DE4117881C2 - Halbleiterspeichereinrichtung - Google Patents
HalbleiterspeichereinrichtungInfo
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- DE4117881C2 DE4117881C2 DE4117881A DE4117881A DE4117881C2 DE 4117881 C2 DE4117881 C2 DE 4117881C2 DE 4117881 A DE4117881 A DE 4117881A DE 4117881 A DE4117881 A DE 4117881A DE 4117881 C2 DE4117881 C2 DE 4117881C2
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Description
Die Erfindung betrifft eine Halbleiterspeichereinrichtung der in dem
Patentanspruch 1 oder in dem Patentanspruch 13 angegebenen Gattung.
Ein SRAM (statischer Direktzugriffsspeicher) stellt eine Halbleiter
speichereinrichtung dar, deren Daten nicht verloren gehen, bis die
Spannungsversorgung abgeschaltet wird. Durch die kürzliche Erhöhung
der Speicherkapazität der Halbleiterspeichereinrichtungen hat sich
die Zahl der Speicherzellen in einem solchen SRAM, die mit den je
weiligen Wortleitungen verbunden sind, erhöht.
Fig. 26 zeigt ein schematisches Blockdiagramm der Funktion der Ge
samtstruktur eines SRAM und weist nur einen minimalen Funktionsblock
auf, der für die Beschreibung der grundlegenden Operation des SRAM,
wie beispielsweise eine Lese- oder Schreiboperation, erforderlich
ist. In Fig. 26 weist ein Speicherzellenfeld 102 die Schaltkreis
struktur einer Speicherzelle, die als Beispiel dargestellt ist, auf.
In der Praxis umfaßt das Speicherzellenfeld 102 Speicherzellen, die
jeweils den dargestellten Schaltkreisaufbau besitzen und in einer
Matrix aus Zeilen und Spalten angeordnet sind. Für jede der Mehrzahl
von Zeilen ist eine Wortleitung WL und für jede der Mehrzahl von
Spalten ein Bitleitungspaar BitL und BitR gebildet. Jede Speicher
zelle ist mit einer Wortleitung WL und einem Bitleitungspaar BitL
und BitR verbunden, die jeweils der Zeile bzw. Spalte entsprechen,
in der die Speicherzelle angeordnet ist.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 26 wird nun eine grundlegende Opera
tion des SRAM beschrieben.
Beim Schreiben von Daten in eine Speicherzelle 200 wird ein externes
Adreßsignal an einen Adreßsignal-Eingangsschaltkreis 104 angelegt,
wobei das Signal die Stelle (Adresse) der Speicherzelle 200 im
Speicherzellenfeld 102 angibt, in die Daten geschrieben werden sol
len. Der Adreßsignal-Eingangsschaltkreis 104 wandelt die Spannungs
amplitude des externen Adreßsignals in eine Spannungsamplitude um,
die für einen internen Schaltkreis dieses SRAM geeignet ist. Weist
das externe Signal beispielsweise einen TTL-Pegel auf, dessen H-Pe
gel (logisch hoch) gleich 2,2V und dessen L-Pegel (logisch niedrig)
gleich 0,8V ist, so beträgt dessen Spannungsamplitude 1,4V. Weist
ein Signal des internen Schaltkreises des SRAM einen MOS-Pegel auf,
dessen H-Pegel gleich 5V und dessen L-Pegel gleich 0V ist, so be
trägt seine Spannungsamplitude 5V. In einem solchen Fall ändert der
Adreßsignal-Eingangsschaltkreis 104 die Spannungsamplitude 1,4V des
externen Signals in 5V.
Das Adreßsignal (im weiteren als internes Adreßsignal bezeichnet),
dessen Pegel vom Adreßsignal-Eingangsschaltkreis 104 geändert worden
ist, wird von einem Adreßsignal-Dekodierschaltkreis 106 in ein Wort
leitungs-Auswahlsignal und ein Bitleitungspaar-Auswahlsignal umge
wandelt.
Ausgewählt wird die Speicherzelle 200 von einer mit ihr verbundenen
Wortleitung WL, die ein Potential mit hohem Pegel erreicht, und ei
nem mit ihr verbundenen Bitleitungspaar BitL und BitR, das elek
trisch mit einem (nicht dargestellten) internen Datenbus verbunden
ist, der als I/O-Leitung bezeichnet wird. Das oben beschriebene
Wortleitungs-Auswahlsignal und das Bitleitungspaar-Auswahlsignal
stellen ein Signal, das nur das Potential auf der Wortleitung WL,
die mit der Speicherzelle 200 verbunden ist, auf hohen Pegel bringt
und ein Signal, das das mit der Speicherzelle 200 verbundene Bitlei
tungspaar BitL und BitR mit der I/O-Leitung verbindet, dar.
Nach der Auswahl der Speicherzelle 200 durch das Wortleitungs-Aus
wahlsignal und das Bitleitungspaar-Auswahlsignal werden die in die
Speicherzelle 200 zu schreibenden Daten von der I/O-Leitung zur Bit
leitung übertragen. Die zu schreibenden Daten werden von einem Da
tensignal-Eingabeschaltkreis 108 als externes Signal zugeführt. Der
Datensignal-Eingabeschaltkreis 108 ändert die Spannungsamplitude des
externen Datensignals in die Amplitude des MOS-Pegels und legt das
umgewandelte Signal an einen Datenschreibschaltkreis 100 an.
Der Datenschreibschaltkreis 100 überträgt das umgewandelte Datensi
gnal unter Verwendung eines (nicht dargestellten) Transistors mit
einer Stromtreibungsfähigkeit an die I/O-Leitung, die ein Treiben
des Bitleitungspaares BitL und BitR gestattet. Damit empfängt das
Bitleitungspaar BitL, BitR das Datensignal als komplementäre Poten
tiale.
In der Speicherzelle 200 werden in Abhängigkeit von einem Potential
mit hohem Pegel auf der Wortleitung WL die N-Kanal MOS-Transistoren
210 und 220 durchgeschaltet. Befinden sich die Potentiale auf den
Bitleitungen BitL und BitR auf hohem bzw. niedrigem Pegel, so wird
daher der N-Kanal MOS-Transistor 240 als Reaktion auf einen Potenti
alanstieg des Knotens N1 durch das Potential mit hohem Pegel auf der
Bitleitung BitL leitend und umgekehrt der N-Kanal MOS-Transistor 230
als Reaktion auf den Potentialabfall des Knotens N2 durch das Poten
tial mit niedrigem Pegel auf der Bitleitung BitR gesperrt. Damit
werden die von der I/O-Leitung auf die Bitleitungen BitL und BitR
übertragenen Potentiale an den Knoten N1 und N2 gehalten. Selbst
nachdem das Potential auf der Wortleitung WL einen niedrigen Pegel
erreicht und die Transistoren 210 und 220 sperren, bewirkt der ge
sperrte Transistor 230 mit anderen Worten, daß das Potential am Kno
ten N1 selbst dann auf hohem Potential (logisch hohem Pegel), das
über das Widerstandselement 250 von einer Spannungsversorgung Vcc
zugeführt wird, bleibt, während der leitende Transistor 240 bewirkt,
daß das Potential am Knoten N2 auf einem niedrigen Potential (=0V:
logisch niedriger Pegel) bleibt, das durch das Verhältnis des Wertes
des Widerstands 260 zum Durchlaßwiderstand des Transistors 240 be
stimmt ist.
Die oben angeführte Operation vervollständigt das Schreiben von Da
ten in die Speicherzelle 200.
Beim Lesen von Daten aus der Speicherzelle 200 wird wie beim Daten
lesen ein externes Adreßsignal, das der Speicherzelle 200 ent
spricht, aus der Daten gelesen werden sollen, dem Adreßsignal-Ein
gangsschaltkreis 104 zugeführt. Damit erreicht das Potential auf der
Wortleitung WL, die mit der Speicherzelle 200 verbunden ist, einen
hohen Pegel, um das mit der Speicherzelle 200 verbundene Bitlei
tungspaar BitL, BitR mit der I/O-Leitung zu verbinden. Befinden sich
die Potentiale an den Knoten N1 und N2 beispielsweise auf hohem bzw.
niedrigem Pegel, so fällt damit das Potential auf der Bitleitung
BitR aufgrund des Stromflusses von der Bitleitung BitR über die
Transistoren 210 und 240 zur Masse GND ab. Umgekehrt bleibt das Po
tential auf der Bitleitung BitL auf dem hohen Potential am Knoten
N1, da kein Strom von der Bitleitung BitL zur Masse fließt. Damit
treten komplementäre Potentialänderungen entsprechend den Speicher
daten (den Potentialen an den Knoten N1 und N2) der Speicherzelle
200 auf den Bitleitungen BitL und BitR auf.
In Unterschied zum Datenschreiben wird die I/O-Leitung beim Datenle
sen mit einem Datenverstärkungsschaltkreis 112 verbunden. Daher wer
den die Speicherdaten der Speicherzelle 200 zum Datenverstärkungs
schaltkreis 112 übertragen, nachdem sie auf den Bitleitungen BitL
und BitR auftauchen.
Der Datenverstärkungsschaltkreis 112 verstärkt die Potentialänderun
gen der Bitleitungen BitL und BitR, indem er die Differenz zwischen
den Potentialen auf den Bitleitungen BitL und BitR verstärkt, um den
Pegel des Datensignals, das aus der Speicherzelle 200 gelesen worden
ist, in einen Signalpegel (üblicherweise ein MOS-Pegel) zur Verwen
dung im internen Schaltkreis dieses SRAMs umzuwandeln. Das Datensi
gnal mit umgewandeltem Pegel wird über einen (nicht dargestellten)
Transistor, der eine Stromtreibungsfähigkeit zum Treiben eines
(nicht dargestellten) externen Datenbus besitzt und in einem Da
tensignal-Ausgabeschaltkreis 114 gebildet ist, extern ausgegeben.
Die oben angeführte Operation vervollständigt das Lesen von Daten
aus der Speicherzelle.
Ein Schreibsteuersignal-Eingabeschaltkreis 111 steuert den Daten
schreibschaltkreis 100 und den Datenverstärkungsschaltkreis 112, da
mit diese in der oben beschriebenen Weise arbeiten. Die in Fig. 26
gezeigte Schaltkreisanordnung der Speicherzelle wird allgemein als
Hochwiderstandslasttyp bezeichnet, der Widerstandselemente 250 und
260 mit großem Widerstand als Lasten verwendet.
Da beim Datenlesen die Potentiale auf den Bitleitungen BitL und BitR
in Abhängigkeit von den Potentialen an den Knoten N1 bzw. N2 voll
ständig geändert werden sollten, sollten Widerstand und Kapazität
des Bitleitungspaars BitL, BitR klein sein.
Werden an den Knoten N1 und N2 beispielsweise Potentiale mit hohem
bzw. niedrigem Pegel aufrecht erhalten, so fällt das Potential auf
der Bitleitung BitR beim Datenlesen durch den größeren Strom von der
Bitleitung BitR über die Transistoren 210 und 240 zur Masse schnel
ler. Werden umgekehrt an den Knoten N1 und N2 Potentiale mit niedri
gem bzw. hohem Pegel aufrecht erhalten, so fällt das Potential auf
der Bitleitung BitL durch den größeren Strom von der Bitleitung BitL
über die Transistoren 220 und 230 zur Masse GND schneller. Das be
deutet, daß die Transistoren 230 und 240 in der Speicherzelle die
Bitleitungen BitL bzw. BitR beim Datenlesen treiben.
Um die Speicherdaten der Speicherzelle auf das Bitleitungspaar BitL,
BitR schnell und zuverlässig auszulesen, ist es wünschenswert, daß
die Ströme, die vom Transistor 230 von der einen Bitleitung BitL
über den Transistor 220 zur Masse GND und vom Transistor 240 von der
Bitleitung BitR über den Transistor 210 zur Masse gezogen werden,
groß sind. Die Größe der jeweiligen Transistoren in einer Speicher
zelle weisen jedoch eine geringe Größe auf. Andererseits ist die
Länge der jeweiligen Bitleitung im Vergleich zum Transistor sehr
groß. Daher sollen die Widerstände und Kapazitäten der Bitleitungen
BitL und BitR bevorzugterweise klein sein, um es den Transistoren
230 und 240 in der Speicherzelle 200 zu gestatten, schnell einen be
stimmten Strom von der Bitleitung BitL bzw. BitR zu ziehen.
Hierfür wird das Bitleitungspaar BitL, BitR aus Metall gebildet, da
mit es einen ausreichend kleinen Widerstand und eine ausreichend ge
ringe Kapazität aufweist.
Andererseits ist die Wortleitung WL mit den Gates der Transistoren
210 und 220 der Speicherzelle 200 verbunden. Allgemein ist das Gate
eines MOS-Transistors aus einem Material wie Polysilizium mit einem
Widerstandswert gebildet, der größer als der von Metall ist. Daher
erfordert eine Wortleitung WL aus Metall ein Kontaktloch, um eine
Polysiliziumschicht, die die Gates der Transistoren 210 und 220 bil
det, mit einer Metallschicht zu verbinden, die als Wortleitung WL
dient. Ein solches Kontaktloch verhindert jedoch im allgemeinen eine
hohe Integration eines integrierten Halbleiterschaltkreises und
macht den Herstellungsprozeß kompliziert. Die Wortleitung WL wird
daher aus einem Material wie Polysilizium gebildet, das einen größe
ren Widerstand als Metall aufweist, und berührt die Gates der Tran
sistoren 210 und 220.
Durch den kürzlichen Anstieg der Kapazität von SRAMs hat sich jedoch
die Zahl der Speicherzellen erhöht, die in einer jeweiligen Reihe
angeordnet sind. Hieraus folgt ein Anstieg der Länge der jeweiligen
Wortleitung. Damit werden Widerstand und Kapazität der jeweiligen
Wortleitung signifikant erhöht, wodurch der Adreßsignal-Dekodier
schaltkreis 106 mehr Zeit benötigt, das Potential auf der Wortlei
tung WL auf einen hohen Pegel zu ändern.
Wenn die Wortleitung WL nicht schnell ein Potential mit hohem Pegel
erreicht, werden die Transistoren 210 und 220 in der Speicherzelle
nur langsam leitend. Damit benötigen die Potentiale auf den Bitlei
tungen BitL und BitR mehr Zeit, um sich beim Datenlesen in Abhängig
keit von den Speicherdaten in der Speicherzelle 200 zu ändern. Fer
ner dauert es länger, die Potentiale an den Knoten N1 und N2 beim
Datenschreiben auf einen Pegel zu zwingen, der den externen Daten
entspricht. Daher erhöht eine solcher Anstieg der Länge der Wortlei
tung WL die Zeitspanne von der Zuführung eines externen Adreßsignals
an den Adreßsignal-Eingabeschaltkreis 104 bis zum Datenlesen oder
Datenschreiben bezüglich einer Speicherzelle 200 entsprechend dem
Adreßsignal, d. h. die Zugriffszeit.
Obwohl dieses Problem bis zu einem gewissen Grad durch eine Erhöhung
der Größe des Transistors im Adreßsignal-Dekodierschaltkreis, um die
Treibungsfähigkeit des Adreßsignal-Dekoderschaltkreises 106 bezüg
lich der Wortleitung WL anzuheben, vermieden werden kann, ist es
nicht möglich, die Größe der Bauelemente in einer integrierten Halb
leiterschaltkreiseinrichtung grenzenlos zu vergrößern. Daher sollte
die Wortleitung WL unabhängig von einem Anstieg der Wortleitungs
länge durch die Bauelemente beschränkter Größe getrieben werden, die
im Adreßsignal-Dekodierschaltkreis 106 gebildet sind. Auf diese
Weise kann das Problem nicht gelöst werden.
Als ein herkömmliches Verfahren zum Vermeiden eines Problems, wie es
oben beschrieben worden ist, wird jede Wortleitung WL in eine Mehr
zahl von Abschnitte unterteilt. Jeder Abschnitt ist mit einem Deko
derschaltkreis zum Treiben des Abschnitts ausgerüstet. Dieses Ver
fahren wird als geteilte Wortleitungsstruktur bezeichnet. Ein sol
ches Verfahren mit geteilter Wortleitung ist beispielsweise in der
US RE32993 und der US 4,554,646 beschrieben.
Fig. 27 zeigt ein schematisches Diagramm des Prinzips einer solchen
Wortleitungsteilung in einem SRAM. Unter Bezugnahme auf die Fig. 27
wird nun kurz das Prinzip der Wortleitungsteilung beschrieben.
Wie in Fig. 27(a) dargestellt ist, ist ein Speicherzellenfeld 102 in
Zeilenrichtung in eine Mehrzahl von Blöcke unterteilt. Jede Zeile
weist eine Wortleitung auf, die in einzelne Blöcke unterteilt ist
(siehe Fig. 27(b)). Im weiteren werden diese individuell gebildeten
Wortleitungen als lokale Wortleitungen bezeichnet. Dies bedeutet,
daß eine Mehrzahl von lokalen Wortleitungen, die entsprechend jeder
Zeile gebildet sind, eine Wortleitungsgruppe im Speicherzellenfeld
102 bilden. Die Auswahl einer lokalen Wortleitung wird durch Erzeu
gen eines Signals zur Auswahl einer lokalen Wortleitung in einer
Wortleitungsgruppe (im weiteren als lokales Wortleitungssignal be
zeichnet) ausgeführt, wie in Fig. 27(c) gezeigt ist, indem das logi
sche Produkt eines Signals zum Auswählen eines Blockes aus der Mehr
zahl von Blöcken, die das Speicherzellenfeld 102 bilden (im weiteren
als Z-Dekodersignal bezeichnet), und eines Signals zum Auswählen ei
ner Gruppe in der Mehrzahl von Wortleitungsgruppen, die im Speicher
zellenfeld 102 enthalten sind (im weiteren als Hauptwortleitungssi
gnal bezeichnet), bestimmt wird.
Wie in Fig. 27(d) dargestellt ist, bilden im Speicherzellenfeld 102
die Bitleitungspaare der entsprechenden Spalten der Blöcke eine Bit
leitungspaargruppe. Durch ein Signal, das eine Gruppe aus der Mehr
zahl von Bitleitungspaargruppen im Speicherzellenfeld 102 auswählt,
wird aus jedem Block ein Bitleitungspaar ausgewählt.
Wie in Fig. 27(e) gezeigt ist, wird unter den Speicherzellen, die
mit der Mehrzahl von Bitleitungspaaren in der ausgewählten Bitlei
tungspaargruppe verbunden sind, eine Speicherzelle, die mit der aus
gewählten einen lokalen Wortleitung verbunden ist, durch eine solche
Auswahl einer lokalen Wortleitung und die Bitleitungspaarauswahl
ausgewählt. Wie oben beschrieben worden ist, wird die Adresse einer
Speicherzelle, aus der Daten gelesen oder in die Daten geschrieben
werden sollen, durch eine Blockadresse, die den n-ten aus der Hehr
zahl von Blöcken auszuwählenden Block angibt, eine Zeilenadresse,
die die n-te aus der Mehrzahl von Wortleitungsgruppen auszuwählende
Wortleitungsgruppe angibt, und eine Spaltenadresse, die die n-te aus
der Mehrzahl von Bitleitungspaargruppen auszuwählende Bitleitungs
paargruppe angibt, bestimmt.
Ein SRAM mit geteilter Wortleitungsstruktur weist daher einen
Schaltkreis zum Erzeugen eines lokalen Wortleitungssignals (im wei
teren als lokaler Dekoder bezeichnet) durch Ermitteln des logischen
Produkts des Z-Dekodersignals und des Hauptwortleitungssignals auf.
Dieser Schaltkreis ist für jeden Block gebildet.
Fig. 28 zeigt ein schematisches Diagramm der Anordnung der Umgebung
des Speicherzellenfeldes, die einen lokalen Dekoder des SRAMs mit
geteilter Wortleitungsstruktur aufweist.
In einem Speicherzellenfeld, wie es in Fig. 28 dargestellt ist, wei
sen n Teilblöcke Bl0-BL(n-1) lokale Dekodergruppen DEC0-DEC(n-1)
auf. Diese Blöcke BL0-BL(n-1) weisen jeweils dieselbe Zahl lokaler
Wortleitungen LWL0-LWL(n-1) auf. Die lokalen Dekodergruppen DEC0-
DEC(n-1) weisen als lokale Dekoder LD0-LD(n-1) Logikgatter auf, die
jeweils entsprechend den lokalen Wortleitungen LWL0-LWL(n-1) in den
entsprechenden Blöcken BL0-BL(n-1) gebildet sind.
Zum Anlegen von Hauptwortleitungssignalen an die lokalen Dekoder
gruppen DEC0-DEC(n-1) ist ein Zeilendekoder 6 gebildet. Es ist ein
Z-Dekoder 18 geschaffen, um Z-Dekodersignale den lokalen Dekoder
gruppen DEC0-DEC(n-1) zuzuführen. Der Zeilendekoder 6 weist Aus
gangssignalleitungen MWL auf, die jeweils für jede Zeile gebildet
sind. Die Signalleitungen MWL werden als Hauptwortleitungen bezeich
net. Der Z-Dekoder 18 weist Ausgangssignalleitungen ZL auf, die je
weils entsprechend den lokalen Dekodergruppen DEC0-DEC(n-1) geschaf
fen sind. Die Signalleitungen ZL werden als Z-Dekodersignalleitungen
bezeichnet.
Jeder der lokalen Dekoder LD0-LD(n-1) empfängt ein Signal auf der
entsprechenden Z-Dekodersignalleitung ZL und ein Signal auf der
Hauptwortleitung MWL der entsprechenden Zeile als Eingangssignale,
um auf der entsprechenden der lokalen Wortleitungen LWL0-LWL(n-1)
ein lokales Wortleitungssignal zum Auswählen der entsprechenden lo
kalen Wortleitung zu erzeugen.
Der Zeilendekoder 6 weist beispielsweise Logikgatterschaltkreise 40
auf, die jeweils für eine Hauptwortleitung MWL gebildet sind. Mit
dem Empfang eines externen Adreßsignals, das eine Zeilenadresse an
gibt, gibt einer der Logikgatterschaltkreise 40 im Zeilendekoder 6
auf die entsprechende Hauptwortleitung MWL ein Hauptwortleitungssi
gnal zum Aktivieren der Hauptwortleitung MWL aus.
Der Z-Dekoder 18 gibt auf eine der Signalleitungen ZL ein Dekodersi
gnal zum Aktivieren der Signalleitung ZL in Abhängigkeit von einer
externen Adresse aus, das eine Blockadresse angibt. Zu diesem Zeit
punkt befinden sich die Potentiale auf der aktivierten Z-Dekodersi
gnalleitung und der aktivierten Hauptwortleitung MWL beide auf hohem
Pegel. Werden 2-Eingangs-UND-Gatter als lokale Dekoder LD0-LD(n-1)
verwendet, so wird daher nur eine lokale Wortleitung, die mit einem
lokalen Dekoder verbunden ist, der das Potential der aktivierten
Hauptwortleitung MWL und das Potential auf der aktivierten Z-Deko
dersignalleitung ZL als Eingangssignale empfängt, auf einen hohen
Pegel gebracht. Dies bedeutet, daß nur eine lokale Wortleitung ein
lokales Wortleitungssignal zum Aktivieren der lokalen Wortleitung
empfängt.
Zur Vereinfachung sind in Fig. 28 weder Bitleitungspaare noch
Speicherzellen dargestellt.
Fig. 29 zeigt das tatsächliche Layout der lokalen Dekodergruppen und
der geteilten Speicherzellenfeldblöcke auf einem Halbleitersubstrat
in einem solchen SRAM mit geteilter Wortleitungsstruktur.
In der Praxis zerfallen, wie in Fig. 29 dargestellt ist, hinsicht
lich des Layouts n (n ist eine gerade Zahl) Teilblöcke BL0-BL(n-1)
eines Speicherzellenfeldes in n/2 Gruppen, wobei jede Gruppe zwei
Blöcke aufweist. Dann werden in jeder dieser n/2 Gruppen eine gerad
zahlig numerierte lokale Dekodergruppe, die dem geradzahlig nume
rierten Block entspricht, und eine ungeradzahlig numerierte lokale
Dekodergruppe, die einem ungeradzahlig numerierten und dem geradzah
lig numerierten Block benachbarten Block entspricht, zwischen diesen
beiden Blöcken angeordnet.
In "S. Aizaki et al, IE³ ISSCC Digest of Technical Papers, S. 126-
127, 1990" und ähnlichen Druckschriften ist eine weitere Teilung der
in Zeilenrichtung geteilten Blöcke BL0-BL(n-1) in eine Mehrzahl von
Blöcke in Spaltenrichtung vorgeschlagen worden. Fig. 30 zeigt ein
Schaltbild einer schematischen Anordnung des Hauptteils eines SRAM,
in dem ein Speicherzellenfeld in Zeilenrichtung in 32 Blöcke BL0-
BL31 und jeder Block in Spaltenrichtung weiter in 128 Subblöcke
SBL0-SBL127 unterteilt ist. Jeder der Blöcke BL0-BL31 weist dieselbe
Zahl von Speicherzellenspalten auf. In ähnlicher Weise besitzt jeder
der Subblöcke SBL0-SBL127 dieselbe Zahl von Speicherzellenzeilen.
Wird jeder der Blöcke in Spaltenrichtung weiter in eine Mehrzahl von
Subblöcken unterteilt, so weist der Zeilendekoder 6 128 Ausgangssi
gnalleitungen, d. h. 12 Hauptwortleitungen MWL auf, die entsprechend
den Subblockgruppen SBL0-SBL127 gebildet sind. Der Zeilendekoder 6
weist beispielsweise Logikgatterschaltkreise 40 auf, die entspre
chend den Hauptwortleitungen gebildet sind. Mit dem Empfang eines
externen Adreßsignals, das eine Zeilenadresse angibt, legt eines
dieser Logikgatter 40 an die entsprechende Hauptwortleitung MWL ein
Potential (mit hohem Pegel) an, das die Hauptwortleitung aktiviert.
Der Z-Dekoder 18 weist Ausgangssignalleitungen, d. h. Z-Dekodersi
gnalleitungen ZL auf, die mit derselben Zahl (m) von lokalen Wort
leitungen, die in einem Subblock enthalten sind, für jeden der 32
Blöcke BL0-BL31 gebildet sind. Daher bildet die Mehrzahl von Z-Deko
dersignalleitungen, die für den jeweiligen Block BL0-BL31 geschaffen
sind, eine Signalleitungsgruppe ZLG. In Abhängigkeit von einem ex
ternen Adreßsignal, das eine Blockadresse angibt, und einem externen
Adreßsignal, das eine Zeilenadresse angibt, gibt der Z-Dekoder 18 an
nur eine der Signalleitungen ZL, die in diesen Signalleitungsgruppen
enthalten sind, ein Potential mit hohem Pegel zum Aktivieren der
einen Signalleitung ZL aus.
Entsprechend den Blöcken BL0-BL31 sind lokale Dekodergruppen DEC0-
DEC31 gebildet. Genauer gesagt befinden sich zwischen jedem der un
geradzahlig numerierten Blöcke BL1, BL3, . . . und jedem der hierzu
benachbarten geradzahlig numerierten Blöcke BL0, BL2, . . . zwei lo
kale Dekodergruppen entsprechend diesen zwei Blöcken.
Die lokalen Dekodergruppen DEC0-DEC31 weisen Logikgatterschaltkreise
LD0-LD31 als lokale Dekoder auf, die für die jeweiligen Wortleitun
gen LWL0-LWL31 in den entsprechenden Blöcken BL0-BL31 gebildet sind.
Ein Signal auf der jeweiligen Hauptwortleitung MWL wird an alle lo
kalen Dekoder LD0-LD31, die entsprechend den 32 Subblöcken (jeweils
SBL0-SBL127) dieser Hauptwortleitung MWL gebildet sind, gemeinsam
angelegt. Es ist eine Mehrzahl von Signalleitungen, die in der je
weiligen Z-Dekodersignalleitungsgruppe ZLG gebildet sind, ist ent
sprechend der Mehrzahl lokaler Wortleitungen im entsprechenden Block
(ein beliebiger von BL0-BL31) geschaffen. Ferner ist die Mehrzahl
von Leitungen in jeder Signalleitungsgruppe ZLG gemeinsam mit 128
lokalen Dekodern verbunden, die entsprechend den 128 lokalen Wort
leitungen der 128 Subblöcke SBL0-SBL127 im einen entsprechenden
Block geschaffen sind.
Daher weist jeder der lokalen Dekoder LD0-LD31 ein 2-Eingangs-UND-
Gatter auf, wobei nur ein lokaler Dekoder, der mit einer aktivierten
Hauptwortleitung MWL und einer aktivierten Z-Dekodersignalleitung ZL
verbunden ist, die entsprechende eine lokale Wortleitung aktiviert.
Das bedeutet, daß nur ein lokaler Dekoder ein lokales Wortleitungs
auswahlsignal ausgibt.
Wird wie oben beschrieben eine Mehrzahl von Blöcken, die in Zeilen
richtung geteilt ist, zusätzlich in Spaltenrichtung unterteilt, so
wird die Auswahl der lokalen Wortleitung durch den Zeilendekoder 6,
der ein Signal ausgibt, das in der Zeichnung den n-ten Subblock von
oben mit einer auszuwählenden lokalen Wortleitung angibt, und den
Z-Dekoder 18 ausgeführt, der ein Signal ausgibt, das den in der Zeich
nung n-ten Block von links mit der einen auszuwählenden lokalen
Wortleitung und den n-ten Subblock von oben mit der lokalen Wortlei
tung angibt.
Fig. 31 stellt eine Tabelle dar, die zeigt, wie externe Adreßsignale
dem Zeilendekoder 6 und dem Z-Dekoder 18 der Fig. 30 für den Fall
eines Speicherzellenfeldes mit Speicherzellen, die in einer Matrix
aus 512 Zeilen und 2048 Spalten angeordnet sind, aufgeteilt zuge
führt werden. Unter Bezugnahme auf die Fig. 31 und 30 werden aus den
externen Adreßsignalen, die die Adresse einer auszuwählenden
Speicherzelle in Spaltenrichtung angeben, die Blockadresse angeben
den 5-Bit-Signale Z0-Z4 in den Z-Dekoder 18 und die Spaltenadresse
in einem Block angebenden 6-Bit-Signale Y0-Y5 in den (in Fig. 30
nicht dargestellten) Spaltendekoder eingegeben. Von den externen
Adreßsignalen, die die Adresse der auszuwählenden Speicherzelle in
Zeilenrichtung angeben, werden die höherwertigen 7-Bit-Signale X2-X8
in den Zeilendekoder 6 und die niederwertigen 2-Bit-Signale X0 und
X1 in den Z-Dekoder 18 eingegeben.
In einem solchen Fall dekodiert der Zeilendekoder 6 die 7-Bit-Si
gnale X2-X8, um 2⁷-Bit-Signale (128 Signale) X0-X127 auszugeben, von
denen sich eines auf hohem Pegel befindet. Damit wird nur eine der
128 Hauptwortleitungen MWL aktiviert. Der Z-Dekoder 18 dekodiert
insgesamt die 7-Bit-Signale mit den 5-Bit-Blockadreßsignalen Z0-Z4
und den 2-Bit-Zeilenadreßsignalen X0 und X1, um 2⁷-Bit (= 32 × 4)
X-Dekodersignale ZX0-ZX127 auszugeben, wobei sich nur eines der Si
gnale auf hohem Pegel befindet.
Für den Fall eines Speicherzellenfeldes mit 512 Speicherzellenzeilen
weist jeder der Subblöcke SBL0-SBL127 vier lokale Wortleitungen auf.
Daher aktiviert die Ausgabe der oben beschriebenen 128-Bit-Signale
ZX0-ZX127 durch den Z-Dekoder 18 eine von vier Signalleitungen ZL,
die in einer der 32 entsprechend den 32 Blöcken BL0-BL31 gebildeten
Signalliniengruppen ZLG enthalten sind.
Der Spaltendekoder dekodiert die 6-Bit-Signale Y0-Y6, um 2⁶-Bit
(=64) Signale auszugeben, von denen nur eines auf hohem Pegel liegt.
Für den Fall eines Speicherzellenfeldes mit 2048 Speicherzellenspal
ten weist jeder der Blöcke BL0-BL31 64 Bitleitungspaare auf und da
her wählt jedes der 64-Bit-Signale in jedem der Blöcke BL0-BL31 ein
Bitleitungspaar auf.
Fig. 32 zeigt ein Logikschaltkreisdiagramm für ein Beispiel der
tatsächlichen Anordnung eines lokalen Dekoders. Unter Bezugnahme auf
die Fig. 32 wird die Anordnung eines herkömmlichen lokalen Dekoders
beschrieben.
In der folgenden Beschreibung werden in den n Blöcken BL0-BL(n-),
die durch Teilen des Speicherzellenfeldes in Zeilenrichtung erhalten
werden, die lokalen Wortleitungen in geradzahlig numerierten Blöcken
und die lokalen Wortleitungen in ungeradzahlig numerierten Blöcken
mit LWL(2j) bzw. LWL(2j+1) bezeichnet (j=0,1,. . .,(n-2)/2). In ähnli
cher Weise werden die entsprechend den geradzahlig numerierten Blöc
ken gebildeten und die entsprechend den ungeradzahlig numerierten
Blöcken gebildeten lokalen Dekoder durch LD(2j) bzw. LD(2j+1) ange
geben.
Fig. 32 zeigt zwei lokale Dekoder LD(2j) und LD(2j+1), die im
tatsächlichen Layout benachbart zueinander gebildet sind.
Jeder der herkömmlichen lokalen Dekoder LD(2j) und LD(2j+1) weist
beispielsweise ein 2-Eingangs-NAND-Gatter 800, das ein Signal auf
der entsprechenden Z-Dekodersignalleitung ZL empfängt, und einen In
verter 810 zum Invertieren des Ausgangssignals des NAND-Gatters 800
auf. Das Ausgangssignal des Inverters 810 wird der entsprechenden
lokalen Wortleitung LWL(2j) oder LWL(2j+1) zugeführt.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 33 wird nun der Betrieb der in Fig. 32
gezeigten lokalen Dekoder beschrieben. Fig. 33 zeigt eine Tabelle
von Wahrheitswerten des in Fig. 32 dargestellten Logikschaltkreises.
Wie aus Fig. 33 ersichtlich ist, erreicht in jedem der lokalen Deko
der LD(2j) und LD(2j+1) das Ausgangspotential (d. h. das Potential
auf der entsprechenden Wortleitung LW(2j) bzw. LWL(2j+1)) des Inver
ters 810 nur dann einen hohen Pegel in Abhängigkeit davon, daß das
NAND-Gatter 800 ein Ausgangspotential mit niedrigem Pegel aufweist,
wenn die Potentiale auf der entsprechenden Hauptwortleitung MWL und
der entsprechenden Dekodersignalleitung ZL beide auf hohem Pegel
liegen. Befindet sich jedoch wenigstens eines der Potentiale auf der
entsprechenden Hauptwortleitung MWL oder der entsprechenden Z-Deko
dersignalleitung ZL auf niedrigem Pegel, so wird das Ausgangspoten
tial des NAND-Gatters 800 auf hohem Pegel fixiert, wodurch das Aus
gangspotential des Inverters 810 auf niedrigem Pegel liegt. Daher
werden die entsprechenden lokalen Wortleitungen LWL(2j) und
LWL(2j+1) solange nicht aktiviert, bis die Potentiale auf der ent
sprechenden Hauptwortleitung MWL und der Z-Dekodersignalleitung ZL
beide einen hohen Pegel annehmen.
Fig. 34 zeigt ein Schaltbild einer bestimmten Schaltkreisanordnung
des NAND-Gatters 800 und des Inverters 810 der Fig. 32 für einen
einzelnen lokalen Dekoder. Unter Bezugnahme auf die Fig. 34 wird nun
ein Aufbau für einen herkömmlichen lokalen Dekoder beschrieben.
In jedem lokalen Dekoder weist das NAND-Gatter 800 einen P-Kanal
MOS-Transistor 800a und N-Kanal MOS-Transistoren 800b und 800c, die
zwischen der Spannungsversorgung Vcc und Masse GND in Reihe geschal
tet sind, und einen P-Kanal MOS-Transistor 800d, der zwischen der
Spannungsversorgung Vcc und einem Knoten zwischen den Transistoren
800a und 800b gebildet ist, auf. Die Gates der Transistoren 800a und
800b sind mit der Z-Dekodersignalleitung ZL und die Gates der Tran
sistoren 800c und 800d mit der Hauptwortleitung MWL verbunden. Der
Inverter 810 weist einen P-Kanal MOS-Transistor 810a und einen N-Ka
nal MOS-Transistor 810b auf, die zwischen der Spannungsversorgung
Vcc und Masse GND in Reihe geschaltet sind. Der Knoten zwischen den
Transistoren 810a und 810b ist mit der lokalen Wortleitung LWL(2j)
oder LWL(2j+1) verbunden.
Die Gates der Transistoren 810a und 810b sind mit dem Knoten zwi
schen den Transistoren 800a und 800b verbunden.
Befindet sich das Potential auf der Hauptwortleitung MWL auf niedri
gem Pegel, so schaltet der Transistor 800d durch und der Transistor
800c sperrt. Damit erreicht das Gate-Potential der Transistoren 810a
und 810b unabhängig von den Durchschalt-/Sperrzuständen der Transi
storen 800a und 800b einen hohen Pegel. Befindet sich das Potential
auf der Hauptwortleitung MWL auf niedrigem Pegel, so erreicht daher
die mit dem Inverter 810 verbundene lokale Wortleitung LWL(2j) oder
LWL(2j+1) einen niedrigen Pegel, d. h. sie wird unabhängig vom Poten
tialpegel der Signalleitung ZL nicht aktiviert.
Befindet sich umgekehrt das Potential auf der Hauptwortleitung MWL
auf hohem Pegel, so schaltet der Transistor 800c durch, während der
Transistor 800d sperrt. Daher wird das Gate-Potential der Transisto
ren 810a und 810b entsprechend den Durchlaß-/Sperrzuständen der
Transistoren 800a und 800b geändert. Schaltet der Transistor 800a
als Reaktion auf das Potential mit niedrigem Pegel auf der Signal
leitung ZL durch, so erreicht das Gate-Potential der Transistoren
810a und 810b daher einen hohen Pegel. Wird umgekehrt der Transistor
800b als Reaktion auf ein Potential mit hohem Pegel auf der Signal
leitung ZL leitend, so erreicht das Gate-Potential der Transistoren
810a und 810b einen niedrigen Pegel. Für den Fall, daß die Haupt
wortleitung MWL ein Potential mit hohem Pegel annimmt, erreicht das
Potential auf der lokalen Wortleitung LWL(2j) oder LWL(2j+1), die
mit dem Inverter 810 verbunden ist, daher nur dann einen hohen Pe
gel, d. h. wird nur dann aktiviert, wenn das Potential auf der Z-De
kodersignalleitung ZL auf hohem Pegel liegt.
In Fig. 34 gibt die Zahl in Klammern neben jedem Element die Gate-
Breite des Elements in µm an.
Wie oben beschrieben worden ist, ist jeder der lokalen Dekoder zur
Verwendung in einer Halbleiterspeichereinrichtung mit geteilter
Wortleitungsstruktur wie in Fig. 34 gezeigt angeordnet, um das logi
sche Produkt eines Signales auf der entsprechenden Hauptwortleitung
und eines Signals auf der entsprechenden Z-Dekodersignalleitung zu
erhalten. Genauer gesagt erfordert jeder lokale Dekoder insgesamt
sechs Elemente mit zwei Transistoren, die einen Inverter bilden, und
vier Transistoren, die ein NAND-Gatter bilden.
Wie aus den Fig. 28 und 30 ersichtlich ist, erfordert die Halblei
terspeichereinrichtung mit geteilter Wortleitungsstruktur dieselbe
Zahl von logischen Dekodern wie die Zahl von Wortleitungen. Bei
spielsweise für den Fall, daß jeder der Subblöcke SBL0-SBL127 in
Fig. 30 vier lokale Wortleitungen aufweist, sind 214 (= 4 Leitungen
× 128 Subblöcke × 32 Blöcke) lokale Dekoder notwendig, wodurch die
Gesamtfläche der lokalen Dekoder gleich der Gesamtfläche von 6 × 2¹⁴
MOS-Transistoren wird.
Wie oben angeführt worden ist, machen es die lokalen Dekoder, die
eine große Fläche der Halbleiterspeichereinrichtung mit geteilter
Wortleitungsstruktur belegen, schwierig, die Chipfläche einer Halb
leiterspeichereinrichtung zu reduzieren und deren Speicherkapazität
zu erhöhen.
Um die Speicherkapazität einer Halbleiterspeichereinrichtung zu er
höhen, ohne die Chipfläche zu vergrößern, ist mit anderen Worten
mehr Fläche des Halbleitersubstrats für die Verwendung für ein
Speicherzellenfeld erforderlich, indem die von anderen Schaltkreisen
als dem Speicherzellenfeld belegte Fläche reduziert wird, um hiermit
die Zahl der auf einem Chip angeordneten Speicherzellen zu vergrö
ßern. Es ist jedoch schwierig, die Fläche solcher Peripherieschalt
kreise zu verkleinern, da selbst ein einziger lokaler Dekoder sechs
Elemente aufweist. Diese Tatsache stempelt den lokalen Dekoder einer
herkömmlichen Anordnung zu einem weiteren Faktor, der einen Anstieg
der Kapazität einer Halbleiterspeichereinrichtung verhindert.
Ferner ist, wie in den Fig. 28 und 30 dargestellt ist, die Z-Deko
dersignalleitung so gebildet, daß sie sich auch auf dem Halbleiter
substrat in Spaltenrichtung des Speicherzellenfeldes erstreckt. Da
her ist in einem Speicherzellenfeld, das sowohl in Zeilen- als auch
in Spaltenrichtung wie in Fig. 30 gezeigt unterteilt ist, jeweils
zwischen den ungeradzahlig numerierten Blöcken BL1, BL3, . . . und den
geradzahlig numerierten Blöcken BL0, BL2, . . ., die benachbart zuein
ander geschaffen sind, eine große Zahl von Z-Dekodersignalleitungen
in Spaltenrichtung angeordnet. In Fig. 32, in der jeder der Sub
blöcke SBL0-SBL127 vier lokale Wortleitungen aufweist, sind daher
beispielsweise insgesamt acht Z-Dekodersignalleitungen zwischen ei
nem geradzahlig und einen ungeradzahlig numerierten Block, die zu
einander benachbart sind, in Spaltenrichtung angeordnet. Damit er
reicht die Summe der Breiten der Verdrahtungsschichten, die die
Z-Dekodersignalleitungen bilden, in Zeilenrichtung einen hohen Wert.
Dies führt zu einem Anstieg der Gesamtbreite der lokalen Dekoder und
der entsprechend geschaffenen Z-Dekodersignalleitungen auf dem Halb
leitersubstrat. Damit weist eine herkömmliche Halbleiterspeicherein
richtung mit geteilter Wortleitungsstruktur in Zeilenrichtung eine
erhöhte Breite von Schaltkreisen auf, die vom Speicherzellenfeld
verschieden sind.
Wie oben beschrieben worden ist, bringt eine herkömmliche Halblei
terspeichereinrichtung mit geteilter Wortleitungsstruktur nicht nur
aufgrund der Zahl von Elementen in jedem lokalen Dekoder sondern
auch durch die Zahl der Z-Dekodersignalleitungen Schwierigkeiten bei
der Erhöhung der Kapazität und der Reduzierung der Chipfläche mit
sich.
Aus der US-PS 4 723 229 ist eine Halbleiterspeichereinrichtung
mit einem Decoder bekannt, der von ersten und zweiten Auswahlsi
gnalen abhängig ist, zum Aktivieren oder Deaktivieren einer vor
bestimmten Auswahlleitung. Der Decoder weist eine erste Schalt
einrichtung, die leitend gemacht wird, wenn das erste Auswahl
signal aktiviert ist, um das zweite Auswahlsignal an die vorbe
stimmte Auswahlleitung anzulegen, und eine zweite Schalteinrich
tung, die zwischen der ersten Auswahlleitung und einem Potential
entsprechend dem deaktivierten Zustand gekoppelt ist und leitend
gemacht wird, wenn das erste Auswahlsignal deaktiviert ist, auf.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Halbleiterspei
chereinrichtung mit der Möglichkeit einer geteilten Wortstruktur
zu schaffen, bei der die durch Decoderschaltkreiseinrichtungen
belegte Chip-Fläche verringert wird, die Zugriffszeit verringert
wird und ferner eine geringe Leistungsaufnahme erreicht wird.
Diese Aufgabe wird gelöst durch eine Halbleiterspeichereinrich
tung mit den Merkmalen des Patentanspruches 1 oder mit den
Merkmalen des Patentanspruches 13.
Bevorzugte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den jeweils
zugehörigen Unteransprüchen angegeben.
Damit erlaubt die Halbleiterspeichereinrichtung eine geteilte Wort
leitungsstruktur
sowie die Reduzierung der Zahl von Elementen für einen lokalen Dekoder zum
Auswählen einer lokalen Wortleitung, eine Beschleunigung der Aus
wahlgeschwindigkeit für eine lokale Wortleitung und die Reduzierung
der Leistungsaufnahme bei der Auswahl der lokalen Wortleitung. Fer
ner kann aus den Eingangssignalleitungen an einen Spaltendekoder die
Zahl der Signalleitungen, die in Spaltenrichtung des Speicherzellen
feldes gebildet sind, vermindert werden. Dies führt zu einer Redu
zierung der Breite und der vom Abschnitt des lokalen Dekoders auf
dem Halbleitersubstrat belegten Fläche, so daß die Halbleiterspei
chereinrichtung verkleinert und deren Kapazität erhöht werden kann.
Es folgt die Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der Figuren. Von
den Figuren zeigen:
Fig. 1 ein schematisches Blockdiagramm der Gesamtanordnung eines
SRAM in Übereinstimmung mit einer Ausführungsform der
Erfindung;
Fig. 2 ein Schaltbild eines Beispiels für die Anordnung des
Hauptteils des SRAM von Fig. 1;
Fig. 3 ein Schaltbild für einen lokalen Dekoder aus Fig. 1;
Fig. 4 ein Schaltbild, das eine detailliertere Anordnung des
lokalen Dekoders von Fig. 1 zeigt;
Fig. 5 eine Tabelle von Wahrheitswerten, die eine Operation des
in den Fig. 3 und 4 gezeigten lokalen Dekoders darstellt;
Fig. 6 ein Schaltbild eines weiteren Beispiels für den Aufbau
des Hauptteiles des SRAM von Fig. 1;
Fig. 7 ein Schaltbild eines weiteren Beispiels für den Aufbau des
Hauptteiles des SRAM von Fig. 1;
Fig. 8 ein Schaltbild für einen lokalen Dekoder aus Fig. 7;
Fig. 9 eine Draufsicht, die ein Beispiel für das Layout von
P-Kanal-Transistor in einer Mehrzahl von lokalen Dekodern
auf einem Halbleitersubstrat, die jeweils den Aufbau von
Fig. 3 aufweisen und in derselben Zeile gebildet sind;
Fig. 10 eine Draufsicht, die ein Beispiel für das Layout von
P-Kanal-Transistoren in einer Mehrzahl von lokalen
Dekodern auf einem Halbleitersubstrat, die jeweils den
Aufbau von Fig. 3 aufweisen und in derselben Zeile
gebildet sind;
Fig. 11 ein Schaltbild eines weiteren Beispiels für den Aufbau des
Hauptteiles des SRAM von Fig. 1;
Fig. 12 eine Tabelle, die ein Beispiel für die Verteilung der
Zeilenadreßsignale und der Spaltenadreßsignale an
Z-Dekoder und Zeilendekoder in Übereinstimmung mit den
Ausführungsformen der Fig. 11, 17, 19 und 21 darstellt;
Fig. 13 ein Schaltbild für einen lokalen Dekoder aus Fig. 11;
Fig. 14 ein Schaltbild für einen weiteren lokalen Dekoder aus
Fig. 11;
Fig. 15 ein Schaltbild für einen weiteren lokalen Dekoder aus
Fig. 11;
Fig. 16 ein Schaltbild für einen weiteren lokalen Dekoder aus
Fig. 11;
Fig. 17 ein Schaltbild eines weiteren Beispiels für den Aufbau des
Hauptteiles des SRAM von Fig. 1;
Fig. 18 ein Schaltbild für einen lokalen Dekoder aus Fig. 17;
Fig. 19 ein Schaltbild eines weiteren Beispiels für den Aufbau des
Hauptteiles des SRAM von Fig. 1;
Fig. 20 ein Schaltbild für einen lokalen Dekoder aus Fig. 19;
Fig. 21 ein Schaltbild eines weiteren Beispiels für den Aufbau des
Hauptteiles des SRAM von Fig. 1;
Fig. 22 ein Schaltbild für einen lokalen Dekoder aus Fig. 21;
Fig. 23 ein Blockdiagramm zur Erläuterung eines Beispiels für ein
Verfahren, um das Potential auf einer lokalen Wortleitung,
die deaktiviert werden soll, zuverlässig auf 0 V zu
treiben;
Fig. 24 ein Blockdiagramm zur Erläuterung eines weiteren Beispiels
für ein Verfahren, um das Potential auf einer lokalen
Wortleitung, die deaktiviert werden soll, zuverlässig auf
0 V zu treiben;
Fig. 25 ein Zeitdiagramm zur Erläuterung der Potentialänderung
einer lokalen Wortleitung bei den in den Fig. 23 und 24
dargestellten Verfahren;
Fig. 26 ein schematisches Blockdiagramm, das Funktionen der
gesamten Anordnung eines herkömmlichen SRAM zeigt;
Fig. 27 ein Diagramm zur Erläuterung des Prinzips der
Speicherauswahl in einem SRAM mit geteilter
Wortleitungsstruktur;
Fig. 28 ein Blockdiagramm eines weiteren Beispiels für den Aufbau
des Hauptteiles eines herkömmlichen SRAM mit geteilter
Wortleitungsstruktur;
Fig. 29 eine Draufsicht auf eine weitere Anordnung der
Speicherzellenfeldblöcke und lokalen Dekodergruppen der
Fig. 28 auf einem Halbleitersubstrat;
Fig. 30 ein Schaltbild eines weiteren Beispiels für den Aufbau des
Hauptteiles eines herkömmlichen SRAM mit geteilter
Wortleitungsstruktur;
Fig. 31 eine Tabelle, die die Verteilung externer Adreßsignale an
Zeilendekoder und Z-Dekoder im SRAM der Fig. 30 zeigt;
Fig. 32 ein Logikschaltbild für ein Beispiel des Aufbaus eines
lokalen Dekoders zur Verwendung in einem herkömmlichen
SRAM mit geteilter Wortleitungsstruktur;
Fig. 33 eine Tabelle mit Wahrheitswerten, die Operationen des in
Fig. 32 dargestellten Dekoders zeigen; und
Fig. 34 ein Schaltbild der detaillierteren Anordnung des lokalen
Dekoders in Fig. 32.
Fig. 1 zeigt ein schematisches Blockdiagramm der Gesamtanordnung ei
nes SRAM mit geteilter Wortleitungsstruktur in Übereinstimmung mit
einer Ausführungsform der Erfindung. Unter Bezugnahme auf die Fig. 1
werden nun die Anordnung und der grundlegende Betrieb dieses SRAM
beschrieben.
Ein Speicherzellenfeld 1 ist in Zeilenrichtung in n Blöcke BL0-
BL(2m+1) unterteilt (m=(n-1)/2). Jeder dieser n Blöcke BL0-BL(2m+1)
weist Speicherzellen auf, die in einer Mehrzahl von Zeilen und Spal
ten angeordnet sind. In jedem Block sind die Speicherzellen dersel
ben Zeile mit einer (nicht dargestellten) lokalen Wortleitung und
die Speicherzellen derselben Spalte mit demselben (nicht dargestell
ten) Bitleitungspaar verbunden.
Entsprechend diesen n Blöcken BL0-BL(2m+1) sind n lokale Dekoder
gruppen DEC0-DEC(2m+1) geschaffen. Auf diesem SRAM-Chip sind lokale
Dekodergruppen jeweils zwischen dem entsprechenden der geradzahlig
numerierten Blöcke BL0, BL2, . . ., BL(2m) und dem entsprechenden be
nachbarten der ungeradzahlig numerierten Blöcke BL1, BL3, . . .,
BL(2m+1) angeordnet.
Ein Zeilenadreßeingangsanschluß 2 empfängt ein externes Zeilenadreß
signal, das die Adresse in Zeilenrichtung einer auszuwählenden
Speicherzelle angibt. Ein Spaltenadreßeingangsanschluß 3 empfängt ein
externes Adreßsignal, das die Adresse in Spaltenrichtung der auszu
wählenden Speicherzelle angibt.
Ein Zeilenadreßpuffer 4 puffert das an den Zeilenadreßeingangsan
schluß 2 zugeführte Zeilenadreßsignal und legt dieses an einen Zei
lendekoder 6, einen ATD-(Adressenverschiebungsdetektor-) Schalt
kreis 17 und einen Z-Dekoder 18 an.
Ein Spaltenadreßpuffer 5 puffert das an den Spaltenadreßeingangsan
schluß 3 zugeführte Spaltenadreßsignal und legt dieses an einen
Spaltendekoder 7, den ATD-Schaltkreis 17 und den Z-Dekoder 18 an.
Der Zeilendekoder 6 dekodiert das Zeilenadreßsignal vom Zeilenadreß
puffer 4, um ein Hauptwortleitungssignal zum Auswählen von einer der
Hauptwortleitungen im Speicherzellenfeld 1 auszuwählen.
Der Z-Dekoder 18 dekodiert das Zeilenadreßsignal vom Zeilenadreßpuf
fer 4 und das Spaltenadreßsignal vom Spaltenadreßdekoder 5, um ein
Z-Dekodersignal zum Auswählen von einem der Blöcke BL0-BL(2m+1), die
das Speicherzellenfeld 1 bilden, auszugeben.
Jede der lokalen Dekodergruppen DEC0-DEC(2m+1) dekodiert das Haupt
wortleitungssignal vom Zeilendekoder 6 und das Z-Dekodersignal vom
Z-Dekoder 18, um eine der lokalen Wortleitungen im entsprechenden
Block selektiv zu aktivieren.
Der Spaltendekoder 7 dekodiert das Spaltenadreßsignal vom Spal
tenadreßpuffer 5 und legt das dekodierte Signal an einen Multiplexer
8 an.
Der Multiplexer 8 wird vom Ausgangssignal des Spaltendekoders 7 ge
steuert, um nur dasjenige Bitleitungspaar beim Datenlesen mit einem
Leseverstärker 9 und beim Datenschreiben mit einem Eingabepuffer 13
zu verbinden, das mit der auszuwählenden Speicherzelle verbunden
ist.
Der Leseverstärker 9 erfaßt und verstärkt beim Datenlesen die Si
gnalspannung auf dem Bitleitungspaar, das mit ihm über den Multiple
xer 8 verbunden ist.
Ein Ausgabepuffer 10 verstärkt die vom Leseverstärker 9 erfaßte und
verstärkte Signalspannung und führt die weiter verstärkte Signal
spannung einem Datenausgangsanschluß 11 als Lesedaten zu.
Beim Datenschreiben empfängt ein Dateneingangsanschluß 12 ein exter
nes Datensignal, das in eine ausgewählte Speicherzelle geschrieben
werden soll. Der Eingabepuffer 13 verstärkt das an den Datenein
gangsanschluß 12 angelegte Datensignal und führt das verstärkte Da
tensignal dem über den Multiplexer 8 verbundenen Bitleitungspaar zu.
Damit erscheinen beim Datenlesen Speicherdaten einer Speicherzelle,
die mit einer aktivierten lokalen Wortleitung und einem mit dem Le
severstärker 9 elektrisch verbundenen Bitleitungspaar verbunden ist,
am Datenausgangsanschluß 11. Andererseits werden beim Datenschreiben
die an den Dateneingangsanschluß 12 angelegten externen Daten in
eine Speicherzelle geschrieben, die mit der einen aktivierten Wort
leitung und einem mit dem Eingabepuffer 13 elektrisch verbundenen
Bitleitungspaar verbunden ist.
Ein Chipauswahl-Eingangsanschluß 14 empfängt eine externes Chipaus
wahlsignal, das angibt, ob sich der SRAM-Chip im ausgewählten oder
nicht-ausgewählten Zustand befindet. Ein Schreib-/Lesesteuer-Ein
gangsanschluß 15 empfängt ein externes Schreib-/Lesesteuersignal zum
Bestimmen, ob für das Speicherzellenfeld 1 ein Datenlesen oder Da
tenschreiben ausgeführt werden soll.
Ein Schreib-/Lesesteuerschaltkreis 16 steuert den Leseverstärker 9,
den Ausgabepuffer 10 und den Eingabepuffer 13 in Abhängigkeit vom
Chipauswahlsignal, das an den Chipauswahl-Eingangsanschluß 14 ange
legt ist, und vom Schreib-/Lesesteuersignal, das an den Schreib-
/Lesesteuer-Eingangsanschluß 15 angelegt ist, um den SRAM-Chip in
einem Lese- oder Schreibzustand zu betreiben.
Der ATD-Schaltkreis erfaßt Änderungen des Zeilenadreßsignals vom
Zeilenadreßpuffer 4 und des Spaltenadreßsignals vom Spaltenadreßpuf
fer 5, um verschiedene interne Synchronisationssignale an das
Speicherzellenfeld 1, den Zeilendekoder 6, den Leseverstärker 9, den
Ausgabepuffer 10 oder ähnliche Schaltkreise anzulegen.
Obwohl ein SRAM eine Halbleiterspeichereinrichtung darstellt, die
Daten schreiben und lesen kann, wobei dies ihre originäre Funktion
darstellt, ohne ein internes Synchronisationssignal zu empfangen,
kann der SRAM allgemein einen als ATD-Schaltkreis 17 bezeichneten
internen Synchronisationsschaltkreis aufweisen, um eine größere Lei
stung zu erzielen.
Fig. 2 zeigt ein Schaltbild eines Beispiels für die Anordnung des
Hauptteils des SRAM mit den Blöcken BL0-BL(2m+1) und den lokalen De
kodergruppen DEC0-DEC(2m+1) der Fig. 1.
Bezüglich Fig. 2 ist das Speicherzellenfeld 1 in Spaltenrichtung in
32 Blöcke BL0-BL31 (n=32, m=15) unterteilt, wobei jeder der 32
Blöcke weiter in 128 Subblöcke SBL0-SBL127 aufgeteilt ist, die in
dieser Ausführungsform in Zeilenrichtung jeweils vier Speicherzel
lenzeilen aufweisen.
Jede der 32 lokalen Dekodergruppen DEC0-DEC31, die entsprechend den
32 Blöcken BL0-BL31 gebildet sind, weist eine Mehrzahl lokaler Deko
der LD(2j) oder LD(2j+) auf, die wie bei einer herkömmlichen Anord
nung entsprechend einer Mehrzahl lokaler Wortleitungen LWL(2j) oder
LWL(2j+1) im entsprechenden Block gebildet sind.
Ferner sind wie bei einer herkömmlichen Anordnung 32 Z-Dekodiersi
gnalleitungsgruppen ZLG entsprechend den 32 Blöcken BL0-BL31 und 128
Hauptwortleitungen /MWL entsprechend den 128 Subblockgruppen SBL0-
SBL127 geschaffen. Bei dieser Anordnung wird jedes der Ausgangssi
gnale /X0-/X127 des Zeilendekoders 6 als inaktives Signal betrach
tet. In der Beschreibung wird im folgenden "/" denjenigen Symbolen
vorangestellt, die ein inaktives Signal und eine Signalleitung zum
Übertragen eines solchen Signals angeben. In der Zeichnung befindet
sich statt "/" ein "-" über dem jeweiligen Symbol.
Im Gegensatz zu einem herkömmlichen Speicherzellenfeld wird jedes
der Ausgangssignale /X0-/X127 vom Zeilendekoder 6 in ein komplemen
täres Signalpaar umgewandelt, das bei dieser Ausführungsform an die
entsprechende der lokalen Dekodergruppen DEC0-DEC31 eingegeben wird.
Genauer gesagt ist jede Hauptwortleitung /MWL mit (16) Invertern INV
verbunden, der Hälfte der Zahl (32) der Blöcke. Diese 16 Inverter
INV sind entsprechend 16 Blockpaaren gebildet, die jeweils von einem
der geradzahlig numerierten Blöcke BL0, BL2, . . ., BL30 und dem be
nachbarten ungeradzahlig numerierten Block BL1, BL3, . . ., BL31 ge
bildet werden. Das Ausgangssignal eines jeden Inverters INV wird den
lokalen Dekodern LD(2j) und LD(2j+1) gemeinsam zugeführt, die mit
einer geradzahlig numerierten lokalen Wortleitung LWL(2j) im ent
sprechenden geradzahlig numerierten Block bzw. einer ungeradzahlig
numerierten lokalen Wortleitung LWL(2j+1) im entsprechenden ungerad
zahlig numerierten Block in einem der Subblockgruppen SBL0-SBL127
entsprechend der Hauptwortleitung /MWL, die mit dem Inverter INV
verbunden ist, verbunden sind.
Fig. 3 zeigt ein Schaltbild den Aufbau der lokalen Dekoder LD(2j)
und LD(2j+1) von Fig. 2. Fig. 3 zeigt zwei benachbarte lokale Deko
der LD(2j) und LD(2j+1) der Fig. 2 als typische Vertreter.
Bezüglich Fig. 3 weist jeder der lokalen Dekoder LD(2j) und LD(2j+1)
einen P-Kanal MOS-Transistor 24a und einen N-Kanal MOS-Transistor
24b, die zwischen der entsprechenden Z-Dekodersignalleitung ZL und
Masse GND in Reihe geschaltet sind, und einen N-Kanal MOS-Transistor
24c, der zwischen der entsprechenden Z-Dekodersignalleitung ZL und
seiner entsprechenden lokalen Wortleitung LWL(2j) oder LWL(2j+1) ge
bildet ist, auf. Die Gates der Transistoren 24a und 24b empfangen
ein Signal auf der entsprechenden Hauptwortleitung /MWL und dem Gate
des Transistors 24c wird das Ausgangssignal des entsprechenden In
verters INV zugeführt.
Fig. 4 zeigt ein Schaltbild für den detaillierten Aufbau des Inver
ters INV aus Fig. 3. In Fig. 4 stellt der lokale Dekoder den lokalen
Dekoder LD(2j) oder LD(2j+1) der Fig. 3 dar und die Zahlen in Klam
mern neben den jeweiligen Elementen geben die Gate-Breite der ent
sprechenden Elemente in µm an.
Wie in Fig. 4 gezeigt ist, weist der Inverter INV einen P-Kanal MOS-
Transistor 22a und einen N-Kanal MOS-Transistor 22b auf, die zwi
schen der Versorgungsspannung Vcc und Masse GND in Reihe geschaltet
sind. Die Gates der Transistoren 22a und 22b sind mit der entspre
chenden Hauptwortleitung /MWL verbunden. Der Knoten zwischen den
Transistoren 22a und 22b ist mit dem Gate des Transistors 24c ver
bunden.
Unter Bezugnahme auf die Fig. 4 und 5 wird nun der Betrieb des loka
len Dekoders in Übereinstimmung mit der vorliegenden Ausführungsform
beschrieben. Fig. 5 zeigt eine Tabelle mit Wahrheitswerten für die
Beziehung zwischen dem Eingangspotential und dem Ausgangspotential
des lokalen Dekoders entsprechend der gegenwärtigen Ausführungsform.
Befindet sich die Hauptwortleitung /MWL zuerst auf hohem Pegel, so
schaltet der Transistor 24b durch, so daß das Potential am Knoten
zwischen den Transistoren 24a und 24b unabhängig vom Durchlaß-
/Sperrzustand des Transistors 24c einen niedrigen Pegel annimmt.
Liegt das Potential auf der Hauptwortleitung /MWL auf hohem Pegel,
so erreicht die lokale Wortleitung LWL(2j) oder LWL(2j+1), die mit
dem Knoten zwischen den Transistoren 24a und 24b verbunden ist, wie
in Fig. 5 dargestellt einen niedrigen Pegel und ist nicht aktiviert.
Befindet sich umgekehrt das Potential auf der Hauptwortleitung /MWL
auf niedrigem Pegel, so schalten die beiden Transistoren 24a und 22a
durch, um den Transistor 24c durchzuschalten. Damit wird das Poten
tial am Knoten zwischen den Transistoren 24a und 24b durch den Po
tentialpegel der Z-Dekodersignalleitung ZL bestimmt. Daher wird die
lokale Wortleitung LWL(2j) oder LWL(2j+1) nur dann aktiviert, wenn
das Potential auf der Z-Dekodersignalleitung ZL auf hohem Pegel
liegt, wobei das Potential auf der Hauptwortleitung /MWL einen nied
rigen Pegel erreicht.
Befindet sich die Hauptwortleitung /MWL auf niedrigem Pegel, so wird
das Potential auf der Z-Dekodersignalleitung ZL durch die beiden
Transistoren 24a und 24c an den Knoten zwischen den Transistoren 24a
und 24b übertragen. Liegen die Potentiale auf der Hauptwortleitung
/MWL und der Z-Dekodersignalleitung ZL beide auf niedrigem Pegel, so
wird daher das Potential auf der lokalen Wortleitung LWL(2j) oder
LWL(2j+1) zuverlässig auf das ursprüngliche Potential, das als nied
riges Potential, d. h. 0 V, betrachtet wird, getrieben. Nun wird die
Funktion des Transistors 24c beschrieben.
Zuerst sei angenommen, daß das Potential auf der Z-Dekodersignallei
tung ZL und das Potential auf der lokalen Wortleitung LWL(2j) oder
LWL(2j+1) auf niedrigem bzw. hohem Pegel ist, das Potential auf der
Hauptwortleitung /MWL sich von einem hohen zu niedrigem Pegel ändert
und der Transistor 24c nicht vorhanden ist. In einem solchen Fall
beginnt das Potential am Knoten zwischen den Transistoren 24a und
24b, als Reaktion auf die Leitung des Transistors 24a von einem Po
tential mit hohem Pegel auf ein Potential mit niedrigem Pegel zu
fallen. Da der Transistor 24a jedoch einen P-Kanal-Transistor dar
stellt, sperrt er, wenn die Differenz zwischen seinem Gate- und sei
nem Source- oder Drain-Potential die Schwellenspannung Vth erreicht.
Demgegenüber sind das Gate- und das Source-Potential des Transistors
24a in Abhängigkeit vom Potential auf der Hauptwortleitung /MWL bzw.
dem Potential auf der Z-Dekodersignalleitung ZL auf 0 V fixiert. Da
her wird der Transistor 24a zu einem Zeitpunkt gesperrt, wenn das
Drain-Potential des Transistors 24a ein Potential (<0) absenkt, das
um die Schwellenspannung Vth über 0 V liegt. Gleichzeitig wird der
Transistor 24b gesperrt, so daß anschließend keine elektrische La
dung vom Transistor 24a abfließen kann. Daher wird das Drain-Poten
tial des Transistors 24a im folgenden auf einem Potential gehalten,
das etwas höher als das ursprüngliche Potential ist, das als niedri
ger Pegel betrachtet wird. Mit anderen Worten wird die lokale Wort
leitung LWL(2j) oder LWL(2j+1), die mit der Drain des Transistors
24a verbunden ist, nicht vollständig deaktiviert.
Ist jedoch der Transistor 24c vorhanden, so sind die Drain des Tran
sistors 24a und die Z-Dekodersignalleitung ZL über den Transistor
24c elektrisch miteinander verbunden, wenn sich die Hauptwortleitung
/MWL auf einem niedrigen Pegel befindet. Damit wird das Drain-Poten
tial des Transistors 24a selbst dann auf dasselbe Potential wie das
jenige der Z-Dekodersignalleitung ZL, d. h. 0 V, abgesenkt, wenn der
Transistor 24a gesperrt ist, da der Transistor 24c vom N-Kanal-Typ
ist.
Wie oben beschrieben worden ist, erlaubt die Bildung des Transistors
24c, daß die lokale Wortleitung LWL(2j) oder LWL(2j+1) vollständig
deaktiviert werden kann, es sei denn, die Hauptwortleitung /MWL und
die Z-Dekodersignalleitung ZL liegen auf niedrigem bzw. hohem Pegel.
Wie oben beschrieben worden ist, weist in der vorliegenden Ausfüh
rungsform jeder lokale Dekoder drei MOS-Transistoren auf. Daher ist
die Zahl der Elemente im Vergleich zu einer herkömmlichen Einrich
tung auf etwa die Hälfte reduziert worden, wobei diese Elemente
Transistoren, die die Schaltkreise zwischen den jeweiligen ungerad
zahlig numerierten Blöcken BL1, BL3, . . ., BL31 und den benachbarten
geradzahlig numerierten Blöcken BL0, BL2, . . ., BL30 bilden, und zwei
Transistoren, die jeden entsprechend diesen Schaltkreisen gebildeten
Inverter INV darstellen, umfassen.
Ferner reduziert die vorliegende Ausführungsform die Zeit zum Aus
wählen einer lokalen Wortleitung durch den Zeilendekoder 6 und den
Z-Dekoder 18 sowie die Stromaufnahme für die Auswahl.
Es sei beispielsweise angenommen, daß ein 4MBit-SRAM ein Speicher
zellenfeld aufweist, das in Zeilenrichtung in 32 Blöcke unterteilt
ist. In diesem Fall sind in jedem lokalen Dekoder LD(2j) und
LD(2j+1), die den herkömmlichen Schaltkreisaufbau der Fig. 34 besit
zen, die Gates der Transistoren 800a und 800b mit einer Z-Dekodersi
gnalleitung ZL verbunden. Diese Transistor-Gates bilden ein gemein
sames Gate. Unter der Annahme, daß die Gate-Kapazität eines P-Kanal
MOS-Transistors je Einheits-Gate-Breite (=1 µm) gleich 2,44 × 10-3pF
und die Gate-Kapazität eines N-Kanal MOS-Transistors je Einheits-
Gate-Breite gleich 2,18 × 10-3pF ist, so wird die gesamte parasitäre
Kapazität einer Z-Dekodersignalleitung ZL durch folgende Gleichung
ausgedrückt.
(2,44 × 10-3 + 2,18 × 10-3) × 7 × 256 = 8,28pF
In der oben angeführten Gleichung gibt 7 den numerischen Wert der
Gate-Breite, wie sie in Fig. 34 in Klammern angegeben ist, und 256
die Zahl der lokalen Dekoder, die mit einer Z-Dekodersignalleitung
ZL verbunden sind, an.
In ähnlicher Weise sind mit einer Hauptwortleitung MWL in jedem der
lokalen Dekoder LD(2j) und LD(2j+1) die Gates der Transistoren 800c
und 800d. Diese Gates bilden ein gemeinsames Gate. Daher wird die
gesamte parasitäre Kapazität auf einer Hauptwortleitung MWL durch
folgende Gleichung ausgedrückt.
(2,44 × 10-3 + 2,18 × 10-3) × 7 × 32 = 1,04pF
In der oben angeführten Gleichung bezeichnet 7 den numerischen Wert
in Klammer der Fig. 34 und 32 die Zahl der Blöcke, d. h. die Zahl der
lokalen Dekoder, die mit einer Hauptwortleitung MWL verbunden sind.
Nun wird ein Fall betrachtet, in dem der Schaltkreisaufbau der Fig.
3 und 4 für jeden der lokalen Dekoder LD(2j) und LD(2j+1) verwendet
wird. In einem solchen Fall ist eine Z-Dekodersignalleitung mit den
Sources der Transistoren 24a und 24c in jedem der lokalen Dekoder
LD(2j) und LD(2j+1) verbunden. Nimmt man an, daß die Übergangskapa
zität eines P-Kanal MOS-Transistors je Einheits-Gate-Breite gleich 8
× 10-4pF und die Übergangskapazität eines N-Kanal MOS-Transistors je
Einheits-Gate-Breite gleich 6 × 10-4pF ist, so erhält man die para
sitäre Kapazität einer Z-Dekodersignalleitung ZL aus folgender Glei
chung.
(8 × 10-4 × 20 + 6 × 10-4 × 3) × 256 + 0,5 = 5,06pF
In der oben angegebenen Gleichung bezeichnen 20 und 3 die Gate-Brei
ten der Transistoren 24a und 24c, die in Fig. 4 in Klammern angege
ben sind, 256 die Zahl der lokalen Dekoder, die mit einer Z-Dekoder
signalleitung ZL verbunden sind, und 0,5 die parasitäre Kapazität
einer lokalen Wortleitung. In dieser Ausführungsform treibt das Si
gnal auf der Z-Dekodersignalleitung ZL die entsprechende lokale
Wortleitung MWL(2j) oder MWL(2j+1), wenn der Transistor 24c durchge
schaltet ist. Daher sollte die parasitäre Kapazität der lokalen
Wortleitung in der parasitären Kapazität der Z-Dekodersignalleitung
enthalten sein.
In ähnlicher Weise ist eine Hauptwortleitung /MWL mit den Gates der
Transistoren 24a und 24b in jedem der lokalen Dekoder LD(2j) und
LD(2j+1) verbunden. Daher erhält man die gesamte parasitäre Kapazi
tät einer Hauptwortleitung /MWL unter Beachtung der Gate-Kapazität
der Transistoren 22a und 22b, die den mit der Hauptwortleitung /MWL
verbundenen Inverter INV bilden, durch folgende Gleichung.
(2,44 × 10-3 × 22 + 2,18 × 10-3 × 12) × 32 = 2,56pF
In der oben angegebenen Gleichung bezeichnet 22 die Summe der Gate-
Breite (20) des Transistors 24a und der Gate-Breite (2) des Transi
stors 22a, die in Fig. 4 in Klammern angegeben sind, 12 die Summe
der Gate-Breite (10) des Transistors 24b und der Gate-Breite (2) des
Transistors 22b, die in Fig. 4 dargestellt sind, und 32 die Zahl der
lokalen Dekoder, die mit einer Hauptwortleitung /MWL verbunden sind.
Wie aus der vorherigen Beschreibung ersichtlich ist, ist die Lastka
pazität (6,06pF) je Z-Dekodersignalleitung in der vorliegenden Aus
führungsform viel kleiner als die (8,288pF) eines herkömmlichen
SRAM. Obwohl die Lastkapazität ((2,56pF) je Hauptwortleitung in der
vorliegenden Ausführungsform etwas größer als die (1,04pF) des her
kömmlichen SRAM ist, ist der Umfang des Anstiegs kleiner als der Um
fang der Verkleinerung.
Die Z-Dekodersignalleitung und die Hauptwortleitung mit geringerer
parasitärer Kapazität benötigen eine kürzere Zeit zum Laden/Entladen
dieser Signalleitungen bei der ,Auswahl der lokalen Wortleitung.
Diese Tatsache ermöglicht eine schnelle Aktivierung der lokalen
Wortleitung. Daher sollte die parasitäre Kapazität dieser Signallei
tungen im Hinblick auf eine Erhöhung der Auswahlgeschwindigkeit für
eine lokale Wortleitung bevorzugterweise klein sein. In Übereinstimmung
mit der vorliegenden Ausführungsform wird vom Z-Dekoder 18 und Zei
lendekoder 6 eine lokale Wortleitung mit hoher Geschwindigkeit aus
gewählt. Ferner wird ein geringerer Strom aufgenommen, um die Last
kapazitäten der Z-Dekodersignalleitung ZL und der Hauptwortleitung
/MWL aufzuladen oder zu entladen. Hierdurch wird der vom Zeilendeko
der 6 und dem Z-Dekoder < 46190 00070 552 001000280000000200012000285914607900040 0002004117881 00004 46071BOL<18 zum Auswählen einer lokalen Wortleitung
aufgenommene Strom vermindert.
Da bei der wie oben beschrieben aufgebauten Ausführungsform eine von
zwei Typen von Signalleitungen, die mit dem jeweiligen der lokalen
Dekoder LD(2j) und LD((2j+1) verbunden sind, d. h. die Hauptwortlei
tung /MWL oder die Z-Dekodersignalleitung ZL, nicht mit dem Gate des
MOS-Transistors, sondern mit einer Drain (Source) geringerer parasi
tärer Kapazität verbunden ist, wird die Lastkapazität der Signallei
tung, die den jeweiligen der lokalen Dekoder LD(2j) und LD(2j+1)
treibt, vermindert, um die Auswahlgeschwindigkeit für eine lokale
Wortleitung sowie die Stromaufnahme bei der Auswahl der lokalen
Wortleitung zu reduzieren.
Fig. 6 zeigt ein Schaltbild eines weiteren Beispiels für den Aufbau
des Hauptteiles des SRAM von Fig. 1 in Übereinstimmung mit einer
weiteren Ausführungsform der Erfindung. Während in der oben be
schriebenen Ausführungsform eine Mehrzahl von Invertern INV zum In
vertieren der Ausgangssignale /X0-/X127 vom Zeilendekoder entspre
chend jeder Hauptwortleitung /MWL gebildet ist, können solche Inver
ter auch für jeweils eine Hauptwortleitung geschaffen sein, wie in
Fig. 6 dargestellt ist. In diesem Fall wird das Ausgangssignal von
jedem der Inverter INV gemeinsam an alle lokale Dekoder LD(2j) und
LD(2j+1) angelegt werden, die mit der entsprechenden Hauptwortlei
tung /MWL verbunden sind. Dies bedeutet, daß jede Ausgangssignallei
tung des Zeilendekoders 4, die entsprechend den Subblockgruppen
SBL0-SBL127 gebildet sind, und die Ausgangssignalleitung des ent
sprechenden Inverters INV in Fig. 6 ein komplementäres Signallei
tungspaar /MWL und MWL bilden.
Fig. 7 zeigt ein Schaltbild eines weiteren Beispiels für den Aufbau
des Hauptteiles des SRAM von Fig. 1 in Übereinstimmung mit einer
weiteren Ausführungsform der Erfindung.
In Fig. 7 ist angenommen, daß alle Ausgangssignale vom Z-Dekoder 1
inaktive Signale /ZX0-/ZX127 darstellen. Ähnlich der Ausführungsform
von Fig. 6 ist ein Paar komplementärer Hauptwortleitungen /MWL und
MWL entsprechend jeder der Subblockgruppen SBL0-SBL127 gebildet. Der
Zeilendekoder 6 gibt 128 inaktive Signale /X0-/X127 und 128 Signale
X0-X127, die zu diesen 12 Signalen /X0-/X127 komplementär sind, aus.
Jedes komplementäre Hauptwortleitungspaar /MWL und MWL empfängt das
entsprechende von 12 Paaren komplementärer Signale, die vom Zeilen
dekoder 6 ausgegeben werden. Der Aufbau des restlichen Teiles von
Fig. 7 stimmt mit dem der Ausführungsform von Fig. 6 überein. Im Ge
gensatz zur vorherigen Ausführungsform empfängt daher jeder der lo
kalen Dekoder LD(2j) und LD(2j+1) ein inaktives Signal vom Z-Deko
der.
Fig. 8 zeigt ein Schaltbild für den lokalen Dekoder LD(2j) und
LD(2j+1) der Fig. 7. In Fig. 8 sind zwei beliebige zueinander be
nachbarte lokale Dekoder LD(2j) und LD(2j+1) als Beispiel darge
stellt. Unter Bezugnahme auf diese Figur werden nun Aufbau und Be
trieb eines jeden lokalen Dekoders in Übereinstimmung mit der gegen
wärtigen Ausführungsform beschrieben.
Wie aus einem Vergleich zwischen den Fig. 3 und 8 ersichtlich ist,
erhält man die lokalen Dekoder LD(2j) und LD(2j+1) der gegenwärtigen
Ausführungsform aus denen der Fig. 3 durch Ersetzen des Signals auf
der Z-Dekoderleitung durch das Signal auf der Hauptwortleitung. Dies
bedeutet, daß der P-Kanal MOS-Transistor 24a und der N-Kanal MOS-
Transistor 24b zwischen der entsprechenden Hauptwortleitung MWL und
Masse in Reihe geschaltet sind, wobei deren Gates bei der gegenwär
tigen Ausführungsform mit der entsprechenden Z-Dekodersignalleitung
/ZL verbunden sind. Der Knoten zwischen den Transistoren 24a und 24b
ist mit der entsprechenden lokalen Wortleitung LWL(2j) oder
LWL(2j+1) verbunden. Wie bei der vorherigen Ausführungsform ist das
Gate des Transistors 24c mit der entsprechenden Hauptwortleitung
/MWL verbunden.
Befindet sich das Z-Dekodersignal /ZL auf hohem Pegel, so wird in
jedem der lokalen Dekoder LD(2j) und LD(2j+1) der Transistor 24b
durchgeschaltet und der Transistor 24a gesperrt, wodurch die ent
sprechende lokale Wortleitung LWL(2j) oder LWL(2j+1) unabhängig vom
Potentialpegel auf der Hauptwortleitung MWL deaktiviert wird.
Befindet sich umgekehrt die Z-Dekodersignalleitung /ZL auf niedrigem
Pegel, so wird in jedem der lokalen Dekoder LD(2j) und LD(2j+1) der
Transistor 24b gesperrt und der Transistor 24a durchgeschaltet, wo
durch die entsprechende lokale Wortleitung LWL(2j) oder LWL(2j+1)
nur dann aktiviert wird, wenn das Potential auf der Hauptwortleitung
MWL auf hohem Pegel liegt (wenn das Potential auf der Hauptwortlei
tung /MWL auf niedrigem Pegel ist).
Wie oben beschrieben worden ist, wird auch bei der gegenwärtigen
Ausführungsform jede der lokalen Wortleitungen LWL(2j) und LWL(2j+1)
nur dann aktiviert, wenn die entsprechende Hauptwortleitung und die
entsprechende Z-Dekodersignalleitung ein Potential erreichen, da
einen aktivierten Zustand angibt.
Ferner arbeitet der Transistor 24c auch bei dieser Ausführungsfunk
tion, um das Potential auf der entsprechenden lokalen Wortleitung
LWL(2j) oder LWL(2j+1) in allen Fällen auf das Potential (0V) zu
treiben, das einen deaktivierten Zustand angibt, in denen wenigstens
die entsprechende Hauptwortleitung oder die entsprechende Z-Dekoder
signalleitung ein Potential erreicht, das einen deaktivierten Zu
stand angibt.
Mit dem Erreichen eines hohen Pegels durch das Potential am Knoten
zwischen den Transistoren 24a und 24b, wenn sowohl das Potential auf
der Hauptwortleitung MWL als auch der entsprechenden Z-Dekodersi
gnalleitung /ZL einen niedrigen Pegel erreicht, wird daher in Fig. 8
der Transistor 24a zum Zeitpunkt, wenn das Potential an seinem Kno
ten auf die Schwellenspannung des MOS-Transistors absinkt, gesperrt
und der Transistor 24c jedoch als Reaktion auf das Potential mit ho
hem Pegel auf der Hauptwortleitung /MWL durchgeschaltet, so daß die
am Knoten gespeicherte elektrische Ladung über den Transistor 24c
auf die Hauptwortleitung MWL übertragen wird. Damit erreicht die lo
kale Wortleitung LWL(2j), LWL(2j+1) ein Potential, das einen voll
ständig deaktivierten Zustand angibt.
Wie aus Fig. 8 ersichtlich ist, ist die Hauptwortleitung MWL in
Übereinstimmung mit der vorliegenden Ausführungsform gemeinsam mit
den Sources der jeweiligen Transistoren 24a benachbarter lokaler De
koder LD(2j) und LD(2j+1) verbunden. Diese Anordnung reduziert die
Gate-Breite des P-Kanal-Transistors im lokalen Dekoder. Unter Bezug
nahme auf die Fig. 9 und 10 wird der durch die vorliegende Ausfüh
rungsform erzielte Effekt im Detail beschrieben.
Die Fig. 9 und 10 zeigen Draufsichten, die die Anordnungen von P-Ka
nal-Transistoren auf dem Halbleitersubstrat in einer Mehrzahl von
lokalen Dekodern, die entsprechend derselben Zeile angeordnet sind,
darstellen. Fig. 9 zeigt einen Fall, in dem ein lokaler Dekoder wie
in Fig. 3 dargestellt aufgebaut ist, und Fig. 10 einen Fall, in dem
ein lokaler Dekoder wie in Fig. 8 gezeigt aufgebaut ist.
Bezüglich der Fig. 2, 3 und 9 sind verschiedene Z-Dekodersignallei
tungen ZL mit den jeweiligen Sources von 32 P-Kanal-Transistoren 24a
verbunden, die in den Spaltendekoders LD0-LD31 derselben Zeile ent
halten sind. Entsprechend sollten die jeweiligen Sources dieser
Transistoren 24a unabhängig gebildet sein.
Wie in Fig. 9 dargestellt ist, sind diese Transistoren 24a auf dem
Halbleitersubstrat mit dazwischen geschaffenen Isolationsbereichen
gebildet. Dies bedeutet, daß jeder Transistor 24a einen Source-Be
reich S, der mit der entsprechenden Z-Dekodersignalleitung ZL ver
bunden werden soll, einen Drain-Bereich D, der mit der entsprechen
den lokalen Wortleitung LWL(2j) oder LWL(2j+1) verbunden werden
soll, und einen Gate-Bereich G, der sich vom Source-Bereich S zum
Drain-Bereich D erstreckt, aufweist. Die Gates dieser Transistoren
24a sind mit derselben Hauptwortleitung /MWL verbunden und der Gate-
Bereich G wird von diesem Transistoren 24a gemeinsam benutzt.
Wie aus den Fig. 7 und 8 ersichtlich ist, sind die Sources der P-Ka
nal-Transistoren 24a in den lokalen Dekodern LD(2j) und LD(2j+1),
die in der entsprechenden Zeile gebildet sind, in der gegenwärtigen
Ausführungsform andererseits mit derselben Hauptwortleitung verbun
den. Entsprechend können sich diese Transistoren 24a dieselbe Source
teilen.
Dann werden Transistoren 24a, die in den beliebigen, einander be
nachbarten Dekodern LD(2) und LD(2j+1) enthalten sind, so gebildet,
daß sie auf dem Halbleitersubstrat eine gemeinsame Source aufweisen.
Genauer gesagt weist wie in Fig. 10 gezeigt der P-Kanal-Transistor
24a in jedem der lokalen Dekoder LD(2j) und LD(2j+1) zwei Source-Be
reiche S, die als Source-Bereiche von den P-Kanal-Transistoren 24a
in den benachbarten lokalen Dekodern geteilt werden, einen zwischen
diesen beiden Source-Bereichen S gebildeten Drain-Bereich D und
einen unabhängigen Gate-Bereich G auf. Der Gate-Bereich G überspannt
den Abschnitt zwischen dem Drain-Bereich D und den zwei Source-Be
reichen S. Daher ist jeder der Transistoren 24a der Fig. 8 in der
Praxis als zwei P-Kanal-Transistoren 240 gebildet, die auf dem Halb
leitersubstrat parallel geschaltet sind. Alle Source-Bereiche S sind
mit derselben Wortleitung MWL und jeder Drain-Bereich D ist mit der
entsprechenden lokalen Wortleitung LWL(2j) oder LWL(2j+1) verbunden.
Die Gate-Bereiche G sind mit den unterschiedlichen Z-Dekodersignal
leitungen /ZL verbunden.
Da wie oben beschrieben in Übereinstimmung mit der vorliegenden Aus
führungsform kein Isolationsbereich auf dem Halbleitersubstrat ge
bildet werden muß, belegen die P-Kanal-Transistoren 24a der lokalen
Dekoder, die in derselben Zeile gebildet sind, im Vergleich zur vor
herigen Ausführungsform weniger Fläche. Darüber hinaus ist die
Stromtreibungsfähigkeit eines jeden Transistors 24a gleich der eines
Schaltkreises von zwei parallel geschalteten Transistoren 240. Um
einen Transistor 24a zu erhalten, benötigt entsprechend dem Layout
der Fig. 10 der Transistor mit derselben Stromtreibungsfähigkeit wie
der des Transistors 24a, der entsprechend dem Layout der Fig. 9 er
halten wird, nur die halbe Breite des Transistors 24a aus Fig. 9.
Als Ergebnis der oben angeführten Beschreibung ermöglicht die gegen
wärtige Ausführungsform eine signifikante Reduzierung der Fläche zur
Bildung des P-Kanal-Transistors 24a in lokalen Dekodern. Diese Tat
sache gestattet eine weitere Verminderung der Fläche des lokalen De
koders.
Wenn das Speicherzellenfeld 1 Speicherzellen aufweist, die bei
spielsweise in einer Matrix aus 2⁹ (=512) Zeilen × 2¹¹ (=2048) Spal
ten angeordnet sind, so werden in jeder der Ausführungsformen in den
Fig. 2, 6 und 7 Zeilenadreßsignale und Spaltenadreßsignale wie in
der Tabelle von Fig. 31 dargestellt verteilt und an den Zeilendeko
der 6, den Spaltendekoder 7 und den Z-Dekoder 18 angelegt.
Fig. 11 zeigt ein Schaltbild eines weiteren Beispiels für den Aufbau
des Hauptteiles des SRAM von Fig. 1 in Übereinstimmung mit einer
weiteren Ausführungsform der Erfindung.
