DE4331895C2 - Schaltung zum Halten einer Spannung - Google Patents
Schaltung zum Halten einer SpannungInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Schaltung zum Halten einer Spannung.
In letzter Zeit ist eine Halbleitervorrichtung durch Verwenden einer
einzelnen Spannungsquelle aufgebaut worden (allgemein eine
Konfiguration, die eine Art von Versorgungsspannung zusätzlich zu
einem Versorgungspotential, das als Massepotential dient), um den
Systemaufbau zu vereinfachen. Andererseits ist in einer
Halbleitervorrichtung, wie z. B. einem Halbleiterspeicher, häufig ein
Potential erforderlich, das sich von der externen oder internen
Versorgungsspannung Vcc unterscheidet. In einem solchen Fall wird
das in der Halbleitervorrichtung notwendige Potential aus der
Versorgungsspannung Vcc erzeugt.
Fig. 9 zeigt ein Schaltbild der allgemeinen Konfiguration eines
Halbleiterspeichers. In Fig. 9 ist als Beispiel für einen
Halbleiterspeicher die Konfiguration eines dynamischen
Direktzugriffsspeichers dargestellt.
Wie Fig. 9 zeigt, weist der Halbleiterspeicher ein
Speicherzellenfeld 100 mit einer Mehrzahl von dynamischen
Speicherzellen, die in einer Matrix aus Zeilen und Spalten
angeordnet sind, einen Adreßpuffer 102, der ein internes Adreßsignal
entsprechend einem extern angelegten Adreßsignal A0 bis An erzeugt,
einen Zeilendekoder 104, der ein internes Zeilenadreßsignal vom
Adreßpuffer 102 dekodiert, um ein Signal zu erzeugen, das eine
entsprechende Zeile im Speicherzellenfeld 100 auswählt, einen
Worttreiber 106, der in Abhängigkeit von einem Zeilenauswahlsignal
vom Zeilendekoder 104 ein Wortleitungs-Treibersignal an die
entsprechende Zeile im Speicherzellenfeld 100 überträgt, einen
Spaltendekoder 110, der ein internes Spaltenadreßsignal vom
Adreßpuffer 102 dekodiert, um ein Signal zu erzeugen, das eine
entsprechende Spalte im Speicherzellenfeld 100 auswählt, einen
Leseverstärker zum Erfassen und Verstärken von Speicherdaten einer
Speicherzelle, die mit der ausgewählten Zeile im Speicherzellenfeld
100 verbunden ist, und ein IO-Gatter zum Verbinden einer
entsprechenden Spalte im Speicherzellenfeld 100 mit einer internen
Datenleitung in Abhängigkeit von einem Spaltenauswahlsignal vom
Spaltendekoder 110 auf. Der Leseverstärker und das IO-Gatter sind in
Fig. 9 als ein Block 108 dargestellt.
Der Halbleiterspeicher weist ferner eine Ein/Ausgabeschaltung 112
für eine Eingabe/Ausgabe von Daten von der und an die Umgebung des
Speichers, eine Taktsignal-Steuerschaltung 114 zum Erzeugen
verschiedener interner Steuersignale in Abhängigkeit von extern
angelegten Steuersignalen /RAS ("/" vor den Bezugszeichen zeigt an,
daß das Signal auf einem niedrigen Pegel aktiv oder aktiviert ist),
/CAS und /WE, eine VBB-Erzeugungsschaltung 116 zum Anlegen einer
vorbestimmten Vorspannung VBB an ein Halbleitersubstrat, auf dem der
Halbleiterspeicher gebildet ist, und eine Vpp-Erzeugungsschaltung
118 zum Erzeugen eines Boost-Signals Vpp, das höher als die
Versorgungsspannung Vcc ist und zur ausgewählten Zeile des
Speicherzellenfeldes 100 übertragen wird, auf.
Das Signal /RAS ist ein Zeilenadreß-Abtastsignal. Das Signal /RAS
bestimmt sowohl einen Speicherzyklus des Halbleiterspeichers als
auch den Zeitpunkt, zu dem der Adreßpuffer 102 das Zeilenadreßsignal
einliest. Das Signal /CAS ist ein Spaltenadreß-Abtastsignal. Das
Signal /CAS bestimmt sowohl den Zeitpunkt, zu dem der Adreßpuffer
102 das Spaltenadreßsignal einliest, als auch die Betriebstaktung
der Schaltung, die der Spaltenauswahl des Halbleiterspeichers
zugeordnet ist. Das Signal /WE ist ein Schreibaktivierungssignal.
Das Signal /WE bestimmt, ob der Halbleiterspeicher in einem
Datenlesemodus oder einem Datenschreibmodus arbeitet. Die
verschiedenen internen Steuersignale, die von der Taktsignal-
Steuerschaltung 114 erzeugt werden, werden an verschiedene
Schaltungsabschnitte angelegt. In Fig. 9 ist jedoch einfach nur
dargestellt, daß sie an den Adreßpuffer 102, den Zeilendekoder 104
und die Vpp-Erzeugungsschaltung 118 angelegt werden. Nun wird der
Betrieb kurz beschrieben.
Der in Fig. 9 dargestellte Halbleiterspeicher ist ein dynamischer
Direktzugriffsspeicher. Ein Zeilenadreßsignal und ein
Spaltenadreßsignal werden in einer zeitlich gemultiplexten Weise an
den Adreßpuffer 102 angelegt. Der Adreßpuffer 102 liest ein externes
Adreßsignal in Abhängigkeit von einem internen Steuersignal ein, das
von der Taktsignal-Steuerschaltung 114 in Abhängigkeit vom Signal
/RAS erzeugt wird, um ein internes Zeilenadreßsignal zu erzeugen.
Der Zeilendekoder 104 dekodiert das interne Zeilenadreßsignal, um
ein Signal zu erzeugen, das eine Zeile (eine Wortleitung) im
Speicherzellenfeld 100 auswählt.
Die Vpp-Erzeugungsschaltung 118 empfängt die Versorgungsspannung Vcc
(in Fig. 9 wird Vcc extern zugeführt), um die Boost-Spannung Vpp in
Abhängigkeit von einem internen Steuersignal von der Taktsignal-
Steuerschaltung 114 zu erzeugen. Der Worttreiber 106 überträgt das
Boost-Signal Vpp, das von der Vpp-Erzeugungsschaltung 118 zugeführt
wird, an eine Zeile (eine Wortleitung) im Speicherzellenfeld 100,
die von einem Zeilenauswahlsignal vom Zeilendekoder 104 bestimmt
wird. Damit wird eine Zeile im Speicherzellenfeld 100 in einen
ausgewählten Zustand gebracht, und die Speicherdaten einer
Speicherzelle, die mit der ausgewählten Zeile verbunden ist, wird
auf eine entsprechende Spalte (eine Bitleitung) übertragen. Dann
wird der im Block 108 enthaltene Leseverstärker (durch ein
Steuersignal von der Taktsignal-Steuerschaltung 114) aktiviert, und
die Speicherdaten der Speicherzelle, die auf die jeweilige Spalte
übertragen worden sind, werden verstärkt.
Andererseits erzeugt der Adreßpuffer 102 in Abhängigkeit von einem
internen Steuersignal, das von der Taktsignal-Steuerschaltung 114 in
Abhängigkeit vom Signal /CAS erzeugt wird, aus dem externen
Adreßsignal ein internes Spaltenadreßsignal. Der Spaltendekoder 110
dekodiert das interne Spaltenadreßsignal vom Adreßpuffer 102, um ein
Spaltenauswahlsignal zu erzeugen. Die Daten der Speicherzellen sind
zum Zeitpunkt der Erzeugung des Spaltenauswahlsignals vom
Leseverstärker im Block 108 bereits erfaßt und verstärkt worden,
wodurch die Daten auf jeder Spalte bereits in einen stabilen Zustand
gebracht worden sind.
Das IO-Gatter im Block 108 wird in Abhängigkeit vom
Spaltenauswahlsignal vom Spaltendekoder 110 leitend gemacht, um eine
entsprechende Spalte im Speicherzellenfeld 100 mit der
Ein/Ausgabeschaltung 112 zu verbinden. Die Ein/Ausgabeschaltung 112
ist im Datenschreibmodus von einem Steuersignal von der Taktsignal-
Steuerschaltung 114 abhängig, um interne Schreibdaten aus externen
Schreibdaten zu erzeugen und die resultierenden Daten zum Block 108
zu übertragen, und um im Datenlesemodus externe Lesedaten aus
internen Lesedaten zu erzeugen, die vom IO-Gatter im Block 108
übergeben werden.
Wie oben beschrieben worden ist, wird das Schreiben oder Lesen von
Daten für eine Speicherzelle ausgeführt, die entsprechend einer
Kreuzung einer Zeile und einer Spalte angeordnet ist, die vom
Zeilendekoder 104 und Spaltendekoder 110 ausgewählt werden. Nun wird
die Funktion des Boost-Signals Vpp beschrieben, das auf die
ausgewählte Spalte im Speicherzellenfeld 100 übertragen wird.
Fig. 10 zeigt ein Schaltbild der Konfiguration einer dynamischen
Speicherzelle. Wie in Fig. 10 dargestellt ist, weist eine dynamische
Speicherzelle 120 einen Speicherzellenkondensator 124 zum Speichern
von Information in der Form elektrischer Ladungen und ein
Übertragungsgatter 122, das von einem Signalpotential auf einer
Wortleitung WL abhängig ist, zum Verbinden des
Speicherzellenkondensators 124 mit einer entsprechenden Bitleitung
(Bitleitung BL in Fig. 10) auf. Eine Elektrode (die Zellplatte)
des Speicherzellenkondensators 124 ist mit einem vorbestimmten
Referenzpotential Vcp verbunden. Wie Wortleitung WL entspricht einer
Zeile des Speicherzellenfeldes 100, das in Fig. 9 dargestellt ist,
und die Bitleitungen BL und /BL entsprechen einer Spalte des
Speicherzellenfeldes 100. Die Bitleitungen BL und /BL bilden ein
Paar, und die Speicherzelle 120 ist an der Kreuzung einer
Wortleitung und einem Paar von Bitleitungen BL, /BL angeordnet. In
Fig. 10 ist ein Fall gezeigt, in dem die Speicherzelle 120 an der
Kreuzung der Wortleitung WL und der Bitleitung BL angeordnet ist.
Gewöhnlich ist eine andere dynamische Speicherzelle an der Kreuzung
einer benachbarten Wortleitung und der Bitleitung /BL angeordnet.
Unter Bezugnahme auf das Signaldiagramm von Fig. 11 wird nun der
Erfassungsvorgang von Daten der dynamischen Speicherzelle
beschrieben.
Wenn die Wortleitung WL ausgewählt ist, wird das Boost-Signal Vpp
vom Worttreiber 106, der in Fig. 9 gezeigt ist, auf die Wortleitung
WL übertragen. Damit wird das Übertragungsgatter 122 in der
Speicherzelle 120 leitend gemacht, und der Speicherzellenkondensator
124 wird mit der Bitleitung BL gekoppelt. Die Bitleitungen BL und
/BL werden während des Bereitschaftszustands auf ein
Zwischenpotential (Vcc/2) vorgeladen und in einen elektrisch
schwebenden Zustand gebracht, bevor das Potential der Wortleitung
ansteigt. Das bewirkt, daß elektrische Ladungen zwischen der
Bitleitung BL und dem Speicherzellenkondensator 124 verschoben
werden, und das Potential der Bitleitung BL ändert sich entsprechend
den Speicherdaten des Speicherzellenkondensators 124. Beim in Fig.
