DE4009836C2 - Halbleiterspeichervorrichtung mit vermindertem Wortleitungskopplungsrauschen - Google Patents

Halbleiterspeichervorrichtung mit vermindertem Wortleitungskopplungsrauschen

Info

Publication number
DE4009836C2
DE4009836C2 DE4009836A DE4009836A DE4009836C2 DE 4009836 C2 DE4009836 C2 DE 4009836C2 DE 4009836 A DE4009836 A DE 4009836A DE 4009836 A DE4009836 A DE 4009836A DE 4009836 C2 DE4009836 C2 DE 4009836C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
word line
word lines
word
lines
coupling
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE4009836A
Other languages
English (en)
Other versions
DE4009836A1 (de
Inventor
Soo-In Cho
Dong-Il Shu
Dong-Sun Min
Young-Rae Kim
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Samsung Electronics Co Ltd
Original Assignee
Samsung Electronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Samsung Electronics Co Ltd filed Critical Samsung Electronics Co Ltd
Publication of DE4009836A1 publication Critical patent/DE4009836A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4009836C2 publication Critical patent/DE4009836C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C11/00Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor
    • G11C11/21Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements
    • G11C11/34Digital stores characterised by the use of particular electric or magnetic storage elements; Storage elements therefor using electric elements using semiconductor devices
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/06Arrangements for interconnecting storage elements electrically, e.g. by wiring
    • G11C5/063Voltage and signal distribution in integrated semi-conductor memory access lines, e.g. word-line, bit-line, cross-over resistance, propagation delay
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/14Word line organisation; Word line lay-out
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • H01L23/5222Capacitive arrangements or effects of, or between wiring layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • H01L23/5222Capacitive arrangements or effects of, or between wiring layers
    • H01L23/5225Shielding layers formed together with wiring layers
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/52Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames
    • H01L23/522Arrangements for conducting electric current within the device in operation from one component to another, i.e. interconnections, e.g. wires, lead frames including external interconnections consisting of a multilayer structure of conductive and insulating layers inseparably formed on the semiconductor body
    • H01L23/528Geometry or layout of the interconnection structure
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)
  • Dram (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Static Random-Access Memory (AREA)
  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Halbleiterspeichervorrichtung zum Verringern des Kopplungsrauschens und von Kopplungskapazitäten zwischen den Wortleitungen gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
Die DE 39 19 625 A1 zeigt eine Halbleiterspeichervorrichtung mit mehreren Wortleitungstreibern, die auf einander gegenüberliegenden Seiten des Speicherfeldes angeordnet sind. Jede einzelne Wortleitung ist mit einem entsprechenden Wortleitungstreiber und einem Adreßdekoder verbunden.
Aus IEEE Journal of Solid-State-Circuits, Vol. 24, Nr. 5, Oktober 1989, S. 1184-1190, ist eine Anordnung von Bitleitungen und Wortleitungen zur Adressierung eines Speicherfeldes bekannt. Dabei werden zwischen einzelnen Blöcken von Wortleitungen Dummy-Wortleitungen eingefügt und an diesen Stellen die Bitleitungen paarweise miteinander verdrillt. Weiterhin wird ein Teil der Wortleitungen direkt an den Ausgängen der Wortleitungstreiber paarweise miteinander verdrillt.
Bei einer Anordnung von Speicherzellen mit zahlreichen Bit- und Wortleitungen führt insbesondere eine dichtere Teilung unter den Leitungen wegen ihrer Neigung zu einer Speicherschaltung mit dichter gepackten Zellen kapazitive Kopplungen zwischen den Leitungen herbei, wenn ein Signal durch eine Leitung übertragen wird. Die zwischen den Leitungen stattfindende kapazitive Kopplung wird durch die kapazitive Komponente der Leitung noch verdoppelt.
Je größer die Speicherkapazität des Halbleiterspeichers ist, desto länger sind die Wortleitungen, und desto dichter ist der Abstand zwischen den Wortleitungen.