Bezüglich Fig. 11 sind in der gegenwärtigen Ausführungsform zwei
Paare komplementärer Hauptwortleitungen /MWLL, MWLL und /MWLR, MWLR
für jede der Subblockgruppen SBL0-SBL127 gebildet und es ist eine
Z-Dekodersignalleitungsgruppe ZLG gemeinsam für jeden geradzahlig nu
merierten Block BL(2j) und den hierzu benachbarten ungeradzahlig nu
merierten Block BL(2j+1) geschaffen. Im Gegensatz zur Ausführungs
form der Fig. 7 ist damit dieselbe Z-Dekodersignalleitung ZL mit
zwei lokalen Dekodern LD(2j) und LD(2j+1) verbunden, die jeweils im
geradzahlig numerierten Block BL(2j) und dem hierzu benachbarten un
geradzahlig numerierten Block BL(2j+1) in derselben Zeile gebildet
sind. Daher sind die Hälfte der Zahl von 32 Blöcken, d. h. 16 Z-Deko
diersignalleitungsgruppen ZLG gebildet. Andererseits ist die dop
pelte Zahl der 12 Subblockgruppen, d. h. 256 Paare komplementärer
Wortleitungen geschaffen.
Mit allen lokalen Dekodern LD0, LD2, . . ., LD30, die entsprechend den
geradzahlig numerierten Blöcken BL0, BL2, . . ., BL30 gebildet sind,
ist ein komplementäres Hauptwortleitungspaar /MWLL und MWLL (im wei
teren als geradzahlig numeriertes komplementäres Wortleitungspaar
bezeichnet) gemeinsam mit den lokalen Dekodern verbunden, die ent
sprechend den Subblockgruppen SBL0-SBL127 gebildet sind. Ferner ist
mit allen lokalen Dekodern LD1, LD3, . . ., LD31, die entsprechend den
ungeradzahlig numerierten Blöcken BL1, BL3, . . ., BL31 gebildet sind,
das andere Paar /MWLR und MWLR (im weiteren als ungeradzahlig nume
riertes Wortleitungspaar bezeichnet) gemeinsam mit den lokalen Deko
dern verbunden, die entsprechend den Subblockgruppen SBL0-SBL127 ge
bildet sind.
Der Z-Dekoder 18 dekodiert ein um ein Bit kleineres Adreßsignal als
in der oben beschriebenen Ausführungsform, um eine der Mehrzahl von
Z-Dekodersignalleitungen ZL zu aktivieren, die in einer der 16 Z-De
kodiersignalleitungsgruppen ZLG enthalten sind. Der Zeilendekoder 6
dekodiert ein um ein Bit umfangreicheres Adreßsignal als in der oben
beschriebenen Ausführungsform, um nur eines der 256 komplementären
Hauptwortleitungspaare /MWLL, MWLL und /MWLR, MWLR zu aktivieren.
Bei der vorliegenden Ausführungsform wird ein Teil der Ausgangssi
gnale vom Zeilenadreßpuffer 5 an den Zeilendekoder 6 angelegt, wie
in Fig. 1 durch die unterbrochene Linie dargestellt ist. Weist das
Speicherzellenfeld Speicherzellen auf, die beispielsweise in einer
Matrix aus 512 Zeilen × 2048 Spalten angeordnet sind, so sollten die
Zeilenadreßsignale und die Spaltenadreßsignale wie in der Tabelle
von Fig. 12 gezeigt verteilt und an den Zeilendekoder 6 und den
Z-Dekoder 18 angelegt werden. Fig. 12 stellt eine Tabelle dar, die die
Adreßsignale zeigt, die in Übereinstimmung mit der gegenwärtigen
Ausführungsform in den Zeilendekoder 6 und den Z-Dekoder 18 im Falle
eines Speicherzellenfeldes mit Speicherzellen, die in 512 Zeilen und
2048 Spalten angeordnet sind, eingegeben werden sollen.
Vergleicht man Fig. 12 mit Fig. 31, so erkennt man im Unterschied zu
den oben beschriebenen Ausführungsformen, daß bei der vorliegenden
Ausführungsform von den Blockadreßsignalen Z0-Z4, die im Spal
tenadreßsignal enthalten sind, das niederwertigste Bitsignal Z0 in
den Zeilendekoder 6 eingegeben wird und 4-Bit-Signale Z1-Z4 des
Blockadreßsignals, die vom niederwertigsten Bitsignal Z0 verschieden
sind, dem Z-Dekoder 18 zugeführt werden. Das Zeilenadreßsignal wird
wie bei den oben beschriebenen Ausführungsformen verteilt und an den
Zeilendekoder 6 sowie den Z-Dekoder 18 angelegt. Damit gibt der Zei
lendekoder 6 doppelt so viele komplementäre Signalpaare /x0L, x0L,
/x0R, x0R, /x1L, x1L, /x1R, x1R, . . ., /x127L, x127L, /x127R und
x127R und der Z-Dekoder 18 halb so viele Ausgangssignale zx0-zx63
wie bei den oben beschriebenen Ausführungsformen aus.
Fig. 13 zeigt ein Schaltbild des Aufbaus des lokalen Dekoders LD(2j)
und LD(2j+1) entsprechend der vorliegenden Ausführungsform. Fig. 13
zeigt als Beispiel beliebige benachbarte lokale Dekoder LD(2j) und
LD(2j+1), die in derselben Zeile der Fig. 11 gebildet sind.
Bezüglich Fig. 13 weist jeder der lokalen Dekoder LD(2j) und
LD(2j+1) denselben Aufbau wie die Ausführungsformen der Fig. 2 und 6
auf, mit dem Unterschied, daß die Gates der Transistoren 24a-24c in
einem lokalen Dekoder LD(2j), der entsprechend dem jeweiligen gerad
zahlig numerierten Block gebildet ist, und die Gates der Transistoren
24a-24c in einem lokalen Dekoder LD(2j+1), der entsprechend dem je
weiligen ungeradzahlig numerierten Block gebildet ist, mit verschie
denen Hauptwortleitungspaaren /MWLR, MWLR bzw. MWLL, MWLL verbunden
sind. Die Sources der Transistoren 24a und 24c im lokalen Dekoder
LD(2j) und die Source der Transistoren 24a und 24c im lokalen Deko
der LD(2j+1) sind mit derselben Z-Dekodersignalleitung ZL verbunden.
Die mit dem lokalen Dekoder LD(2j) verbundene lokale Wortleitung
LWL(2j) wird daher nur dann aktiv, wenn die entsprechende geradzah
lig numerierte Hauptwortleitung /MWLL und die entsprechende Z-Deko
dersignalleitung ZL einen niedrigen bzw. hohen Pegel annehmen. In
ähnlicher Weise wird die mit dem lokalen Dekoder LD(2j+1) verbundene
lokale Wortleitung LWL(2j+1) daher nur dann aktiv, wenn die entspre
chende ungeradzahlig numerierte Hauptwortleitung /MWLR und die ent
sprechende Z-Dekodersignalleitung ZL einen niedrigen bzw. hohen Pe
gel annehmen. In der vorliegenden Ausführungsform gibt eine einen
hohen Pegel erreichende Z-Dekodersignalleitung ZL an, daß ein Art
von zwei Arten von Eingangssignalen für die jeweiligen zwei Dekoder
LD(2j) und LD(2j+1) gleichzeitig aktiviert worden sind. Es ist je
doch nicht möglich, daß das Potential auf dem geradzahlig numerier
ten komplementären Wortleitungspaar /MWLR und MWLR, wobei dieses Po
tential das andere Eingangssignal an den lokalen Dekoder LD(2j) dar
stellt, und das Potential auf dem ungeradzahlig numerierten komple
mentären Hauptwortleitungspaar /MWLL und MWLL, wobei dieses Poten
tial das andere Eingangssignal an den lokalen Dekoder LD(2j+1) dar
stellt, beide gleichzeitig das Potential erreichen, das einen akti
vierten Zustand angibt. Dies verhindert die Möglichkeit, daß eine
lokale Wortleitung LWL(2j) und eine lokale Wortleitung LWL(2j+1) zur
selben Zeit aktiviert werden.
Wie oben beschrieben worden ist, ist es in der vorliegenden Ausfüh
rungsform nicht das Ausgangssignal des Z-Dekoders 18, sondern das
Ausgangssignal des Zeilendekoders 6, das bestimmt, ob eine lokale
Wortleitung LWL(2j) in einem geradzahlig numerierten Block BL(2j)
oder eine lokale Wortleitung LWL(2j+1) in einem ungeradzahlig nume
rierten Block BL(2j+1) aktiviert werden soll. Damit kann, wie in
Fig. 11 gezeigt ist, unter Verwendung der Hälfte von Z-Dekodersi
gnalleitungen, die in einer herkömmlichen Einrichtung erforderlich
sind, eine einzelne lokale Wortleitung ausgewählt werden. Damit wird
sowohl eine Verminderung der Zahl von Elementen in jedem lokalen De
koder als auch eine Reduzierung der Zahl von Signalleitungen, die in
Spaltenrichtung gebildet sind, erreicht.
Die Fig. 14 bis 16 zeigen Schaltbilder weiterer Beispiele für Anord
nungen eines solchen lokalen Dekoders, der in Fig. 11 angeordnet
werden kann. Diese Zeichnungen zeigen weitere Ausführungsformen der
vorliegenden Erfindung.
Obwohl der lokale Dekoder in Übereinstimmung mit der Ausführungsform
von Fig. 13 sowohl einen P-Kanal-Transistor als auch einen N-Kanal-
Transistor aufweist, kann der lokale Dekoder auch nur aus P-Kanal-
oder N-Kanal-Transistoren bestehen.
Für den Fall eines lokalen Dekoders, der nur N-Kanal-Transistoren
wie in Fig. 14 gezeigt aufweist, sollte beispielsweise der P-Kanal-
Transistor 24a der Fig. 13 durch den N-Kanal MOS-Transistor 24d mit
niedrigerer Schwellenspannung Vth ersetzt werden. In diesem Fall ist
das Gate des Transistors 24d mit einer Hauptwortleitung MWLL oder
MWLR des entsprechenden Hauptwortleitungspaars verbunden, wobei ein
Potential mit hohem Pegel der Leitung als aktiver Zustand betrachtet
wird. Damit können die lokalen Dekoder LD(2j) und LD(2j+1) das Po
tential auf der entsprechenden Z-Dekodersignalleitung auf die ent
sprechenden lokalen Wortleitungen LWL(2j) bzw. LWL(2j+1) nur dann
übertragen, wenn das entsprechende geradzahlig numerierte komplemen
täre Hauptwortleitungspaar /MWLR, MWLR und das entsprechende unge
radzahlig numerierte komplementäre Hauptwortleitungspaar /MWLL, MWLL
aktiviert sind.
Im folgenden wird der Grund dafür beschrieben, einen N-Kanal-Transi
stor 24d mit niedriger Schwellenspannung anstelle des Transistors
24a zu verwenden.
Es sei angenommen, daß für den Fall, wenn das Potential am Knoten
zwischen den Transistoren 24d und 24b beispielsweise gleich 0V ist,
die Potentiale auf der Z-Dekodersignalleitung ZL und der entspre
chenden Hauptwortleitung /MWLR oder /MWLL einen hohen bzw. niedrigen
Pegel erreichen. In einem solchen Fall beginnt das Potential am Kno
ten, in Abhängigkeit von der Leitung des Transistors 24d anzustei
gen. Da der Transistor 24d jedoch vom N-Kanal-Typ ist, sperrt dieser
zum Zeitpunkt, zu dem die Differenzspannung zwischen dem Gate-Poten
tial und dem Source- oder Drain-Potential die Schwellenspannung Vth
erreicht. Daher wird der Transistor 24d gesperrt, wenn das Potential
am Knoten auf das Potential (Vcc-Vth) ansteigt, das um die Schwel
lenspannung Vth des Transistors 24d unter dem Gate-Potential des
Transistors 24d liegt, das gleich dem Potential Vcc (d. h. Versor
gungspotential: hoher Pegel) des aktiven Zustands der entsprechenden
Hauptwortleitung MWLL oder MWLR ist. Damit wird die mit dem Knoten
verbundene lokale Wortleitung LWL(2j) oder LWL(2j+1) auf das Poten
tial (Vcc-Vth) fixiert, das etwas unter dem Potential Vcc liegt, das
einen vollständig aktiven Zustand angibt. Dann ermöglicht die Ver
wendung des Transistors 24d mit kleiner Schwellenspannung Vth, daß
die entsprechenden lokalen Wortleitungen LWL(2j) und LWL(2j+1) in
einem aktiven Zustand ein Potential erreichen, das dem ursprüngli
chen Potential Vcc näher liegt.
Für den Fall, daß ein lokaler Dekoder nur P-Kanal-Transistoren auf
weist, so sollte der N-Kanal-Transistor 24b der Fig. 13 durch einen
P-Kanal MOS-Transistor 24e ersetzt und das Widerstandselement R an
stelle des Transistors 24c gebildet werden, wie dies beispielsweise
in Fig. 15 dargestellt ist. Das Widerstandselement R ist zwischen
dem Knoten zwischen den Transistoren 24a und 24e und Masse GND ge
bildet. Unter dem entsprechenden geradzahlig numerierten komplemen
tären Paar von Hauptwortleitungen /MWLL, MWLL ist das Gate des Tran
sistors 24e im lokalen Dekoder LD(2j) mit der Hauptwortleitung MWLL
verbunden, deren hohes Potential als aktiver Zustand betrachtet
wird. Ferner ist unter dem entsprechenden ungeradzahlig numerierten
komplementären Paar von Hauptwortleitungen /MWLR, MWLR ist das Gate
des Transistors 24e im lokalen Dekoder LD(2j+1) mit der Hauptwort
leitung MWLR verbunden, deren hohes Potential als aktiver Zustand
betrachtet wird. Damit erreicht das Potential auf jeder der lokalen
Wortleitungen LWL(2j) und LWL(2j+1) unabhängig vom Potential auf der
entsprechenden Z-Dekodersignalleitung ZL einen niedrigen Pegel, wenn
das entsprechende komplementäre Hauptwortleitungspaar /MWLL, MWLL
oder /MWLR, MWLR deaktiviert ist.
Bei der vorliegenden Ausführungsform dient das Widerstandselement R
dazu, das Potential auf den jeweiligen Wortleitungen LWL(2j) und
LWL(2j+1) zuverlässig auf 0V zu treiben, um diese vollständig zu
deaktivieren.
Befindet sich das Potential am Knoten zwischen den Transistoren 24a
und 24e in einem beliebigen lokalen Dekoder LD(2j) oder LD(2j+1) auf
einem hohen Pegel, so sinkt das Potential am Knoten nur auf ein Po
tential, das um die Schwellenspannung Vth des Transistors 24a größer
als 0V ist, ab, falls sowohl das Potential auf der entsprechenden
Hauptwortleitung /MWLR oder /MWLL als auch das Potential auf der
entsprechenden Z-Dekodersignalleitung ZL einen niedrigen Pegel er
reicht, wie oben ohne Widerstandselement R beschrieben worden ist.
Das Widerstandselement R bewirkt jedoch, daß die entsprechend der
Schwellenspannung Vth am Knoten gespeicherte positive Ladung über
das Widerstandselement R zur Masse entladen wird, so daß das Poten
tial am Knoten auf 0V absinkt. Für den Fall, daß die entsprechende
Hauptwortleitung MWLL oder MWLR einen niedrigen Pegel erreicht, wenn
das Potential am Knoten auf einem hohen Pegel liegt, so sinkt ohne
das Widerstandselement das Potential am Knoten in ähnlicher Weise
nur auf ein Potential ab, das um die Schwellenspannung Vth des Tran
sistors 24e über 0V liegt. Die Schaffung des Widerstandselementes R
bewirkt jedoch, daß die Ladung vom Knoten zur Masse GND entladen
wird, wodurch das Potential am Knoten gleich 0V wird. Das Wider
standselement R sollten einen Wert aufweisen, daß das Potential auf
der entsprechenden lokalen Wortleitung LWL(2j) oder LWL(2j+1) trotz
der Entladung über das Widerstandselement R einen ausreichend hohen
Pegel erreichen kann, wenn das Potential auf der entsprechenden
Hauptwortleitung /MWLL oder /MWLR und das Potential auf der entspre
chenden Z-Dekodersignalleitung ZL auf niedrigem bzw. hohem Pegel
liegen. Beispielsweise kann der Widerstand R im Hinblick auf das
Stromtreibungsvermögen des Transistors 24a einen Wert bis zu 10kΩ
aufweisen.
Wie oben beschrieben worden ist, erfordert ein lokaler Dekoder mit
Transistoren derselben Polarität weniger Fläche auf dem Halbleiter
substrat. Im folgenden werden solche Effekte der in den Fig. 14 und
15 gezeigten Ausführungsformen detaillierter beschrieben.
Im allgemeinen werden die Source-/Drain-Bereiche eines P-Kanal-Tran
sistors auf einem Halbleitersubstrat durch zwei P-Bereiche in einer
N-Wanne und umgekehrt die Source-/Drain-Bereiche eines N-Kanal-Tran
sistors auf einem Halbleitersubstrat durch zwei N-Bereiche in einer
P-Wanne gebildet. Auf einem Halbleitersubstrat mit einem hierauf ge
bildeten P-Kanal- und einem N-Kanal-Transistor ist die P-Wanne oder
N-Wanne im allgemeinen als Inseln in der anderen gebildet. Sollen
ein P-Kanal- und ein N-Kanal-Transistor benachbart zueinander auf
einem Halbleitersubstrat geschaffen werden, so werden daher der
P-Kanal- und der N-Kanal-Transistor in einem ausreichenden Abstand
aneinander gebildet, um die Erzeugung eines Leckstroms im PN-Über
gangsbereich, der sich im Grenzbereich zwischen diesen Transistoren
bildet, Thyristorbetrieb im sogenannten Latch-up etc. zu verhindern.
Für lokale Dekoder, die jeweils Transistoren verschiedener Polarität
aufweisen, müssen die Elemente auf dem Halbleitersubstrat in einem
ausreichenden Abstand voneinander gebildet sein.
Wird andererseits beim Bilden von zwei in Reihe geschalteter Transi
storen derselben Polarität auf einem Halbleitersubstrat können ein
Source- oder Drain-Bereich des einen Transistors und ein Source-
oder ein Drain-Bereich des anderen Transistors aus einem gemeinsamen
P- oder einem gemeinsamen N-Bereich geschaffen werden. Daher gestat
ten es lokale Dekoder, die jeweils Transistoren derselben Polarität
aufweisen, daß ihre Elemente auf dem Halbleitersubstrat nicht in ei
nem so großen Abstand voneinander geschaffen werden müssen. Damit
ist ein lokaler Dekoder, der nur Transistoren derselben Leitfähig
keit aufweist, noch weniger Fläche auf dem Halbleitersubstrat be
legt.
Bei der in Fig. 15 dargestellten Ausführungsform ist ein Widerstands
element R als Entladungspfad von der lokalen Wortleitung zur Masse
GND gebildet, um jede der lokalen Wortleitungen LWL(2j) und
LWL(2j+1) auf 0V zu treiben, wenn das entsprechende komplementäre
Hauptwortleitungspaar /MWLL, MWLL oder /MWLR, MWLR und die entspre
chende Z-Dekodersignalleitung ZL nicht aktiviert sind. Der Entla
dungspfad muß jedoch nicht notwendigerweise von einem Widerstandse
lement gebildet werden, sondern kann durch jedes Element, das die
selbe Funktion wie ein Widerstandselement aufweist, geschaffen wer
den. Beispielsweise kann, wie in Fig. 16 gezeigt ist, ein N-Kanal
MOS-Transistor 24f, dessen Gate mit der Versorgungsspannung Vcc ver
bunden ist, für diesen Entladungspfad verwendet werden. Der Transi
stor 24f sollte dabei ungefähr denselben Leitwiderstand wie das Wi
derstandselement 15 der Fig. 15 aufweisen.
Fig. 17 zeigt das Schaltbild eines weiteren Beispiels für den Aufbau
des Hauptteiles des SRAM von Fig. 1 in Übereinstimmung mit einer
weiteren Ausführungsform der vorliegenden Erfindung.
Im Gegensatz zur Ausführungsform von Fig. 11 sind bei der vorliegen
den Ausführungsform von Fig. 17 alle Ausgangssignale vom Z-Dekoder
18 inaktive Signale. Der Aufbau des restlichen Teils von Fig. 17
stimmt mit dem der Fig. 11 überein.
Fig. 18 zeigt ein Schaltbild eines Beispiels für den Aufbau der je
weiligen lokalen Dekoder LD(2j) und LD(2j+1) der Fig. 17. Fig. 18
zeigt als Beispiel zwei benachbarte lokale Dekoder LD(2j) und
LD(2j+1), die mit derselben Z-Dekodersignalleitung /ZL der Fig. 17
verbunden sind.
Bezüglich Fig. 18 erhält man den Aufbau der jeweiligen lokalen Deko
der LD(2j) und LD(2j+1) der vorliegenden Ausführungsform, indem man
in den lokalen Dekodern der Fig. 13 die geradzahlig numerierte
Hauptwortleitung /MWL und die ungeradzahlig numerierte Hauptwortlei
tung /MWL durch die Z-Dekodersignalleitung ZL ersetzt.
Genauer gesagt sind im jeweiligen lokalen Dekoder LD(2j), der ent
sprechend dem jeweiligen geradzahlig numerierten Block BL(2j) der
vorliegenden Ausführungsform gebildet ist, die Gates der Transisto
ren 24a und 24b mit der entsprechenden Z-Dekodersignalleitung /ZL
und die Sources der Transistoren 24a und 24c mit der entsprechenden
geradzahlig numerierten Hauptwortleitung MWLL verbunden. In ähnli
cher Weise sind im jeweiligen lokalen Dekoder LD(2j+1), der entspre
chend dem jeweiligen ungeradzahlig numerierten Block BL(2j+1) gebil
det ist, die Gates der Transistoren 24a und 24b mit der entsprechen
den Z-Dekodersignalleitung /ZL und die Sources der Transistoren 24a
und 24c mit der entsprechenden ungeradzahlig numerierten Hauptwort
leitung MWLR verbunden.
Bei der vorliegenden Ausführungsform stellen die Signalleitung, die
mit den Gates der Transistoren 24a und 24b verbunden ist, und die
Signalleitung, die mit den Sources der Transistoren 24a und 24c ver
bunden ist, Signalleitungen dar, deren niedriger Pegel als inaktiver
Zustand, bzw. deren hoher Pegel als aktiver Zustand betrachtet wird.
Daher aktiviert jeder der lokalen Dekoder LD(2j) und LD(2j+1) der
vorliegenden Ausführungsform ähnlich wie beim Dekoder, der wie in
Fig. 13 dargestellt aufgebaut ist, die entsprechende lokale Wortlei
tung LWL(2j) oder LWL(2j+1) nur dann, wenn sowohl das entsprechende
komplementäre Wortleitungspaar /MWLL, MWLL oder /MWLR, MWLR als auch
die entsprechende Z-Dekodersignalleitung /ZL aktiviert ist.
Wie in den Fig. 15 und 16 dargestellt ist, benötigt jeder der loka
len Dekoder LD(2j) und LD(2j+1), die ohne Elemente (Transistoren 24c
der Fig. 3, 8 12 und 14) zum zuverlässigen Treiben des Potentials
auf der entsprechenden lokalen Wortleitung LWL(2j) oder LWL(2j+1)
auf 0V, wenn dies deaktiviert werden sollen, aufgebaut sind, kein
Signal zur Steuerung dieser Schaltelemente, d. h. erfordert kein Si
gnal auf einer Hauptwortleitung des entsprechenden komplementären
Hauptwortleitungspaars. Es ist dann ferner möglich, die Zahl der
Hauptwortleitungen zu reduzieren, indem als Treiberelemente ein Wi
derstandselement R oder ein Transistor 24f, der stets mit einem ho
hen Durchlaßwiderstand leitend ist, benutzt wird.
Fig. 19 zeigt ein Schaltbild eines weiteren Beispiels für den Aufbau
des Hauptteiles des SRAM von Fig. 1, wobei die Zahl der Hauptwort
leitungen nur halb so groß ist wie bei der Ausführungsform von Fig.
11. Dieses Beispiel stellt eine weitere Ausführungsform der Erfin
dung dar.
Im Gegensatz zur Ausführungsform der Fig. 11 sind bei der gegenwär
tigen Ausführungsform der Fig. 19 eine geradzahlig numerierte Haupt
wortleitung MWLL und eine ungeradzahlig numerierte Hauptwortleitung
MWLR entsprechend jeder der Subblockgruppen SBL0-SBL127 gebildet.
Daher ist jeder lokale Dekoder LD(2j) nur mit der entsprechenden ge
radzahlig numerierten Hauptwortleitung MWLL und der entsprechenden
Z-Dekodersignalleitung /ZL verbunden. In ähnlicher Weise ist jeder
lokale Dekoder LD(2j+1) nur mit der entsprechenden ungeradzahlig nu
merierten Hauptwortleitung MWLR und der Z-Dekodersignalleitung /ZL
verbunden.
Wie bei der Ausführungsform der Fig. 11 werden Zeilenadreßsignale
und Spaltenadreßsignale an den Zeilendekoder 6 und den Z-Dekoder 18
angelegt. Bei der vorliegenden Ausführungsform gibt der Zeilendeko
der 6 128 Signale x0L, x0R, x1L, x1R, . . ., x127L, x127R aus, von
denen nur eines einen hohen Pegel erreicht. Der Aufbau des restli
chen Teils der Fig. 19 stimmt mit dem der Fig. 11 überein.
Fig. 20 zeigt ein Schaltbild einer Anordnung für die lokalen Dekoder
LD0-LD31 der Fig. 19. Fig. 20 zeigt als Beispiel zwei benachbarte
lokale Dekoder LD(2j) und LD(2j+1), die mit einer Z-Dekodersignal
leitung /ZL verbunden sind.
Bezüglich Fig. 20 erhält man den Aufbau der jeweiligen lokalen Deko
der LD(2j) und LD(2j+1), indem man im lokalen Dekoder der Fig. 18
den Transistor 24c durch ein Widerstandselement R ersetzt. Daher
sind die geradzahlig numerierte Hauptwortleitung /MWLL und die unge
radzahlig numerierte Hauptwortleitung /MWLR zur Steuerung des Tran
sistors 24c unnötig.
Der Betrieb des wie in Fig. 20 dargestellt aufgebauten lokalen Deko
ders ist aus dem Betrieb des lokalen Dekoders der Fig. 18, der be
reits beschrieben worden ist, offensichtlich, so daß daher keine Be
schreibung des Betriebs des lokalen Dekoders der Fig. 20 erfolgt.
Bei den lokalen Dekodern LD((2) und LD(2j+1) der Fig. 20 sind die
Hauptwortleitungen MWLR und MWLL mit der Z-Dekodersignalleitung /ZL
vertauschbar. Damit in diesem Fall jeder der lokalen Dekoder LD(2j)
und LD(2j+1) die entsprechende lokale Wortleitung LWL(2j) oder
LWL(2j+1) nur dann aktiviert, wenn sowohl die entsprechende lokale
Hauptwortleitung MWLL oder MWLR als auch die entsprechende Z-Deko
dersignalleitung /ZL aktiviert sind, sollten die Signalleitung, die
mit den Gates der Transistoren 24a und 24b verbunden ist, und die
Signalleitung, die mit der Source des Transistors 24a verbunden ist,
eine Signalleitung darstellen, deren Potential mit niedrigem Pegel
als aktiver Zustand bzw. deren Potential mit hohem Pegel als aktiver
Zustand betrachtet wird.
Fig. 21 zeigt ein Schaltbild eines weiteren Beispiels für den Aufbau
des Hauptteiles des SRAM von Fig. 1 in Übereinstimmung mit einer
weiteren Ausführungsform der Erfindung, wobei die Hauptwortleitung
und die Z-Dekodersignalleitung im jeweiligen lokalen Dekoder, der in
der Ausführungsform der Fig. 20 angeordnet ist, gegeneinander ver
tauscht sind.
Im Gegensatz zur Fig. 19 sind bei der vorliegenden Ausführungsform
der Fig. 21 alle Ausgangssignale des Zeilendekoders 6 inaktive Si
gnale /x0L, /x0R, /x1L, /x1R, . . ., /x127L, /x127R und jedes der Aus
gangssignale zx0-zx63 vom Z-Dekoder 18 stellt ein Signal dar, deren
hoher Pegel als aktiver Pegel betrachtet wird. Der Aufbau des rest
lichen Teils von Fig. 21 stimmt mit dem der Fig. 19 überein.
Fig. 22 zeigt ein Schaltbild eines Beispiels für den Aufbau der lo
kalen Dekoder LD0-LD31 der Fig. 21. Fig. 22 zeigt als Beispiel zwei
benachbarte lokale Dekoder LD(2j) und LD(2j+1), die mit einer Z-De
kodersignalleitung ZL der Fig. 21 verbunden sind.
Bezüglich Fig. 22 erhält man den Aufbau der jeweiligen lokalen Deko
der LD(2j) und LD(2j+1) der vorliegenden Ausführungsform, indem man
im lokalen Dekoder der Fig. 13 den Transistor 24c durch ein Wider
standselement R ersetzt.
Der Betrieb der lokalen Dekoder LD(2j) und LD(2j+1) von Fig. 22 ist
offensichtlich aus dem Betrieb der lokalen Dekoder in Fig. 13 ver
ständlich, der bereits beschrieben worden ist, so daß keine Be
schreibung der in Fig. 22 dargestellten lokalen Dekoder erfolgt.
Im allgemeinen belegt ein auf einem Halbleitersubstrat gebildetes
Widerstandselement mit einem Anstieg seines Widerstandswertes eine
größere Fläche. Daher ist die Bildung eines Widerstandselementes mit
einem großen Widerstandswert auf dem Halbleitersubstrat im Hinblick
auf eine Erhöhung des Integrationsgrades eines integrierten Halblei
terschaltkreises nicht wünschenswert.
Um die von einem lokalen Dekoder auf einem Halbleitersubstrat be
legte Fläche zu reduzieren und die Zahl der Hauptwortleitungen wie
bei der Ausführungsform von Fig. 16 zu verkleinern, kann bei der
Ausführungsform der Fig. 20 und 22 ein Transistor mit einem hohen
Durchlaßwiderstand, der stets leitend ist, anstelle des Widerstands
elementes R als Element verwendet werden, um die Potentiale auf den
jeweiligen lokalen Wortleitungen LWL(2j) und LWL(2j+1), die deakti
viert werden sollen, zuverlässig auf 0V zu treiben.
Obwohl in den oben beschriebenen Ausführungsformen ein Widerstandse
lement oder ein Schaltkreiselement, wie beispielsweise ein MOS-Tran
sistor, in jedem lokalen Dekoder als Einrichtung gebildet ist, um
jede zu deaktivierende lokale Wortleitung zuverlässig auf 0V zu
treiben, kann als solche Einrichtung auch ein Verfahren zum Steuern
des Logikpegels des Ausgangssignals vom Zeilendekoder 6 oder des
Ausgangssignals vom Z-Dekoder 18 verwendet werden.
Dieses Verfahren kann realisiert werden, indem beispielsweise ein
Ausgangssignal des ATD-Schaltkreises 17 der Fig. 1 in den Zeilende
koder 6 oder den Z-Dekoder 18 eingegeben wird.
Fig. 23 zeigt ein Blockdiagramm des Aufbaus eines Abschnitts, der zu
diesem Verfahren gehört, wenn ein solches Verfahren auf einen SRAM
angewandt wird, bei dem ein Schaltkreis, wie er in Fig. 20 darge
stellt ist, als lokaler Dekoder verwendet wird.
Fig. 24 zeigt ein Blockdiagramm, das den Aufbau eines Abschnitts
darstellt, der mit diesem Verfahren zusammenhängt, wenn das Verfah
ren auf einen SRAM angewandt wird, bei dem ein Schaltkreis als loka
ler Dekoder verwendet wird, wie er in Fig. 22 gezeigt ist.
Fig. 25 zeigt ein Zeitdiagramm zur Erläuterung der Potentialänderung
einer lokalen Wortleitung, die wie in den Fig. 23 und 24 dargestellt
aufgebaut ist.
Das Verfahren wird unter Bezugnahme auf die Fig. 23 bis 25 eingehend
erläutert.
Für den Fall, daß die lokalen Dekoder LD(2j) und LD(2j+1) wie in
Fig. 20 dargestellt aufgebaut sind, sollte das Ausgangssignal des
ATD-Schaltkreises 17 an den Z-Dekoder 18 angelegt werden, wie in
Fig. 23 gezeigt ist. In diesem Fall ist der Z-Dekoder 18 so aufge
baut, daß alle seine Ausgangssignale /zx0-/zx63 unabhängig von den
Eingangssignalen Z1-Z4, x1 und x0 einen hohen Pegel erreichen, wenn
sich das Ausgangssignal des ATD-Schaltkreises auf hohem Pegel befin
det. Der ATD-Schaltkreis 17 gibt in Abhängigkeit von einer Änderung
von mindestens dem Zeilenadreßsignal vom Zeilenadreßpuffer 4 oder
dem Spaltenadreßsignal vom Spaltenadreßpuffer 5 ein Impulssignal mit
hohem Pegel aus.
Daher folgt, wie in Fig. 25 dargestellt ist, auf die Änderung des
externen Adreßsignals Fig. 25(a)), daß das Ausgangssignal (Fig.
25b)) des ATD-Schaltkreises 17 für eine bestimmte Zeitspanne einen
hohen Pegel erreicht und folglich das Potential auf der Z-Dekodersi
gnalleitung /ZL (Fig. 25(c)) der Fig. 20 als Reaktion auf die Ände
rung des externen Adreßsignals ohne Ausfall einmal einen hohen Pegel
erreicht. Damit werden alle Transistoren 24b in Fig. 20 durchge
schaltet. Daher fallen die Potentiale auf den lokalen Wortleitungen
LWL(2j) und LWL(2j+1), die mit den lokalen Dekodern LD(2j) bzw.
LD(2j+1) verbunden sind, als Reaktion auf die Änderung des externen
Adreßsignals ohne Ausfall einmal auf 0V, wie in Fig. 25(e) darge
stellt ist.
Eine Änderung des externen Adreßsignals tritt zu Beginn des Daten
schreibens in oder Datenlesens aus einer Speicherzelle auf, die von
der bereits ausgewählten Speicherzelle verschieden ist. Wird das Po
tential auf jeder lokalen Wortleitung mit der Änderung des externen
Adreßsignals auf 0V getrieben, ist es daher nicht möglich, daß die
Potentiale auf den lokalen Wortleitungen LWL(2j) und LWL(2j+1), die
mit den Transistoren 24a verbunden sind, von einem hohen Pegel aus
absinken, selbst wenn sowohl das Gate-Potential als auch das Drain-
Potential des Transistors 24a einen niedrigen Pegel in einer Aus
wahloperation einer lokalen Wortleitung durch den Zeilendekoder 6
und den Z-Dekoder 18, die als Reaktion auf das geänderte externe
Adreßsignal ausgeführt wird. Selbst ohne Widerstandselement R wird
daher das Potential auf einer lokalen Wortleitung, die deaktiviert
werden soll, nicht auf einem Potential Vth größer 0V fixiert.
Für den Fall, daß lokale Dekoder LD(2j) und LD(2j+1) wie in Fig. 22
dargestellt aufgebaut sind, sollte das Ausgangssignal des ATD-
Schaltkreises 17 in ähnlicher Weise an den Zeilendekoder 6 angelegt
werden, wie in Fig. 24 gezeigt ist. In diesem Fall ist der Zeilende
koder 6 wie in der Zeichnung dargestellt aufgebaut, so daß all seine
Ausgangssignale /x0L, /x0R, . . ., /X127L, /x127R unabhängig von den
Eingangsadreßsignalen X2-X8 und Z0 einen hohen Pegel erreichen, wenn
das Ausgangssignal des ATD-Schaltkreises 17 auf hohem Pegel liegt.
Daher werden die Potentiale auf den Hauptwortleitungen /MWLL und
/MWLR als Reaktion auf die Änderung des externen Adreßsignals einmal
auf einen hohen Pegel getrieben, wie in Fig. 25c) dargestellt ist.
Entsprechend werden die Potentiale auf den jeweiligen lokalen Wort
leitungen LWL(2j) und LWL(2j+1) einmal auf 0V getrieben. Selbst wenn
sowohl das Gate-Potential als auch das Drain-Potential des Transi
stors 24a im lokalen Dekoder LD(2j) oder LD(2j+1), der mit der akti
vierten lokalen Wortleitung LWL(2j) oder LWL(2j+1) verbunden ist, in
einer Auswahloperation einer lokalen Wortleitung durch den Zeilende
koder 6 und den Z-Dekoder 18, die als Reaktion auf das geänderte
Adreßsignal ausgeführt wird, einen niedrigen Pegel erreichen, wird
damit wie im vorherigen Fall das Potential auf der lokalen Wortlei
tung nicht auf einem Potential über 0V fixiert.
Wie oben beschrieben worden ist, gestattet ein solches Verfahren die
Reduzierung der Zahl von Elementen eines jeden lokalen Dekoders auf
zwei.
Da in jeder der Ausführungsformen der Fig. 6 bis 25 eine der zwei
Arten von Signalleitungen, die mit dem jeweiligen lokalen Dekoder
verbunden sind, d. h. die Hauptwortleitung oder die Z-Dekodersignal
leitung mit der Source oder Drain eines MOS-Transistors verbunden
ist, kann die Stromaufnahme und Betriebsgeschwindigkeit für die Aus
wahl einer lokalen Wortleitung im Vergleich zu einer herkömmlichen
Einrichtung verbessert werden.
In den Fig. 2, 6, 7, 11, 17, 19 und 21 gelten die Symbole, die ein
Ausgangssignal des Z-Dekoders 18 angeben, numerische Werte, die die
Zahl der Speicherzellenspalten in jedem Block angeben, oder ähnliche
Werte für einen Fall, in dem das Speicherzellenfeld 1 Speicherzellen
aufweist, die in einer Matrix aus 512 Zeilen und 204 Spalten ange
ordnet sind.
Claims (28)
1. Halbleiterspeichereinrichtung mit einem Dekoder (LD0-LD31), der
von ersten und zweiten Auswahlsignalen abhängig ist, zum Aktivieren
oder Deaktivieren einer vorbestimmten Auswahlleitung (LWL0-LWL31),
wobei der Dekoder (LD0-LD31) erste und zweite Dekoderschaltkreisein
richtungen (LD(2j), LD(2j+1)), die vorbestimmte Auswahlleitung
(LWL0-LWL31) erste und zweite Auswahlleitungen (LWL(2j), LWL(2j+1))
und das erste Auswahlsignal erste und zweite Subauswahlsignale auf
weist, und
die erste Dekoderschaltkreiseinrichtung (LD(2j)) eine erste Schalteinrichtung (24a, 24b), die leitend gemacht wird, wenn das erste Subauswahlsignal aktiviert ist, um das zweite Aus wahlsignal an die erste Auswahlleitung (LWL(2j)) anzulegen, und eine zweite Schalteinrichtung (24b, 24e), die zwischen die erste Auswahlleitung (LWL(2j)) und ein Potential entsprechend dem deakti vierten Zustand gekoppelt ist und leitend gemacht wird, wenn das er ste Subauswahlsignal deaktiviert ist, aufweist, und
die zweite Dekoderschaltkreiseinrichtung (LD(2j+1)) eine dritte Schalteinrichtung (24a, 24b), die leitend gemacht wird, wenn das zweite Subauswahlsignal aktiviert ist, um das zweite Aus wahlsignal an die zweite Auswahlleitung (LWL(2j+1)) anzulegen, und eine vierte Schalteinrichtung (24b, 24e), die zwischen die zweite Auswahlleitung (LWL(2j+1)) und das Potential entsprechend dem deak tivierten Zustand gekoppelt ist und leitend gemacht wird, wenn das zweite Subauswahlsignal deaktiviert ist, aufweist.
die erste Dekoderschaltkreiseinrichtung (LD(2j)) eine erste Schalteinrichtung (24a, 24b), die leitend gemacht wird, wenn das erste Subauswahlsignal aktiviert ist, um das zweite Aus wahlsignal an die erste Auswahlleitung (LWL(2j)) anzulegen, und eine zweite Schalteinrichtung (24b, 24e), die zwischen die erste Auswahlleitung (LWL(2j)) und ein Potential entsprechend dem deakti vierten Zustand gekoppelt ist und leitend gemacht wird, wenn das er ste Subauswahlsignal deaktiviert ist, aufweist, und
die zweite Dekoderschaltkreiseinrichtung (LD(2j+1)) eine dritte Schalteinrichtung (24a, 24b), die leitend gemacht wird, wenn das zweite Subauswahlsignal aktiviert ist, um das zweite Aus wahlsignal an die zweite Auswahlleitung (LWL(2j+1)) anzulegen, und eine vierte Schalteinrichtung (24b, 24e), die zwischen die zweite Auswahlleitung (LWL(2j+1)) und das Potential entsprechend dem deak tivierten Zustand gekoppelt ist und leitend gemacht wird, wenn das zweite Subauswahlsignal deaktiviert ist, aufweist.
2. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet
durch
eine Treibereinrichtung (24c, R, 24f, 17) zum Treiben des Potentials
auf der ersten Auswahlleitung (LWL(2j)) auf das Potential, das einem
deaktivierten Zustand entspricht, wenn wenigstens das erste Subaus
wahlsignal oder das zweite Auswahlsignal deaktiviert ist, und zum
Treiben des Potentials auf der zweiten Auswahlleitung (LWL(2j+1))
auf das Potential, das einem deaktivierten Zustand entspricht, wenn
wenigstens das zweite Subauswahlsignal oder das zweite Auswahlsignal
deaktiviert ist.
3. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Treibereinrichtung (24c, R, 24f, 17)
eine fünfte Schalteinrichtung (24c), die leitend gemacht wird, wenn
das erste Subauswahlsignal aktiviert wird, um das zweite Auswahlsi
gnal an die erste Auswahlleitung (LWL(2j)) anzulegen, und
eine sechste Schalteinrichtung (24c), die leitend gemacht wird, wenn
das zweite Subauswahlsignal aktiviert wird, um das zweite Auswahlsi
gnal an die zweite Auswahlleitung (LWL(2j+1)) anzulegen, aufweist.
4. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Treibereinrichtung (24c, R, 24f, 17)
eine erste Widerstandseinrichtung (R, 24f), die zwischen die erste Auswahlleitung (LWL(2j)) und das einem deaktivierten Zustand ent sprechende Potential gekoppelt ist, und
eine zweite Widerstandseinrichtung (R, 24f), die zwischen die zweite Auswahlleitung (LWL(2j+1)) und das einem deaktivierten Zustand ent sprechende Potential gekoppelt ist, aufweist.
eine erste Widerstandseinrichtung (R, 24f), die zwischen die erste Auswahlleitung (LWL(2j)) und das einem deaktivierten Zustand ent sprechende Potential gekoppelt ist, und
eine zweite Widerstandseinrichtung (R, 24f), die zwischen die zweite Auswahlleitung (LWL(2j+1)) und das einem deaktivierten Zustand ent sprechende Potential gekoppelt ist, aufweist.
5. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Treibereinrichtung (24c, R, 24f, 17) eine Signal
erzeugereinrichtung (17) aufweist, zum Erzeugen eines Signals, um
die zweite und vierte Schalteinrichtung (24b, 24e) vor dem Betrieb
des Dekoders (LD0-LD31) einmal gleichzeitig leitend zu machen.
6. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß
das erste Subauswahlsignal erste und zweite zueinander komplementäre Signale und
das zweite Subauswahlsignal dritte und vierte zueinander komplemen täre Signale aufweist.
das erste Subauswahlsignal erste und zweite zueinander komplementäre Signale und
das zweite Subauswahlsignal dritte und vierte zueinander komplemen täre Signale aufweist.
7. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekenn
zeichnet, daß
die erste Schalteinrichtung (24a, 24d) eine erste Transistoreinrich tung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom ersten Signal abhängig ist,
die zweite Schalteinrichtung (24b, 24e) eine zweite Transistorein richtung (24b) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom ersten Signal abhängig ist,
die dritte Schalteinrichtung (24a, 24d) eine dritte Transistorein richtung (24a) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom drit ten Signal abhängig ist,
die vierte Schalteinrichtung (24b, 24e) eine vierte Transistorein richtung (24b) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom dritten Signal abhängig ist,
die fünfte Schalteinrichtung (24c) eine fünfte Transistoreinrichtung (24c) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom zweiten Si gnal abhängig ist, und
die sechste Schalteinrichtung (24c) eine sechste Transistoreinrich tung (24c) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom vierten Signal abhängig ist.
die erste Schalteinrichtung (24a, 24d) eine erste Transistoreinrich tung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom ersten Signal abhängig ist,
die zweite Schalteinrichtung (24b, 24e) eine zweite Transistorein richtung (24b) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom ersten Signal abhängig ist,
die dritte Schalteinrichtung (24a, 24d) eine dritte Transistorein richtung (24a) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom drit ten Signal abhängig ist,
die vierte Schalteinrichtung (24b, 24e) eine vierte Transistorein richtung (24b) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom dritten Signal abhängig ist,
die fünfte Schalteinrichtung (24c) eine fünfte Transistoreinrichtung (24c) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom zweiten Si gnal abhängig ist, und
die sechste Schalteinrichtung (24c) eine sechste Transistoreinrich tung (24c) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom vierten Signal abhängig ist.
8. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekenn
zeichnet, daß
die erste Schalteinrichtung (24a, 24d) eine erste Transistoreinrich tung (24a) aufweist, die vom zweiten Signal abhängig ist,
die zweite Schalteinrichtung (24b, 24e) eine zweite Transistorein richtung (24b) desselben Leitfähigkeitstyps wie die erste Transi storeinrichtung aufweist, die vom ersten Signal abhängig ist,
die dritte Schalteinrichtung (24a, 24d) eine dritte Transistorein richtung (24c) aufweist, die vom vierten Signal abhängig ist,
die vierte Schalteinrichtung (24b, 24e) eine vierte Transistorein richtung (24b) desselben Leitfähigkeitstyps wie die dritte Transi storeinrichtung aufweist, die vom dritten Signal abhängig ist,
die fünfte Schalteinrichtung (24c) eine fünfte Transistoreinrichtung (24c) desselben Leitfähigkeitstyps wie die erste und zweite Transi storeinrichtung aufweist, die vom zweiten Signal abhängig ist, und
die sechste Schalteinrichtung (24c) eine sechste Transistoreinrich tung (24c) desselben Leitfähigkeitstyps wie die erste und zweite Transistoreinrichtung aufweist, die vom vierten Signal abhängig ist.
die erste Schalteinrichtung (24a, 24d) eine erste Transistoreinrich tung (24a) aufweist, die vom zweiten Signal abhängig ist,
die zweite Schalteinrichtung (24b, 24e) eine zweite Transistorein richtung (24b) desselben Leitfähigkeitstyps wie die erste Transi storeinrichtung aufweist, die vom ersten Signal abhängig ist,
die dritte Schalteinrichtung (24a, 24d) eine dritte Transistorein richtung (24c) aufweist, die vom vierten Signal abhängig ist,
die vierte Schalteinrichtung (24b, 24e) eine vierte Transistorein richtung (24b) desselben Leitfähigkeitstyps wie die dritte Transi storeinrichtung aufweist, die vom dritten Signal abhängig ist,
die fünfte Schalteinrichtung (24c) eine fünfte Transistoreinrichtung (24c) desselben Leitfähigkeitstyps wie die erste und zweite Transi storeinrichtung aufweist, die vom zweiten Signal abhängig ist, und
die sechste Schalteinrichtung (24c) eine sechste Transistoreinrich tung (24c) desselben Leitfähigkeitstyps wie die erste und zweite Transistoreinrichtung aufweist, die vom vierten Signal abhängig ist.
9. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekenn
zeichnet, daß
die erste Schalteinrichtung (24a, 24d) eine erste Transistoreinrich tung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom ersten Signal abhängig ist,
die zweite Schalteinrichtung (24b, 24e) eine zweite Transistorein richtung (24e) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom zwei ten Signal abhängig ist,
die dritte Schalteinrichtung (24a, 24d) eine dritte Transistorein richtung (24a) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom drit ten Signal abhängig ist,
die vierte Schalteinrichtung (24b, 24e) eine vierte Transistorein richtung (24e) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom vier ten Signal abhängig ist,
die fünfte Schalteinrichtung (24c) eine fünfte Transistoreinrichtung (24c) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom zweiten Si gnal abhängig ist, und
die sechste Schalteinrichtung (24c) eine sechste Transistoreinrich tung (24c) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom vierten Signal abhängig ist.
die erste Schalteinrichtung (24a, 24d) eine erste Transistoreinrich tung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom ersten Signal abhängig ist,
die zweite Schalteinrichtung (24b, 24e) eine zweite Transistorein richtung (24e) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom zwei ten Signal abhängig ist,
die dritte Schalteinrichtung (24a, 24d) eine dritte Transistorein richtung (24a) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom drit ten Signal abhängig ist,
die vierte Schalteinrichtung (24b, 24e) eine vierte Transistorein richtung (24e) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom vier ten Signal abhängig ist,
die fünfte Schalteinrichtung (24c) eine fünfte Transistoreinrichtung (24c) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom zweiten Si gnal abhängig ist, und
die sechste Schalteinrichtung (24c) eine sechste Transistoreinrich tung (24c) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom vierten Signal abhängig ist.
10. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß
die erste Schalteinrichtung (24a, 24d) eine erste Transistoreinrich tung (24d) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom ersten Subauswahlsignal abhängig ist,
die zweite Schalteinrichtung (24b, 24e) eine zweite Transistorein richtung (24b) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom ersten Subauswahlsignal abhängig ist,
die dritte Schalteinrichtung (24a, 24d) eine dritte Transistorein richtung (24a) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom zwei ten Subauswahlsignal abhängig ist, und
die vierte Schalteinrichtung (24b, 24e) eine vierte Transistorein richtung (24b) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom zweiten Subauswahlsignal abhängig ist.
die erste Schalteinrichtung (24a, 24d) eine erste Transistoreinrich tung (24d) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom ersten Subauswahlsignal abhängig ist,
die zweite Schalteinrichtung (24b, 24e) eine zweite Transistorein richtung (24b) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom ersten Subauswahlsignal abhängig ist,
die dritte Schalteinrichtung (24a, 24d) eine dritte Transistorein richtung (24a) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom zwei ten Subauswahlsignal abhängig ist, und
die vierte Schalteinrichtung (24b, 24e) eine vierte Transistorein richtung (24b) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom zweiten Subauswahlsignal abhängig ist.
11. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß
das erste Subauswahlsignal erste und zweite zueinander komplementäre Signale aufweist,
die erste Schalteinrichtung (24a, 24d) eine erste Transistoreinrich tung (24d) aufweist, die vom ersten Signal abhängig ist,
die zweite Schalteinrichtung (24b, 24e) eine zweite Transistorein richtung (24b) desselben Leitfähigkeitstyps wie die erste Transi storeinrichtung aufweist, die vom zweiten Signal abhängig ist,
das zweite Subauswahlsignal dritte und vierte zueinander komplemen täre Signale aufweist,
die dritte Schalteinrichtung (24a, 24d) eine dritte Transistorein richtung (24a) aufweist, die vom dritten Signal abhängig ist, und die vierte Schalteinrichtung (24b, 24e) eine vierte Transistorein richtung (24b, 24e) desselben Leitfähigkeitstyps wie die dritte Transistoreinrichtung (24a, 24d) aufweist, die vom vierten Signal abhängig ist.
das erste Subauswahlsignal erste und zweite zueinander komplementäre Signale aufweist,
die erste Schalteinrichtung (24a, 24d) eine erste Transistoreinrich tung (24d) aufweist, die vom ersten Signal abhängig ist,
die zweite Schalteinrichtung (24b, 24e) eine zweite Transistorein richtung (24b) desselben Leitfähigkeitstyps wie die erste Transi storeinrichtung aufweist, die vom zweiten Signal abhängig ist,
das zweite Subauswahlsignal dritte und vierte zueinander komplemen täre Signale aufweist,
die dritte Schalteinrichtung (24a, 24d) eine dritte Transistorein richtung (24a) aufweist, die vom dritten Signal abhängig ist, und die vierte Schalteinrichtung (24b, 24e) eine vierte Transistorein richtung (24b, 24e) desselben Leitfähigkeitstyps wie die dritte Transistoreinrichtung (24a, 24d) aufweist, die vom vierten Signal abhängig ist.
12. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß
die erste Schalteinrichtung (24a, 24d) eine erste Transistoreinrich tung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom ersten Auswahlsignal abhängig ist,
die zweite Schalteinrichtung (24b, 24e) eine zweite Transistorein richtung (24b) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom ersten Auswahlsignal abhängig ist,
die dritte Schalteinrichtung (24a, 24d) eine dritte Transistorein richtung (24a) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom er sten Auswahlsignal abhängig ist, und
die vierte Schalteinrichtung (24b, 24e) eine vierte Transistorein richtung (24b) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom er sten Auswahlsignal abhängig ist.
die erste Schalteinrichtung (24a, 24d) eine erste Transistoreinrich tung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom ersten Auswahlsignal abhängig ist,
die zweite Schalteinrichtung (24b, 24e) eine zweite Transistorein richtung (24b) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom ersten Auswahlsignal abhängig ist,
die dritte Schalteinrichtung (24a, 24d) eine dritte Transistorein richtung (24a) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom er sten Auswahlsignal abhängig ist, und
die vierte Schalteinrichtung (24b, 24e) eine vierte Transistorein richtung (24b) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom er sten Auswahlsignal abhängig ist.
13. Halbleiterspeichereinrichtung mit
einem ersten Speicherzellenfeldblock (BL(2j)) mit einer Mehrzahl von
Speicherzellen (200) und einer Mehrzahl von Wortleitungen (LWL(2j)),
die in einer Mehrzahl von Zeilen angeordnet sind,
einem zweiten Speicherzellenfeldblock (BL(2j+1)) mit einer Mehrzahl von Speicherzellen (200) und einer Mehrzahl von Wortleitungen (LWL(2j+1)), die in einer Mehrzahl von Zeilen angeordnet sind, wobei die Mehrzahl von lokalen Wortleitungen (LWL(2j)) im ersten Speicher zellenfeldblock (BL(2j)) und die Mehrzahl von lokalen Wortleitungen (LWL(2j+1)) im zweiten Speicherzellenfeldblock (BL(2j+1)) einander entsprechen, um eine Mehrzahl von lokalen Wortleitungspaaren (LWL(2j), LWL(2j+1)) zu bilden,
einer ersten Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL), die entsprechend dem er sten Speicherzellenfeldblock (BL(2j)) gebildet ist,
einer zweiten Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR), die entsprechend dem er sten Speicherzellenfeldblock (BL(2j)) gebildet ist,
einer ersten Auswahleinrichtung (6) zum Anlegen eines ersten Auswahl signals an eine der ersten und zweiten Hauptwortleitungen (MWLL, /MWLL oder MWLR, /MWLR),
einer Mehrzahl von Auswahlleitungen (ZL), die entsprechend der Mehr zahl von lokalen Wortleitungspaaren (LWL(2j), LWL(2j+1)) gebildet sind,
einer zweiten Auswahleinrichtung (18) zum Anlegen eines zweiten Aus wahlsignals an eine der Mehrzahl von Auswahlleitungen (ZL),
einer Mehrzahl von ersten Dekodereinrichtungen (LD(2j)), die entspre chend der Mehrzahl lokaler Wortleitungen (LWL(2j)) im ersten Speicherzellenfeldblock ((BL(2j)) gebildet sind, und
einer Mehrzahl von zweiten Dekodereinrichtungen (LD(2j+1)), die ent sprechend der Mehrzahl lokaler Wortleitungen (LWL(2j+1)) im zweiten Speicherzellenfeldblock ((BL(2j+1)) gebildet sind, wobei jede der ersten Dekodereinrichtungen (LD(2j)) die entsprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j)) im ersten Speicherzellenfeldblock (BL(2j)) in Abhängigkeit vom ersten Auswahlsignal, das an die erste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) angelegt ist, und vom zweiten Aus wahlsignal, das an die entsprechende Auswahlleitung (ZL) angelegt ist, aktiviert, und
jede der Mehrzahl zweiter Dekodereinrichtungen (LD(2j+1)) die ent sprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j+1)) im zweiten Speicherzellenfeldblock (BL(2j+1)) in Abhängigkeit vom ersten Aus wahlsignal, das an die zweite Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) ange legt ist, und vom zweiten Auswahlsignal, das an die entsprechende Auswahlleitung (ZL) angelegt ist, aktiviert.
einem zweiten Speicherzellenfeldblock (BL(2j+1)) mit einer Mehrzahl von Speicherzellen (200) und einer Mehrzahl von Wortleitungen (LWL(2j+1)), die in einer Mehrzahl von Zeilen angeordnet sind, wobei die Mehrzahl von lokalen Wortleitungen (LWL(2j)) im ersten Speicher zellenfeldblock (BL(2j)) und die Mehrzahl von lokalen Wortleitungen (LWL(2j+1)) im zweiten Speicherzellenfeldblock (BL(2j+1)) einander entsprechen, um eine Mehrzahl von lokalen Wortleitungspaaren (LWL(2j), LWL(2j+1)) zu bilden,
einer ersten Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL), die entsprechend dem er sten Speicherzellenfeldblock (BL(2j)) gebildet ist,
einer zweiten Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR), die entsprechend dem er sten Speicherzellenfeldblock (BL(2j)) gebildet ist,
einer ersten Auswahleinrichtung (6) zum Anlegen eines ersten Auswahl signals an eine der ersten und zweiten Hauptwortleitungen (MWLL, /MWLL oder MWLR, /MWLR),
einer Mehrzahl von Auswahlleitungen (ZL), die entsprechend der Mehr zahl von lokalen Wortleitungspaaren (LWL(2j), LWL(2j+1)) gebildet sind,
einer zweiten Auswahleinrichtung (18) zum Anlegen eines zweiten Aus wahlsignals an eine der Mehrzahl von Auswahlleitungen (ZL),
einer Mehrzahl von ersten Dekodereinrichtungen (LD(2j)), die entspre chend der Mehrzahl lokaler Wortleitungen (LWL(2j)) im ersten Speicherzellenfeldblock ((BL(2j)) gebildet sind, und
einer Mehrzahl von zweiten Dekodereinrichtungen (LD(2j+1)), die ent sprechend der Mehrzahl lokaler Wortleitungen (LWL(2j+1)) im zweiten Speicherzellenfeldblock ((BL(2j+1)) gebildet sind, wobei jede der ersten Dekodereinrichtungen (LD(2j)) die entsprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j)) im ersten Speicherzellenfeldblock (BL(2j)) in Abhängigkeit vom ersten Auswahlsignal, das an die erste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) angelegt ist, und vom zweiten Aus wahlsignal, das an die entsprechende Auswahlleitung (ZL) angelegt ist, aktiviert, und
jede der Mehrzahl zweiter Dekodereinrichtungen (LD(2j+1)) die ent sprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j+1)) im zweiten Speicherzellenfeldblock (BL(2j+1)) in Abhängigkeit vom ersten Aus wahlsignal, das an die zweite Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) ange legt ist, und vom zweiten Auswahlsignal, das an die entsprechende Auswahlleitung (ZL) angelegt ist, aktiviert.
14. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekenn
zeichnet, daß
jede der Mehrzahl erster Dekodereinrichtungen (LD(2j)) eine erste Schalteinrichtung (24a, 24b), die leitend gemacht wird, wenn die erste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) aktiviert ist, um das Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen an die entspre chende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j) im ersten Block (BL(2j)) anzulegen, und
eine zweite Schalteinrichtung (24b, 24e), die zwischen die entspre chende lokale Wortleitung (LWL(2j)) und ein Potential entsprechend dem deaktivierten Zustand gekoppelt ist und leitend gemacht wird, wenn die erste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) deaktiviert ist, auf weist, und
jede der Mehrzahl zweiter Dekodereinrichtungen (LD(2j+1)) eine dritte Schalteinrichtung (24a, 24b), die leitend gemacht wird, wenn die zweite Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) aktiviert ist, um das Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) an die ent sprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j+1) im zweiten Block (BL(2j+1)) anzulegen, und
eine vierte Schalteinrichtung (24b, 24e), die zwischen die entspre chende lokale Wortleitung (LWL(2j+1)) und das Potential entsprechend dem deaktivierten Zustand gekoppelt ist und leitend gemacht wird, wenn die zweite Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) deaktiviert ist, auf weist.
jede der Mehrzahl erster Dekodereinrichtungen (LD(2j)) eine erste Schalteinrichtung (24a, 24b), die leitend gemacht wird, wenn die erste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) aktiviert ist, um das Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen an die entspre chende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j) im ersten Block (BL(2j)) anzulegen, und
eine zweite Schalteinrichtung (24b, 24e), die zwischen die entspre chende lokale Wortleitung (LWL(2j)) und ein Potential entsprechend dem deaktivierten Zustand gekoppelt ist und leitend gemacht wird, wenn die erste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) deaktiviert ist, auf weist, und
jede der Mehrzahl zweiter Dekodereinrichtungen (LD(2j+1)) eine dritte Schalteinrichtung (24a, 24b), die leitend gemacht wird, wenn die zweite Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) aktiviert ist, um das Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) an die ent sprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j+1) im zweiten Block (BL(2j+1)) anzulegen, und
eine vierte Schalteinrichtung (24b, 24e), die zwischen die entspre chende lokale Wortleitung (LWL(2j+1)) und das Potential entsprechend dem deaktivierten Zustand gekoppelt ist und leitend gemacht wird, wenn die zweite Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) deaktiviert ist, auf weist.
15. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekenn
zeichnet, daß
jede der Mehrzahl erster Dekodereinrichtungen (LD(2j)) eine erste Treibereinrichtung (24c, 24f, R) zum Treiben des Potentials auf der entsprechenden lokalen Wortleitung (LWL(2j)) auf das Potential, das einem deaktivierten Zustand entspricht, wenn wenigstens die er ste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) oder die entsprechende der Aus wahlleitungen (ZL) deaktiviert ist, und
jede der Mehrzahl zweiter Dekodereinrichtungen (LD(2j+1)) eine zweite Treibereinrichtung (24c, 24f, R) zum Treiben des Potentials auf der entsprechenden lokalen Wortleitung (LWL(2j+1)) auf das Po tential, das einem deaktivierten Zustand entspricht, wenn wenigstens die zweite Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) oder die entsprechende der Auswahlleitungen (ZL) deaktiviert ist, aufweist.
jede der Mehrzahl erster Dekodereinrichtungen (LD(2j)) eine erste Treibereinrichtung (24c, 24f, R) zum Treiben des Potentials auf der entsprechenden lokalen Wortleitung (LWL(2j)) auf das Potential, das einem deaktivierten Zustand entspricht, wenn wenigstens die er ste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) oder die entsprechende der Aus wahlleitungen (ZL) deaktiviert ist, und
jede der Mehrzahl zweiter Dekodereinrichtungen (LD(2j+1)) eine zweite Treibereinrichtung (24c, 24f, R) zum Treiben des Potentials auf der entsprechenden lokalen Wortleitung (LWL(2j+1)) auf das Po tential, das einem deaktivierten Zustand entspricht, wenn wenigstens die zweite Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) oder die entsprechende der Auswahlleitungen (ZL) deaktiviert ist, aufweist.
16. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekenn
zeichnet, daß
jede der ersten Treibereinrichtungen (24c, 24f, R) eine fünfte Schalteinrichtung (24c) aufweist, die leitend gemacht wird, wenn die erste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) aktiviert wird, um das Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) an die entspre chende lokale Wortleitung (LWL(2j)) anzulegen, und
jede der zweiten Treibereinrichtungen (24c, 24f, R) eine sechste Schalteinrichtung (24c) aufweist, die leitend gemacht wird, wenn die zweite Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) aktiviert wird, um das Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) an die entspre chende lokale Wortleitung (LWL(2j+1)) anzulegen.
jede der ersten Treibereinrichtungen (24c, 24f, R) eine fünfte Schalteinrichtung (24c) aufweist, die leitend gemacht wird, wenn die erste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) aktiviert wird, um das Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) an die entspre chende lokale Wortleitung (LWL(2j)) anzulegen, und
jede der zweiten Treibereinrichtungen (24c, 24f, R) eine sechste Schalteinrichtung (24c) aufweist, die leitend gemacht wird, wenn die zweite Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) aktiviert wird, um das Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) an die entspre chende lokale Wortleitung (LWL(2j+1)) anzulegen.
17. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 15, dadurch gekenn
zeichnet, daß
jede der ersten Treibereinrichtungen (24c, 24f, R) eine erste Wider standseinrichtung (R, 24f) aufweist, die zwischen die entsprechende lokale Wortleitung (LWL(2j)) und das einem deaktivierten Zustand entsprechende Potential gekoppelt ist, und
jede der zweiten Treibereinrichtungen (24c, 24f, R) eine zweite Wi derstandseinrichtung (R, 24f) aufweist, die zwischen die entspre chende lokale Wortleitung (LWL(2j+1)) und das einem deaktivierten Zustand entsprechende Potential gekoppelt ist.
jede der ersten Treibereinrichtungen (24c, 24f, R) eine erste Wider standseinrichtung (R, 24f) aufweist, die zwischen die entsprechende lokale Wortleitung (LWL(2j)) und das einem deaktivierten Zustand entsprechende Potential gekoppelt ist, und
jede der zweiten Treibereinrichtungen (24c, 24f, R) eine zweite Wi derstandseinrichtung (R, 24f) aufweist, die zwischen die entspre chende lokale Wortleitung (LWL(2j+1)) und das einem deaktivierten Zustand entsprechende Potential gekoppelt ist.
18. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 15, gekennzeichnet
durch eine Signalerzeugereinrichtung (17) zum Erzeugen eines Si
gnals, um alle zweiten Schalteinrichtungen (24b, 24e) in der Mehrzahl
erster Dekodereinrichtungen (LD(2j)) und alle vierten Schalteinrich
tungen (24b, 24e) in der Mehrzahl zweiter Dekodereinrichtungen
(LD(2j+1)) vor dem Betrieb der Mehrzahl von ersten Dekodereinrich
tungen (LD(2j)) und der Mehrzahl von zweiten Dekodereinrichtungen
(LD(2j+1)) gleichzeitig einmal leitend zu machen.
19. Halbleiterspeichereinrichtung nach einem der Ansprüche 13 bis 18, dadurch gekenn
zeichnet, daß
das erste Auswahlsignal zueinander komplementäre erste und zweite Signale aufweist,
die erste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) eine erste Signalleitung (/MWLL), die das erste Signal empfängt, und eine zweite Signallei tung (MWLL), die das zweite Signal empfängt, aufweist, und
die zweite Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) eine dritte Signalleitung (/MWLR), die das erste Signal empfängt, und eine vierte Signallei tung (MWLR), die das zweite Signal empfängt, aufweist.
das erste Auswahlsignal zueinander komplementäre erste und zweite Signale aufweist,
die erste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) eine erste Signalleitung (/MWLL), die das erste Signal empfängt, und eine zweite Signallei tung (MWLL), die das zweite Signal empfängt, aufweist, und
die zweite Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) eine dritte Signalleitung (/MWLR), die das erste Signal empfängt, und eine vierte Signallei tung (MWLR), die das zweite Signal empfängt, aufweist.
20. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 19, dadurch gekenn
zeichnet, daß
jede der ersten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine erste Transi storeinrichtung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der ersten Signalleitung (/MWLL) abhängig ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine zweite Transi storeinrichtung (24b) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der ersten Signalleitung (/MWLL) abhängig ist,
jede der dritten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine dritte Transi storeinrichtung (24c) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der dritten Signalleitung (/MWLR) abhängig ist,
jede der vierten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine vierte Transi storeinrichtung (24b) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der dritten Signalleitung (/MWLR) abhängig ist,
jede der fünften Schalteinrichtungen (24c) eine fünfte Transistor einrichtung (24c) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der zweiten Signalleitung (MWLL) abhängig ist, und
jede der sechsten Schalteinrichtungen (24c) eine sechste Transistor einrichtung (24c) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der vierten Signalleitung (MWLR) abhängig ist.
jede der ersten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine erste Transi storeinrichtung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der ersten Signalleitung (/MWLL) abhängig ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine zweite Transi storeinrichtung (24b) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der ersten Signalleitung (/MWLL) abhängig ist,
jede der dritten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine dritte Transi storeinrichtung (24c) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der dritten Signalleitung (/MWLR) abhängig ist,
jede der vierten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine vierte Transi storeinrichtung (24b) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der dritten Signalleitung (/MWLR) abhängig ist,
jede der fünften Schalteinrichtungen (24c) eine fünfte Transistor einrichtung (24c) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der zweiten Signalleitung (MWLL) abhängig ist, und
jede der sechsten Schalteinrichtungen (24c) eine sechste Transistor einrichtung (24c) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der vierten Signalleitung (MWLR) abhängig ist.
21. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 19, dadurch gekenn
zeichnet, daß
jede der ersten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine erste Transi storeinrichtung aufweist, die vom Signal auf der zweiten Signallei tung (MWLL) abhängig ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine zweite Transi storeinrichtung (24b) desselben Leitfähigkeitstyps wie die erste Transistoreinrichtung aufweist, die vom Signal auf der ersten Si gnalleitung (/MWLL) abhängig ist,
jede der dritten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine dritte Transi storeinrichtung (24d) aufweist, die vom Signal auf der vierten Si gnalleitung (MWLR) abhängig ist,
jede der vierten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine vierte Transi storeinrichtung (24b) desselben Leitfähigkeitstyps wie die dritte Transistoreinrichtung aufweist, die vom Signal auf der dritten Si gnalleitung (/MWLR) abhängig ist,
jede der fünften Schalteinrichtungen eine fünfte Transistoreinrich tung (24c) desselben Leitfähigkeitstyps wie die erste und zweite Transistoreinrichtung aufweist, die vom Signal auf der zweiten Si gnalleitung (MWLL) abhängig ist, und
jede der sechsten Schalteinrichtungen (24c) eine sechste Transistor einrichtung (24c) desselben Leitfähigkeitstyps wie die erste und zweite Transistoreinrichtung aufweist, die vom Signal auf der vier ten Signalleitung (MWLR) abhängig ist.
jede der ersten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine erste Transi storeinrichtung aufweist, die vom Signal auf der zweiten Signallei tung (MWLL) abhängig ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine zweite Transi storeinrichtung (24b) desselben Leitfähigkeitstyps wie die erste Transistoreinrichtung aufweist, die vom Signal auf der ersten Si gnalleitung (/MWLL) abhängig ist,
jede der dritten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine dritte Transi storeinrichtung (24d) aufweist, die vom Signal auf der vierten Si gnalleitung (MWLR) abhängig ist,
jede der vierten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine vierte Transi storeinrichtung (24b) desselben Leitfähigkeitstyps wie die dritte Transistoreinrichtung aufweist, die vom Signal auf der dritten Si gnalleitung (/MWLR) abhängig ist,
jede der fünften Schalteinrichtungen eine fünfte Transistoreinrich tung (24c) desselben Leitfähigkeitstyps wie die erste und zweite Transistoreinrichtung aufweist, die vom Signal auf der zweiten Si gnalleitung (MWLL) abhängig ist, und
jede der sechsten Schalteinrichtungen (24c) eine sechste Transistor einrichtung (24c) desselben Leitfähigkeitstyps wie die erste und zweite Transistoreinrichtung aufweist, die vom Signal auf der vier ten Signalleitung (MWLR) abhängig ist.
22. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 19, dadurch gekenn
zeichnet, daß
jede der ersten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine erste Transi storeinrichtung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der ersten Signalleitung (/MWLL) abhängig ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine zweite Transi storeinrichtung (24e) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der zweiten Signalleitung (MWLL) abhängig ist,
jede der dritten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine dritte Transi storeinrichtung (24a) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der dritten Signalleitung (/MWLR) abhängig ist,
jede der vierten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine vierte Transi storeinrichtung (24e) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der vierten Signalleitung (MWLR) abhängig ist,
jede der fünften Schalteinrichtungen eine fünfte Transistoreinrich tung (24c) aufweist, die vom Signal auf der zweiten Signalleitung (MWLL) abhängig ist, und
jede der sechsten Schalteinrichtungen (24c) eine sechste Transistor einrichtung (24c) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der vierten Signalleitung (MWLR) abhängig ist.
jede der ersten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine erste Transi storeinrichtung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der ersten Signalleitung (/MWLL) abhängig ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine zweite Transi storeinrichtung (24e) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der zweiten Signalleitung (MWLL) abhängig ist,
jede der dritten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine dritte Transi storeinrichtung (24a) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der dritten Signalleitung (/MWLR) abhängig ist,
jede der vierten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine vierte Transi storeinrichtung (24e) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der vierten Signalleitung (MWLR) abhängig ist,
jede der fünften Schalteinrichtungen eine fünfte Transistoreinrich tung (24c) aufweist, die vom Signal auf der zweiten Signalleitung (MWLL) abhängig ist, und
jede der sechsten Schalteinrichtungen (24c) eine sechste Transistor einrichtung (24c) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der vierten Signalleitung (MWLR) abhängig ist.
23. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekenn
zeichnet, daß
jede der Mehrzahl erster Dekodereinrichtungen (LD(2j)) eine erste Schalteinrichtung (24a, 24d), die leitend gemacht wird, wenn die entsprechende der Auswahlleitungen (ZL) aktiviert ist, um das Signal auf der ersten Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) an die ent sprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j)) im ersten Block anzu legen, und
eine zweite Schalteinrichtung (24b, 24e), die zwischen die entspre chende lokale Wortleitung (LWL(2j)) und ein Potential entsprechend einem deaktivierten Zustand gekoppelt ist und leitend gemacht wird, wenn die entsprechende der Auswahlleitungen (ZL) deaktiviert ist, aufweist, und
jede der Mehrzahl zweiter Dekodereinrichtungen (LD(2j+1)) eine dritte Schalteinrichtung (24a, 24d), die leitend gemacht wird, wenn die entsprechende der Auswahlleitungen (ZL) aktiviert ist, um das Signal auf der zweiten Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) an die entsprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j+1)) im zweiten Block anzulegen, und
eine vierte Schalteinrichtung (24b, 24e), die zwischen die entspre chende lokale Wortleitung (LWL(2j+1)) und das Potential entsprechend einem deaktivierten Zustand gekoppelt ist und leitend gemacht wird, wenn die entsprechende der Auswahlleitungen (ZL) deaktiviert ist, aufweist.
jede der Mehrzahl erster Dekodereinrichtungen (LD(2j)) eine erste Schalteinrichtung (24a, 24d), die leitend gemacht wird, wenn die entsprechende der Auswahlleitungen (ZL) aktiviert ist, um das Signal auf der ersten Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) an die ent sprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j)) im ersten Block anzu legen, und
eine zweite Schalteinrichtung (24b, 24e), die zwischen die entspre chende lokale Wortleitung (LWL(2j)) und ein Potential entsprechend einem deaktivierten Zustand gekoppelt ist und leitend gemacht wird, wenn die entsprechende der Auswahlleitungen (ZL) deaktiviert ist, aufweist, und
jede der Mehrzahl zweiter Dekodereinrichtungen (LD(2j+1)) eine dritte Schalteinrichtung (24a, 24d), die leitend gemacht wird, wenn die entsprechende der Auswahlleitungen (ZL) aktiviert ist, um das Signal auf der zweiten Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) an die entsprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j+1)) im zweiten Block anzulegen, und
eine vierte Schalteinrichtung (24b, 24e), die zwischen die entspre chende lokale Wortleitung (LWL(2j+1)) und das Potential entsprechend einem deaktivierten Zustand gekoppelt ist und leitend gemacht wird, wenn die entsprechende der Auswahlleitungen (ZL) deaktiviert ist, aufweist.
24. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekenn
zeichnet, daß
jede der ersten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine erste Transi storeinrichtung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig und zwischen die erste Signalleitung (/MWLL) und die entsprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j)) gekoppelt ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine zweite Transi storeinrichtung (24b) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig ist,
jede der dritten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine dritte Transi storeinrichtung (24c) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig und zwischen die dritte Signalleitung (/MWLR) und die entsprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j+1)) gekoppelt ist,
jede der vierten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine vierte Transi storeinrichtung (24b) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig ist,
jede der fünften Schalteinrichtungen (24c) eine fünfte Transistor einrichtung (24c) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der zweiten Signalleitung (MWLL) abhängig ist, und
jede der sechsten Schalteinrichtungen (24c) eine sechste Transistor einrichtung (24c) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der vierten Signalleitung (MWLR) abhängig ist.
jede der ersten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine erste Transi storeinrichtung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig und zwischen die erste Signalleitung (/MWLL) und die entsprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j)) gekoppelt ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine zweite Transi storeinrichtung (24b) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig ist,
jede der dritten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine dritte Transi storeinrichtung (24c) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig und zwischen die dritte Signalleitung (/MWLR) und die entsprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j+1)) gekoppelt ist,
jede der vierten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine vierte Transi storeinrichtung (24b) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig ist,
jede der fünften Schalteinrichtungen (24c) eine fünfte Transistor einrichtung (24c) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der zweiten Signalleitung (MWLL) abhängig ist, und
jede der sechsten Schalteinrichtungen (24c) eine sechste Transistor einrichtung (24c) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der vierten Signalleitung (MWLR) abhängig ist.
25. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekenn
zeichnet, daß
jede der ersten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine erste Transi storeinrichtung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der ersten Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) abhängig ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine zweite Transi storeinrichtung (24b) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der ersten Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) abhängig ist,
jede der dritten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine dritte Transi storeinrichtung (24c) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der zweiten Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) abhängig ist, und
jede der vierten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine vierte Transi storeinrichtung (24b) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der zweiten Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) abhängig ist.
jede der ersten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine erste Transi storeinrichtung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der ersten Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) abhängig ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine zweite Transi storeinrichtung (24b) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der ersten Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) abhängig ist,
jede der dritten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine dritte Transi storeinrichtung (24c) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der zweiten Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) abhängig ist, und
jede der vierten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine vierte Transi storeinrichtung (24b) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der zweiten Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) abhängig ist.
26. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekenn
zeichnet, daß
das erste Auswahlsignal zueinander komplementäre erste und zweite Signale aufweist,
die erste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) eine erste Signalleitung (/MWLL), die das erste Signal empfängt, und eine zweite Signallei tung (MWLL), die das zweite Signal empfängt, aufweist,
die zweite Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) eine dritte Signalleitung (/MWLR), die das erste Signal empfängt, und eine vierte Signallei tung (MWLR), die das zweite Signal empfängt, aufweist,
jede der ersten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine erste Transi storeinrichtung (24a) aufweist, die vom Signal auf der ersten Si gnalleitung (/MWLL) abhängig ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine zweite Transi storeinrichtung (24b) desselben Leitfähigkeitstyps wie die erste Transistoreinrichtung aufweist, die vom Signal auf der zweiten Si gnalleitung (MWLL) abhängig ist,
jede der dritten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine dritte Transi storeinrichtung (24c) aufweist, die vom Signal auf der dritten Si gnalleitung (/MWLR) abhängig ist, und
jede der vierten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine vierte Transi storeinrichtung (24b) desselben Leitfähigkeitstyps wie die dritte Transistoreinrichtung aufweist, die vom Signal auf der vierten Si gnalleitung (MWLR) abhängig ist.
das erste Auswahlsignal zueinander komplementäre erste und zweite Signale aufweist,
die erste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) eine erste Signalleitung (/MWLL), die das erste Signal empfängt, und eine zweite Signallei tung (MWLL), die das zweite Signal empfängt, aufweist,
die zweite Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) eine dritte Signalleitung (/MWLR), die das erste Signal empfängt, und eine vierte Signallei tung (MWLR), die das zweite Signal empfängt, aufweist,
jede der ersten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine erste Transi storeinrichtung (24a) aufweist, die vom Signal auf der ersten Si gnalleitung (/MWLL) abhängig ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine zweite Transi storeinrichtung (24b) desselben Leitfähigkeitstyps wie die erste Transistoreinrichtung aufweist, die vom Signal auf der zweiten Si gnalleitung (MWLL) abhängig ist,
jede der dritten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine dritte Transi storeinrichtung (24c) aufweist, die vom Signal auf der dritten Si gnalleitung (/MWLR) abhängig ist, und
jede der vierten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine vierte Transi storeinrichtung (24b) desselben Leitfähigkeitstyps wie die dritte Transistoreinrichtung aufweist, die vom Signal auf der vierten Si gnalleitung (MWLR) abhängig ist.
27. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekenn
zeichnet, daß
jede der ersten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine erste Transi storeinrichtung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig und zwischen die erste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) und die ent sprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j)) geschaltet ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine zweite Transi storeinrichtung (24b) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig ist,
jede der dritten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine dritte Transi storeinrichtung (24c) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig und zwischen die zweite Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) und die ent sprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j+1)) gekoppelt ist, und jede der vierten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine vierte Transi storeinrichtung (24b) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig ist.
jede der ersten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine erste Transi storeinrichtung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig und zwischen die erste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) und die ent sprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j)) geschaltet ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine zweite Transi storeinrichtung (24b) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig ist,
jede der dritten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine dritte Transi storeinrichtung (24c) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig und zwischen die zweite Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) und die ent sprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j+1)) gekoppelt ist, und jede der vierten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine vierte Transi storeinrichtung (24b) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig ist.
28. Halbleiterspeichereinrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekenn
zeichnet, daß
jede der ersten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine erste Transi storeinrichtung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig und zwischen die erste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) und die ent sprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j)) geschaltet ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine zweite Transi storeinrichtung (24b) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig ist,
jede der dritten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine dritte Transi storeinrichtung (24c) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig und zwischen die zweite Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) und die ent sprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j+1)) gekoppelt ist, und jede der vierten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine vierte Transi storeinrichtung (24b) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig ist.
jede der ersten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine erste Transi storeinrichtung (24a) eines ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig und zwischen die erste Hauptwortleitung (MWLL, /MWLL) und die ent sprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j)) geschaltet ist,
jede der zweiten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine zweite Transi storeinrichtung (24b) eines zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig ist,
jede der dritten Schalteinrichtungen (24a, 24d) eine dritte Transi storeinrichtung (24c) des ersten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig und zwischen die zweite Hauptwortleitung (MWLR, /MWLR) und die ent sprechende der lokalen Wortleitungen (LWL(2j+1)) gekoppelt ist, und jede der vierten Schalteinrichtungen (24b, 24e) eine vierte Transi storeinrichtung (24b) des zweiten Leitfähigkeitstyps aufweist, die vom Signal auf der entsprechenden der Auswahlleitungen (ZL) abhängig ist.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14821890 | 1990-06-05 | ||
JP3100075A JP3024687B2 (ja) | 1990-06-05 | 1991-05-01 | 半導体記憶装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4117881A1 DE4117881A1 (de) | 1991-12-12 |
DE4117881C2 true DE4117881C2 (de) | 1997-10-09 |
Family
ID=26441164
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4117881A Expired - Fee Related DE4117881C2 (de) | 1990-06-05 | 1991-05-31 | Halbleiterspeichereinrichtung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5282175A (de) |
JP (1) | JP3024687B2 (de) |
DE (1) | DE4117881C2 (de) |
Families Citing this family (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0628861A (ja) * | 1992-07-07 | 1994-02-04 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体記憶装置 |
EP0624844A2 (de) * | 1993-05-11 | 1994-11-17 | International Business Machines Corporation | Völlig integrierte Cache-Speicherarchitektur |
JPH0798989A (ja) * | 1993-09-29 | 1995-04-11 | Sony Corp | 半導体メモリの制御回路 |
JP2725570B2 (ja) * | 1993-11-02 | 1998-03-11 | 日本電気株式会社 | 半導体メモリ装置 |
JP2842181B2 (ja) * | 1993-11-04 | 1998-12-24 | 日本電気株式会社 | 半導体メモリ装置 |
US5506816A (en) * | 1994-09-06 | 1996-04-09 | Nvx Corporation | Memory cell array having compact word line arrangement |
GB9423038D0 (en) * | 1994-11-15 | 1995-01-04 | Sgs Thomson Microelectronics | An integrated circuit memory device with voltage boost |
JP3666671B2 (ja) * | 1994-12-20 | 2005-06-29 | 株式会社日立製作所 | 半導体装置 |
US5621690A (en) * | 1995-04-28 | 1997-04-15 | Intel Corporation | Nonvolatile memory blocking architecture and redundancy |
KR0164377B1 (ko) * | 1995-07-15 | 1999-02-18 | 김광호 | 반도체 메모리장치의 서브워드라인 드라이버 |
JP2800730B2 (ja) * | 1995-08-17 | 1998-09-21 | 日本電気株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP3780580B2 (ja) * | 1995-10-16 | 2006-05-31 | セイコーエプソン株式会社 | 半導体記憶装置及びそれを用いた電子機器 |
KR0170903B1 (ko) * | 1995-12-08 | 1999-03-30 | 김주용 | 하위 워드 라인 구동 회로 및 이를 이용한 반도체 메모리 장치 |
US5719818A (en) * | 1996-04-18 | 1998-02-17 | Waferscale Integration Inc. | Row decoder having triple transistor word line drivers |
JP3889848B2 (ja) * | 1997-03-26 | 2007-03-07 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体記憶装置 |
US5848019A (en) * | 1997-08-29 | 1998-12-08 | Integrated Device Technology, Inc. | Pass gate decoder for a multiport memory dEvice that uses a single ported memory cell array structure |
US6055203A (en) * | 1997-11-19 | 2000-04-25 | Waferscale Integration | Row decoder |
EP0991075B1 (de) | 1998-09-30 | 2004-05-06 | STMicroelectronics S.r.l. | Schaltungsanordnung zur hierarchischen Zellendekodierung einer Halbleiterspeicheranordnung |
JP2000243089A (ja) * | 1999-02-19 | 2000-09-08 | Fujitsu Ltd | デコーダ回路及びデコード方法 |
US6088287A (en) * | 1999-08-23 | 2000-07-11 | Advanced Micro Devices, Inc. | Flash memory architecture employing three layer metal interconnect for word line decoding |
IT1318158B1 (it) | 2000-07-13 | 2003-07-23 | St Microelectronics Srl | Dispositivo circuitale per effettuare una decodifica gerarchica diriga in dispositivi di memoria non-volatile. |
KR100402388B1 (ko) * | 2001-09-24 | 2003-10-17 | 삼성전자주식회사 | 칩선택 출력 시간이 단축된 반도체 메모리 장치 |
JP4715994B2 (ja) * | 2004-08-26 | 2011-07-06 | 日本電気株式会社 | ドハティ増幅器並列運転回路 |
JP4993540B2 (ja) * | 2005-02-16 | 2012-08-08 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路装置 |
US8189396B2 (en) | 2006-12-14 | 2012-05-29 | Mosaid Technologies Incorporated | Word line driver in a hierarchical NOR flash memory |
KR100855966B1 (ko) * | 2007-01-04 | 2008-09-02 | 삼성전자주식회사 | 멀티 디코딩이 가능한 양방향성 rram 및 이를 이용하는데이터 기입 방법 |
US8064255B2 (en) | 2007-12-31 | 2011-11-22 | Cypress Semiconductor Corporation | Architecture of a nvDRAM array and its sense regime |
US8059458B2 (en) * | 2007-12-31 | 2011-11-15 | Cypress Semiconductor Corporation | 3T high density nvDRAM cell |
US9202555B2 (en) * | 2012-10-19 | 2015-12-01 | Qualcomm Incorporated | Write word-line assist circuitry for a byte-writeable memory |
JP6858549B2 (ja) * | 2015-12-28 | 2021-04-14 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置、記憶装置 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US32993A (en) * | 1861-08-06 | Improvement in machines for making cigars | ||
JPS5268334A (en) * | 1975-12-05 | 1977-06-07 | Toshiba Corp | Semiconductor memory |
JPS573289A (en) * | 1980-06-04 | 1982-01-08 | Hitachi Ltd | Semiconductor storing circuit device |
US4514829A (en) * | 1982-12-30 | 1985-04-30 | International Business Machines Corporation | Word line decoder and driver circuits for high density semiconductor memory |
US4554646A (en) * | 1983-10-17 | 1985-11-19 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor memory device |
NL8500434A (nl) * | 1985-02-15 | 1986-09-01 | Philips Nv | Geintegreerde geheugenschakeling met blokselektie. |
JP2504743B2 (ja) * | 1985-03-18 | 1996-06-05 | 日本電気株式会社 | 半導体記憶装置 |
JPS6228516A (ja) * | 1985-07-26 | 1987-02-06 | Hitachi Ltd | クランク軸の製作方法 |
JPS6275996A (ja) * | 1985-09-27 | 1987-04-07 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置 |
US4843261A (en) * | 1988-02-29 | 1989-06-27 | International Business Machines Corporation | Complementary output, high-density CMOS decoder/driver circuit for semiconductor memories |
-
1991
- 1991-05-01 JP JP3100075A patent/JP3024687B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1991-05-24 US US07/705,817 patent/US5282175A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-05-31 DE DE4117881A patent/DE4117881C2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4117881A1 (de) | 1991-12-12 |
JPH052895A (ja) | 1993-01-08 |
US5282175A (en) | 1994-01-25 |
JP3024687B2 (ja) | 2000-03-21 |
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