11 dargestellten Zustand speichert die Speicherzelle 120 den Wert
"0", und das Potential der Bitleitung BL sinkt. Die andere
Bitleitung /BL ist nicht mit der ausgewählten Speicherzelle
verbunden und hält daher das Vorladepotential Vcc/2.
Dann wird der Leseverstärker aktiviert, um die Potentialdifferenz
zwischen den Bitleitungen BL und /BL zu verstärken. Nachdem das
Datenschreiben oder Datenlesen in die bzw. aus der Speicherzelle 120
ausgeführt worden ist, ist ein Speicherzyklus abgeschlossen, und das
Potential der Wortleitung WL fällt auf einen "L"-Pegel.
Das Übertragungsgatter 122 in der dynamischen Speicherzelle 120
besteht gewöhnlich aus einem n-Kanal MOS-Transistor (einem
Feldeffekttransistor mit isoliertem Gate), wie das in Fig. 10
dargestellt ist. Daher kann das Übertragungsgatter 122 eine Spannung
gleich dem Potential, das an sein Gate angelegt wird, minus seiner
eigenen Schwellenspannung durchlassen. Wenn das Potential der
Wortleitung WL auf dem Pegel der Versorgungsspannung Vcc liegt, wird
eine Spannung Vcc-Vth an den Speicherzellenkondensator 124
übertragen. Vth ist die Schwellenspannung des Übertragungsgatters
122.
Wenn die Speicherkapazität des Halbleiterspeichers ansteigt, sinkt
die Größe der Speicherzelle. Wenn C eine Kapazität und V das
übertragene Potential darstellen, dann wird die Menge der
gespeicherten elektrischen Ladung Q folgendermaßen ausgedrückt:
Q = C . (V - Vcp)
Wie durch die oben angeführte Gleichung ausgedrückt wird, ist es
notwendig, die übertragene Spannung V so groß wie möglich zu machen,
um eine ausreichend große elektrische Ladung im
Speicherzellenkondensator zu speichern. Daher wird das Potential der
Wortleitung WL über die Versorgungsspannung Vcc angehoben, um die
Versorgungsspannung Vcc an den Speicherzellenkondensator 124 zu
übergeben. Durch Übertragen des Boost-Signals Vpp zum Zeitpunkt der
Anstiegs des Potentials der Wortleitung WL, wird die Anstiegsrate
des Potentials der Wortleitung WL vergrößert, und die Speicherdaten
der Speicherzelle 120 werden mit hoher Geschwindigkeit auf die
Bitleitung BL übertragen.
Ein solche Boost-Spannung Vpp wird auf dem Chip selbst (d. h. On-
Chip) aus der Versorgungsspannung Vcc erzeugt, indem man eine
Boosting-Schaltung mit einer kapazitiven Kopplung durch eine
Bootstrap-Kapazität, eine Boosting-Schaltung mit einer
Ladungspumpfunktion etc. verwendet.
Fig. 12 zeigt ein Schaltbild der Funktionen einer
Substratvorspannung, die von der in Fig. 9 dargestellten VBB-
Erzeugungsschaltung erzeugt wird. In Fig. 12 ist die
Querschnittstruktur eines MOS-Transistors gezeigt. Wie in Fig. 12
dargestellt ist, weist der MOS-Transistor N-Fremdatombereiche 142
und 144 mit einer hohen Fremdatomkonzentration, die in der
Oberfläche eines P-Halbleitersubstrats (oder einer P-Wanne) gebildet
sind, und eine Gate-Elektrode 146, die auf der Substratoberfläche
zwischen den Fremdatombereichen 142 und 144 mit einem Gate-
Isolierfilm 145 dazwischen gebildet sind, auf.
Der in Fig. 12 gezeigte MOS-Transistor ist ein n-Kanal Transistor.
Wenn eine Spannung mit "H"-Pegel an die Gate-Elektrode 146 angelegt
wird, bildet sich eine Inversionsschicht in einem Kanalbereich 147
unter der Gate-Elektrode 146, und die Fremdatombereiche 142 und 144
werden durch den niedrigen Widerstand in der Oberfläche des
Kanalbereichs 147 verbunden. Damit wird der MOS-Transistor in einen
Durchlaßzustand gebracht. Die Schwellenspannung Vth eines solchen
MOS-Transistors ändert sich in Abhängigkeit von der Oberflächen-
Fremdatomkonzentration des Kanalbereichs 147. Die Oberflächen-
Fremdatomkonzentration schwankt in Abhängigkeit von verschiedenen
Parametern des Herstellungsprozesses.
Um die Schwankung der Schwellenspannung durch solche Schwankungen
der Fremdatomkonzentration zu unterdrücken, wird ein konstantes
Vorspannungspotential VBB an das Halbleitersubstrat 140 angelegt.
Gewöhnlich wird eine negative Spannung von -2 V bis -3 V an das P-
Halbleitersubstrat 140 angelegt, um die Schwellenspannung des MOS-
Transistors zu stabilisieren. Durch Anlegen der Vorspannung VBB
sinkt die Übergangskapazität, die sich zwischen den
Fremdatombereichen 142 oder 144 und dem Halbleitersubstrat 140
bildet, wodurch die Betriebsgeschwindigkeit des MOS-Transistors
verbessert wird.
Der MOS-Transistor ist von der benachbarten Zelle durch einen
Zellenisolierbereich (einen Zellenisolieroxidfilm) 148 elektrisch
isoliert. Auf dem Zellenisolierbereich 148 ist eine Signalleitung
150 angeordnet. Bei dieser Konfiguration wird durch eine an die
Signalleitung oder Verdrahtungsschicht 150 angelegte Spannung unter
dem Zellenisolierbereich 148 eine Inversionsschicht gebildet. Die
Vorspannung VBB dient dazu, den parasitären MOS-Transistor daran zu
hindern, leitend zu werden.
Die Substratvorspannung VBB wird für den Halbleiterspeicher
ebenfalls auf dem Chip aus der Versorgungsspannung Vcc erzeugt,
indem man eine Schaltung wie z. B. eine Ladungspumpschaltung (mit
einem Kondensator) verwendet.
Ein auf dem Chip erzeugtes Spannungssignal für den
Halbleiterspeicher umfaßt zusätzlich zum oben beschriebenen
Wortleitungs-Boost-Signal und Substratvorspannungssignal bei einer
Konfiguration mit geteilten Leseverstärkern ein
Verbindungssteuersignal für Leseverstärker.
Fig. 13 zeigt ein Schaltbild der Anordnung des geteilten
Leseverstärkers im Halbleiterspeicher. Wie in Fig. 13 dargestellt
ist, teilen sich ein Bitleitungspaar BLA, /BLA des Speicherblocks
MBA und ein Bitleitungspaar BLB, /BLB des Speicherblocks MBB einen
Leseverstärker 160. Das Bitleitungspaar BLA, /BLA des Speicherblocks
MBA und der Leseverstärker 160 sind über ein Verbindungsgatter 162
miteinander verbunden, und der Leseverstärker 160 und das
Bitleitungspaar BLB, /BLB des Speicherblocks MBB sind über ein
Verbindungsgatter 164 miteinander verbunden. Nun wird unter
Bezugnahme auf das Signaldiagramm von Fig. 14 der Lesebetrieb für
Speicherzellendaten unter Verwendung des geteilten Leseverstärkers
von Fig. 13 beschrieben.
Wenn das Signal /RAS abfällt beginnt ein Speicherzyklus. In
Abhängigkeit vom Abfall des Signal /RAS werden ein Dekodierung des
Zeilenadreßsignals und eine Wortleitungs-Auswahlvorgang ausgeführt.
Parallel zu diesen Vorgängen wird nur der Speicherblock, der eine
ausgewählte Wortleitung enthält, mit dem Leseverstärker 160
verbunden, und der andere Speicherblock wird vom Leseverstärker 160
getrennt. Vor diesem Zustand ist der Leseverstärker 160 mit den
Bitleitungspaaren BLA, BL/A und BLB, /BLB verbunden. Die Steuerung
der Verbindung/Trennung von Leseverstärker 160 und den
Bitleitungspaaren BLA, BL/A und BLB, /BLB wird durch Steuersignale
ϕA bzw. ϕB ausgeführt.
Es werden verschiedene Verfahren zur Erzeugung der Steuersignale ϕA
und ϕB betrachtet. Wie in Fig. 14(i) dargestellt ist, weisen im
Bereitschaftszustand beide Steuersignale ϕA und ϕB den Pegel Vpp des
Boost-Signals auf, und das Steuersignal ϕA oder ϕB für einen nicht
ausgewählten Speicherblock (einen Speicherblock, der keine
ausgewählte Wortleitung enthält) fällt auf den Pegel des
Massepotentials Vss ab. Damit wird nur ein Bitleitungspaar eines
Speicherblocks mit dem Leseverstärker 160 verbunden.
Anstelle der oben beschriebenen Konfiguration können, wie in Fig.
14(ii) dargestellt ist, im Bereitschaftszustand beide Steuersignale
ϕA und ϕB den Pegel der Versorgungsspannung Vcc aufweisen, das
Steuersignal für den ausgewählten Speicherblock erreicht den Boost-
Signalpegel Vpp, und das Steuersignal für den nicht ausgewählten
Speicherblock nimmt den Massepotentialpegel Vss an. Bei allen
Verfahren wird für den ausgewählten Speicherblock durch das
Steuersignal mit dem Boost-Signalpegel Vpp das Verbindungsgatter
leitend gemacht, wodurch das Bitleitungspaar und der Leseverstärker
160 miteinander verbunden werden.
Nach dem Verbinden von ausgewähltem Speicherzellenblock und
Leseverstärker 160 und dem Trennen von nicht ausgewähltem
Speicherzellenblock und Leseverstärker 160 wird das Leseverstärker-
Aktivierungssignal ϕSA aktiviert, und der Leseverstärker 160 führt
einen Lesebetrieb aus. Damit werden die Daten der Speicherzelle, die
mit der ausgewählten Wortleitung verbunden ist, erfaßt und
verstärkt.
Wie oben beschrieben worden ist, wird durch Anlegen der Signale ϕA
und ϕB mit Boost-Signalpegel Vpp an das Verbindungsgatter 162 oder
164 im Lesebetrieb der Übertragungsverlust des Signals im
Verbindungsgatter 162 oder 164 (aufgrund der Schwellenspannung des
MOS-Transistors, der das Verbindungsgatter bildet) eliminiert, so
daß das Signal mit einem Versorgungsspannungspegel Vcc zuverlässig
auf eine Bitleitung übertragen wird.
Bei der oben beschriebenen Konfiguration mit geteiltem
Leseverstärker wird der Speicherzellenfeldblock in zwei Blöcke
unterteilt. Daher wird die Länge der Bitleitungen im jeweiligen
Speicherzellenfeld verkürzt, und die Bitleitungskapazität kann klein
gemacht werden. Dadurch ist es möglich, eine ausreichende
Auslesespannung mit hoher Geschwindigkeit auf ein Bitleitungspaar zu
übertragen.
Fig. 15 zeigt das schematische Schaltbild einer Konfiguration zum
Erzeugen des jeweiligen Steuersignals für die geteilte
Leseverstärkeranordnung von Fig. 13. Wie in Fig. 15 dargestellt ist,
weist die Schaltung zum Erzeugen der geteilten Lesesteuersignale
einen RAS-Puffer 170, der das externe Signal /RAS zum Erzeugen des
internen RAS-Signals empfängt, eine Leseverstärker-
Aktivierungsschaltung 172, die das interne RAS-Signal vom RAS-Puffer
170 empfängt, um das Leseverstärker-Aktivierungssignal ϕSA zu einem
vorbestimmten Zeitpunkt zu erzeugen, eine Vpp-Erzeugungsschaltung
176, die das Boost-Signal Vpp in Abhängigkeit vom internen RAS-
Signal vom RAS-Puffer 170 zu einem vorbestimmten Zeitpunkt erzeugt,
und eine Trennsteuerschaltung 174, die die Trennsteuersignale ϕA und
ϕB in Abhängigkeit vom internen RAS-Signal, dem internen Adreßsignal
RA und dem Boost-Signal Vpp erzeugt, auf. Als internes Adreßsignal
RA wird z. B. ein höherwertiges Bit des internen Zeilenadreßsignals
verwendet. Es ist möglich, einen Speicherblock mit einer
ausgewählten Wortleitung durch eine vorbestimmte Anzahl
höherwertiger Bits des Zeilenadreßsignals RA zu identifizieren. Die
Vpp-Erzeugungsschaltung 176 erzeugt das Boost-Signal Vpp aus der
Versorgungsspannung Vcc auf dem Chip.
Wie oben beschrieben worden ist, werden im Halbleiterspeicher
Signale verschiedener Spannungspegel aus der Versorgungsspannung Vcc
auf dem Chip selbst erzeugt. Nicht nur im dynamischen
Direktzugriffsspeicher, sondern auch in EEPROMs, wie z. B. einem
Flash-Speicher (einer elektrisch programmierbaren und löschbaren
Halbleiterspeichervorrichtung), wird die Programmierspannung, die
für den Programmierbetrieb notwendig ist, aus der
Versorgungsspannung Vcc auf dem Chip selbst erzeugt.
Wenn das Boost-Signal Vpp und die Substratvorspannung VBB aus der
Versorgungsspannung Vcc auf dem Chip selbst erzeugt werden, ist eine
Spannung mit einem vorbestimmten oder höheren Pegel notwendig (oder
im Fall einer negativen Spannung: eine Spannung mit einem
vorbestimmten oder niedrigeren Pegel), um den Betriebsrahmen
einzuhalten.
Andererseits wird die Größe der Komponenten mit einer Vergrößerung
der Packungsdichte der Halbleitervorrichtungen, wie z. B. einem
Halbleiterspeicher, immer geringer. Daher ist es hinsichtlich der
Durchbruchspannung der Komponenten notwendig, das Anlegen einer
höheren Spannung als unbedingt erforderlich zu vermeiden. Wenn
beispielsweise das Boost-Signal Vpp als Wortleitungs-Treibersignal
angelegt wird, tritt eine Zerstörung der Wortleitung (offener
Stromkreis für eine Wortleitung, dielektrischer Durchbruch eines
Zwischenschichtisolierfilms) oder ähnliches auf, wenn der
Wortleitung eine höhere Spannung als unbedingt erforderlich
zugeführt wird.
Auch im Fall der Substratvorspannung VBB mit negativem Pegel ist es
möglich, wenn sich ein PN-Übergang in einem in Sperrichtung
vorgespannten Zustand befindet und das negative Potential der
Substratvorspannung VBB mehr als notwendig abgesenkt wird, daß der
in Sperrichtung vorgespannte Zustand des PN-Übergangs weiter
verstärkt wird. Das führt zur Zerstörung des PN-Übergangs (wenn ein
Signal mit "H"-Pegel an einen N-Bereich angelegt wird).
Um die Erzeugung einer Spannung zu verhindern, deren Pegel höher als
erforderlich ist, wird allgemein eine Schaltung zum Halten einer Spannung (im folgenden als Klemmschaltung bezeichnet) gebildet, wie
das in Fig. 16 gezeigt ist. In Fig. 16 ist als Beispiel eine
Konfiguration dargestellt, bei der der Spannungspegel des Boost-
Signals Vpp, das von der Vpp-Erzeugungsschaltung 180 erzeugt wird,
auf einem bestimmten Pegel festgehalten wird. Die Konfiguration der
Schaltung, die die Substratvorspannung VBB erzeugt, ist ähnlich
dazu. Die Klemmschaltung 182 dient dazu, zu verhindern, daß der
Pegel des Boost-Signals Vpp, das von der Vpp-Erzeugungsschaltung 180
erzeugt wird, einen vorbestimmten Spannungspegel übersteigt.
Fig. 17 zeigt das Schaltbild einer bestimmten Konfiguration für die
in Fig. 16 dargestellte Klemmschaltung. Wie in Fig. 17 gezeigt ist,
weist die Klemmschaltung MOS-Transistoren 8a bis 8n auf, die
zwischen einem Knoten 200 und einem Knoten, der ein als
Referenzpotential dienendes Massepotential (GND) zuführt, in Reihe
geschaltet sind. Jeder der MOS-Transistoren 8a bis 8n ist als Diode
geschaltet, um einen Spannungsabfall ihrer Schwellenspannung Vth zu
bewirken. Der Knoten 200 ist mit einer Signalleitung gekoppelt, auf
die das Boost-Signal Vpp übertragen wird. Nun wird unter Bezugnahme
auf die in Fig. 18 gezeigte Strom/Spannungs-Kennlinie der Betrieb
der in Fig. 17 dargestellten Klemmschaltung beschrieben. In Fig. 18
gibt die Ordinate den Strom I und die Abszisse die Spannung V an.
Die Kurve a zeigt die Strom/Spannungs-Kennlinie eines MOS-
Transistors und die Kurve b die Strom/Spannungs-Kennlinie der
Klemmschaltung von Fig. 17.
Bei jedem MOS-Transistor 8a bis Sn sind der Gate- und der Drain-
Anschluß miteinander verbunden, und die Transistoren arbeiten im
Sättigungsbereich. Die Strom/Spannungs-Kennlinie des MOS-Transistors
im Sättigungsbereich wird durch die Kurve a in Fig. 18 angegeben.
Genauer gesagt ist die Strom/Spannungs-Kennlinie durch folgende
Gleichung gegeben, wenn ein Strom Ids durch einen MOS-Transistor
fließt:
Ids = β . (Vgs - Vth)2
In dieser Gleichung stellt Ids den Drain-Strom, Vgs die Spannung
zwischen Gate und Source und Vth die Schwellenspannung dar. Der
Koeffizient β ist eine Konstante, die durch die geometrische Form
und ähnliche Dinge des MOS-Transistors bestimmt ist. Die
Strom/Spannungs-Kennlinie eines MOS-Transistors weist eine
quadratische Form auf.
Wenn die Anzahl der MOS-Transistoren 8a bis 8n, die in der
Klemmschaltung von Fig. 17 benutzt werden, gleich N ist, ist der
Strom I vom Knoten 200 zum Massepotential (Referenzpotential) GND
durch folgende Gleichung gegeben, vorausgesetzt, daß die
Schwellenspannungen Vth aller MOS-Transistoren 8a bis 8n gleich
sind:
I = β . (V/N - Vth)2 = (β/N2) . (V - N . Vth)2
Es ist möglich, die oben angeführte Gleichung unter der Bedingung
anzuwenden, daß die Durchlaßwiderstände der MOS-Transistoren 8a bis
8n alle gleich sind, die Spannungen zwischen Drain und Source
übereinstimmen, die an die jeweiligen MOS-Transistoren 8a bis 8n
angelegt werden, und daß die Ströme durch die jeweiligen MOS-
Transistoren 8a bis 8n gleich sind.
Entsprechend der oben angeführten Gleichung fließt der Strom I, wenn
die Spannung V am Knoten 200 die Beziehung V < N . Vth erfüllt.
Genauer gesagt wird in einer Klemmschaltung das N-fache der
Schwellenspannung Vth eines jeden MOS-Transistors 8a bis 8n, die
deren Bestandteile bilden, als Referenzspannung genommen. Wenn die
Spannung V am Knoten 200 den Wert N . Vth übersteigt, fließt vom
Knoten 200 zum Massepotential GND ein Strom, der bewirkt, daß das
Potential am Knoten 200 sinkt. Damit wird ein unnötiger Anstieg der
Spannung V am Knoten 200 verhindert.
Wenn jedoch, wie oben beschrieben, die MOS-Transistoren einfach in
Reihe geschaltet sind, ist die über einen MOS-Transistor angelegt
Spannung gleich V/N. Wie aus der obigen Gleichung ersichtlich ist,
liefert die Strom/Spannungs-Kennlinie der Klemmschaltung eine etwas
flachere Kurve als die eines einzelnen MOS-Transistors, wie durch
die Kurve b der Fig. 18 dargestellt wird. Genauer gesagt ist in der
Klemmschaltung von Fig. 17 die Stärke der Änderung des Stroms I
bezüglich der Änderung der Spannung V am Knoten 200 gleich 1/N2 der
Änderung des einzelnen MOS-Transistors, wodurch es nicht möglich
ist, schnell einen Stromfluß entsprechend der Änderung der Spannung
V am Knoten 200 zu bewirken. Daher ist es nicht möglich, mit hoher
Geschwindigkeit auf die Änderung der Spannung V am Knoten 200 zu
reagieren. Das verursacht das Problem, daß die Stromstärke zum
Zeitpunkt des Haltebetriebs nicht ausreichend ist, und daß ein
Leckstrom fließt, wenn kein Strom notwendig ist.
Weil das Haltepotential (im folgenden als Klemmpotential bezeichnet) durch ein ganzzahliges Vielfaches der
Schwellenspannung Vth des MOS-Transistors bestimmt wird, können nur
diskrete Werte als Klemmpotentiale implementiert werden. Das führt
zu dem Problem, daß ein beliebiges Klemmpotential nicht einfach
eingestellt werden kann.
Wenn die Anzahl der MOS-Transistoren in der Klemmschaltung ansteigt,
wird der MOS-Transistor, der vom Massepotential GND weiter entfernt
ist, von Substrateffekten mehr beeinflußt und weist eine höhere
Schwellenspannung Vth auf. Genauer gesagt steigt das Source-
Potential für einen weiter vom Massepotential GND entfernten MOS-
Transistor an, wenn das Substratpotential in den jeweiligen MOS-
Transistoren 8a bis 8n konstant ist. Das verursacht einen Anstieg
des Unterschieds zwischen Source-Potential und Substratpotential.
Damit steigt die Substratvorspannung effektiv an, und die
Schwellenspannung des MOS-Transistors wird höher. Daher tritt das
zusätzliche Problem auf, daß es schwierig ist, das Klemmpotential
genau einzustellen.