Da die Zeitspanne, die für einen Zugriff auf eine Speicherzelle benötigt wird, von der Länge der Wortleitung abhängig, ist eine längere Wortleitung unerwünscht. Im allgemeinen wird zur Kompensierung der Verzögerung der Zugriffszeit auf der Polysiliziumschicht der Wortleitung eine Metallschicht ausgebildet, so daß eine Operation mit hoher Geschwindigkeit möglich ist. Ein Überziehen der Wortleitungen mit Metall bewirkt jedoch eine stärkere kapazitive Kopplung zwischen den Leitungen, was auf den geringeren Abstand zwischen den Leitungen zurückzuführen ist. Darüber hinaus werden infolge einer kapazitiven Kopplung zwischen den Metallen Rauschsignale hervorgerufen. Da die Rauschsignale, die auf die kapazitive Kopplung zwischen den Wortleitungen zurückzuführen sind, in dem Fall, daß eine einzige Wortleitung angewählt wird, aufgeladen oder entladen werden, ist es unmöglich, einen fehlerfreien Speicherbetrieb mit hoher Geschwindigkeit durchzuführen.
Da eine Miniaturisierung der MOS-Transistorzelle und eine winzig ausgelegte Konstruktion der Speicheranordnung, die der Speicherschaltung mit dichter gepackten Zellen entspricht, zum Betreiben der Wortleitungen eine Treibspannung von hohem Niveau benötigt, ist es unmöglich, die Rauschsignale zu vernachlässigen, die auf die Treiberspannung von hohem Niveau zurückzuführen sind. Um diese Rauschsignale zu beseitigen, wird daher das Verfahren einer Absenkung der Treibspannung zum Betreiben der Wortleitung auf weniger als 5 V gewählt; da aber der Transistor mit seiner eigenen Schwellenwertspannung betrieben werden muß, sind mit diesem Verfahren einer Absenkung der Treibspannung Probleme verknüpft.
Andererseits besteht ein weiteres Problem, das von einer Speicherschaltung mit dichter gepackten Zellen hervorgerufen wird, darin, daß der Herstellungsprozeß des Transistors und die Konstruktion der Speicheranordnung schwierig auszuführen sind, da die Dekodierer der Zeilenadresse, durch die unter zahlreichen Bitleitungen eine einzige Bitleitung ausgewählt wird, in der beschränkten Speicherfläche angeordnet sind.
Je komplizierter die Speicheranordnung bei dem Halbleiter-Speichergerät mit mehreren Dekodierern ist, desto größer wird insbesondere die Anzahl der Verdrahtungen und desto mehr nimmt die Zahl der Signalleitungen zu.
Zum Anwählen einer gegebenen Wortleitung führt der Wortleitungstreiber die Treibspannung der entsprechenden Wortleitung in der Weise zu, daß er von dem Zeilenadressen-Dekodierer mit einem Adressensignal versorgt wird.
Wenn, wie oben beschrieben, der Abstand zwischen den Wortleitungen kleiner ist, wird daher die Anordnung der Treiber für die Wortleitungen in der beschränkten Speicherfläche schwierig.
Die bekannte Speicheranordnung, die die verschiedenen oben erläuterten Probleme mit sich bringt, ist in Fig. 1 veranschaulicht. Es sei nun auf Fig. 1 Bezug genommen; mehrere Wortleitungen, die quer zu Bitleitungen BL₁ bis BLj angeordnet sind, sind an Worttreibern 1 angeschlossen, die auf der einen Seite der Speicheranordnung vorgesehen sind. An den Kreuzungspunkten der Wort- und Bitleitungen sind die Speicherzellen angeordnet. Bei dem Speicher der vorliegenden Anmeldung sind die Bitleitungen gefaltet. Bei dem Lesevorgang des Speichergerätes wird die Information, die gerade in der Zelle gespeichert ist, die von der Wortleitung ausgewählt wird, auf die gewählte Bitleitung geladen, und dann liest ein von der Bitleitung gewählter Abtastverstärker die Information aus. In Fig. 3A ist die infolge der Kopplung zwischen der gewählten Wortleitung und der benachbarten Wortleitung zu dieser Zeit auftretende Kapazität veranschaulicht. Entsprechend der Speicheranordnung der Fig. 1 seien die kapazitiven Komponenten unter Bezugnahme auf Fig. 3A erläutert.
Koppelkapazitäten C₁₂, C₂₃, C₃₄, C₄₅ sind zwischen den Wortleitungen WL₁ bis WL₄ und deren Substrat-Kapazitäten C₁, C₂, C₃ und C₄ eingeführt. Falls eine beliebige Wortleitung angewählt wird, beträgt die Spannung des zwischen den Wortleitungen gekoppelten Rauschsignals:
(VCP: Spannung des auf die Wortleitung gekoppelten Rauschsignals
VWL: Treibspannung der gewählten Wortleitung
Cs: Unterlage-Kapazität der Wortleitung
Cc: Kopplungskapazität)
Die Substrat-Kapazität Cs der Wortleitung hängt von der Metallformation der Wortleitung und den Eigenschaften des Substrats ab; dabei kann die Substrat-Kapazität Cs konstant angenommen werden. Die Treibspannung VWL der Wortleitung ist der Faktor, über den die Rauschsignale bewirkt werden, die durch eine Kopplung der Wortleitungen entstehen; da aber die Treibspannung zum Betreiben der Wortleitung bestenfalls eine Schwellenwertspannung des Transistors der Speicherzelle ist, ist die Größe VWL vernachlässigbar. Für einen Fachmann ist es daher leicht zu verstehen, daß der bedeutungsvolle Faktor, um die Rauschsignale durch die Kopplung der Wortleitungen zu bewirken, die Kopplungskapazität Cc ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine verbesserte Halbleiterspeichervorrichtung anzugeben, die das Kopplungsrauschen zwischen den Wortleitungen vermindert.
Diese Aufgabe wird mit den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.
Eine bevorzugte Ausführungsform ist in einem Unteranspruch beschrieben.
Zum besseren Verständnis der Erfindung und zur Darstellung, wie dieselbe in die Wirklichkeit übertragen werden kann, sei nun beispielsweise auf die schematischen Zeichnungen Bezug genommen.
Fig. 1 ist ein Konstruktionsschaubild der Halbleiter-Speicheranordnung gemäß der vorliegenden Erfindung;
Fig. 2 ist ein Konstruktionsschaubild der Halbleiter-Speicheranordnung gemäß der vorliegenden Erfindung;
Fig. 3A ist ein Schaltbild zur Veranschaulichung der kapazitiven Komponenten der Wortleitungen gemäß Fig. 1;
Fig. 3B ist ein Schaltbild zur Veranschaulichung der kapazitiven Komponenten der Wortleitungen gemäß Fig. 2.
Ausführliche Beschreibung der Erfindung
Fig. 2 zeigt ein Konstruktionsdiagramm der Speicheranordnung gemäß der vorliegenden Erfindung und Fig. 3B die kapazitiven Komponenten dieser Konstruktion der Fig. 2. In Fig. 2 sind zahlreiche Bitleitungen BL₁ bis BLj paarweise mit Abtastverstärkern SA verbunden; quer über die Bitleitungen verlaufen zahlreiche Wortleitungen, die zu vieren von je einem Wortleitungstreiber bedient werden; dabei sind die Wortleitungen jedes Wortleitungstreibers 10 in ihrem Mittelbereich einmal verdrillt.
Beispielsweise ist die zweite Wortleitung WL₂ vor ihrer Verdrillung zwischen der ersten Wortleitung WL₁ und dritten Wortleitung WL₃, aber nach ihrer Verdrillung zwischen der vierten Wortleitung WL₄ und der siebenten Wortleitung WL₇ eingelegt. Die dritte Wortleitung WL₃ ist zwischen der ersten Wortleitung WL₁ und der zweiten Wortleitung WL₂ und die vierte Wortleitung WL₄ zwischen der ersten Wortleitung WL₁ und der zweiten Wortleitung W₂ angeordnet, während die erste Wortleitung WL₁ zwischen der dritten Wortleitung WL₃ und der vierten Wortleitung WL₄ verläuft. Andererseits sind die Wortleitungstreiber gleichmäßig verteilt im Zickzack zu den beiden Seiten der Speicheranordnung angeordnet. Falls die Anzahl der Wortleitungen in der Anordnung aus Speicherzellen 2n beträgt, ist die Anzahl der Wortleitungen, die mit jedem Wortleitungstreiber verbunden sind, 2m (wobei n größer m und m größer oder gleich 0 ist und m und n ganze Zahlen sind). So gesprochen ist die Anzahl der von jedem Wortleitungstreiber 10 benutzten Wortleitungen 2m. Demgemäß ist die Zahl der Wortleitungstreiber 10, die auf der einen Seite der Speicheranordnung vorgesehen ist, gleich der Zahl auf der anderen Seite der Speicheranordnung. Die Anordnung der Wortleitungstreiber (10) ist in Fig. 2 anschaulich dargestellt.
Da der Abstand zwischen den verdrillten Wortleitungen um das Doppelte vergrößert ist, werden die Kopplungskapazitäten zwischen den verdrillten Wortleitungen um die Hälfte vermindert. Der Grund hierfür besteht darin, daß die Wortleitungen parallel angeordnet sind. Das Prinzip, daß die Kapazität zwischen parallelen Platten umgekehrt proportional zu dem Abstand zwischen den Ebenen ist, findet in diesem Fall Anwendung. Der zum Verdrillen der Wortleitungen erforderliche Bereich ist der gemeinschaftliche Bereich der Wortleitungen; daher wird ein weiterer Bereich zum Verdrillen der Wortleitungen nicht benötigt.
Die Abnahme der Kopplungskapazität, die auf das Verdrillen der Wortleitungen zurückzuführen ist, wird durch die Gleichungen ausgedrückt:
(VCP: Spannung der auf die Kopplung der Wortleitungen zurückzuführenden Rauschsignale
VWL: Treibspannung der gewählten Wortleitung
Cc′: Kopplungskapazität einer Wortleitung
Cs: Substrat-Kapazität einer Wortleitung)
Die Wirkung einer Abnahme der Kopplungskapazität ist ein Fig. 3 veranschaulicht. Die Werte der Kopplungskapazitäten C₁₂′, C₂₃′, C₃₄′ und C₄₅′ der Fig. 3B sind nämlich halb so groß wie die Werte der Kopplungskapazitäten C₁₂, C₂₃, C₃₄ und C₄₅ der Fig. 3A.
Da, wie in der Gleichung (2) anschaulich gemacht ist, die Kopplungskapazität Cc′ der Fig. 3B, verglichen mit der Kopplungskapazität Cc der Fig. 3A, um die Hälfte verkleinert ist, sind die durch die Kopplung der Wortleitungen verursachten Rauschsignale ebenfalls um die Hälfte herabgesetzt.
Bei der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung sind vier Wortleitungen jedem Wortleitungstreiber zugeordnet; aber in dem Falle, daß mehr als vier Wortleitungen miteinander verdrillt sind, werden gemäß dem experimentellen Ergebnis die durch die Kopplung der Wortleitungen bewirkten Rauschsignale ebenfalls verringert, so daß so viele Wortleitungen, wie benötigt, miteinander verdrillt werden können.
Darüber hinaus kann die Vorrichtung gemäß der Erfindung für Sammelleitungen mit mehr als vier Ein-/Ausgabeleitungen des Halbleiter-Speichergerätes, z. B. für Ein-/Ausgabe- und Datenleitungen von Spalten- und Zeilenadressen-Dekodierern sowie für die Wortleitungen übernommen werden.
Bei der Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird die Anordnung der Wortleitungstreiber beschrieben, es können jedoch die Zeilen- und Spaltenadressen-Dekodierer nach dem vorgenannten Konstruktionsverfahren angeordnet werden.
Wie hier oben erläutert, erbringt die vorliegende Erfindung den Vorteil insofern, als bei der Anordnung der Speicherzellen der Spielraum der Abstände der Speicheranordnung vergrößert wird; die Chipfläche wird effektiv in der Weise genutzt, daß die Wortleitungstreiber auf beiden Seiten der Wortleitungen gleichförmig verteilt und angeordnet sind.
Die vorliegende Erfindung besitzt den weiteren Vorteil insofern, als die durch die Kopplung der Wortleitungen bedingten Rauschsignale, die auf die Vorgänge in den Wortleitungen zurückzuführen sind, dadurch möglichst gering gemacht werden, daß die Wortleitungen verdrillt werden.

Claims (2)

1. Halbleiterspeichervorrichtung mit einer Mehrzahl Wortleitungen, einer Mehrzahl Wortleitungstreiber, die abwechselnd auf beiden Seiten des Speicherzellenfeldes in Form eines Zickzacks angeordnet sind,
um die Wortleitungen zu betreiben, und einer Mehrzahl Adreßdekoder, die die Wortleitungstreiber ansteuern,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Wortleitungstreiber (10) und mit jeweils wenigstens vier Wortleitungen verbunden sind;
und daß die wenigstens vier Wortleitungen so miteinander verdrillt sind, daß diejenigen Wortleitungen, die vor dem Verdrillen nebeneinander angeordnet sind, nach dem Verdrillen anderen Wortleitungen benachbart sind.
2. Halbleiterspeichervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die einander benachbarten Wortleitungen, die vor dem Verdrillen einen Abstand (d) aufweisen, nach dem Verdrillen mit dem doppelten Abstand (2d) angeordnet sind.
DE4009836A 1989-12-29 1990-03-27 Halbleiterspeichervorrichtung mit vermindertem Wortleitungskopplungsrauschen Expired - Lifetime DE4009836C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1019890020108A KR920010344B1 (ko) 1989-12-29 1989-12-29 반도체 메모리 어레이의 구성방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE4009836A1 DE4009836A1 (de) 1991-07-11
DE4009836C2 true DE4009836C2 (de) 1994-01-27

Family

ID=19294149

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE4009836A Expired - Lifetime DE4009836C2 (de) 1989-12-29 1990-03-27 Halbleiterspeichervorrichtung mit vermindertem Wortleitungskopplungsrauschen

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5097441A (de)
JP (1) JPH0792998B2 (de)
KR (1) KR920010344B1 (de)
CN (1) CN1021996C (de)
DE (1) DE4009836C2 (de)
FR (1) FR2656725B1 (de)
GB (1) GB2239558B (de)
IT (1) IT1241520B (de)

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0713864B2 (ja) * 1989-09-27 1995-02-15 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置
GB2246001B (en) * 1990-04-11 1994-06-15 Digital Equipment Corp Array architecture for high speed cache memory
JPH04271086A (ja) * 1991-02-27 1992-09-28 Nec Corp 半導体集積回路
KR940008722B1 (ko) * 1991-12-04 1994-09-26 삼성전자 주식회사 반도체 메모리 장치의 워드라인 드라이버 배열방법
DE69526006T2 (de) * 1994-08-15 2003-01-02 Ibm Anordnung mit einem einzigen Verdrillungsgebiet und Verfahren für gepaarte linienförmige Leiter in integrierten Schaltungen
KR0172376B1 (ko) * 1995-12-06 1999-03-30 김광호 서브워드라인 드라이버 구조를 가지는 반도체 메모리장치
US5793383A (en) * 1996-05-31 1998-08-11 Townsend And Townsend And Crew Llp Shared bootstrap circuit
US6034879A (en) * 1998-02-19 2000-03-07 University Of Pittsburgh Twisted line techniques for multi-gigabit dynamic random access memories
JP2000340766A (ja) * 1999-05-31 2000-12-08 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
US7259464B1 (en) * 2000-05-09 2007-08-21 Micron Technology, Inc. Vertical twist scheme for high-density DRAMs
CA2342496A1 (en) 2001-03-30 2002-09-30 Atmos Corporation Twisted wordline straps
US6567329B2 (en) * 2001-08-28 2003-05-20 Intel Corporation Multiple word-line accessing and accessor
KR100541818B1 (ko) * 2003-12-18 2006-01-10 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치의 라인 배치구조
KR100825525B1 (ko) * 2004-07-28 2008-04-25 가부시끼가이샤 도시바 반도체 집적 회로 장치
JP4564299B2 (ja) 2004-07-28 2010-10-20 株式会社東芝 半導体集積回路装置
US7110319B2 (en) * 2004-08-27 2006-09-19 Micron Technology, Inc. Memory devices having reduced coupling noise between wordlines
JP4058045B2 (ja) * 2005-01-05 2008-03-05 株式会社東芝 半導体記憶装置
US20090154215A1 (en) * 2007-12-14 2009-06-18 Spansion Llc Reducing noise and disturbance between memory storage elements using angled wordlines
JP5612803B2 (ja) * 2007-12-25 2014-10-22 ピーエスフォー ルクスコ エスエイアールエルPS4 Luxco S.a.r.l. 半導体記憶装置
US7830221B2 (en) * 2008-01-25 2010-11-09 Micron Technology, Inc. Coupling cancellation scheme
US11308383B2 (en) 2016-05-17 2022-04-19 Silicon Storage Technology, Inc. Deep learning neural network classifier using non-volatile memory array
CN106097960B (zh) * 2016-06-16 2018-09-14 武汉华星光电技术有限公司 一种双边驱动装置及平板显示器
CN107622779B (zh) * 2017-10-30 2024-03-26 长鑫存储技术有限公司 一种存储阵列块及半导体存储器
US11087207B2 (en) 2018-03-14 2021-08-10 Silicon Storage Technology, Inc. Decoders for analog neural memory in deep learning artificial neural network
US10748630B2 (en) 2017-11-29 2020-08-18 Silicon Storage Technology, Inc. High precision and highly efficient tuning mechanisms and algorithms for analog neuromorphic memory in artificial neural networks
US10803943B2 (en) 2017-11-29 2020-10-13 Silicon Storage Technology, Inc. Neural network classifier using array of four-gate non-volatile memory cells
US10438636B2 (en) * 2017-12-07 2019-10-08 Advanced Micro Devices, Inc. Capacitive structure for memory write assist
US11270763B2 (en) 2019-01-18 2022-03-08 Silicon Storage Technology, Inc. Neural network classifier using array of three-gate non-volatile memory cells
US11409352B2 (en) 2019-01-18 2022-08-09 Silicon Storage Technology, Inc. Power management for an analog neural memory in a deep learning artificial neural network
US11893478B2 (en) 2019-01-18 2024-02-06 Silicon Storage Technology, Inc. Programmable output blocks for analog neural memory in a deep learning artificial neural network
US11023559B2 (en) 2019-01-25 2021-06-01 Microsemi Soc Corp. Apparatus and method for combining analog neural net with FPGA routing in a monolithic integrated circuit
US10720217B1 (en) 2019-01-29 2020-07-21 Silicon Storage Technology, Inc. Memory device and method for varying program state separation based upon frequency of use
US11423979B2 (en) 2019-04-29 2022-08-23 Silicon Storage Technology, Inc. Decoding system and physical layout for analog neural memory in deep learning artificial neural network

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57208691A (en) * 1981-06-15 1982-12-21 Mitsubishi Electric Corp Semiconductor memory
JPS6059677B2 (ja) * 1981-08-19 1985-12-26 富士通株式会社 半導体記憶装置
JPS59124092A (ja) * 1982-12-29 1984-07-18 Fujitsu Ltd メモリ装置
US4729119A (en) * 1984-05-21 1988-03-01 General Computer Corporation Apparatus and methods for processing data through a random access memory system
US4733374A (en) * 1985-03-30 1988-03-22 Kabushiki Kaisha Toshiba Dynamic semiconductor memory device
CA1305255C (en) * 1986-08-25 1992-07-14 Joseph Lebowitz Marching interconnecting lines in semiconductor integrated circuits
JPS63153792A (ja) * 1986-12-17 1988-06-27 Sharp Corp 半導体メモリ装置
JPS63255898A (ja) * 1987-04-14 1988-10-24 Mitsubishi Electric Corp 半導体記憶装置
JPH06105550B2 (ja) * 1987-07-08 1994-12-21 三菱電機株式会社 半導体記憶装置
JP2547615B2 (ja) * 1988-06-16 1996-10-23 三菱電機株式会社 読出専用半導体記憶装置および半導体記憶装置
JPH0713858B2 (ja) * 1988-08-30 1995-02-15 三菱電機株式会社 半導体記憶装置
JPH0713864B2 (ja) * 1989-09-27 1995-02-15 東芝マイクロエレクトロニクス株式会社 半導体記憶装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN1052966A (zh) 1991-07-10
CN1021996C (zh) 1993-09-01
IT1241520B (it) 1994-01-17
GB2239558A (en) 1991-07-03
DE4009836A1 (de) 1991-07-11
JPH0792998B2 (ja) 1995-10-09
KR920010344B1 (ko) 1992-11-27
GB2239558B (en) 1993-08-18
FR2656725B1 (de) 1994-11-04
GB9006756D0 (en) 1990-05-23
US5097441A (en) 1992-03-17
JPH03203085A (ja) 1991-09-04
FR2656725A1 (de) 1991-07-05
KR910013266A (ko) 1991-08-08
IT9048185A0 (it) 1990-07-31
IT9048185A1 (it) 1992-01-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE4009836C2 (de) Halbleiterspeichervorrichtung mit vermindertem Wortleitungskopplungsrauschen
DE4433695C2 (de) Dynamische Halbleiterspeichervorrichtung
DE69026673T2 (de) Bitzeile-Segmentierung in einer logischen Speicheranordnung
DE3915438C2 (de)
DE3923629C2 (de) DRAM-Halbleiterbaustein
DE2760030C2 (de) Speicherschaltung
DE3538530A1 (de) Halbleiterspeicher
DE2605184C3 (de) Integrierter Halbleiterfestspeicher
DE19625169A1 (de) Hierarchische Wortleitungsstruktur für Halbleiterspeichervorrichtung
DE4005992C2 (de) Halbleiterspeichervorrichtung mit verringertem Wortleitungskopplungsrauschen
DE4024295A1 (de) Dynamische halbleiterspeichervorrichtung
DE3939337A1 (de) Halbleiterspeichereinrichtung mit einer mehrzahl von speicherfeldern mit verbessertem peripherem schaltkreisbereich und verbesserter verbindungsanordnung
DE2310631A1 (de) Speicherhierarchie fuer ein datenverarbeitungssystem
DE4015452C2 (de)
DE102005056350A1 (de) Integrierte DRAM-Speichervorrichtung
DE10303738B4 (de) Speicherkondensator und Speicherzellenanordnung
DE69120020T2 (de) Ein Festwertspeicher
DE19650303B4 (de) Integrierte Speicherschaltung
DE69027085T2 (de) Halbleiterspeicheranordnung
DE10004109C2 (de) Speicherbaustein mit geringer Zugriffszeit
DE3328042C2 (de)
DE4126050A1 (de) Anordnung einer wortleitungstreiberstufe fuer eine halbleiterspeicheranordnung
DE3917558A1 (de) Halbleiterspeichereinrichtung
DE4105765C2 (de) Dynamischer Schreib-/Lesespeicher (DRAM)
DE4211950A1 (de) Halbleiter-speicheranordnung

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition