DE2360892A1 - Waessriges saures galvanisches kupferbad - Google Patents
Waessriges saures galvanisches kupferbadInfo
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Description
" PATENTANWÄLTE DR.-I N G. H. FI-NCKE
D I PL.-I NG. H. BOHR DIPL.- ING. S. STAEGER
Fernruf, '26 4OiO
Postscheckkonto! München 27044-802
Bankverbindung
Bayer. Vereinsbonk München, Konto 420 404
Mapp.No. 23382 - Dr.K/P
Case 986
β München β, 6. Dezember 1973
MOIIerstroße 31
M & T Chemicals Inc.
.Greenwich, Connecticut;, USA
.Greenwich, Connecticut;, USA
"Wäßriges saures galvanisches Kupferbad"
Priorität: 14.12.1972 -
Die Erfindung bezieht sich auf neue Zusammensetzungen und
auf ein Verfahren zur galvanischen Abscheidung von Kupfer
aus einem wäßrigen sauren Kupferbad, das mindestens eine
Verbindung aus einer jeden der folgenden beiden Gruppen enthält r " - .
(A) badlösliche Arylamine, Aralkylamine, Alkarylamine
und cycloaliphatische Amine, einschließlich cycloaliphatischer Amine, die eine SuIfon-'
gruppe in/Oycloalkainring enthalten·, und
(B) SuIfoalkylsulfidverbindungen, die die Gruppie-•
rung -S-AIk-SQ^M enthalten, worin K für ein
Grammäquivaient .eines. Kations steht und- -AIkfür
eine zweiwertige aliphatische Kohlenwasserstoff gruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen .steht«
Ziel der Erfindung ist die Herstellung glatter galvanischer Kupferabscheidungen mit hoher Geschwindigkeit für Rotogravure-Anwendungen,
und zwar insbesondere die Herstellung von Abscheidungen, die eine verhältnismäßig hohe permanente Härte aufweisen.
-Ein weiteres Ziel der Erfindung ist die Erzielung glatter, duktiler Kupferniederschläge mit hoher Streukraft zum Beschichten
von gedruckten Schaltungen. Ein weiteres Ziel ist die Herstellung verhältnismäßig dicker, glatter, duktiler-Kupferniederschläge,
mit niedriger Spannung. Ein weiteres Ziel ist die Herstellung von stark eingeebneten, matt glänzenden bis glänzenden
Kupferabscheidungen, welche die Anwesenheit eines Einebnungsmittels
zusätzlich zur Anwesenheit mindestens einer der Verbindung aus einer jeden der beiden Gruppen A und B erfordern.
.Gemäß der Erfindung können Kupferniederschläge hergestellt werden, die, je nach der . Badzusammensetzung und den Arbeitsbedingungen,
sehr für Rotogravure-Anwendungen oder zum· Beschichten von gedruckten Schaltungen oder für Galvanoplastiken
oder für voll glänzende und stark eingeebnete dekorative Zwecke geeignet sind. Diese Vorteile werden durch den Zusatz
mindestens einer Verbindung aus einer jeden der folgenden beiden Gruppen erhalten:
(A) .badlösliche Arylamine, Aralkylamine, Alkarylamine
und Cycloalkylamine, einschließlich Cycloalkylamine,
die eine Sulfongruppe im Cycloalkanring enthalten;
und '
(B) Sulfoalkylsulfidverbindungen, die die Gruppierung
'-S-Alk-SO^M enthalten, worin M für ein Grammäquivalent
eines Kations steht und -Alk- für eine zweiwertige aliphatische Kohlenwasserstoffgruppe mit
1 bis 8 Kohlenstoffatomen steht, die gesättigt oder ungesättigt sein kann, die gegebenenfalls Substituenten
tragen kann, wie z.B. Hydroxyl-, Alkyl-.oder
4G9825/T033
Hydroxyalkylgruppen, und in der die Kohlenstoffkette durch Heteroatome unterbrochen sein kann.
Zur Herstellung von stark eingeebneten KupferabScheidungen
und oft auch zur Herstellung von stark glänzenden Kupferabscheidungen
innerhalb eines großen Stromdichtebereichs ist der Zusatz mindestens einer Verbindung aus der Gruppe von
Einebnungsmitteln, das sind diffusionsgesteuerte Inhibitoren,
(Gruppe (G)) erforderlich. '
Die gleichzeitige Anwesenheit mindestens einer Verbindung
aus einer jeden Gruppe (A) und (B) im genannten Kupferbad
ergibt galvanische KupferabScheidungen, die besser sind, als
wenn nur eine Verbindung aus einer Gruppe anwesend ist, Die .Verbesserung ergibt sich dabei hinsichtlich ein oder mehrerer
der folgenden Eigenschaften: größere Glätte, größerer Glanz, größere Härte oder größere Weichheit und Duktilität und/oder .'
besseres Ansprechen auf den Zusatz eines Einebnungsmittels.
So basiert die Erfindung auf der zusammenarbeitenden oder
synergistischen Wirkung von mindestens zwei Gruppen von Zusatzmitteln,
nämlich:
(A) gewisse. Aryl-, Aralkyl-, Alkaryl- und Cycloalkyl-,
amine (worin der Cycloalkanring gegebenenfalls ' .
eine Sulfonylgruppe enthalten kann) und
(B) SuIfoalkylsulfidverbindungen, welche die Gruppierung
-S-AIk-SOzM enthalten, worin M für ein Grammäquivalent
eines Kations steht und -Alk- für eine zweiwertige aliphatische Kohlenwasserstoffgruppe mit 1 bis 8
Kohlenstoffatomen steht.
Im Falle von stark eingeebneten Kupferniederschlägen ist
die zusammenarbeitende Wirkung von mindestens drei Gruppen
4Q9825/1033
von Zusatzmitteln erforderlich, nämlich (A), (B) und Einebnungsmittel
(Gruppe (C))i
Neben Verbindungen der Gruppen (A) und (B) oder der Gruppen (A),. (B) und (C) können andere Zusatzmittel anwesend sein und
einen cooperierenden (synergistischen) Effekt ergeben, insbesondere Aldehyd/Naphthalinsulfonsäure-Kondensationsprodukte
und Polyäther.
In vielen Fällen, insbesondere wenn stark eingeebnete voll glänzende Kupferabscheidungen erhalten werden sollen, ist die
Anwesenheit einer kleinen Menge Halogenidion, insbesondere Chloridionen, im Kupferbad erwünscht.
.Die cooperierenden Amine der Gruppe (A) können einfache Aryl-,
Aralkyl-, Alkaryl-, "Cycloalkyl- oder Sulfolanylamine (oder einfache aromatische, araliphatisch^, alkylaromatische oder ·
cycloaliphatische Amine, einschließlich Sulfolanylamine) sein, die durch den Buchstaben A dargestellt werden. Es kann sich
aber auch dabei um Dimerisationsprodukte A-A1, A-X-A1,
γ γ
A - Y » A« A = Z = A', i/ A1, oder A A*
handeln, worin A und A1 gleich oder verschieden sein können
und worin -X-, -Y=, =Z= zweiwertige, dreiwertige oder vierwertige Verbindungsgruppen sind. In diesen Formeln stellen
A und A1 Radikale dar, die sich von den Aminen A und A1 durch
Wegnahme von Wasserstoff- oder Sauerstoffatomen ableiten.
Die einfachen Amine A können die folgenden Strukturen aufweisen: " .
09825/1D 33
A-I :
m —
f". ■·
R' - N+ - Rtm
Anion , worin;
Anion" für ein Grammäquivalent eines Aniona steht, wie z.B.
Cl", S04 =/2» HSO4", 0H~.
A-2:
R"
, worin der Ring für
Anion"
einen unsubstituxerten oder substituierten N-heteroaliphatischen
Ring steht, wie z.B. einem Morpholin- oder Piperidinring.
A-3: Rf -
worin der Ring für
ι ■
I .
Anion
einen unsubstituierten oder substituierten N-heteroaromatischen
Ring steht, wie z.B. einem Pyridin-, Chinolin- oder
IsoGhinolinring.