Aus der GB 2 250 358 A ist ein Referenzspannungsgenerator zum
Erzeugen einer Referenzspannung bekannt, bei dem ein Transistor
eine von der Referenzspannung abhängige Spannung erzeugt. Ein
weiterer Transistor arbeitet als ein Emitterfolger zum Halten des
Basispotentials auf einem bestimmten Wert. Aus dieser Druck
schrift ist weiter ein Referenzspannungsgenerator bekannt, der
einen Differenzverstärker verwendet, der eine Referenzspannung
und eine zu der zu erzeugenden Referenzspannung proportionale
Spannung vergleicht und ein entsprechendes Steuersignal erzeugt.
Mit dem Steuersignal wird die Leitfähigkeit eines Transistors zum
Halten der zu erzeugenden Referenzspannung gesteuert.
Aus der EP 0 496 424 A2 ist eine Schaltung zum Erzeugen einer
konstanten Spannung bekannt.
Aus der GB 2 238 890 A ist eine Schaltung zum Stabilisieren einer
Referenzspannung bekannt.
Aus dem am nächsten kommenden Stand der Technik, Patent Ab
stracts of Japan, E-773, 15. Juni 1989, Vol. 13/No. 259, ist
eine Schutzschaltung für eine integrierte Schaltung bekannt, die
das Fließen eines zu hohen Stroms zu einem MOS-Transistor ver
hindern soll. Die Schutzschaltung weist einen ersten und einen
zweiten Knoten, zwischen denen eine Spannung angelegt ist, eine
Zener-Diode, eine Diode und einen Widerstand, die in Reihe zwi
schen die beiden Knoten geschaltet sind, und einen Transistor,
der parallel zu der Zener-Diode, der Diode und dem Widerstand
zwischen den ersten und den zweiten Knoten geschaltet ist, wobei
seine Steuerelektrode mit dem Verbindungsknoten zwischen der
Diode und dem Widerstand verbunden ist, auf. Die Spannung zwi
schen den beiden Knoten ist auf die Summe der Zener-Spannung der
Zener-Diode, der Durchbruchsspannung der Diode und der Basis-
Emitter-Spannung des Transistors begrenzt, aber sie kann nicht
auf einem gewünschten Pegel gehalten werden.
Aus der DE 28 13 073 C2 ist eine Diskriminator-Schaltung be
kannt, die beim Erreichen eines vorbestimmten Wertes einer ver
änderlichen Versorgungsgleichspannung über ein Schaltelement ein
definiertes Ausgangssignal abgibt, bei der an die Versorgungs
gleichspannungsquelle eine Stromspiegelschaltung angeschlossen
ist, durch die ein Eingangsstrom in definierter Weise auf zwei
Stromzweige aufgeteilt wird, wobei in dem einen Stromzweig eine
Begrenzungsschaltung angeordnet ist, durch die der Anstieg der
Versorgungsgleichspannung auf einen bestimmten Maximalwert be
grenzt wird, während im anderen Stromzweig das das Ausgangs
signal abgebende Schaltelement angeordnet ist. Die Stromspiegel
schaltung bewirkt einen Spiegelstrom, der kein Konstantstrom
ist, zum Durchschalten des als Transistors ausgebildeten Schalt
elementes beim Überschreiten eines bestimmten Spannungspegels.
Das Durchschalten des Transistors setzt ein Flip-Flop.
Aufgabe der Erfindung ist es, eine Schaltung zum Halten einer
Spannung anzugeben, in der ein gewünschtes Haltepotential ein
fach eingestellt werden kann, und in der der Haltebetrieb genau
und mit hoher Geschwindigkeit ausgeführt werden kann.
Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Schaltung nach Anspruch 1.
In der Schaltung nach einer ersten Ausführungsform wird ein Transistor als
Mittel zum Halten des ersten Knotens (Halteknoten) benutzt. Der Transistor
empfängt die Referenzspannung an seinem Steuerelektrodenknoten.
Damit ist es möglich, einen Stromfluß entsprechend der
Potentialdifferenz zwischen dem Steuerelektrodenknoten und dem
Halteknoten zu bewirken. Weil ein Transistor als Haltemittel
benutzt wird, ändert sich der Stromfluß durch den Transistor schnell
in Abhängigkeit von einer Potentialänderung des Halteknotens.
Dadurch wird das Potential des Halteknotens genau und mit hoher
Geschwindigkeit auf einem vorbestimmten Potential festgehalten.
In der Schaltung nach einer zweiten Ausführungsform der vorliegenden
Erfindung erzeugt die Spannungserzeugungsschaltung eine trimmbare
konstante Spannung entsprechend einem konstanten Strom, und das
Haltemittel wird von einem Feldeffekttransistor gebildet. Daher
ist es möglich, daß sich die Stromstärke zwischen dem Halteknoten
und dem Referenzpotentialknoten (dem zweiten Knoten) mit hoher
Geschwindigkeit entsprechend dem Potential des Halteknotens ändert.
Dadurch ist es möglich, einen Haltebetrieb entsprechend der
Potentialänderung am Halteknoten schnell und mit hoher
Geschwindigkeit auszuführen.
Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen gekennzeichnet.
Es folgt die Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der Figuren. Von
den Figuren zeigen:
Fig. 1: ein Schaltbild der Konfiguration einer Schaltung nach
einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
Fig. 2: ein Schaltbild der speziellen Konfiguration der
Konstantstromquelle von Fig. 1;
Fig. 3: ein Diagramm der Beziehung zwischen der Gate-Spannung und
der Source-Spannung eines Halte-MOS-Transistors, der in
den Fig. 1 und 2 dargestellt ist, und der zu haltenden
Spannung;
Fig. 4: die Strom/Spannungs-Kennlinie des Halte-MOS-Transistors
von Fig. 1;
Fig. 5: ein Schaltbild der Konfiguration einer Schaltung nach
einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
Fig. 6: ein Schaltbild der speziellen Konfiguration der
Konstantstromquelle von Fig. 5;
Fig. 7: ein Schaltbild der Konfiguration einer Schaltung nach
einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
Fig. 8: ein Schaltbild der Konfiguration einer Schaltung nach
einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung;
Fig. 9: ein Schaltbild der allgemeinen Konfiguration eines
Halbleiterspeichers;
Fig. 10: das Schaltbild einer Speicherzelle des Halbleiterspeichers
von Fig. 9;
Fig. 11: ein Signaldiagramm des Betriebs zum Lesen von Daten aus
der in Fig. 10 gezeigten Speicherzelle;
Fig. 12: ein Diagramm zur Erläuterung der Funktionen einer
Substratvorspannung im Halbleiterspeicher;
Fig. 13: das Schaltbild der Anordnung geteilter Leseverstärker in
einem Halbleiterspeicher;
Fig. 14: ein Signaldiagramm des Lesebetriebs im Halbleiterspeicher
durch die in Fig. 13 dargestellte Anordnung geteilter
Leseverstärker;
Fig. 15: ein Blockschaltbild der Schaltungskonfiguration zur
Erzeugung der Steuersignale von Fig. 13;
Fig. 16: das Schaltbild eines Abschnitts, der im Halbleiterspeicher
ein Boost-Signal erzeugt;
Fig. 17: das Schaltbild einer Halteschaltung; und
Fig. 18: ein Diagramm der Strom/Spannungs-Kennlinie der
Halteschaltung und der Strom/Spannungs-Kennlinie eines
MOS-Transistors.
Fig. 1 zeigt ein Schaltbild der Konfiguration einer Halteschaltung
nach einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Die in Fig. 1
dargestellte Halteschaltung (im folgenden als Klemmschaltung bezeichnet) hält den Potentialpegel eines Boost-
Signals Vpp fest, das am Knoten 200 erscheint, der als erster oder Halteknoten
(Klemmknoten) dient. Wie in Fig. 1 gezeigt ist, weist die
Klemmschaltung einen Haltetransistor (Klemmtransistor) 1, der zwischen dem Knoten 200
und einem Knoten gebildet ist, der ein Referenzpotential
(Massepotential GND) liefert, zum Halten (Festklemmen) eines
Potentials V, das am Knoten 200 erscheint, auf einem vorbestimmten
Potentialpegel, einen trimmbaren Widerstand 2 zum Anlegen einer
Gate-Spannung VG an den Klemmtransistor 1, Transistoren 3, 4 zum
Ausgeben eines konstanten Stroms Io an den Widerstand 2 und eine
Konstantstromquelle 5 auf.
Der Klemmtransistor 1 besteht aus einem p-Kanal MOS-Transistor,
dessen Source und Substratbereich mit dem Knoten 200 gekoppelt sind
und dessen Drain mit einem Referenzpotentialknoten (im folgenden
einfach als "Massepotential GND" bezeichnet) verbunden ist.
Der Widerstand 2 besteht aus einem trimmbaren Widerstand, wie z. B.
einem Polysiliziumwiderstand, dessen Widerstand auf einen
gewünschten Wert R eingestellt ist. Als Trimmverfahren kann Laser-
Glühen oder ein ähnliches Verfahren angewandt werden. Der Widerstand
2 kann aus einer Mehrzahl von Widerstandselementen gebildet werden,
die parallel angeordnet sind, wobei jeder Widerstand über ein
Sicherungselement mit dem Massepotential GND verbunden ist. Durch
Abschmelzen mit einem Laser wird der Widerstandswert R auf einen
vorbestimmten Wert eingestellt. Der zwischen einen Knoten 210 (dem
Gate des Transistors 1) und dem Massepotential GND geschaltete
Widerstand 2 legt eine konstante Spannung VG entsprechend dem
Produkt Io . R aus dem durchfließenden Strom Io und dem
Widerstandswert R an das Gate des Transistors 1 an.
Der Transistor 3 besteht aus einem P-Kanal MOS-Transistor, dessen
Substratbereich und Source zusammen mit dem Knoten 200 verbunden
sind, dessen Drain mit dem Knoten 210 verbunden ist, und dessen Gate
mit dem Gate und der Drain des Transistors 4 verbunden sind.
Der Transistor 4 besteht aus einem P-Kanal MOS-Transistor, dessen
Source und Substratbereich zusammen mit dem Knoten 200 verbunden
sind, dessen Drain mit dem Gate des Transistors 3 und dem Gate des
Transistors 4 sowie mit der Konstantstromquelle verbunden ist. Die
Transistoren 3 und 4 bilden einen Stromspiegelverstärker. Bei der in
Fig. 1 dargestellten Konfiguration liefern die Transistoren 3 und 4
denselben Strom Io.
Fig. 2 zeigt ein Schaltbild für ein Beispiel der Konfiguration der
Konstantstromquelle von Fig. 1. Figur stellt die Verbesserung einer
Schaltung dar, die z. B. in "Analog Integrated Circuit Design
Technology or VLSI" von P. R. Gray et al., herausgegeben von John
Wiley & Sons, Inc. (übersetzt von Y. Nagata et al. und herausgegeben
von Bifukan in Japan) beschrieben ist.
Wie in Fig. 2 dargestellt ist, weist die Konstantstromquelle 5 einen
p-Kanal MOS-Transistor 220, dessen Source mit einem Knoten für das
Versorgungspotential Vcc (im weiteren einfach als "Versorgungsknoten
Vcc" bezeichnet), dessen Gate mit einem Knoten 240 und dessen Drain
mit einem Knoten 242 verbunden ist, einen Widerstand 222, dessen
erstes Ende mit der Versorgungsspannung Vcc und dessen zweites Ende
mit dem Knoten 240 verbunden ist, einen p-Kanal MOS-Transistor 224,
dessen Source mit dem Knoten 240, dessen Drain mit dem Knoten 244
und dessen Gate mit dem Knoten 242 verbunden ist, einen n-Kanal MOS-
Transistor 226, dessen Drain mit dem Knoten 242, dessen Gate mit dem
Knoten 244 und dessen Source mit dem Massepotential GND verbunden
ist, einen n-Kanal MOS-Transistor 228, dessen Drain mit dem Knoten
244, dessen Gate mit dem Knoten 244 und dessen Source mit dem
Massepotential GND verbunden ist, und einen n-Kanal MOS-Transistor
230, dessen Gate mit dem Knoten 244 und dessen Source mit dem
Massepotential GND verbunden ist und dessen Drain den konstanten
Strom Io empfängt, auf. Bevor der Betrieb der in Fig. 1 gezeigten
Klemmschaltung beschrieben wird, wird die in Fig. 2 dargestellte
Konstantstromquelle kurz erläutert.
Die Transistoren 226 und 228 bilden einen Stromspiegelverstärker.
Auch die Transistoren 228 und 230 bilden einen
Stromspiegelverstärker. Es wird der Fall betrachtet, daß der Strom
IA zum Widerstand 222 fließt. Das Potential des Knotens 240 erreicht
entsprechend dem Strom IA den Pegel Vcc - IA . R222. R222 stellt den
Wert des Widerstands 222 dar.
Es wird der Fall betrachtet, daß der Strom IA kleiner als ein
vorbestimmter Wert ist. In diesem Fall steigt das Potential des
Knotens 240 an, die Leitfähigkeit des Transistors 220 sinkt und das
Potential des Knotens 242 wird gesenkt. Das bewirkt, daß die
Leitfähigkeit des Transistors 224 ansteigt, der Strom durch den
Widerstand 222 ansteigt und das Potential des Knotens 240 fällt.
Damit steigt die Leitfähigkeit des Transistors 220 erneut an, das
Potential des Knotens 240 steigt an und die Leitfähigkeit des
Transistors 224 sinkt, wodurch der Strom normal durch den Widerstand
222 fließt. Über den Knoten 244 wird der durch den Transistor 224
fließende Strom dem Transistor 228 zugeführt. Der Knoten 244 ist mit
den Gates der Transistoren 226, 228 und 230 verbunden. Das führt
dazu, daß dieselbe Strommenge über die Transistoren 226, 228 und 230
fließt (wenn die Größe der Transistoren 226, 228 und 230
übereinstimmt).
Damit ist der über den Knoten 244 fließende Strom gleich dem Strom,
der über den Knoten 242 fließt. Schließlich ist auch der Strom, der
über den Widerstand 222 fließt, gleich groß wie der Widerstand über
den Transistor 220. Gewöhnlich ist der Strom IA durch den Widerstand
222, d. h. der Strom I über den Knoten 244, durch folgende Gleichung
gegeben:
I = |VthP|/R222
worin Vthp die Schwellenspannung des Transistors 220 darstellt. Ein
konstanter Strom gleich oder entsprechen dem Strom I fließt über den
Transistor 230.
Die oben beschriebene Konfiguration wird als Bias-Schaltung mit
Schwellenspannungsreferenz bezeichnet. Der oben beschriebene
Stromausdruck wird durch Auswählen eines ausreichend kleinen Bias-
Stroms IA und ein großes Verhältnis (W/L) der Gate-Breite zur Gate-
Länge des Transistors 220 implementiert.
Fig. 3 zeigt ein Diagramm der Beziehung zwischen der Source-Spannung
und der Gate-Spannung des Klemmtransistors, der in Fig. 1
dargestellt ist, und der zu haltenden Spannung. In Fig. 3 gibt die
Ordinate die Source-Spannung VS und die Gate-Spannung VG des
Klemmtransistors 1 und die Abszisse die Spannung V, die am Knoten
200 festgeklemmt (gehalten) werden soll, an. Unter Bezugnahme auf
die Fig. 1 und 3 wird nun der Betrieb der Klemmschaltung
beschrieben.
Die Konstantstromquelle 5 bewirkt, daß der konstante Strom Io über
den Transistor 4 fließt. Wenn die Gate-Spannungen der Transistoren 3
und 4 gleich sind und bei MOS-Transistoren 3 und 4, die eine
Stromspiegelschaltung bilden, im Sättigungsbereich arbeiten, wird
von der Konstantstromquelle 5 ein konstanter Strom Io gleich dem
Strom Io über den MOS-Transistor 3 ausgegeben. Damit beträgt die
Spannung VG am Knoten 210 VG = Io . R. Die Bedingung, unter der der MOS-
Transistor im Sättigungsbereich arbeitet, lautet folgendermaßen.
|VDS| ≧ |VGS - Vth
Im angeführten Ausdruck bezeichnet VDS die Spannung zwischen Drain
und Source des MOS-Transistors, VGS die Spannung zwischen Gate und
Source und Vth die Schwellenspannung.
Wenn die an den Knoten 200 angelegte Spannung V sinkt, arbeitet der
Transistor 3 in einem nicht-gesättigten Bereich. Wenn genauer gesagt
die an den Knoten 200 angelegte Spannung V folgende Beziehung
erfüllt:
V < VG + |Vthp
dann sinkt die Spannung zwischen Gate und Source des MOS-Transistors
3. Der MOS-Transistor 3 arbeitet in einem nicht-gesättigten Bereich,
so daß der darin fließende Strom geringer als der von der
Konstantstromquelle 5 zugeführte konstante Strom Io ist. Gewöhnlich
ist der Strom IDS, den der MOS-Transistor im nicht-gesättigten
Bereich ausgibt, gegeben als:
IDS = β . {2(VGS - Vth) . VDS - VDS2}
Wenn der MOS-Transistor 3 in einem nicht-gesättigten Bereich
arbeitet, ist die Spannung VG des Knotens 210 gleich:
VG @ V
Im oben angeführten Ausdruck wird der Spannungsabfall über den
Transistor 3 vernachlässigt.
Genauer gesagt liefert der MOS-Transistor 3 einen Strom vom Knoten
200 an den Knoten 210. Daher wird nur dann der Strom ausgegeben,
wenn das Potential VG des Knotens 210 niedriger als die an den
Knoten 200 angelegte Spannung V ist. Daher ist die Spannung V, die
am Knoten 210 auftritt, entsprechend dem Wert der Spannung V am
Knoten 200 proportional zu V oder gleich der konstanten Spannung
Io.R.
Das Gate des MOS-Transistors 1 ist mit dem Knoten 210 verbunden, um
die Spannung VG zu empfangen. Die Source des MOS-Transistors 1 ist
mit dem Knoten 200 verbunden, um die Spannung V zu empfangen. Daher
sind in Fig. 3 die Gate-Spannung VG und die Source-Spannung VS des
MOS-Transistors 1 angegeben. Genauer gesagt behält die Gate-Spannung
VG einen im wesentlichen konstanten Wert bei, wenn die Spannung V
des Knotens 200 einen konstanten Wert (Io . R, wobei der
Spannungsabfall über den Transistor 3 vernachlässigt wird)
übersteigt. Andererseits ändert sich die Source-Spannung VS des MOS-
Transistors 1 entsprechend der Spannung V des Knotens 200.
Die Spannung zwischen Gate und Source des MOS-Transistors 1
erhält man als Potentialdifferenz (VG - VS) zwischen den zwei Kurven
(VS und VG) in Fig. 3. Die Potentialdifferenz (VG - VS) ist
gewöhnlich negativ, weil für die Messung die Source als Referenz
angenommen wird.
Wenn der Absolutwert der Spannung zwischen Gate und Source, d. h. |VG
- VS|, größer als der Absolutwert der Schwellenspannung Vthp, d. h.
|Vthp| ist, schaltet der MOS-Transistor 1 durch, so daß ein Strom I
fließt. Der Strom I ist gegeben durch:
I = β . (|VG - V| - |VthP|)2 = β . {V - (VG + |Vthp|)}2
Wie in Fig. 4 dargestellt ist, fließt der Strom I entsprechend einer
quadratischen Funktion über den Transistor 1, wenn die an den Knoten
200 angelegte Spannung den Wert VG + |Vthp| übersteigt. Damit wird
die Spannung V am Knoten 200 innerhalb eines Bereiches bis auf VG +
|Vthp| festgehalten.
In Fig. 4 gibt die Ordinate den Strom I und die Abszisse die
Spannung V an.
Wie oben beschrieben worden ist nimmt die Strom/Spannungs-Kennlinie
der Klemmschaltung durch Verwenden eines MOS-Transistors als
Klemmtransistor eine quadratische Form an. Es kann eine
Strom/Spannungs-Kennlinie erzielt werden, die so steil wie für einen
einzelnen MOS-Transistor ist. Es ist möglich, der Änderung der
Spannung V am Knoten 200 mit hoher Geschwindigkeit zu folgen,
wodurch es möglich wird, die Spannung V präzise auf ein
vorbestimmtes Potential festzuklemmen.
Das Klemmpotential wird durch das Potential VG des Knotens 210 (dem
Gate des MOS-Transistors 1) bestimmt. Das Potential des Knotens 210
wird durch den Wert des Trimmwiderstandes 2 festgelegt. Daher kann
das Klemmpotential genau und auf einfache Weise auf einen beliebigen
Wert eingestellt werden.
Fig. 5 zeigt das Schaltbild der Konfiguration einer Klemmschaltung
nach einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Wie
in Fig. 5 dargestellt ist, weist die Klemmschaltung einen n-Kanal
MOS-Transistor 11 zum Ausgeben des Stroms I vom Massepotential GND
an einen Knoten 212, einen Trimmwiderstand 12, der zwischen das
Massepotential GND und das Gate des MOS-Transistors 11 geschaltet
ist, einen n-Kanal MOS-Transistor 13 zum Steuern der Stromstärke
durch den Trimmwiderstand 12, eine Konstantstromquelle 15, die den
konstanten Strom Io ausgibt, und einen n-Kanal MOS-Transistor 14 zum
Empfangen des konstanten Stroms Io von der Konstantstromquelle 15
auf. Gate und Drain des MOS-Transistors 14 sind miteinander
verbunden, und der MOS-Transistor 14 arbeitet im Sättigungsbereich
und bewirkt, daß derselbe Strom wie der Strom Io von der
Konstantstromquelle fließt.
Die MOS-Transistoren 13 und 14 bilden eine Stromspiegelschaltung. Im
gewöhnlichen Betrieb fließt derselbe Strom Io wie der Strom Io über
den MOS-Transistor 14 über den MOS-Transistor 13. In diesem Zustand
ist die Gate-Spannung VG des MOS-Transistors 11 gleich -Io . R. Es
wird angenommen, daß das Massepotential GND gleich 0V ist. Die
Source des MOS-Transistors 11 ist mit dem Knoten 212 verbunden. Der
MOS-Transistor 11 wird entsprechend der Potentialdifferenz zwischen
dem Potential V des Knotens 212 und der Gate-Spannung VG in einen
Durchlaß/Sperrzustand gebracht und gibt einen Strom entsprechend der
Potentialdifferenz an den Knoten 212 ab.
