DE3421017A1 - Verfahren zur galvanischen abscheidung eines technischen kupferueberzugs - Google Patents
Verfahren zur galvanischen abscheidung eines technischen kupferueberzugsInfo
- Publication number
- DE3421017A1 DE3421017A1 DE19843421017 DE3421017A DE3421017A1 DE 3421017 A1 DE3421017 A1 DE 3421017A1 DE 19843421017 DE19843421017 DE 19843421017 DE 3421017 A DE3421017 A DE 3421017A DE 3421017 A1 DE3421017 A1 DE 3421017A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- copper
- bath
- organic
- carbon atoms
- largely
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/38—Electroplating: Baths therefor from solutions of copper
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US50121283A | 1983-06-10 | 1983-06-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3421017A1 true DE3421017A1 (de) | 1984-12-13 |
| DE3421017C2 DE3421017C2 (enExample) | 1987-08-27 |
Family
ID=23992566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19843421017 Granted DE3421017A1 (de) | 1983-06-10 | 1984-06-06 | Verfahren zur galvanischen abscheidung eines technischen kupferueberzugs |
Country Status (10)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS609891A (enExample) |
| AU (1) | AU559896B2 (enExample) |
| BR (1) | BR8402812A (enExample) |
| CA (1) | CA1255622A (enExample) |
| DE (1) | DE3421017A1 (enExample) |
| ES (1) | ES8601337A1 (enExample) |
| FR (1) | FR2547836A1 (enExample) |
| GB (1) | GB2141141B (enExample) |
| IT (1) | IT1177790B (enExample) |
| NL (1) | NL8401842A (enExample) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7556722B2 (en) | 1996-11-22 | 2009-07-07 | Metzger Hubert F | Electroplating apparatus |
| US8298395B2 (en) | 1999-06-30 | 2012-10-30 | Chema Technology, Inc. | Electroplating apparatus |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10261852B3 (de) | 2002-12-20 | 2004-06-03 | Atotech Deutschland Gmbh | Gemisch oligomerer Phenaziniumverbindungen und dessen Herstellungsverfahren, saures Bad zur elektrolytischen Abscheidung eines Kupferniederschlages, enthaltend die oligomeren Phenaziniumverbindungen, sowie Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden eines Kupferniederschlages mit einem das Gemisch enthaltenden Bad |
| JP4644447B2 (ja) * | 2004-06-25 | 2011-03-02 | 株式会社日立製作所 | プリント配線板の製造方法 |
| JP4811880B2 (ja) * | 2006-01-06 | 2011-11-09 | エントン インコーポレイテッド | 艶消し金属層を堆積するための電解液および工程 |
| US9243339B2 (en) | 2012-05-25 | 2016-01-26 | Trevor Pearson | Additives for producing copper electrodeposits having low oxygen content |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2882209A (en) * | 1957-05-20 | 1959-04-14 | Udylite Res Corp | Electrodeposition of copper from an acid bath |
| US3267010A (en) * | 1962-04-16 | 1966-08-16 | Udylite Corp | Electrodeposition of copper from acidic baths |
| US3328273A (en) * | 1966-08-15 | 1967-06-27 | Udylite Corp | Electro-deposition of copper from acidic baths |
| DE2541897A1 (de) * | 1975-03-11 | 1976-09-30 | Oxy Metal Industries Corp | Bad zum galvanischen abscheiden von kupfer |
| US4181582A (en) * | 1977-10-17 | 1980-01-01 | Schering Aktiengesellschaft | Galvanic acid copper bath and method |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ZA708430B (en) * | 1970-02-12 | 1971-09-29 | Udylite Corp | Electrodeposition of copper from acidic baths |
| DE2039831C3 (de) * | 1970-06-06 | 1979-09-06 | Schering Ag, 1000 Berlin Und 4619 Bergkamen | Saures Bad zur galvanischen Abscheidung glänzender Kupferüberzüge |
| US3770598A (en) * | 1972-01-21 | 1973-11-06 | Oxy Metal Finishing Corp | Electrodeposition of copper from acid baths |
| CA1105045A (en) * | 1977-05-04 | 1981-07-14 | Hans G. Creutz (Deceased) | Electrodeposition of copper |
| US4272335A (en) * | 1980-02-19 | 1981-06-09 | Oxy Metal Industries Corporation | Composition and method for electrodeposition of copper |
| US4336114A (en) * | 1981-03-26 | 1982-06-22 | Hooker Chemicals & Plastics Corp. | Electrodeposition of bright copper |
-
1984
- 1984-06-04 AU AU29034/84A patent/AU559896B2/en not_active Ceased
- 1984-06-06 DE DE19843421017 patent/DE3421017A1/de active Granted
- 1984-06-07 CA CA000456109A patent/CA1255622A/en not_active Expired
- 1984-06-08 NL NL8401842A patent/NL8401842A/nl not_active Application Discontinuation
- 1984-06-08 ES ES533253A patent/ES8601337A1/es not_active Expired
- 1984-06-08 BR BR8402812A patent/BR8402812A/pt unknown
- 1984-06-08 FR FR8409045A patent/FR2547836A1/fr active Pending
- 1984-06-08 IT IT48356/84A patent/IT1177790B/it active
- 1984-06-11 GB GB08414863A patent/GB2141141B/en not_active Expired