IsoGhinolinring.
409 82 5/1033
R"
A-U: R1 - N -
R"1
R"
■ I +
A«5: R' - N - 0(CH2)3 or A SO3
R"»
R"
A-6: Rf - N
RMl
■ A-7:
von A-I Die Strukturen A-2 bzw. A-3 können sich/durch Ersatz von
zwe.i bzw. drei Radikalen durch ein zweiwertiges bzw. dreiwertiges ringbildendes Radikal ableiten.
Die Struktur A-A (N-Oxid) kann sich von A-1 durch Ersatz
eines Radikals und des Anions durch ein Sauerstoffatom, welches durch eine polare coordinative Bindung am Stickstoffatom
gebunden ist, ableiten.
Die Struktur A-5 (Reaktionsprodukt aus einem N-Oxid mit
Propan- oder Butansulton) kann sich von A-1 durch Ersatz eines Radikals durch eine Gruppe der Formel -)T
oder -0(CH2)^S0x ableiten.
409825/1033 '
Die Strukturen A-6 und A-7 können sich, von den Kationen der
Strukturen A-I bzw. A-2 durch Dissoziation eines Wasserstoff
ions ableiten. Sie sind deshalb Xewis-Basen dieser Kationen.
In den einfachen Aminen;A der Erfindung muß mindestens ein
aromatischer oder aliphatischer Ring oder ein aliphatischer Ring, der eine Sulfongruppe enthält, anwesend sein. Demgemäß
müssen in den dimeren AminenA - A1, A-X - A1, A-Y = A1,
V,
A1, A sAx mindestens zwei solche Ringe an-
wesend sein.
Diese Ringe können unsubstituiert sein, oder- sie können substituiert
sein, beispielsweise durch Alkylgruppen (wobei z.B. Alkarylradikale gebildet werden) oder durch zweiwertige ali—'
phatische Kohlenwasserstoffgruppen (wobei beispielsweise Aralkylgruppen gebildet werden) oder durch Sulfon-, Hydroxyl-,
Alkoxyl- oder Polyäthergruppen usw. . " . .
Die verbleibenden Radikale, die nicht unsubstituiert sind oder
die'durch Aryl-, Aralkyl-, Alkaryl-, Cycloalkyl-,oder SuIfolanylgruppen
substituiert sind, können beispielsweise Wasserstoffatorae
oder Hydroxyl-, Alkyl-, Sulfoalkyl-, Polyäther- oder Polyalkylenimingruppen usw. sein. *
Typische zweiwertige Brückengruppen — X - sind:
409825/103
O . . O NH
-S-V, - CH2 - , ■ - CH2CH2 - , - CH2CH2CH2 - ,
- CH2CH2CH2CH2 - , - CH2-C6H4-CH2 - ,
Rmtt
-ο-Ι ■ ■ ■ ·
worin R' · · ' · für ein Wasserstoffatom oder Hydroxyalkyl-,
substituierte oder unsubstituierte Aryl-, Aralkyl- oder · Alkary!radikale steht.
Typische dreiwertige Brückengruppen -Y= sind:
gl ti Il JJl I I I I
ι I+'
-C=, -N = und - N+= . Typische vierwertige Brückengruppen « Z = sind:
H-H H H . H H
.11 I I · I I · ·
•=C-C=, = C - CH2CH2 -C= , = C - C6H4 -C= .
Die erfindungsgemäßen Amine können im erfindungsgemäßen Kupferbad in wirksamen Mengen von 0,005 g/l bis 40 g/l,
bezogen auf die gesamte wäßrige Badzusammensetzung, anwesend sein.
409825/1033
Typische Amine, die gemäß der Erfindung verwendet werden können,
sind die folgenden Verbindungen, die in der Tabelle I
zusammengefaßt sind. : .
40 9&2S/1033
-ΊΟ -
•TABELLE I
C6H3 CH2 N CH2 C6H3
CH2
CH2
f
OH
OH
C6H3 CH2 N CH2 C6H3
CH2
H2
H2
- I
C6H3 CH2 N CH2 C6H3
I
(CH2 V .
(CH2 V .
r .
SO3
C6H3 CH2 N CH2 C6H3
IH
C6H3, CH2 NH C6H3
Λ09825/1033
7. | C6H3 | CH | C6H3 |
6H3 | |||
8. | C6H3 | CH | |
9.· | C6H3 | NH | |
10. | C6H3 | N ι |
|
(CH ι |
|||
so | |||
2 N C6H3 | |||
(CH2)a | |||
SO3"" | |||
2 N C6H3 C2H3 |
|||
CH2 CHOH | |||
CH2 CHOH C | |||
2)3 | |||
3~ | |||
/"Yn-CH2-/
X=J I
C2H3
SO,
12. C6H3CH2NH-
SSO3Na
C6H3CH2NH-/ ^ -SO3Na
C6H3CH2NH-
15. (C6H3CR2 )3N
4098.25/1033'
16.
und Produkte, die daraus durch Molekülumlagerung
bei Erhitzung entstehen.
17.
18.
\U*
SO3 1
C2H5N(CH2) a SO3'
22. C6H5CH2NH2
23. . C6H3CH2N(CH3):
409 8 2 5/1033
2k . ';
> Z
25·. ' C6H3NH2
26., :
CCH2JkSO3-
2360S92
-NH-
.
32. 33, 34. as.
,-NH-
.-NH. CH3 O6H3
o>S>
Λ -J^^-^-Λ
-NH(CH2)3SO3"
C6H5CH2N+(CH3);
CCH2)2.
OH
Γ C6H5CH2N+
CCH2CHOHCH3 >3 Cl
Γ C6H3CH2W+ CCHaJs 1 OH*
C6H5N+(CIi2CHOIICH3 >2
409 8 25/TQ33
39.
Γ (C6H3CH2)2Ν+(CH3)2 J
er
40. C6H5CIi2N+ (CH3)
Λ*
O"
41.
C6H5CH2N+(CH3)2
0(CHz)3SO3'
42. - C6H3CH2N,
ι
Cl"
Cl"
43,
HjCH2/ V
Cl
CH3
C6H5CH2N; ^
Cl
45.
C1
0 9 8 2 5/1033
46,
SO3'
ei-
-CH2-
C6H3CH2N
3-N
50. C6H3-K
-CH,-N-
SO3NH4
C2H.
γζ3
=N+-CH2-/ \
SO," SO3NH4
Color Index Acid Blue 9, C. I. No; 42090.
409825/1033
-C
SO2Na
SO3
Color Index AcM Violet 49* C. Iy No.
C6H5NH C
NH
Das Heaktionsprodwkt aws 1 Mo| AmijQ. 53
mit J MoI i
Das Reaktionsprodukt aus 1 Mol Hydrazo-benzol
mit 2 HpI Propansulton; vermutlich
C6H3N - NC6H3
* I I
(CH2 )3 (CH2 )3
|. j
SO3" So3"
" und Produkte, die . daraus durch" Molekül
umlagerung bei Erhit zung entstehen.
C6H5CH2NHCH2Ch2NHCH2C6H3
409825/1033
C6HjCH2NCH2C6H5
CH2
I :
■ CH2-
C6H3CH2NCH2C6H5
CH2 I
CH2 NHCH2CH2OH
C6H3CH2NCH2C6H3
CH2 CH2 NH H
η - 1 to
und Produkte, die daraus
durch Molekulmlagerung
hei. Erhitzung entstehen.
62. O2N-
(CH2)3 NO2 SO3"*
und Produkte, die daraus durch Molekülumlage
rung bei Erhitzung entstehen.
(CH
3>2 N-/ \-C=
(CH3)
3^2
-/ \ -C=NCH2 -K y
SO
3 CH2-
(CH3O2 N-/ Vc=
=N+(CH3)2 Cl"
I ·
N (CH3)2
409 82 571033
67..-f CHa)2N-
=J \
-N(CH3)2
N(CH3)
3 J 2
68.
. r—λ ■ H
CC2Hj)2N-/ Y-N-
SO2
SO3Na
C. I. Acid Blue 98, C. I. No. 50335
409825/1033
W^l-
Die co operierenden SuIf oäüjk^sülfide %eiigen äie
- Alk- -SG^I
worin M für rein GrattmaciuiVa^ent eines -Kations B%elit vmä - Alk
für eine zwexv/ertüge allpliatisöhe -iGrttppe ;mi1; ί IA1S % stJöffatömen
stent/. - Alk - k%tn"n eine %esattißte öäeä?
sättigte zweiwertigB aliphatisbtte Xöhlen^asB'fers^off^griipp
sein1, "die ^gegebenenfalls -Lnerte ^Substituient^nr tragfej "wie
'z.B. Hydroxyl-, Alkyl-, Äyäiröxyalkyl- lairä
worin die -Koiilenstoffgruppe ^durch liete;roa't<ime
■sein kann, ^y-pisüüe Beispiele für - Alk — ^sindlr
m hwo λ libi?s '8
ψ3 Ψ3 Ψ3-
#^- V -CH2 C= :G
der Verbindung R-S-AIk-SO^M kann R ein Kohlenwasserstoffsein,
das vorzugsweise aus der Gruppe ausgewählt ist, die aus Alkyl-, Alkenyl-, Alkinyl-, Cycloalkyl-, Aryl-, Aryiode'r
Alkarylgruppen besteht, wobei diese Gruppen auch "substituiert sein können. Eine bevorzugte solche Gruppe
2;;5/T0"3'3
ist eine Sulfoalky!gruppe. H kann ein Sulfid oder ein PoIysulf
id sein, das bis zu vier zweiwertige Schwefelatome dieser
Kohlenwasserstoffradikale enthält, wie z.B. Alk S ~ und
__ ....... n
-MO^S-AIk-Sn""-, worin η für Λ bis 4- steht. Es kann aber auch
eine· Sulfoalkylthioalkylgruppe sein, wie z.B. MOxS-AIk-S-AIk-.
R kann Wasserstoff oder ein Metallkation oder ein Sulfid oder Polysulfid T1IS ~ davon sein. Es kann/sein: eine Sulfonsäuregruppe,
MO^S- (beispielsweise im Heaktionsprodukt als Natriumthiosul-fät
und 1,3-Propansulton), MO2-S Alk: S
(Alkyl)2 N C - , . Alkyl 0 C - , eine Aminoiminometiiylgruppe
J J (Fonnamidin),
-, einei ,I^Dioxytetrahydrothienylgruppe (Sulf olanyl),
oder öin ;heteröcyclischer Ring, der durch andere Sulf oalkyl
sulfiägruppen subs^titüiert sein kann,
Die Sulföölkylöulfiäe können in wirksamen ^Mengen ναϊΐ ;Q,O1 mg/1
bis iOOO mg/1, ^be^zogen auf das gesamte wäßrige 3ad,
werden. Typische %ilf oalkylsulfide, die gemäß derr
verwendet weiden können, sind die in der folgenden Tabelle Π zusammengefaßten Verbindungen.
NaO3S(CH | TABELLE-II | Alk | 3S03H | M | |
NAO3S(CH | CooperieTende Suifoalkylsulfide (SAS) der Formel.RS - Alk - SO5M |
-(CH2)3- | Na | ||
SAS No. | NaO3S(CH | R | -(CHa)3- | Na | |
1 | C6H5S | 2)3s | .: -(CHa)4- | Na | |
2 | a)3SS | -(CHa)3- | Na | ||
3 | 2)4s | ||||
k | |||||
5(CH2); | |||||
-(CH2):
Na
6 | H | • | C2H5 | S | Il S |
)a |
SC
Il |
7 | H | S(CH2 | S(CH2 | H S |
|||
8 | NaO3 | NaO3 | S(CH2 | ||||
9 | NaO3 | NaO3 | a),NC | S(CH2 | |||
NaO3 | Il S |
||||||
10 | (C2H | C6H5 | |||||
)3 | |||||||
.11 | >3 | S(CHa)3 | |||||
)3 | S(CHa)6 | ||||||
12 | |||||||
13 | |||||||
14 | |||||||
15 |
-(CHa)2-
(CHa)3-
-(CHa)3-
-(CH2)3-
-(CHa)3-
-(CHa)3-
Na Na Na Na
Na K
Na Na Na Na
TABELLE II (Ports.)
SAS No. | 16 | R | Alk | M |
17 | C^H5CH2 | -(CHz)3- | Na | |
18 | H2N^ | -(CHz)3- | Na | |
19 | NaO3SCHzCHOHCH2S • |
-CH2CHOHCH2- | Na | |
-(CH2)3- | Na |
S(CH2)3S03K
N N
21 K03S(CH,)3S-i Ji-
-(CHz)3-
■ K
409825/1033
23M892
Gemäß einer weiteren Ausfuhrungsfojcm der Erfindung; werden
stark eingeebnete Kupferniederschläge erhalten, das sind
also Kupferniederschläge, die wesentlich glatter sind als
die Substrate, auf denen sie abgeschieden worden sind.- Damit
das Kupferbad Einebnungseigensehaften besitzt, muß es
neben mindestens einer der Verbindungen aus den· Gruppen (A)
und (B) auch mindestens eine Verbindung der Gruppe (C) enthalten. Die Gruppe (C) besteht aus Einebnungsmitteln, das
sind also diffusionsgesteuerte Inhibitoren.
Neben einer Einebnung geben die Einebnungsmittel häufig auch
einen erhöhten Glanz und eine größere Breite des glänzenden
Stromdichtebereichs. Solche Einebnungsmittel können auch die '.
Bildung· von Rauheiten bei hohen Stromdichten verhindern und
.die Härte steigern..
Ein saures Kupferbad, das mindestens einen Zusatz aus einer ·
jeden der Gruppen (A) und (B) aufweist, spricht besser auf
den Zusatz eines Einebnungsmittels an als ein Kupferbad, das
nur eine Verbindung aus einer der beiden Gruppen oder keine
der Verbindungen aus diesen beiden Gruppen enthält.
Einebnungsmittel, die sehr gut mit den Zusatzmitteln der Gruppe (A) und (B)- cooperieren,sind solche, die eine Gruppe
der Formel - C = N- (oder in der tautomeren Form - C— NH -)
. Jh ■ ■■■■/. ;: /■;. ; ; ι >
enthalten. . . ■ .
Diese tautomeren Gruppen können einen Teil, eines nicht-cyclischen
Moleküls bilden, wie z.B. eines offenen Thioharnstoffs,
worin sie ein Teil der weiteren Gruppen .
40 98 25/1033
>N -C = N-, oder >N -C-NH-
I- Il
• SH · " S ■
sind. Sie können auch einen Teil eines heterocyclischen Rings
bilden, worin sie einen Teil der weiteren Gruppen
>N - C - NH - , -S-C-NH ,
Il Il
S S .
- O - C - NH - , ■ - C - C - NH - ,
a C - C - N -
Il I
S .GH .
und/oder deren entsprechender tautomerer Formen sind.
und/oder deren entsprechender tautomerer Formen sind.
Typische Einebnungsmittel der offenen Thioharnstofftype, die
gemäß der Erfindung verwendet werden können,.finden sich in Tabelle III der US-PS 3 682 788. Beispiele hierfür sind
Thioharnstoff, N-Ä'thylthioharnstoff (1-Ä'thy !thioharnstoff) ,
N,N'-Diäthylthioharnstoff (1,3-Diäthylthioharnstoff),
N-Phenylthioharnstoff (1-Phenylthioharnstoff) usw.
Typische Einebnungsmittel der heterocyclischen Type sind
in Tabelle III der US-PS j 54-2 655 angegeben.. Beispiele
hierfür- sind 2-Thiazolidinäthion (2-Mercaptothiazolin),
2-Imidazolidinäthiori (Athylenthioharnstoff) und das
N-Hydroxyäthylderivat davon, 2-Pyrimidinäthiol (2-Mercaptopyrinidin).
Weitere Einebnungsmittel sind in Tabelle III der US-PA 264 193/72 beschrieben. Beispiele hierfür sind
2-Mercaptopyridin, 2-Mercaptochinolin oder die N—Oxide
davon und andere Derivate, worin die Gruppe der Formel -SH
A09825/1033
durch.
- SC , -SC NHo und ähnliche Gruppen ersetzt ist.
NH2 , S
Weiterhin arbeiten Einebnungsmittel,welche an Stelle der
Gruppe -C=N- die entsprechende Quecksilberverbindung
SH
-C=N- enthalten, gut mit der Kombination aus Amin und ' Sulfoalkylsulfid zusammen.
Eine andere Art cooperierender einebnender und glänzend
machender Mittel umfassen verhältnismäßig hochmolekulare Kationen, wie z.B. basische Phenazinazofarbstoffe, wie z.B.
Janus-Grün-B (Diäthylphenosafranin-azo-dimethylanilin, Color
Index Nr. 11OpO) oder Janus-Schwarz (Diäthylphenosafranin-azophenol,
C. I. Basic Black 2, Color Index Nr. 11825) und gewisse
kationische Polymere, wie z.B. Polyalkylenimine und die Polymere und Mischpolymere von 2-Vinylpyridin und/oder 2-Methyl-5-Vinylpyridin.
sowie deren Quaternisierungsprodukte mit Alky!halogeniden, Benzylhalogeniden oder 1,3-Propansulton.
In ähnlicher Weise ergibt die Verwendung mindestens einer Verbindung
aus einer jeden der beiden Typen von Einebnungsmitteln zusammen mit mindestens einer Verbindung aus einer jeden der Gruppen (A) und (B) wesentlich bessere Effekte, als
•sie mit Einebnungsmitteln nur einer Type erhalten werden, und
zwar hinsichtlich des Grads des Glanzes und der/Einebnung·
und des, Stromdichtebereichs, in dem Glanz und Einebnung erhalten wird. .
AO98 2.5/10 3 3
Eine andere Type von Verbindungen, die oftmals nützliche Effekte
auf die galvanische Abscheidung von Kupfer ausüben, sofern diese Verbindungen mit mindestens einer Verbindung aus einer jeden
der Gruppen (A) und (B) oder mindestens einer- Verbindung aus
einer jeden der Gruppen (A), (B) und (C) verwendet werden, sind die Kondensationsprodukte aus einem Aldehyd, insbesondere
Formaldehyd, mit Naphthalinsulfonsäure, wie z.B. Methy—
len-bis-(2-naphthalinsulfonsäure) oder höher molekulare Kondensationsprodukte
dieser Art, worin beispielsweise drei oder allgemein η Naphthalinsulfonsäuregruppen durch zwei oder allgemein
n-1 Methylengruppen verbunden sind. Der Zusatz solcher Verbindungen, beispielsweise von. 0,6 bis 2,0 g/l des Natriumsalzes
von Methylen-bis-(2-naphthalinsulfonsäure) erhöht oft- ■
mais den Glanz und die .Glattheit von Kupferabscheidungen im
.hohen Stromdichtebereich, im Vergleich zu solchen Abscheidungen,
die aus Kupferbädern erhalten werden, die- nur Verbindungen aus den Gruppen (A) und (B) oder nur Verbindungen aus den Gruppen
(A), (B) und (C) enthalten, wie dies in den Beispielen 5,
6, 7» 8 und 10 zu sehen ist.
Eine weitere Type von Verbindμngen, die oftmals nützliche
Effekte ausüben, wenn sie gemeinsam mit Verbindungen der
beiden Gruppen (A) und (B) oder mit Verbindungen der drei Gruppen (A), (B) und (C) verwendet werden, sind Polyäther,
und zwar insbesondere die mit einem verhältnismäßig hohen Molekulargewicht. In verdünnten Konzentrationen von 0,001 g/l
bis 0,005 g/l erhöhen Polyäthylenglycole mit einem Molekulargewicht
von 1000 oder 6000 oder 20 000 oder Nonylphenolkondensate mit 100 Mol Äthylenoxid oder ein Blockpolymer aus
80 % Äthylenoxid und 20 % Propylenoxid mit einem annähernden
Molekulargewicht von 9000 die Einebnung beträchtlich, und zwar insbesondere im niederen Stromdichtebereich. Oftmals
wird hierdurch auch der Glanz und der glänzende Stromdichte—
bereich erhöht (siehe Beispiel 1, 2, 8 und 20).
409825/103
Die Polyätherzusätze können in Mengen von 0,005 bis 1 g/l
verwendet werden.
Die neuen erfindungsgemäßen Zusammensetzungen können in Kombination'
mit"wäßrigen sauren Kupferbädern verwendet werden. Typische
wäßrige saure Kupferbäder, die in Kombination mit den
neuen Zusätzen verwendet Werden können, sind: - -
SULFATBAD *
(1) CuSO4*5H2O , 30-300 g/l '-.-'
H2SO^. 10-250 g/l ' " '
Cl" ■ 0-150 mg/1
FLUOBORATBAD '"
(2) Cu(BF4)2 ' 50-600 g/l
1-300 g/l ;
H3BO3 - 0-30. g/l *
Cl" , 0-150 mg/1
Für die Abscheidung vom glänzendem, eingeebnetem Kupfer werden
220 g/l CuSO^-5H2O oder Cu(BF4)2, ungefähr 60 g/1 H2SO4
ode-r 3,5 g/l HBF4 und ungefähr 20 bis 80 mg/1 Chloridionen
bevorzugt. Für eine rasche Abscheidung, beispielsweise bei der Beschichtung von Druckwalzen, werden oftmals höhere Konzentrationen
der freien Säuren und/oder des Kupferfluoborats bevorzugt. Zum Beschichten von gedruckten Schaltungen, wobei
eine hohe Streukraft erforderlich ist, sind niedrige Metall— und hohe Säurekonzentrationen äußerst zweckmäßig.
Die galvanischen Abscheidungsbedingungen aus den oben erwähnten Bädern können beispielsweise wie folgt sein: Temperaturen
10 bis 600C (vorzugsweise 20 bis 400C); pH (elektrometrisch)
weniger als ungefähr 2,5; und Kathodenstromdichte 0,1 bis 50,0 A/dm2. ' .
■409825/1033
Die Substrate, die durch das erfindungsgemäße Verfahren galvanisch
beschichtet werden können, sind beispielsweise Eisenmetalle, wie z.B. Stahl, Eisen usw., die eine Oberflächenschicht aus Nickel oder Cyanidkupfer tragen; Zink und Zinklegierungen,
insbesondere Zinkdruckgußgegenstände, die eine Oberflächenschicht aus Cyanidkupfer oder Pyrophosphatkupfer
tragen; Nickel und Nickellegierungen mit anderen Metallen, wie z.B. Kobalt; Aluminium, einschließlich Aluminiumlegierungen, nach einer geeigneten Vorbehandlung; und nicht-leitende
Materialien, wie z.B. Kunststoffe, nach einer geeigneten Vorbehandlung usw.
Die Erfindung wird durch die folgenden Beispiele näher erläutert.
Die AbScheidungsversuche, die in den folgenden- Beispielen
erläutert sind, wurden, sofern nichts anderes angegeben ist, ■ in einer Hull-Zelle durchgeführt, die 250 ml von dem sauren
Kupfersulfatbad enthielten. Die Hull-Zelle gestattet es, das
Auftreten der Abscheidung innerhalb eines weiten Stromdichtebereichs zu beobachten. Um den Grad der Einebnung zu bestimmen,
wurden die polierten Messingplatten für diese Abscheidungsversuche mit einem 4/0-Schmiergelpapier auf einem horizontalen
Streifen von ungefähr 10 mm Breite zerkratzt. Die Abscheidungstemperatür,
die bei diesen Versuchen verwendet wurde, war Raumtemperatur (24- bis 30 C), sofern nichts anderes
angegeben ist. Die Stromdichte war 2 A und die Abscheidungs— zeit 10 Minuten. In allen Fällen wurde Luftrührung verwendet.
Die Amine sind in Tabelle I aufgeführt, und die SuIfo—
alkylsulfide sind in Tabelle II aufgeführt.
Für diese Versuche wurden zwei Typen von sauren Sulfatkupfer—
bädern verwendet, nämlich:
409825/1033
Type 1.) Übliches Sulfatkupferbad
— CuSD4.5H2O 220 g/l
H2SO4-- · 60 g/l
=■·'- . Chloridionen 0,06 g/l
und Type' 2.) Sulfatkupferbad hoher Streukraft
Bestandteil ' Menge
-CuSO4-5H2O 100 g/l
H2SO4 . 200 g/l
Chloridionen 0,06 g/l
Die oben angegebenen Chloridkonzentrationen beziehen sich auf den Zustand nach der Zugabe der verschiedenen Zusätze, . .
da verschiedene Amine der Tabelle I Chlorid enthalten.
.Die Härtewerte, die in den verschiedenen Beispielen angegebensind,
beziehen sich auf.die. Mikrohärte, die mit einem Diamantenpyramiden^Einpreßwerkzeug
unter einer Belastung von 50 g
(DPHcq) bei Kupferabscheidungeri mit einer Dicke von 0,025 mm
erhalten' wurd-en.
Beispiel 1 · : .
Aus einem sauren Sulfatkupferbad der Type 1 und in Gegenwart
von 1 g/l eines. Amins Nr, 1 wurde ein Kupferniederschlag erhalten,
der über den größten Teil des Stromdichtebereichs
matt, streifig und spröde war. Bei weiterem Zusatz von 0,015 g/l
Sulfoalkylsulfid würde von 2t5 A/dm aufwärts die Streifigkeit
und Sprödigkeit beseitigt, und außerdemwar der Niederschlag glänzend, aber nicht wesentlich eingeebnet. Der abschließende '
A0 98 2571Ü3
Zusatz von 0,002 g/l N-Äthylthioharnstoff ergab einen voll
glänzenden Niederschlag über den gesamten Stromdichtebereich der Hull-Zelle (von 0 bis ungefähr 12 A/dm ). Dieser Nieder-
ρ
schlag war duktil und von 0,5 A/dm aufwärts stark eingeebnet«
schlag war duktil und von 0,5 A/dm aufwärts stark eingeebnet«
In Anwesenheit kleiner Mengen Polyether können sehr gute glänzende und stark eingeebnete Kupferniederschläge bei verhältnismäßig
niedrigen Aminkonzentrationen erhalten werden. Beispielsweise ergibt ein Bad der Type Nr. 1, welches nur
0,2 bis 0,4 g/l Amin Nr. 1 plus 0,005 g/l eines Polyäthylenglycols
mit einem Molekulargewicht von 1000 enthält, in Anwesenheit von 0,015 g/l Sulfoalkylsulfid Nr. 1 und 0,0015 g/l
2-Mercaptothiazolin (2-Thiazolidinäthion) einen glänzenden
eingeebneten Kupferniederschlag, der weit besser ist als die -Niederschläge, die erhalten werden, wenn entweder das Amin
Nr. 1 oder das Polyäthylenglycol 1000 abwesend sind.
In einem Kupferbad der Type .1 ergab der Zusatz von 0,2 g/l
Amin Nr. 2 einen rötlich matten, teilweise streifigen Kupferniederschlag
über nahezu die gesamte Fläche der Hull-Zellen-Platte.-
Weiterer Zusatz von 0,015 s/l Sulfoalkylsulfid Nr. 1 beseitigte
die Streifigkeit und erzeugte einen leicht trüben, glänzenden Niederschlag über einen Teil der Hull-Zellen-Platte,-
Der weitere Zusatz von 0,0015 g/l N-Athylthioharnstoff erhöhte
stark den Glanz und den glänzenden Stromdichtebereich
und ergab eine starke Einebnung von ungefähr 2 A/dm aufwärts. Der Zusatz von 0,001 bis 0,005 g/l eines hochmolekularen
Polyäthers, wie z.B. HO(C2H4O)450H oder HO(C5H6O)15-
409825/1033
oder G9H19 - C^ - 0(G2H^O)100H, zusammen rait dem Ν—Äthylthioharnstoff erhöhte die Einebnung
■ ■" " · - ." 2
insbesondere im Bereich von 1 bis 2 A/dm wie auch den Glanz.
Wenn an Stelle des N-Äthylthioharnstoffe 0,004- g/l 2-Mercaptopyridin-N-oxid
oder 0,01 g/l Polyäthylenimin (MW 600)
oder 0,004 bis 0,02 g/l Janus-Grün-B oder Janus-Schwarz
oder 0,005 bis 0,015 g/l quaternisiertes 2-Methyl-5-vinylpyridinpolymer
mit einem annähernden Molelculargewicht von
40 000 dem Kupferbad zugegeben wurden, das 0,2 g/l Amin
Nr. 2 und 0,015 g/l Sulfoalkylsulfid Nr. 1 enthielt, dann
wurden ähnliche günstige Resultate erhalten. Die Kombination
aus 0,2'g/l bis 0,4- g/1 Amin Nr. 2, 0,015 g/l Sulfoalkylsulfid
Nr. 1, 0,Q11 g/l Janus-Grün-B und 0,0015 g/1 N-ithylthio-Jaarnstoff
ergibt in einem Kupferbad der Type 1 einen höheren
Grad von Glanz und einen weiteren glänzenden Stromdichtebe—
reich und eine weitere Einebnung, als sie erhalten wird, wenn entweder das Janus-Grün-B oder der N-Äthylthioharnstoff
weggelassen werden.
In einem Kupferbad der Type 1 ergab der Zusatz von 1 g/l
Amin Nr. 4- einen rötlich matten, teilweise streifigen Kupferniedersehlag.
Weiterer Zusatz von 0,015 g/1 Sulfoalkylsulfid Nr. 1 ergab glatte, glänzende Kupferniederschläge von ungefähr
1,2 A/dm aufwärts. Der abschließende. Zusatz von 0,001
g/l 2-Mercaptothiazolin (2-Thiazolidinäthion) und 0,001 g/l
2-Hydroxyäthyläthylenthioharnstoff (1-(2-Hydroxyäthyl)-2-imidazolidinthion)
ergab einen glänzenden Kupferniederschlag
über den gesamten Stromdichtebereich der Hull-Zelle mit sehr
starken Einebnungseigenschaften*
40 9 825/1Ö33
In einem Kupfersulfatead der Type 1 ergab der Zusatz von
0,8 g/l Amin Nr. 7 in einer Hull-Zelle einen Niederschlag, .
der von nahezu glänzend im sehr niedrigen Stromdichtebereich bis zu nahezu matt im Ende hoher Stromdichte der Hull—Zellen-
und
Platte reichte. Das Aussehen, die Härte /die Duktilität wurden stark durch die Anwesenheit oder Abwesenheit von Verunreinigungen
beeinflußt.
Der Zusatz von sehr kleinen Mengen Sulfoalkylsulfiden macht die Kupferniederschlage gleichförmiger und glänzender und
gestattet die Erzielung von besser reproduzierbaren DPH1-Q-Mikrohärtewerten
von ungefähr 155 bis 160. Bei Erhöhung der SuIfoalkylsulfidkonzentration wurde der Kupferniederschlag
-weicher, duktiler und häufig auch glänzender, und zwar zumindest
im Bereich von mittlerer bis hoher Stromdichte. Bei ungefähr 0,015 g/l Sulfoalkylsulfid neben der Anwesenheit
von 0,8 g/l Amin Nr. 7 spricht die Badlösung sehr günstig auf den Zusatz von Einebnungsmitteln an.