Genauer gesagt, schaltet der MOS-Transistor 11 durch, wenn die
Spannung V des Knotens 212 unter VG-Vthn liegt, und führt dem Knoten
212 den Strom Io zu. Mit anderen Worten klemmt der MOS-Transistor 11
die Spannung V des Knotens 212 auf das Potential -Io . R - Vthn fest.
Vthn ist die Schwellenspannung des MOS-Transistors 11.
Die Konfiguration der in Fig. 5 dargestellten Klemmschaltung kann im
wesentlichen durch Ersetzen der Kanalleitfähigkeitstypen der MOS-
Transistoren in der Klemmschaltung nach Fig. 1 implementiert werden.
Daher führt die in Fig. 5 gezeigte Klemmschaltung den Klemmbetrieb
ähnlich wie die Klemmschaltung nach Fig. 1 aus. Genauer gesagt
steuert der MOS-Transistor 13 die Stromstärke über den
Trimmwiderstand 12 entsprechend dem Potentialpegel der Spannung V
des Knotens 212, wodurch der Potentialpegel der Gate-Spannung VG des
Transistors 11 gesteuert wird. Bei dieser Konfiguration wird die
Spannung V des Knotens 212 auf einem vorbestimmten negativen
Potentialpegel festgeklemmt. Die in Fig. 5 gezeigte Klemmschaltung
wird in einer Ausgangsstufe einer Schaltung benutzt, die die
Substratvorspannung VBB mit einem negativen Potential erzeugt.
Fig. 6 zeigt ein Schaltbild eines Beispiels für die Konfiguration
der Konstantstromquelle von Fig. 5. Wie in Fig. 6 dargestellt ist,
weist die Konstantstromquelle 15 p-Kanal MOS-Transistoren 250 und
252, deren Sources mit dem Versorgungspotential Vcc verbunden sind
und die eine Stromspiegelschaltung bilden, einen n-Kanal MOS-
Transistor 254, dessen Gate mit einem Knoten 263, dessen erster
Leitungsanschluß mit einem Knoten 261 und dessen zweiter
Leitungsanschluß mit einem Knoten 265 verbunden ist, einen n-Kanal
MOS-Transistor 256, dessen Gate mit dem Knoten 265, dessen erster
Leitungsanschluß mit dem Knoten 263 und dessen zweiter
Leitungsanschluß mit dem Massepotential GND verbunden ist, einen
Widerstand 258, der zwischen den Knoten 265 und das Massepotential
GND geschaltet ist, und einen p-Kanal MOS-Transistor 260, dessen
Source mit der Versorgungsspannung Vcc und dessen Gate mit dem
Knoten 261 verbunden ist und dessen Drain den Strom Io liefert, auf.
Die Konfiguration der in Fig. 6 dargestellten Konstantstromquelle 15
kann durch Ersetzen der Leitfähigkeitstypen der MOS-Transistoren der
Komponenten und durch Ersetzen der Versorgungsspannung Vcc durch das
Massepotential GND in der Konstantstromquelle nach Fig. 2
implementiert werden. Daher stimmt der Betrieb der
Konstantstromquelle 15, die in Fig. 6 dargestellt ist, mit dem der
Konstantstromquelle 5 nach Fig. 2 überein. Die Rückkopplungen der
MOS-Transistoren 254 und 256 bewirken, daß ein konstanter Strom über
den Widerstand 258 fließt, und die Stromspiegelungsvorgänge der MOS-
Transistoren 250 und 252 bewirken, daß über den MOS-Transistor 256
derselbe Strom wie durch den Widerstand 258 fließt. Die Transistoren
252 und 260 bilden eine Stromspiegelschaltung. Daher gibt der MOS-
Transistor 260 den konstanten Strom Io aus. Der Potentialpegel des
Knotens 265 stimmt im wesentlichen mit der Schwellenspannung Vth des
MOS-Transistors 256 überein. Diese Bedingung kann durch
ausreichendes Absenken des Bias-Stroms, der über den Transistor 256
fließt, und durch Wählen eines großen Verhältnisses von Kanalbreite
zu Kanallänge (W/L) des MOS-Transistors 256 implementiert werden,
wie im Hinblick auf die in Fig. 2 gezeigte Konstantstromquelle
beschrieben worden ist.
Bei der in Fig. 5 dargestellten Konfiguration der Klemmschaltung ist
die Konstantstromquelle 15 zwischen den MOS-Transistor 14 und die
Versorgungsspannung Vcc geschaltet. Der Grund dafür ist, daß die
Substratvorspannung VBB ungefähr gleich -2 V bis -3 V beträgt und
somit einen kleinen Absolutwert aufweist, während das Boost-Signal
Vpp gewöhnlich auf einem Pegel von 6 V bis 8 V liegt. Genauer gesagt
ist z. B. in der Konfiguration der Konstantstromquelle 15 nach Fig. 6
eine Potentialdifferenz 2.|Vthp| im p-Kanal MOS-Transistor 260
notwendig, um den konstanten Strom Io stabil durch den MOS-
Transistor 260 abzugeben (das Gate-Potential des Transistors 260
liegt um |Vthp| unter der Versorgungsspannung). Daher kann bei
dieser Konfiguration die Konstantstromquelle 15 nicht mit einem
Strom vom Massepotential GND versorgt werden.
Wenn der Absolutwert der negativen Spannung, die am Knoten 212
auftritt, ausreichend groß ist, ist es jedoch möglich, die
Konstantstromquelle 15 zwischen dem MOS-Transistor 14 und dem
Massepotential GND anzuordnen (vgl. Konfiguration nach Fig. 1). Mit
anderen Worten kann man auch eine Konfiguration verwenden, bei der
die Konstantstromquelle 15 mit dem Massepotential GND anstelle dem
Versorgungspotential Vcc verbunden ist.
Fig. 7 zeigt ein Schaltbild der Konfiguration einer Klemmschaltung
nach einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Die
in Fig. 7 dargestellte Klemmschaltung ist eine Modifikation der in
Fig. 1 gezeigten Klemmschaltung. Genauer gesagt sind anstelle der
Konstantstromquelle 5 in der Klemmschaltung nach Fig. 1 n-Kanal MOS-
Transistoren 6 und 7 sowie eine Konstantstromquelle 25 gebildet.
Gate und Drain des n-Kanal MOS-Transistors 7 sind miteinander
verbunden, die Drain empfängt den konstanten Strom Io von der
Konstantstromquelle 25 und die Source ist mit dem Massepotential GND
verbunden. Die Drain des n-Kanal MOS-Transistors 6 ist mit Gate und
Drain des p-Kanal MOS-Transistors 4, die Source ist mit dem
Massepotential GND und das Gate mit dem Gate des MOS-Transistors 7
verbunden. Genauer gesagt bilden die MOS-Transistoren 6 und 7 eine
Stromspiegelschaltung und arbeiten gewöhnlich im Sättigungsbereich,
um denselben Stromfluß Io zu verursachen.
Die p-Kanal MOS-Transistoren 3 und 4 bilden ähnlich wie im Fall der
Klemmschaltung nach Fig. 1 eine Stromspiegelschaltung. Die p-Kanal
MOS-Transistoren 3 und 4 geben den konstanten Strom Io an den
Trimmwiderstand 2 ab und stellen das Gate-Potential des
Klemmtransistors 1 auf ein vorbestimmtes Potential ein. Der Betrieb
der in Fig. 7 dargestellten Klemmschaltung stimmt mit dem der
Klemmschaltung nach Fig. 1 überein.
Entsprechend der in Fig. 7 gezeigten Konfiguration ist es möglich,
eine Konstantstromschaltung (Konstantstromquelle 25 und MOS-
Transistor 7 zwischen dem Versorgungspotential Vcc und dem
Massepotential GND anzuordnen. Beim Einschalten wird das Boost-
Signal in einen stabilen Zustand gebracht, nachdem die
Versorgungsspannung Vcc stabil geworden ist (das Boost-Signal Vpp
wird aus der Versorgungsspannung Vcc erzeugt). Durch Konfigurieren
der Konstantstromschaltung so, daß der Strom von der
Versorgungsspannung Vcc dem Massepotential GND zugeführt wird, wie
in Fig. 7 dargestellt ist, befindet sich die Versorgungsspannung Vcc
beim Einschalten daher in einem stabilen Zustand. Andererseits kann
die Konstantstromquelle 25 selbst für den Fall eines instabilen
Zustands der Boost-Spannung Vpp den konstanten Strom Io stabil
ausgeben. Es wird verhindert, daß ein instabiles Boost-Signal Vpp
unnötig festgehalten wird, und die Klemmschaltung arbeitet stabil.
Beispielsweise kann die Konfiguration der Konstantstromquelle nach
Fig. 6 als Konstantstromquelle 25, die in Figur gezeigt ist,
verwendet werden.
Fig. 8 zeigt ein Schaltbild der Konfiguration einer Klemmschaltung
nach einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. Die
in Fig. 8 dargestellte Klemmschaltung stellt eine Modifikation der
in Fig. 5 gezeigten Klemmschaltung dar. Elemente entsprechend denen
der Klemmschaltung nach Fig. 5 sind mit denselben Bezugszeichen
versehen. Die in Fig. 8 gezeigte Klemmschaltung weist p-Kanal MOS-
Transistoren 16 und 17 sowie eine Konstantstromquelle 35 anstelle
der Konstantstromquelle 15 der Klemmschaltung von Fig. 5 auf. Gate
und Drain des p-Kanal MOS-Transistors 17 sind miteinander verbunden,
und der Transistor gibt den konstanten Strom Io von der
Versorgungsspannung Vcc an die Konstantstromquelle 35 aus. Der p-
Kanal MOS-Transistor 16 bildet zusammen mit dem p-Kanal MOS-
Transistor 17 eine Stromspiegelschaltung, um den vorbestimmten Strom
Io an den n-Kanal MOS-Transistor 14 auszugeben.
Bei dieser Konfiguration empfängt die Konstantstromquelle 35 über
den MOS-Transistor 17 einen Strom von der Versorgungsspannung Vcc.
Daher wird beim Einschalten, wenn die Versorgungsspannung
stabilisiert wird, der konstante Strom Io stabil erzeugt, um den
konstanten Strom Io vom p-Kanal MOS-Transistor 16 durch einen
Stromspiegelvorgang zu erzeugen. Damit kann in den n-Kanal MOS-
Transistoren 13 und 14, die eine andere Stromspiegelschaltung
bilden, der vorbestimmte Strom Io erzeugt werden. Damit kann man
eine Klemmschaltung erzielen, die den Strom Io stabil erzeugen kann,
unnötige Haltevorgänge (Klemmvorgänge) für die instabile Substratvorspannung VBB
verhindert, und selbst dann stabil arbeitet, wenn die
Substratvorspannung VBB beim Einschalten noch nicht stabilisiert
ist. Die in Fig. 2 gezeigte Schaltungskonfiguration kann als
Konstantstromquelle 35 von Fig. 8 benutzt werden.
Wie oben beschrieben worden ist, wird in einem Pfad, der vom
Klemmknoten (200 oder 212) verschieden ist, eine
Konstantstromschaltung zwischen der Versorgungsspannung Vcc und dem
Massepotential GND gebildet, und die Gate-Spannung des
Klemmtransistors wird durch Verwenden des konstanten Stroms
gesteuert, der von der Konstantstromschaltung erzeugt wird. Damit
kann eine Schaltungskonfiguration erzielt werden, die den konstanten
Strom Io stabil erzeugt, und die Klemmvorgänge durch den instabilen
Strom verhindert, der durch die instabile Haltespannung (Klemmspannung) (Vpp oder
VBB) verursacht wird. Es wird ein Klemmvorgang stabil ausgeführt,
selbst wenn die Klemmspannung (Vpp oder VBB) beim Einschalten
instabil ist.
Bei den oben beschriebenen Ausführungsformen werden ein
Wortleitungs-Treibersignal, eine hohe Programmierspannung oder ein
Leseverstärkertrennungs/verbindungssignal in einem geteilten
Leseverstärker und eine Substratvorspannung in einem
Halbleiterspeicher als Spannung beschrieben, die festgeklemmt werden
soll. Die Klemmschaltung nach der vorliegenden Erfindung kann jedoch
auf jede Spannung angewandt werden, die auf dem Chip selbst oder in
einer Schaltung aus der Versorgungsspannung Vcc erzeugt wird.
Die vorliegende Erfindung kann ferner so konfiguriert werden, daß
ein konstanter Strom mit einem Wert, der verschieden ist vom Strom
Io, der von einer Konstantstromquelle ausgegeben wird, über einen
Trimmwiderstand fließt.
Wie oben beschrieben worden ist, kann entsprechend der vorliegenden
Erfindung eine Klemmschaltung mit einer schnell ansteigenden
Strom/Spannungs-Kennlinie implementiert werden, weil die
Klemmvorgänge unter Verwendung eines Transistorelements ausgeführt
werden.
Weil ein einstufiges Transistorelement benutzt wird, das den
Stromfluß über einen Klemmknoten entsprechend einem
Referenzpotential von einer Referenzpotential-Erzeugungsschaltung
steuert, ist es möglich, den Stromfluß durch den Klemmknoten in
Abhängigkeit von einer Änderung des Potentials am Klemmknoten mit
hoher Geschwindigkeit zu ändern, dadurch wird es möglich, eine
Klemmschaltung zu schaffen, die das Referenzpotential genau und mit
hoher Geschwindigkeit auf einem vorbestimmten Potential festklemmt.
Weil eine Spannungserzeugungsschaltung mit einem Trimmwiderstand,
der eine Spannung entsprechend einem konstanten Strom von einer
Konstantstromquelle erzeugt, und eine Klemmschaltung, die die Stärke
des Stroms über einen Klemmknoten entsprechend der Spannung steuert,
die von der Spannungserzeugungsschaltung erzeugt wird, gebildet
werden, ist es möglich, durch Einstellen des Trimmwiderstands auf
einen geeigneten Wert auf einfache Weise eine Klemmschaltung mit
einem beliebigen Pegel zu implementieren. Weil ein Transistorelement
als Klemmtransistor benutzt wird, ist es möglich, eine
Klemmschaltung mit einer schnell ansteigenden Strom/Spannungs-
Kennlinie zu implementieren.
Claims (12)
1. Schaltung zum Halten einer an einem ersten Knoten (200; 212)
angelegten Spannung, mit
einem Referenzspannungs-Erzeugungsmittel (2, 3, 4, 5; 12, 13, 14, 15; 2, 3, 4, 6, 7, 25; 12, 13, 14, 16, 17, 35), das zwischen dem ersten Knoten (200; 212) und einem zweiten Knoten ausgebil det ist, zum konstanten Erzeugen einer von der Spannung an dem ersten Knoten (200; 212) unabhängigen Referenzspannung (VG), wobei an dem zweiten Knoten ein Referenzpotential (GND) auf einem vorbestimmten Pegel anliegt, und
einem ersten Transistor (1; 11), dessen erster Leitungsanschluß mit dem ersten Knoten (200; 212) verbunden ist, dessen zweiter Leitungsanschluß mit dem zweiten Knoten verbunden ist, und des sen Steuerelektrode zum Empfangen der vorbestimmten Referenz spannung (VG) von dem Referenzspannungs-Erzeugungsmittel geschal tet ist.
einem Referenzspannungs-Erzeugungsmittel (2, 3, 4, 5; 12, 13, 14, 15; 2, 3, 4, 6, 7, 25; 12, 13, 14, 16, 17, 35), das zwischen dem ersten Knoten (200; 212) und einem zweiten Knoten ausgebil det ist, zum konstanten Erzeugen einer von der Spannung an dem ersten Knoten (200; 212) unabhängigen Referenzspannung (VG), wobei an dem zweiten Knoten ein Referenzpotential (GND) auf einem vorbestimmten Pegel anliegt, und
einem ersten Transistor (1; 11), dessen erster Leitungsanschluß mit dem ersten Knoten (200; 212) verbunden ist, dessen zweiter Leitungsanschluß mit dem zweiten Knoten verbunden ist, und des sen Steuerelektrode zum Empfangen der vorbestimmten Referenz spannung (VG) von dem Referenzspannungs-Erzeugungsmittel geschal tet ist.
2. Schaltung nach Anspruch 1, bei der
das Referenzspannungs-Erzeugungsmittel
ein Konstantstrommittel (3, 4, 5; 3, 4, 6, 7, 25; 13, 14, 15; 13, 14, 16, 17, 35) zum Ausgeben eines konstanten Stromes (I0) an einen Ausgabeknoten (210), und
einen Spannungserzeuger (2; 12) mit einem Widerstandselement (2; 12) mit einem fest eingestellten Widerstandswert (R), das zwi schen den Ausgabeknoten (210) und den zweiten Knoten geschaltet ist, zum konstanten Erzeugen der Referenzspannung (VG) entspre chend des konstanten Stroms (I0), den das Konstantstrommittel zu führt, aufweist.
ein Konstantstrommittel (3, 4, 5; 3, 4, 6, 7, 25; 13, 14, 15; 13, 14, 16, 17, 35) zum Ausgeben eines konstanten Stromes (I0) an einen Ausgabeknoten (210), und
einen Spannungserzeuger (2; 12) mit einem Widerstandselement (2; 12) mit einem fest eingestellten Widerstandswert (R), das zwi schen den Ausgabeknoten (210) und den zweiten Knoten geschaltet ist, zum konstanten Erzeugen der Referenzspannung (VG) entspre chend des konstanten Stroms (I0), den das Konstantstrommittel zu führt, aufweist.
3. Schaltung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß das Konstantstrommittel einen zweiten Transistor (3; 13)
aufweist, der zwischen den ersten Knoten (200; 212) und das Wi
derstandselement (2; 12) geschaltet und von einem Spannungswert
des ersten Knotens (200; 212) abhängig ist, zum Ausgeben des
konstanten Stroms (I0) an das Widerstandselement (2; 12).
4. Schaltung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß der erste Transistor (1) ein p-Kanal-Feldeffekttransistor
(1) ist und der zweite Transistor (3) dem Widerstandselement (2)
den konstanten Strom (In) zuführt, wenn das Potential des ersten
Knotens (200) einen vorbestimmten Pegel übersteigt, und eine
Spannung, die an dem Widerstandselement (2) erzeugt wird, an die
Steuerelektrode des ersten Transistors (1) angelegt wird.
(Fig. 1, 7)
5. Schaltung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet,
daß der erste Transistor (11) ein n-Kanal-Feldeffekttransistor
(11) ist und der zweite Transistor (13) dem ersten Knoten (212)
einen Strom von dem Widerstandselement (12) zuführt, wenn das
Potential des ersten Knotens (212) einen vorbestimmten Pegel
unterschreitet, wobei das Potential, das am Widerstandselement
(12) erzeugt wird, an die Steuerelektrode des ersten Transistors
(11) angelegt wird. (Fig. 5, 8)
6. Schaltung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß das Konstantstrommittel (3, 4, 5; 3, 4, 6, 7, 25)
eine Konstantstromquellenschaltung (5; 6, 7, 25) zum Ausgeben des konstanten Stroms (I0) an den zweiten Knoten,
den zweiten Transistor (3), der zwischen den ersten Knoten (200) und den Ausgabeknoten (210) geschaltet ist, und
einen dritten Transistor (4), der zwischen den ersten Knoten (200) und die Konstantstromquellenschaltung (5; 6, 7, 25) so ge schaltet ist, daß der zweite und der dritte Transistor (3, 4) eine Stromspiegelschaltung bilden, aufweist. (Fig. 1, 7)
eine Konstantstromquellenschaltung (5; 6, 7, 25) zum Ausgeben des konstanten Stroms (I0) an den zweiten Knoten,
den zweiten Transistor (3), der zwischen den ersten Knoten (200) und den Ausgabeknoten (210) geschaltet ist, und
einen dritten Transistor (4), der zwischen den ersten Knoten (200) und die Konstantstromquellenschaltung (5; 6, 7, 25) so ge schaltet ist, daß der zweite und der dritte Transistor (3, 4) eine Stromspiegelschaltung bilden, aufweist. (Fig. 1, 7)
7. Schaltung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß die Konstantstromquellenschaltung (6, 7, 25)
eine Konstantstromquelle (25) zum Ausgeben des vorbestimmten konstanten Stroms,
einen vierten Transistor (7), der zwischen den zweiten Transi stor und die Konstantstromquelle (25) geschaltet ist, und
einen fünften Transistor (6), der zwischen den dritten Transi stor (4) und den zweiten Knoten in einer Stromspiegelanordnung mit dem vierten Transistor (7) geschaltet ist, aufweist. (Fig. 7)
eine Konstantstromquelle (25) zum Ausgeben des vorbestimmten konstanten Stroms,
einen vierten Transistor (7), der zwischen den zweiten Transi stor und die Konstantstromquelle (25) geschaltet ist, und
einen fünften Transistor (6), der zwischen den dritten Transi stor (4) und den zweiten Knoten in einer Stromspiegelanordnung mit dem vierten Transistor (7) geschaltet ist, aufweist. (Fig. 7)
8. Schaltung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß das Konstantstrommittel (13, 14, 15; 13, 14, 16, 17, 35)
eine Konstantstromquellenschaltung (15; 16, 17, 35) zum Ausgeben des konstanten Stroms (I0) von einem dritten Knoten, der ein an deres Referenzpotential (Vcc) empfängt,
den zweiten Transistor (13), der zwischen den Ausgabeknoten und den ersten Knoten (212) geschaltet ist, und
einen dritten Transistor (14), der zwischen den ersten Knoten und die Konstantstromquellenschaltung (15; 16, 17, 35) so ge schaltet ist, daß er mit dem zweiten Transistor (13) eine Strom spiegelschaltung bildet, aufweist. (Fig. 5, 8)
eine Konstantstromquellenschaltung (15; 16, 17, 35) zum Ausgeben des konstanten Stroms (I0) von einem dritten Knoten, der ein an deres Referenzpotential (Vcc) empfängt,
den zweiten Transistor (13), der zwischen den Ausgabeknoten und den ersten Knoten (212) geschaltet ist, und
einen dritten Transistor (14), der zwischen den ersten Knoten und die Konstantstromquellenschaltung (15; 16, 17, 35) so ge schaltet ist, daß er mit dem zweiten Transistor (13) eine Strom spiegelschaltung bildet, aufweist. (Fig. 5, 8)
9. Schaltung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,
daß die Konstantstromquellenschaltung (16, 17, 35)
eine Konstantstromquelle (35) zum Ausgeben des konstanten Stroms an den zweiten Knoten,
einen vierten Transistor (17), der zwischen den dritten Knoten und die Konstantstromquelle (35) geschaltet ist, und
einen fünften Transistor (16), der zwischen den dritten Knoten und den dritten Transistor in einer Stromspiegelanordnung mit dem vierten Transistor (17) geschaltet ist, aufweist. (Fig. 8)
eine Konstantstromquelle (35) zum Ausgeben des konstanten Stroms an den zweiten Knoten,
einen vierten Transistor (17), der zwischen den dritten Knoten und die Konstantstromquelle (35) geschaltet ist, und
einen fünften Transistor (16), der zwischen den dritten Knoten und den dritten Transistor in einer Stromspiegelanordnung mit dem vierten Transistor (17) geschaltet ist, aufweist. (Fig. 8)
10. Schaltung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, 6 oder 7,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Spannung, die am ersten Knoten (200) anliegt, ein hoch
getriebenes Wortleitungs-Treibersignal ist, das auf eine ausge
wählte Wortleitung in einem Speicherzellenfeld in einer Spei
chervorrichtung übertragen wird.
11. Schaltung nach einem der Ansprüche 2, 3, 5, 8 oder
9, dadurch gekennzeichnet,
daß die Spannung, die am ersten Knoten (212) anliegt, eine Vor
spannung ist, die an ein Halbleitersubstrat (140) mit einem
darauf gebildeten Element angelegt wird.
12. Schaltung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, 6 oder 7,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Spannung, die am ersten Knoten (200) anliegt, ein hoch
getriebenes Steuersignal (ϕA, ϕB) zum Verbinden einer ausgewähl
ten Bitleitung (BLA, /BLA, BLB, /BLB) mit einem Leseverstärker
(160) in einer Anordnung mit geteiltem Leseverstärker in einer
Halbleiterspeichervorrichtung ist.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4252850A JPH06104672A (ja) | 1992-09-22 | 1992-09-22 | クランプ回路 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE4331895A1 DE4331895A1 (de) | 1994-03-31 |
| DE4331895C2 true DE4331895C2 (de) | 1998-11-26 |
Family
ID=17243048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE4331895A Expired - Fee Related DE4331895C2 (de) | 1992-09-22 | 1993-09-20 | Schaltung zum Halten einer Spannung |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5436552A (de) |
| JP (1) | JPH06104672A (de) |
| KR (1) | KR970006622B1 (de) |
| DE (1) | DE4331895C2 (de) |
| IT (1) | IT1272657B (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6559707B1 (en) | 2001-12-06 | 2003-05-06 | Hynix Semiconductor Inc. | Bootstrap circuit |
Families Citing this family (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| USRE40552E1 (en) | 1990-04-06 | 2008-10-28 | Mosaid Technologies, Inc. | Dynamic random access memory using imperfect isolating transistors |
| JP3304539B2 (ja) | 1993-08-31 | 2002-07-22 | 富士通株式会社 | 基準電圧発生回路 |
| DE69325809T2 (de) * | 1993-11-24 | 1999-12-09 | Stmicroelectronics S.R.L., Agrate Brianza | Nicht-flüchtige Speicheranordnung mit Mitteln zur Erzeugung negativer Programmierspannungen |
| KR0153542B1 (ko) * | 1993-11-26 | 1998-10-15 | 김광호 | 반도체 집적장치의 기준전압 발생회로 |
| JPH07191769A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-28 | Toshiba Corp | 基準電流発生回路 |
| JP3626521B2 (ja) | 1994-02-28 | 2005-03-09 | 三菱電機株式会社 | 基準電位発生回路、電位検出回路および半導体集積回路装置 |
| DE4429715C1 (de) * | 1994-08-22 | 1996-05-02 | Siemens Ag | Schaltungsanordnung zur Spannungsbegrenzung |
| JP3207680B2 (ja) * | 1994-08-30 | 2001-09-10 | 株式会社東芝 | 半導体集積回路 |
| US5920734A (en) * | 1996-02-01 | 1999-07-06 | Microsoft Corporation | System for providing electrical power to a computer input device according to the interface types through the shared use of wires and a voltage clamp |
| US5856749A (en) * | 1996-11-01 | 1999-01-05 | Burr-Brown Corporation | Stable output bias current circuitry and method for low-impedance CMOS output stage |
| DE19821906C1 (de) * | 1998-05-15 | 2000-03-02 | Siemens Ag | Klemmschaltung |
| JP2001014877A (ja) * | 1999-06-25 | 2001-01-19 | Mitsubishi Electric Corp | 電圧発生回路およびそれを備えた半導体記憶装置 |
| JP4571719B2 (ja) * | 1999-09-20 | 2010-10-27 | 旭化成エレクトロニクス株式会社 | 非線形回路 |
| DE60120150T2 (de) * | 2001-07-26 | 2007-05-10 | Ami Semiconductor Belgium Bvba | EMV gerechter Spannungsregler mit kleiner Verlustspannung |
| EP1456926B1 (de) * | 2001-12-14 | 2013-03-27 | STMicroelectronics Asia Pacific Pte Ltd. | Begrenzungsschaltung für transiente spannungen |
| JP2005038909A (ja) * | 2003-07-15 | 2005-02-10 | Fujio Masuoka | 不揮発性メモリ素子の駆動方法、半導体記憶装置及びそれを備えてなる液晶表示装置 |
| TW200525867A (en) * | 2004-01-21 | 2005-08-01 | Renesas Tech Corp | Voltage clamp circuit, switching power supply apparatus, semiconductor IC device, and voltage level converting circuit |
| US7746163B2 (en) * | 2004-11-15 | 2010-06-29 | Nanopower Solutions, Inc. | Stabilized DC power supply circuit |
| JP4569418B2 (ja) * | 2004-12-07 | 2010-10-27 | 株式会社デンソー | モータ駆動回路 |
| US8030643B2 (en) | 2005-03-28 | 2011-10-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Memory device and manufacturing method the same |
| US7380042B2 (en) * | 2005-11-22 | 2008-05-27 | Dell Products L.P. | Method of detecting and monitoring master device communication on system bus |
| US7423476B2 (en) * | 2006-09-25 | 2008-09-09 | Micron Technology, Inc. | Current mirror circuit having drain-source voltage clamp |
| US20120002332A1 (en) | 2010-06-30 | 2012-01-05 | Riley Joseph D | Overvoltage circuit, and motor starter, overload relay and low-power system including the same |
| US8278995B1 (en) * | 2011-01-12 | 2012-10-02 | National Semiconductor Corporation | Bandgap in CMOS DGO process |
| US8315111B2 (en) * | 2011-01-21 | 2012-11-20 | Nxp B.V. | Voltage regulator with pre-charge circuit |
| JP2013097551A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-20 | Seiko Instruments Inc | 定電流回路及び基準電圧回路 |
| CN102624229B (zh) * | 2012-03-31 | 2016-05-11 | 上海华虹宏力半导体制造有限公司 | 升压电路以及集成电路 |
| CN105892540B (zh) * | 2014-11-04 | 2018-11-13 | 恩智浦美国有限公司 | 电压钳位电路 |
| CN108334153B (zh) * | 2017-01-17 | 2019-07-26 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种电流镜电路 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2813073C2 (de) * | 1978-03-25 | 1984-07-26 | Telefunken electronic GmbH, 7100 Heilbronn | Diskriminator-Schaltung |
| GB2238890A (en) * | 1989-10-24 | 1991-06-12 | Samsung Electronics Co Ltd | Circuit for stabilizing a reference voltage |
| GB2250358A (en) * | 1990-11-30 | 1992-06-03 | Samsung Electronics Co Ltd | Reference voltage generator and regulator for semiconductor memory |
| EP0496424A2 (de) * | 1991-01-25 | 1992-07-29 | Nec Corporation | Konstante Spannungsgeneratorschaltung |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6451813A (en) * | 1987-08-24 | 1989-02-28 | Ricoh Kk | Output voltage limit circuit |
| US4926065A (en) * | 1987-11-17 | 1990-05-15 | Applied Micro Circuits Corporation | Method and apparatus for coupling an ECL output signal using a clamped capacitive bootstrap circuit |
| US4874967A (en) * | 1987-12-15 | 1989-10-17 | Xicor, Inc. | Low power voltage clamp circuit |
| JPH01216675A (ja) * | 1988-02-24 | 1989-08-30 | Toshiba Corp | クランプ回路 |
| JPH01311711A (ja) * | 1988-06-10 | 1989-12-15 | Mitsubishi Electric Corp | クリップ回路 |
| US5132936A (en) * | 1989-12-14 | 1992-07-21 | Cypress Semiconductor Corporation | MOS memory circuit with fast access time |
| JP3068146B2 (ja) * | 1990-01-08 | 2000-07-24 | 日本電気株式会社 | 半導体集積回路 |
| US5311071A (en) * | 1991-10-21 | 1994-05-10 | Silicon Systems, Inc. | High speed threshold crossing detector with reset |
-
1992
- 1992-09-22 JP JP4252850A patent/JPH06104672A/ja active Pending
-
1993
- 1993-09-20 DE DE4331895A patent/DE4331895C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-09-21 US US08/123,964 patent/US5436552A/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-09-21 KR KR1019930019179A patent/KR970006622B1/ko not_active Expired - Fee Related
- 1993-09-21 IT ITMI932025A patent/IT1272657B/it active IP Right Grant
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2813073C2 (de) * | 1978-03-25 | 1984-07-26 | Telefunken electronic GmbH, 7100 Heilbronn | Diskriminator-Schaltung |
| GB2238890A (en) * | 1989-10-24 | 1991-06-12 | Samsung Electronics Co Ltd | Circuit for stabilizing a reference voltage |
| GB2250358A (en) * | 1990-11-30 | 1992-06-03 | Samsung Electronics Co Ltd | Reference voltage generator and regulator for semiconductor memory |
| EP0496424A2 (de) * | 1991-01-25 | 1992-07-29 | Nec Corporation | Konstante Spannungsgeneratorschaltung |
Non-Patent Citations (1)
| Title |
|---|
| JP 1-55017 A In: Patent Abstracts of Japan, Sect E, Vol. 13(1989), Nr. 259 (E-773) * |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6559707B1 (en) | 2001-12-06 | 2003-05-06 | Hynix Semiconductor Inc. | Bootstrap circuit |
| DE10164360A1 (de) * | 2001-12-06 | 2003-06-18 | Hynix Semiconductor Inc | Bootstrap-Schaltung |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| ITMI932025A0 (it) | 1993-09-21 |
| IT1272657B (it) | 1997-06-26 |
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