- 1984-06-11 JP JP59119716A patent/JPS609891A/ja active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2882209A (en) * | 1957-05-20 | 1959-04-14 | Udylite Res Corp | Electrodeposition of copper from an acid bath |
| US3267010A (en) * | 1962-04-16 | 1966-08-16 | Udylite Corp | Electrodeposition of copper from acidic baths |
| US3328273A (en) * | 1966-08-15 | 1967-06-27 | Udylite Corp | Electro-deposition of copper from acidic baths |
| DE2541897A1 (de) * | 1975-03-11 | 1976-09-30 | Oxy Metal Industries Corp | Bad zum galvanischen abscheiden von kupfer |
| US4181582A (en) * | 1977-10-17 | 1980-01-01 | Schering Aktiengesellschaft | Galvanic acid copper bath and method |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7556722B2 (en) | 1996-11-22 | 2009-07-07 | Metzger Hubert F | Electroplating apparatus |
| US7914658B2 (en) | 1996-11-22 | 2011-03-29 | Chema Technology, Inc. | Electroplating apparatus |
| US8298395B2 (en) | 1999-06-30 | 2012-10-30 | Chema Technology, Inc. | Electroplating apparatus |
| US8758577B2 (en) | 1999-06-30 | 2014-06-24 | Chema Technology, Inc. | Electroplating apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| IT1177790B (it) | 1987-08-26 |
| NL8401842A (nl) | 1985-01-02 |
| CA1255622A (en) | 1989-06-13 |
| DE3421017C2 (enExample) | 1987-08-27 |
| GB2141141A (en) | 1984-12-12 |
| FR2547836A1 (fr) | 1984-12-28 |
| JPS6112037B2 (enExample) | 1986-04-05 |
| BR8402812A (pt) | 1985-05-21 |
| GB8414863D0 (en) | 1984-07-18 |
| GB2141141B (en) | 1987-01-07 |
| IT8448356A1 (it) | 1985-12-08 |
| JPS609891A (ja) | 1985-01-18 |
| IT8448356A0 (it) | 1984-06-08 |
| AU2903484A (en) | 1984-12-13 |
| ES533253A0 (es) | 1985-10-16 |
| AU559896B2 (en) | 1987-03-26 |
| ES8601337A1 (es) | 1985-10-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE3104108C2 (de) | Wäßriges saures Bad und Verfahren zur galvanischen Abscheidung von glänzenden Kupferüberzügen | |
| DE2541897C2 (de) | Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung duktiler und glänzender Kupferüberzüge | |
| DE3518193C2 (enExample) | ||
| DE3210286A1 (de) | Waessriger saurer elektrolyt fuer die galvanische abscheidung von kupfer | |
| DE1521062B2 (de) | Waessriges saures galvanisches kupferbad zur abscheidung von duktilem glaenzendem kupfer | |
| DE2255584C2 (de) | Saures Kupfergalvanisierbad | |
| DE69714446T2 (de) | Alkoxylierte merkaptane als kupfer additive | |
| DE2256845A1 (de) | Verfahren und zusammensetzung zur galvanischen abscheidung einer zinn/bleilegierung | |
| DE19653681A1 (de) | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung von Kupferschichten mit gleichmäßiger Schichtdicke und guten optischen und metallphysikalischen Eigenschaften | |
| DE1921845B2 (de) | Saures wäßriges elektrolytisches Kupferbad | |
| DE10354860B4 (de) | Halogenierte oder pseudohalogenierte monomere Phenaziniumverbindungen, Verfahren zu deren Herstellung sowie diese Verbindungen enthaltendes saures Bad und Verfahren zum elektrolytischen Abscheiden eines Kupferniederschlages | |
| DE2204326B2 (de) | Wäßriges saures Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzenden und duktilen .Kupferüberzügen | |
| DE2809636A1 (de) | Galvanisierbad auf der basis von dreiwertigem chrom | |
| DE3421017A1 (de) | Verfahren zur galvanischen abscheidung eines technischen kupferueberzugs | |
| DE3420999C2 (enExample) | ||
| AT510422B1 (de) | Verfahren zur abscheidung von hartchrom aus cr(vi)- freien elektrolyten | |
| DE2541304C2 (enExample) | ||
| DE2215737C3 (de) | Wäßriges saures galvanisches Halbglanznickelbad | |
| DE2326300A1 (de) | Waessriges saures zinkgalvanisierungsbad und -verfahren | |
| DE2352970A1 (de) | Korrosionsbestaendige metallueberzuege, die galvanisch abgeschiedenes nickel und mikroporoeses chrom enthalten | |
| DE2360892A1 (de) | Waessriges saures galvanisches kupferbad | |
| DE69800697T2 (de) | Chromplattierung aus mit alkanedisulfonsäure-alkanesulfonsäure verbindungen katalysierte bäder mit inhibitoren wie aminoalkanesulfonsäure und heterocyclische basen | |
| DE2053860C3 (de) | Saures wäßriges Bad zur galvanischen Abscheidung glänzender Kupferüberzüge | |
| DE2818725A1 (de) | Bad zur elektrochemischen abscheidung von kupfer und verfahren zur herstellung eines poly-(alkanol-quaternaer ammoniumsalzes) zur verwendung in dem bad | |
| DE2333096A1 (de) | Elektroplattierung aus nickel und eisen |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
| D2 | Grant after examination | ||
| 8364 | No opposition during term of opposition | ||
| 8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |