besser 0,2- bis 5-fache Gewichtsmenge der von der Behandlungskolonne geförderten verbliebenen Lösung beträgt, wird in dem Zirkulationsweg zur Entfernung der Verunreinigungen zirkuliert.
  • Ein Verunreinigungenentfernungsbereich zur Entfernung der festen Verunreinigungen aus dem Behandlungsfluidum ist in dem Zirkulationsweg außerhalb der Behandlungskolonne plat ziert. In dem Verunreinigungenentfernungsbereich werden feste Verunreinigungen aus dem Behandlungsfluidum durch verschiedene chemische oder physikalische Mittel, die als herkömmliche Chemikalienherstellungstechniken bekannt sind, entfernt. Von diesen werden vorzugsweise die physikalischen Mittel verwendet. Die physikalischen Mittel sind häufig hervorragender im Hinblick auf die Entfernungswirkung als die chemischen Mittel, da die physikalischen Mittel die festen Verunreinigungen direkt entfernen können. Konkret kann eine Filtration durch ein Siebfilter, ein Filter und dgl. verwendet werden. Ferner wird nach Einführung des Behandlungsfluidums in einen Dünnschichtverdampfer eine aus dem Dünnschichtverdampfer abgezogene Lösung in das Siebfilter eingeführt und die Verunreinigungen können entfernt werden. Nach Einführung des Fluidums in das Siebfilter kann ein aus dem Siebfilter abgezogenes Behandlungsfluidum in den Dünnschichtverdampfer eingeführt werden.
  • Die Anbringungspositionen des Verunreinigungenentfernungsbereichs sind nicht speziell beschränkt, wenn der Verunreinigungenentfernungsbereich in dem Zirkulationsweg, den das Behandlungsfluidum durchläuft, platziert ist. Der Zirkulationsweg, der den Verunreinigungenentfernungsbereich aufweist, kann als weiterer Weg neben dem Weg zum Abziehen des obigen verbleibenden Fluidums angeordnet werden oder er kann den Abziehweg und einen Teil des Wegs teilen. In Bezug auf diese geteilte bzw. gemeinsame Form zweigt der Zirkulationsweg stromabwärts von dem Verunreinigungenentfernungsbereich ab und ein Verzweigungsweg kann mit dem Rückführungseinlass der Behandlungskolonne verbunden sein und der andere Verzweigungsweg kann mit dem Abziehweg für das verbleibende Fluidum verbunden sein. Ferner kann ein Bereich des Zirkulationswegs für die Behandlungslösung zu einem Nachverdampfer, der als Zusatzgerät zur Behandlungskolonne platziert ist, gemeinsam mit dem Zirkulationsweg des Verunreinigungenentfernungsbereichs sein.
  • Die Bildung von Polymeren kann durch Verwendung eines Polymerisationsinhibitors verhindert werden, wenn die obige Behandlung in der Behandlungskolonne durchgeführt wird. Beispiele für den Polymerisationsinhibitor umfassen Hydrochinon, Methochinon, Phenothiazin, Kupfersalzverbindungen, Mangansalzverbindungen, p-Phenylendiaminverbindungen, N-Oxylverbindungen und Nitroverbindungen.
  • Eine Behandlung durch Verwendung der Behandlungskolonne kann ferner stabil und über einen langen Zeitraum durch Zugabe von molekularem Sauerstoff in das Behandlungsfluidum zusätzlich zu dem Polymerisationsinhibitor durchgeführt werden. Der molekulare Sauerstoff kann an einer beliebigen Position des Wegs, über den das Behandlungsfluidum fließt, zugeführt werden und Beispiele hierfür umfassen eine Rohrleitung vor der Einführung in die Behandlungskolonne, den Behandlungskolonnenboden oder eine -seite, Geräte wie einen Nachverdampfer, die als Zusatzgerät an der Behandlungskolonne, einer Leitung, dem Verunreinigungenentfernungsbereich, der Leitung hierfür und dem Weg zum Abziehen des obigen verbleibenden Fluidums platziert sind.
  • Die Zugabemenge des molekularen Sauerstoffs kann in passender Weise entsprechend dem Zweck bestimmt werden, doch ist es beispielsweise günstig, wenn der molekulare Sauerstoff in einem Bereich von 0,1 bis 1,0 Vol.-% pro verdampfte Dampfmenge von (Meth)acrylsäure oder einem Ester derselben in einer Destillationskolonne für (Meth)acrylsäure und dgl. zugegeben wird.
  • Verwendungsmöglichkeiten
  • Die vorliegende Erfindung ist für verschiedene Kolonnenbe handlungsverfahren, die die im vorhergehenden genannte Behandlungskolonne verwenden, gemäß der Definition in Anspruch 1 verwendbar.
  • Die vorliegende Erfindung wird für Behandlungen wie Destillation und Absorption in einem Herstellungsverfahren für (Meth)acrylsäure oder (Meth)acrylsäureester genutzt. Konkret kann, wenn die vorliegende Erfindung für Reinigungsbehandlungen, die nach der Herstellung von (Meth)acrylsäure und dgl. durchgeführt werden, verwendet wird, das Problem der Bildung und Anheftung von Polymeren gelöst werden.
  • Eine Verbindung, die der Durchführung der obigen Behandlung in der Behandlungskolonne unterzogen wird, ist aus (Meth)acrylsäure und Estern ausgewählt. Beispiele für den als Produkt zu verwendenden Acrylsäureester umfassen Methylacrylat, Ethylacrylat, Butylacrylat, 2-Ethylhexylacrylat, 2-Hydroxyethylacrylat und 2-Hydroxypropylacrylat. Beispiele für den als Produkt zu verwendenden Methacrylsäureester umfassen Methylmethacrylat, Butylmethacrylat, 2-Hydroxyethylmethacrylat und 2-Hydroxypropylmethacrylat.
  • Wirkungen und Vorteile der Erfindung
  • Das Kolonnenbehandlungsverfahren gemäß der vorliegenden Erfindung ermöglicht das Verhindern des Anhaftens von Verunreinigungen an angebrachten Vorrichtungen oder Rohrleitungen einer Behandlungsvorrichtung und dadurch die stabile Durchführung einer angestrebten Behandlung, da feste Verunreinigungen wie Ausfällungen und Polymere, die in einer Behandlungslösung, die einer physikalischen oder chemischen Behandlung in einer Behandlungskolonne unterzogen wird, produziert werden, mit einem Verunreinigungenentfernungsbereich, der in einem Zirkulationsweg eingerichtet ist, effektiv entfernt werden können.
  • DETAILLIERTE BESCHREIBUNG DER BEVORZUGTEN AUSFÜHRUNGSFORMEN
  • Eine Art und Weise zur Durchführung der Erfindung, die in 1 erläutert ist, erklärt einen Fall, der für eine Destillationsbehandlung von (Meth)acrylsäure verwendet wird.
  • (Meth)acrylsäure wird als Behandlungslösung, die aus einem Gemisch mit anderen Komponenten besteht, zugeführt. Die Behandlungslösung wird ausgehend von einer Einführungsleitung (20) in eine Destillationskolonne (10) durch einen Einführungseinlass (12) eingeführt. Der Einführungseinlass (12) ist an einer Seite der Destillationskolonne (10) etwa in der Mitte derselben längs einer vertikalen Richtung platziert.
  • Die (Meth)acrylsäure enthaltende Behandlungslösung wird in der Destillationskolonne (10) erhitzt. Ein Destillat, das in der Kolonne durch Verdampfen aufsteigt, wird an der Kolonnenspitze verflüssigt und aus einem Entnahmeauslass (14) in eine Entnahmeleitung (22) entnommen. Die erhaltene entnommene Lösung umfasst Wasser, ein Lösemittel oder (Meth)acrylsäure. Die Entnahmeleitung (22) weist einen Weg auf, der unterwegs abzweigt und zur Destillationskolonne (10) zurückführt.
  • Ein Nachverdampfer (30) ist unter der Destillationskolonne (10) platziert. Die Destillationskolonne (10) und der Nachverdampfer (30) sind durch eine Zirkulationsleitung (32), die die Zirkulation zwischen beiden bewirkt, verbunden. Eine Behandlungslösung, die aus einem Abziehauslass (16), der am Kolonnenboden der Destillationskolonne (10) platziert ist, abgezogen wird, wird in den Nachverdampfer (30) über die Zirkulationsleitung (32) eingeführt, im Nachverdampfer (30) erhitzt, danach über die Zirkulationsleitung (32) etwa am Kolonnenboden der Destillationskolonne (10) zurückgeführt. Auf diese Weise wird die Temperatur der Behandlungslösung in der Destillationskolonne (10) innerhalb einer festgelegten Temperatur eingestellt und die Destillation stabil durchgeführt. Eine Behandlungslösung zirkuliert in der Zirkulationsleitung (32) spontan durch spontane Konvektionsströme, die durch Erhitzen im Nachverdampfer (30) bewirkt werden.
  • Die Zirkulationsleitung (32) verzweigt sich zwischen dem Abziehauslass (16) und dem Nachverdampfer (30) und sie ist mit einer Zirkulationsleitung (44) verbunden. Die Zirkulationsleitung (44) ist mit einem Siebfilter (40) und einer Pumpe (42) nacheinander verbunden und mit der Destillationskolonne (10) am Rückführungseinlass (18), der am Kolonnenboden der Destillationskolonne (10) platziert ist, verbunden.
  • Ein Teil der Behandlungslösung, der aus dem Abziehauslass (16) der Destillationskolonne (10) abgezogen wird, wird durch die Zirkulationsleitung (44) zwangsweise gefördert, durch das Siebfilter (40) filtriert und in der Behandlungslösung enthaltene feste Verunreinigungen werden entfernt, wonach die erhaltene Lösung in die Destillationskolonne (10) durch den Rückführungseinlass (18) zurückgeführt wird.
  • Infolgedessen wird in Bezug auf die Behandlungslösung in der Destillationskolonne (10) das Verbleiben und Ansammeln der festen Verunreinigungen verhindert und das Problem des Anhaftens der festen Verunreinigungen an einer Innenwand der Destillationskolonne (10) und dgl. gelöst. Wenn die festen Verunreinigungen in der Behandlungslösung in der Destillationskolonne (10) nicht angesammelt werden, haften die festen Verunreinigungen nicht an dem Nachverdampfer (30) und der Zirkulationsleitung desselben (32).
  • Des weiteren verzweigt sich die Zirkulationsleitung (44) zwischen der Pumpe (42) und dem Rückführungseinlass (18) und sie ist mit einer Förderleitung (52) verbunden. Die Förderleitung (52) ist eine Leitung zur Förderung einer verbliebenen Lösung, die an der Destillationskolonne (10) behandelt wurde, in ein nächstes Behandlungsverfahren. Eine Behandlungslösung, in der die festen Verunreinigungen durch das obige Siebfilter (40) entfernt sind, wird als verbliebene Lösung gefördert. Infolgedessen kann ein Anhaften der festen Verunreinigungen an der Förderleitung (52) und ein Transport in das nächste Verfahren verhindert werden.
  • Anlage, die für ein Herstellungsverfahren für Acrylsäure verwendet wird
  • Eine Anlage, die für ein Herstellungsverfahren für Acrylsäure verwendet wird, die eine Destillationsbehandlung von (Meth)acrylsäure umfasst, die in der obigen Art und Weise zur Durchführung der Erfindung erklärt ist, ist in 2 erläutert.
  • Die in 1 erläuterte Destillationskolonne (10) wird als Azeotroptrennungskolonne verwendet. Die Azeotroptrennungskolonne (10) und Rohrleitungen und Einrichtungen in der Umgebung der Kolonne sind gleich denen der Destillationskolonne (10) in 1.
  • Ein Speichertank (102) ist in der Entnahmeleitung (22) der Azeotroptrennungskolonne (10) platziert. Die Entnahmeleitung (22) ist mit der Kolonnenspitze einer Acrylsäuresammelkolonne (110) verbunden und Acrylsäure wird dort aufgefangen.
  • Die Einführungsleitung (20) der Azeotroptrennungskolonne (10) ist mit dem Kolonnenboden der Acrylsäuresammelkolonne (110) verbunden. Die Behandlungslösung wird als Ausgangsmaterial in die Azeotroptrennungskolonne (10) mit Acrylsäure, die in der Acrylsäuresammelkolonne (110) über die Azeotroptrennungskolonne (10) aufgefangen wurde, eingeführt.
  • Die Förderleitung (52) der Azeotroptrennungskolonne (10) ist mit einer Trennkolonne von niedrigsiedendem Produkt (120) und einer Trennkolonne von hochsiedendem Produkt (130) nacheinander verbunden. Das niedrigsiedende Produkt und das hochsiedende Produkt in der von der Förderleitung (52) geförderten verbliebenen Lösung werden jeweils durch die Trennkolonnen (120, 130) getrennt.
  • Bei der erläuterten Art und Weise zur Durchführung der Erfindung ist der Verunreinigungenentfernungsbereich, wie das Siebfilter (40), nur an der Azeotroptrennungskolonne (10) platziert. Jedoch kann der Verunreinigungenentfernungsbereich an anderen Behandlungskolonnen, wie der Sammelkolonne (110), der Trennkolonne von niedrigsiedendem Produkt (120) und der Trennkolonne von hochsiedendem Produkt (130), platziert sein.
  • Ausführungsbeispiele
  • Im folgenden wird die vorliegende Erfindung durch die folgenden Beispiele einiger bevorzugter Ausführungsformen im Vergleich mit nicht erfindungsgemäßen Vergleichsbeispielen genauer erläutert. Jedoch ist die Erfindung nicht auf die im folgenden angegebenen Beispiele beschränkt.
  • Beispiel 1
  • Eine Acrylsäurelösung wurde unter Verwendung einer Destillationsvorrichtung, die die in 1 angegebenen Bestand teile aufweist, destilliert.
  • Eine Destillationskolonne (die mit 40 Teilen zweiflutiger Böden ausgestattet ist) mit einem Kolonnendurchmesser von 1,8 m umfasst einen Entnahmeauslass und eine Entnahmeleitung an der Kolonnenspitze. In der Mitte der Kolonne ist die Kolonne mit einer Einführungsleitung, der eine Behandlungslösung als Ausgangsmaterial zugeführt wird, und einem Einführungseinlass ausgestattet. Unter der Kolonne ist die Kolonne mit einer Zirkulationsleitung, die die Behandlungslösung zirkuliert, und einem Siebfilter in der Leitung ausgestattet. Ferner ist die Kolonne mit einem Nachverdampfer des Typs mit vertikaler Hülle und Rohr (Innendurchmesser des Rohrs 30 mm, Rohrlänge 4000 mm und Rohrzahl 310 Teile) ausgestattet und das Behandlungsfluidum zirkuliert spontan und durchläuft ein Rohr des Nachverdampfers.
  • Ein Reaktionsgas, das Acrylsäure, die durch katalytische Gasphasenoxidation von Propylen hergestellt wurde, und eine Acrylsäurelösung (Acrylsäure 65 Gew.-%, Essigsäure 2 Gew.-%, Wasser 31 Gew.-% und andere 2 Gew.-%), die durch Absorption von in dem Reaktionsgas enthaltener Acrylsäure in Wasser erhalten wurde, wurde als die Behandlungslösung verwendet. Die Behandlungslösung wurde an dem zwanzigsten Boden der Destillationskolonne mit einer Rate von 6300 kg pro Stunde zugeführt.
  • Methylisobutylketon wurde als refluxierte Lösung verwendet und der Kolonnenspitze in einer Rate von 8500 kg pro Stunde zugeführt.
  • Die Destillationskolonne wurde mit einem Betriebsdruck von 150 hPa und einer Kolonnenbodentemperatur von 100°C betrieben, Wasser und Methylisobutylketon wurden von der Kolonnenspitze abgetrennt und rohe Acrylsäure als verblei bende Lösung wurde von dem Kolonnenboden mit einer Rate von 5160 kg pro Stunde gewonnen.
  • Dann wurden 30 ppm Dibutyldithiocarbaminsäurekupfersalz und 200 ppm Hydrochinon (jede Menge bezogen auf die verdampfte Acrylsäuremenge) als Polymerisationsinhibitoren verwendet und der refluxierten Lösung von der Kolonnenspitze aus zugegeben und zur Einführung gelöst. Ferner wurden 0,3 Vol.-% von molekularem Sauerstoff, bezogen auf die verdampfte Menge von Acrylsäure, vom Kolonnenboden der Destillationskolonne aus zugegeben.
  • Die vom Boden abgezogene rohe Acrylsäurelösung wurde in das Siebfilter eingeführt und die von dem Siebfilter erhaltene Lösung wurde in den Rückführungseinlass mit einer Rate von 860 kg pro Stunde durch Verwendung einer Förderpumpe der Kolonnenbodenlösung zirkuliert. Ferner wurde ein Teil der Lösung von dem Siebfilter zu einer Förderleitung gefördert und mit einer Rate von 4300 kg pro Stunde außerhalb gewonnen.
  • Nach kontinuierlichem Betrieb der Destillationskolonne über 90 Tage unter diesen Betriebsbedingungen wurde über die gesamte Zeit ein stabiler Betriebszustand erhalten. Nach Stoppen des Betriebs wurde in keinster Weise detektiert, dass feste Produkte an einem Abziehauslass der Kolonnenbodenlösung, der Förderpumpe der Kolonnenbodenlösung, der Zirkulationsleitung bzw. dem Nachverdampfer angeheftet waren.
  • Vergleichsbeispiel 1
  • Eine Acrylsäurelösung wurde gemäß Beispiel 1 destilliert, wobei jedoch die Lösung von dem Siebfilter nicht zu einem Rückführungseinlass zirkuliert wurde, sondern die gesamte Lösung zur Förderpumpe gefördert wurde.
  • Der Betrieb wurde am 25. Tag gestoppt, da festgestellt wurde, dass der Druck des Nachverdampfers im Betrieb stieg. Als Ergebnis nach einer Überprüfung wurde festgestellt, dass feste Produkte an einem Abziehauslass der Kolonnenbodenlösung, der Förderpumpe der Kolonnenbodenlösung, der Zirkulationsleitung und dem Nachverdampfer angeheftet waren und insbesondere von 310 Teilen der gesamten Röhren des Nachverdampfers 107 Röhrenteile mit den festen Produkten blockiert waren.
  • Beispiel 2
  • Rohes Butylacrylat wurde mit einer Destillationskolonne (die mit 20 Teilen zweiflutiger Böden ausgestattet war) mit einem Kolonnendurchmesser von 1,2 m destilliert. Die Destillationskolonne umfasst eine Zufuhrleitung von refluxierter Lösung an der Kolonnenspitze und einen Behandlungslösungseinführungseinlass am Kolonnenboden. Die Kolonne ist mit einem Nachverdampfer des Typs mit horizontaler Hülle und Rohr mit erzwungener Zirkulation (Rohrinnendurchmesser 30 mm, Rohrlänge 4000 mm und Rohrzahl 70 Teile) ausgestattet und ein Verfahrensfluidum durchläuft ein Rohr des Nachverdampfers. Ferner ist die Kolonne mit einem Zirkulationsweg für eine Behandlungslösung und einem Siebfilter ausgestattet.
  • Rohes Butylacrylat (Butylacrylat 97,5 Gew.-%, Butylbutoxypropionat 1,8 Gew.-% und andere 0,7 Gew.-%), das durch eine Veresterungsreaktion von Acyrlsäure und Butanol hergestellt wurde, wurde als die Behandlungslösung verwendet. Die Behandlungslösung wurde dem Kolonnenboden mit einer Rate von 4700 kg pro Stunde zugeführt. Von der Kolonnenspitze abdestilliertes Butylacrylat wurde der Kolonnenspitze mit einem Rückflussverhältnis von 0,3 zugeführt. Die Destillationskolonne wurde mit einem Betriebsdruck von 70 hPa und einer Kolonnenbodentemperatur von 90°C betrieben. Gereinigtes Butylacrylat, das keine hochsiedenden Verunreinigungen enthielt, wurde von der Kolonnenspitze mit einer Rate von 4500 kg pro Stunde abdestilliert und Butylacrylat, das konzentrierte hochsiedende Verunreinigungen enthielt, wurde vom Kolonnenboden mit einer Rate von 400 kg pro Stunde abgezogen. Dann wurden 150 ppm Hydrochinonmonomethylether der refluxierten Lösung von der Kolonnenspitze zugesetzt und zur Einführung gelöst. Ferner wurden 0,3 Vol.-% an molekularem Sauerstoff, bezogen auf die verdampfte Menge von Butylacrylat, vom Kolonnenboden der Destillationskolonne aus zugegeben.
  • Eine Behandlungslösung, die zwangsweise vom Kolonnenboden der Destillationskolonne abgezogen wurde, wurde dazu gebracht, das Siebfilter mit einer an einer Zirkulationsleitung platzierten Pumpe zu durchlaufen. Ein Teil der Lösung, die das Siebfilter durchlaufen hatte, wurde zum Kolonnenboden mit einer Rate von 200 kg pro Stunde zirkuliert und ein Teil der verbliebenen Lösung wurde zu einer Förderleitung gefördert und außerhalb mit einer Rate von 200 kg pro Stunde gewonnen.
  • Nach kontinuierlichem Betrieb der Destillationskolonne über 60 Tage unter diesen Betriebsbedingungen wurde über den gesamten Zeitraum ein stabiler Betriebszustand erhalten. Nach Stoppen des Betriebs wurde in keinster Weise detektiert, dass feste Produkte an einem Abziehauslass der Kolonnenbodenlösung, der Förderpumpe der Kolonnenbodenlösung, der Zirkulationsleitung bzw. dem Nachverdampfer anhafteten.
  • Vergleichsbeispiel 2
  • Rohes Butylacrylat wurde gemäß Beispiel 2 destilliert, wobei jedoch die Lösung, die das Siebfilter durchlaufen hatte, nicht in einen Rückführungseinlass zurückgeführt wurde, sondern die gesamte Lösung außerhalb gewonnen wurde.
  • Der Betrieb wurde am 21. Tag gestoppt, da festgestellt wurde, dass der Hüllendruck des Nachverdampfers im Betrieb stieg. Als Ergebnis wurde nach der Überprüfung festgestellt, dass feste Produkte an einem Abziehauslass der Kolonnenbodenlösung, der Förderpumpe der Kolonnenbodenlösung, der Zirkulationsleitung und dem Nachverdampfer hafteten und insbesondere von 70 Teilen der gesamten Röhren des Nachverdampfers 22 Teile der Röhren mit den festen Produkten blockiert waren.

Claims (4)

  1. Kolonnenbehandlungsverfahren, das in einem Verfahren zur Herstellung von (Meth)acrylsäure oder (Meth)acrylsäureester enthalten ist, wobei das Kolonnenbehandlungsverfahren das Einführen eines Behandlungsfluidums in eine Behandlungskolonne, wobei die Behandlungskolonne eine beliebige von einer Destillationskolonne, einer Absorptionskolonne, einer Abstreifkolonne, einer Extraktionskolonne und einer Sammelkolonne ist, das Durchführen einer physikalischen und/oder chemischen Behandlung des Behandlungsfluidums in der Behandlungskolonne, das Entnehmen eines Teils des Fluidums nach der Behandlung von der Kolonnenoberseite und das Abziehen des Restfluidums, das nicht von der Kolonnenoberseite entnommen wurde, sondern verblieben ist, von der Kolonnenbodenseite umfasst, wobei mit fortschreitender Behandlung in der Behandlungskolonne das Verfahren ferner das kontinuierliche Durchführen der Stufe (a) des Abziehens des Behandlungsfluidums von der Kolonnenbodenseite aus der Behandlungskolonne, Stufe (b) des Entfernens fester Verunreinigungen aus dem in Stufe (a) abgezogenen Behandlungsfluidum und Stufe (c) des Zurückführens des Behandlungsfluidums, aus dem die festen Verunreinigungen in Stufe (b) entfernt wurden, in die Behandlungskolonne umfasst.
  2. Kolonnenbehandlungsverfahren nach Anspruch 1, wobei die Stufe (c) das Zurückführen des Behandlungsfluidums, aus dem die festen Verunreinigungen entfernt wurden, zur Kolonnenbodenseite der Behandlungskolonne umfasst.
  3. Kolonnenbehandlungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, wobei die Stufe (b) das Entfernen der festen Verunreinigungen durch Filtrieren des Behandlungsfluidums umfasst.
  4. Kolonnenbehandlungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei die Stufe (c) das Zurückführen eines Teils des Behandlungsfluidums in die Behandlungskolonne und das Weiterführen des verbliebenen Teils des Behandlungsfluidums als Restfluidum umfasst.
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