Beispielsweise wurden verhältnismäßig harte (DPH1-Q = 155 bis
165*), nicht besonders duktile, gleichförmig halbglänzende
Kupferniederschläge mit 0,0005 g/l ( = 0,5 mg/1) Sulfoalkylsulfid
Nr. 4 oder 0,0001 g/l Sulfoalkylsulfid Nr. 9 oder 0,0001 bis 0,0005 g/l Sulfoalkylsulfid Nr. 10 gemeinsam
mit 0,8 g/l Amin Nr. 7 erhalten.
Viel glänzendere, beträchtlich weichere (DPHc0 a 8° bis 85)
und sehr duktile Kupferniederschläge wurden in Gegenwart von
0,8 g/l Amin Ur. 7 bei hohen Konzentrationen von Sulfoalkylsulfiden,
beispielsweise bei 0,002 g/l Sulfoalkylsulfid ITr.4-
oder Nr. 5, bei 0,015 g/l (= 15 mg/1) Sulfoalkylsulfid Nr.8
oder Nr. 19, bei und über 0,0005 g/l Sulfoalkylsulfid Nr.9
■4 09 8 2 5V 10 33
- 35 - ■ '
und bei 0,002 g/l Sulfoalkylsulfid Nr. 10 erhalten.
Die harten Kupferniederschläge eignen sich besonders für Rotogravure-Verfahren, insbesondere wenn der Helioklischo—
graph-Gravierer verwendet wird, während die weichen, duktilen Niederschläge sich besonders für Elektroformung und
- insbesondere im Kupferbad der Type 2 mit hoher Streukraft zum Beschichten von gedruckten Schaltungsplatten eignen.
Bei einer Erhöhung der Sulfoalkylsulfidkonzentration auf .
ungefähr 0,015 g/l kann der Glanz des Kupferniederschlags im mittleren und"niedrigen Stromdichtebereich abnehmen, aber
das Bad kann sehr ungünstig auf den Zusatz von Einebnungsmit— teln, wie z.B. N-Äthylthioharnstoff (0,002 g/l), Ν,Ν'-Di-.äthylthioharnstoff
(0,002 g/l), 2-Mercaptothiazolin (0,0015
g/l) und 2-Mercaptopyridin-N-oxid (0,004 g/l.) ansprechen.
Beim Amin Nr. 7 und in Gegenwart dieser Einebnungsmittel
ergaben die Sulfoalkylsulfide Nr. 1, 4-, 5 und 9 besonders
gute glänzende eingeebnete Kupferniederschläge.
Wenn sie nur als Zusätze (in Abwesenheit von Aminen) verwendet,
wurden, dann zeigen die Sulfoalkylsulfide kaum irgendwelche: Vorteile. Beispielsweise zeigten die Sulfoalkylsulfide
Nr. 1, 8 oder 9 bei 0,001 und/oder 0,015 g/l einen Glanz nur in einem sehr schmalen Stromdichtebereich in der
Nähe des Endes hoher Stromdichte der Hull-Zellen-Platte
ρ
(ungefähr 12 A/dm ). Bei 0,06 oder 0,12 g/l verschwand auch dieser schmale glänzende Bereich. Außerdem war der Kupferniederschlag dunkel rötlich matt und zeigte eine schlechte Bedeckung im Bereich niedriger StrOmdichte.
(ungefähr 12 A/dm ). Bei 0,06 oder 0,12 g/l verschwand auch dieser schmale glänzende Bereich. Außerdem war der Kupferniederschlag dunkel rötlich matt und zeigte eine schlechte Bedeckung im Bereich niedriger StrOmdichte.
Das Sulfoalkylsulfid Nr. 10 zeigte bei 0,06, 0^12 und 0,5 g/l
einen etwas besseren Glanz auf der Hull-Zellen-Platte unter
ρ
ungefähr 1,2 A/dm . Es wurde jedoch kein günstiges Ansprechen
ungefähr 1,2 A/dm . Es wurde jedoch kein günstiges Ansprechen
4098 2 5/Ϊ033
durch den Zusatz von Einebnungsmitteln, wie z.B. N-Äthylthioharnstoff
oder 2-Mercaptothiazolin, festgestellt.
Diese Tatsachen beweisen, daß hier ein klarer Fall eines zweifachen Synergismus
zwischen den Aminen der Erfindung und den Sulfoalkylsulfiden und oftmals auch ein dreifacher Synergismus
zwischen Aminen, Sulfoalkylsulfiden und Einebnungsmitteln besteht.
In 4 1 Bad der Type 1 ergibt der Zusatz von 0,02 g/l Amin
Nr. 51 bei 380C und bei einer durchschnittlichen Stromdichte
2
von 5,5 A/dm Kupferniederschläge mit erhöhtem Glanz und "Härte (Mikrohärte ΏΈΉ.^ ungefähr 14-0) im Vergleich zu Niederschlägen, die aus einem Kupferbad erhalten werden, die keine Zusätze enthalten.
von 5,5 A/dm Kupferniederschläge mit erhöhtem Glanz und "Härte (Mikrohärte ΏΈΉ.^ ungefähr 14-0) im Vergleich zu Niederschlägen, die aus einem Kupferbad erhalten werden, die keine Zusätze enthalten.
Der Zusatz von 0,00007 g/l (= 0,07 mg/1) SuIfoalkylsulfid
Nr. 1 erhöht weiter den Glanz und die Mikrohärte auf ungefähr 150, aber der Niederschlag ist dann leicht streifig.
Der abschließende Zusatz von 2 g/l des Natriumsalzes von
Methylen-bis-(2-naphthalinsulfonsäure) oder ähnlichen Pormaldehyd/Naphthalinsulfonsäure-Kondensaten
erhöht die Gleich förmigkeit des Niederschlags, verringert die Dendritbildung und das Anbrennen am Ende hoher Stromdichte der gebogenen
Kathode, und außerdem bleibt die Mikrohärte mindestens mehrere Monate bei ungefähr I50.
Höhere Konzentrationen an Sulfoalkylsulfiden erzeugen weichere Niederschläge, die im allgemeinen im Bereich hoher
Stromdichte auch glänzend sind. Bei diesen höheren Konzentrationen an Sulfoalkylsulfiden ist es nützlich, die Konzen
tration an Amin Nr. 51 auf beispielsweise 0,08 g/l zu stei-
409825/1033
gern und die IPormaldehyd/Naphthalinsulfonsäure-Kondensate
wegzulassen. Unter diesen Bedingungen ergeben Bäder, die 0,015 g/l Sulfoalkylsulfide Nr. 1 oder 10, 12 oder 14 oder
1? enthalten, stark eingeebnete, matt glänzende bis voll glänzende Kupferniederschläge in der Hull-Zelle, wenn
0,001 g/l 2-Mercaptothiazolin und 0,001 g/l 2-Hydroxyäthyläthylen-thioharnstoff
zugegeben werden.
Glänzende,, eingeebnete Kupferniederschläge über einen sehr
weiten Stromdichtebereich werden erhalten, wenn sowohl schwefelhaltige:
als auch kationische Einebnungsmittel, wie z.B. 0,008 g/l Janus-Grün-B und 0,001 g/l 2-Mercaptothiazolin,
zu einem Kupferbad, der Type 1 zugegeben werden, das 0,05 g/l Amin Nr. 51 und 0,015 g/l Sulfoalkylsulfid.Nr. 1 enthält.
Beispiel 6 . .
Aus einem Kupferbad der Type 2 mit hoher Streukraft, welches
0,4 g/l Amin Nr. 16 enthält (hergestellt durch Erhitzen von
1 Mol Diphenylamin und 1 Mol 1,3-Propansulton auf ungefähr
2000C), werden sehr gleichförmige seidige duktile Kupferniederschläge
mit einer guten Rückseitenbedeckung der Hull—Zellen-Platte
erhalten. Der Zusatz von 0,0015 g/l (1,5 mg/1)
Sulfoalkylsulfid Nr. 1 machte die Niederschläge beträchtlich glänzender, wobei die sehr gute Rückseitenbedeckung
und Duktilität aufrechterhalten wurde. Der abschließende Zusatz Von 0,6 g/l des Natriumsalzes von Methylen-bis-(2-naphthaiinsulfonsäure)
steigerte weiter den Glanz und die Gleichförmigkeit des Kupferniederschlags.
In dem üblichen Kupferbad (Type 1) ergaben 2 g/l Amin Nr.
einen dunkel matten Hull-Zellen-Niederschlag mit Streifenbil-
409825/103 3
düngen im hohen Stromdichtebereich. Der weitere Zusatz von
0*015 g/l Sulfoalkylsulfid Nr. 1 ergab einen glatten Nieder-
schlag, der von 2,5 A/dm aufwärts glänzend war. Der abschließende Zusatz von 0,0015 g/l N,N1-Diathylthxoharnstoff
ergab einen glänzenden eingeebneten Kupferniederschlag.
In dem Kupferbad hoher Streukraft (Type. 2) ergaben 0,4 g/l
Amin Nr. 35 einen dunkel matten. Kupfemiederschlag in der
Hull-Zelle, Der weitere Zusatz von 0,6 g/l des Natriumsal—
zes von Methylen-bis-(2—naphthalinsulfonsäure) ergab einen
gleichförmigen seidigen Kupferniederschlag, und der abschliessende
Zusatz von 0,0015 g/1 Sulfoalkylsulfid Nr. 1 ergab einen gleichförmigen halbglänzenden Kupferniederschlag, der duktil
und ziemlich weich war (DPH1-Q = 104). Außerdem wurde eine
.vorzügliche Bedeckung der Rückseite der Hull-Zellen-Platte
erhalten. Diese Kombination eignet sich sehr gut für die Beschichtung der Innenseite von Löchern in gedruckten Schal- ·
tungen.
Aus" einem Kupferbad der Type 1 wurde ein dunkler, matter,
teilweise streifiger Kupferniederschlag in der Hull—Zelle in. Gegenwart von 0,16 g/l Amin Nr. 42 erhalten. Weiterer
Zusatz von 0,015 g/l Sulfoalkylsulfid Nr. 1 erzeugte einen glatten Kupferniederschlag mit ungleichförmigem Glanz. Bei
Zusatz von 0,6 g/l des Natriumsalzes von Methylen-bis-(2-Naphthalinsulfonsäure)
wurde im mittleren und hohen Stromdichtebereich ein guter Glanz erhalten. Diese Kombination
von Zusätzen spricht sehr gut auf den abschließenden Zusatz von 0,001 g/l N,N'-Diäthylthioharnstoff an, wodurch
voll glänzende, stark eingeebnete Kupferriederschläge erhalten wurden.
409825/1033
~ 39 -
In Abwesenheit von Methylen—bis-(2-naph.tialixisüifcnsävLre)
war entweder eine Erhöhung der Konzentration des Amins Nr.4-2
auf 1 bis 2 "g/l oder der Zusatz von 0,001 bis 0,005 g/1 eines
Polyäthers nötig, um einen glänzenden, eingeebneten Kupferniederschlag zu erzielen.
Aus einem Kupferbad der Type 1, welches 0,5 g/l Amin Nr. 32
enthielt, wurde eine Hull-Zellen-Platte erhalten, die von
2 '
ungefähr 1,2 A/dm aufwärts matt war. Bei Zusatz von 0,015
g/l Sulfoalkylsulfid Ur, 1 wurde ein glänzender duktiler
2 '
Kupferniederschlag über ungefähr 2,5 A/dm erhalten«
'Mit 2 g/l Amin-Nr. 2 als. einzigem Zusatz wurde die Hull-Zellen-Platte
unregelmäßig glänzend bis matt, hatte sie Streifen und war spröde. Bei weiterem Zusatz von 0,015 g/l Sulfoalkylsulfid
Nr. 1 wurde ein sehr glänzender duktiler Kupfernieder-
2 2
schlag von ungefähr 0,5 A/dm bis über 12 A/dm erhalten.
Der weitere Zusatz eines Einebnungsmittels ergab keine Gesamtverbesserung.
Die Amine Nr. 33 und Nr. 34- ergaben ähnliche
Resultate. ■
Beispiel 10 ·
In einem Kupferbad der Type 1 erzeugte 1 g/l Amin Nr. 11 einen
matten Kupferniederschlag in der Hull-Zelle. Der weitere Zusatz
von 0,015 g/l (15 mg/1) an Sulfoalkylsulfid Nr. 1 machte
2 den Niederschlag von ungefähr 3 A/dm aufv/ärts glänzend.
Dieser Elektrolyt spricht gut auf den Zusatz von 0,0015 g/l
des Einebnungsmittels 2-Mercaptothiazolin an, wobei glänzende eingeebnete Kupfernieäerschläge innerhalb eines weiten
Stromdichtebereichs erhalten werden.
409825/1033
In dem Kupferbad der Type 2, welches eine hohe Streukraft aufweist,
ergab der Zusatz von nur 0,2 g/l Amin Nr. 11, 0,6 g/l Methylen-bis-(2-naphthalinsulfonsäure)-natriumsalz und 0,0015
g/l (β 1,5 mg/1) Sulfoalkylsulfid Nr. 1 einen nahezu glänzen—
2 den Kupferniederschlag bis zu ungefähr 10 A/dm mit einer guten
Rückseitenbedeckung. Dieses Bad eignet sich deshalb sehr gut zum Beschichten von gedruckten Schaltungen.
Beispiel 11 '
Das Kupferbad der Type 1, welches 0,08 g/l des Amins Nr. 52
enthielt, ergab einen Kupferniederschlag, der bis zu ungefähr
0,2 A/dm nur halbglänzend und überhalb dieses Stromdichtebereichs dunkel matt war. Der Zusatz von 0,015 g/l Sulfoalkyl-"sulfid
Nr.. 1 ergab einen nahezu glänzenden Kupferniederschlag über den größten Teil der Hull-Zellen—Platte. Der abschlies—
sende Zusatz von Einebnungsmitteln, wie z.B. 0,002 g/l N-Ä'thylthioharnstoff
oder 0,0015 g/l 2-Mercaptothiazolin ergab .vol-l^/ 'stark eingeebnete Kupferniederschlage über nahezu
den gesamten Stromdichtebereich der Hull-Zelle.
Beispiel 12 ■ ■ ■ .
Der Zusatz von 0,1 g/l Amin Nr. 57 zu einem Kupferbad der Type 1 ergab einen Kupferniederschlag, der über ungefähr
1 A/dm stark streifig war, aber unterhalb dieses Stromdichtebereichs
einen mäßigen Glanz zeigte. Der weitere Zusatz von 0,015 g/l Sulfoalkylsulfid Nr. 1 erzeugte einen
ρ glänzenden duktilen Kupferniederschlag von ungefähr 1,2 A/dm
bis zum Ende der Hull-Zellen-Platte (mehr als 12 A/dm ). Der
abschließende Zusatz von 0,002 g/l N-Äthylthioharnstoff ergab einen stark eingeebneten Kupferniederschlag, der über
nahezu die gesamte Hull-Zellen—Platte glänzend war.
409825/1033
Das nicht-umgesetzte Amin Nr. 56 ergab weniger günstige Resultate
als sein Umsetzungsprodukt mit Propansulton, nämlich das Amin Nr. 57· Das Amin Nr. 56 zeigte weniger Cooperation mit
dem Sulfoalkylsulfid Nr. 1 und nahezu keine Cooperation mit N-Äthylthioharnstoff als drittem Zusatz.
Im Gegensatz zu dem sehr wirksamen Amin Nr. 57 zeigte das
entsprechende Amin, welches keine Benzylgruppen enthielt,
das ist also das Reaktionsprodukt aus 1 Mol Äthylendiamin mit 2 Mol Propansulton, bei O1 -I g/l, 0,5 g/l oder 2,0 g/l
keine Cooperation mit 0,015 g/l Sulfoalkylsulfid Nr. 1 oder
mit 0,01 bis 0,5 g/l Sulfoalkylsulfid Nr. 10, und zwar sowohl
in Abwesenheit als auch in Anwesenheit von 0,002 g/l
N-Äthylthioharnstoff. _ -
Beispiel 15 ' ·
In einem Kupferbad der Type 1 ergaben 8 g/l Amin Nr, 25
einen matten Kupferniederschlag überhalb ungefähr 0,4- A/dm .
Der Zusatz von 0,015 g/l Sulfoalkylsulfid Nr. 1 machte den
Kupferniederschlag von ungefähr 2,5 A/dm aufwärts glänzend.
Bei der abschließenden Zugabe von 0,0017 g/l 2-Mercaptothiazolin
wurde; ein vollständig glänzender Kupferniederschlag
ρ
von ungefähr 0,2 A/dm aufwärts mit starker Einebnung im hohen und mittleren Stromdichtebereich erhalten.. ,
von ungefähr 0,2 A/dm aufwärts mit starker Einebnung im hohen und mittleren Stromdichtebereich erhalten.. ,
Beispiel 14- · -
Wenn das Amin Nr. 25 in Beispiel 13 durch 20 g/l Amin Nr. 26
ersetzt wird, dann wird eine ähnliche Cooperation' mit Sulfoalkylsulfid
Nr. 1 und 2-Mercaptothiazolin beobachtet.
409825/1033
Beispiel 15 ■ ·
Die Naphthylamine Nr. 19 (1,25 g/l), Amin Nr. 20 (0,25 g/l) und Amin Nr. 21 (0,4 g/l) cooperierten gut mit 0,015 g/l
SuIfoalkylsulfid Nr. 1, wobei glänzende Kupferniederschläge
innerhalb eines großen Stromdichtebereichs aus Kupferbädern
der Type 1 erhalten wurden. Das Ansprechen auf weitere Zugaben von 2-Mercaptothiazolin war jedoch sehr sehwach.
In einem sauren Kupferbad der Type 1 ergab "der Zusatz von
0,4 g/l Amin Nr. 64 einen matten Kupfernlederschlag überhalb
ρ
ungefähr 0,8 A/dm . Der weitere Zusatz von 0,015 g/l Sulfoalkylsulfid Nr. 1 erzeugte einen glänzenden Niederschlag von ungefähr 3 A/dm aufwärts. Diese Kombination sprach nicht sehr gut auf den weiteren Zusatz von 0,0017 g/l 2-Mercaptothiazolin an.
ungefähr 0,8 A/dm . Der weitere Zusatz von 0,015 g/l Sulfoalkylsulfid Nr. 1 erzeugte einen glänzenden Niederschlag von ungefähr 3 A/dm aufwärts. Diese Kombination sprach nicht sehr gut auf den weiteren Zusatz von 0,0017 g/l 2-Mercaptothiazolin an.
In einem sauren Kupferbad der Type Ί ergab der Zusatz von 0,4 g/l Amin Nr. 65 einen halbglänzenden, ziemlich duktilen
Kupferniederschlag von ungefähr 0,6 bis 6,0 A/dm . Der Zusatz
von 0,015 g/l SuIf oalkylsulf id Nr. 1 erzeugte einen sehr duktilen,
gleichmäßig glänzenden Niederschlag von ungefähr
2 2
0,6 A/dm bis mehr als 12 A/dm . Diese Kombination sprach
nicht sehr gut auf den weiteren Zusatz von. 0,0017 g/l
2-Mercaptothiazolin an.
In einem Kupferbad der Type 2 ergab 0,1 g/l Amin Nr. 66 einen
matten und ziemlich spröden Niederschlag mit einer sehr guten
409825/1033
Rückseitenbedeckung der Hull—Zellen—Platte, Weiterer Zusatz
von 0,015 SA Sulfoalkylsulfid Nr. 1 ergab einen glänzenden
"-■■-■ 2
und viel duktileren Kupferniederschlag von ungefähr -3 A/dm,
aufwärts mit einer sehr guten Rückseitenbedeckung. Weiterer Zusatz von 0,001-g/l N-lthy!harnstoff hatte kaum einen nützlichen
Einfluß. .
Wenn an Stelle des Amins Nr. 66 von Beispiel 18 0,1 g/l
Amin Nr. 6? zu einem Kupferbad der Type 2 zugegeben wurden,
dann war der Kupferni'ederschlag matt und ziemlich spröde,
hatte aber eine sehr gute Rückseitenbedeckung. Weiterer Zusatz
von 0,015 g/l Sulfoalkylsulfid Nr. 1 ergab einen glän-"zenden
und viel duktileren Kupferniederschlag von ungefähr
2 ·
1,2 A/dm aufwärts, wobei er trotzdem noch eine gute Rückseitenbedeckung
erzielte. Der Zusatz von 0,001 g/l N-Äthyl- · thioharnstoff hatte einen Glanzeffekt, insbesondere im Bereich
niedriger Stromdichte, zur Folge. Es wurde jedoch eine
ziemlich schwache Einebnung erzielt.
In" einem.sauren Kupferbad der Type 1 erzeugte der Zusatz von
0,1 g/l Amin Nr. 68 einen ziemlich gleichförmigen matten Kupferniederschlag. Weiterer Zusatz "von 0,001 g/l Sulfoalkylsulfid Nr. 1 erzeugte einen halbglänzenden Kupferniederschlag
über nahezu den gesamten Stromdichtebereich der Hull-Zellen-Platte. Eine Erhöhung der Konzentration des
SuIfoalkyisulfids Nr. 1 auf 0,01 g/l ergab eine nahezu
glänzende Kupferplatte von ungefähr 1,2 A/dm aufwärts.
Wenn bei dieser höheren Alkylsulfidkonzentration 0,0015 g/l N-Äthylthioharnstoff zugegeben.wurden, dann nahm der Glanz
409825/1033
zu und wurde eine beträchtliche Einebnung von ungefähr
ρ
■1,6 A/dm aufwärts beobachtet. Die abschließende Zugabe von 0,001 g/l eines Polyethers der annähernden Formel H0(0,H60)^c(G2H^0)/|65(C,H60),l5H verbesserte weiter den Glanz und die Einebnung und erhöhte den Stromdichtebereich, innerhalb dem ein voller Glanz erhalten wurde. Ausserdem wurden dabei stark eingeebnete Niederschläge erzielt.
■1,6 A/dm aufwärts beobachtet. Die abschließende Zugabe von 0,001 g/l eines Polyethers der annähernden Formel H0(0,H60)^c(G2H^0)/|65(C,H60),l5H verbesserte weiter den Glanz und die Einebnung und erhöhte den Stromdichtebereich, innerhalb dem ein voller Glanz erhalten wurde. Ausserdem wurden dabei stark eingeebnete Niederschläge erzielt.
In der Folge werden die obigen Ergebnisse näher diskutiert.
In quaternären Ammoniumverbindungen, wie z.B. den Aminen
35 bis 58 oder 41 bis 46 ergibt die Anwesenheit einer aromatischen
Gruppe, vorzugsweise einer Benzylgruppe, offensichtlich die besten Zusätze.
In sekundären ader tertiären Aminen ergibt die· Anwesenheit
von zwei aromatischen Eingen Je Aminogruppe oder zwei oder mehr aromatischen Ringen Je Molekül die wirksamsten coope—
rierenden Amine. " '
Sehr wirksame Amine sind beispielsweise diejenigen, die Je'
Molekül fünf aromatische Ringe, von denen einige durch Benzylgruppe
η geliefert werden, und zwei oder mehr SuIfonsäuregruppen
enthalten (Amine 51 und 52). Jedoch zeigen auch primäre,
sekundäre oder tertiäre Amine mit nur einem Ring (Amine 22 bis 29, 32 bis 34) eine Cooperation mit SuIfoalkylsulfiden
und oftmals auch mit Einebnungsmitteln als dritten Zusätzen wie dies durch die Beispiele 9, 13 und 14 gezeigt wird. Häufig
sind höhere Konzentrationen von aromatischen Aminen mit einem Hing erforderlich, um die gewünschten Effekte zu erzielen,
als es bei Aminen der Fall ist, die zwei oder mehr aromatische Ringe enthalten. Beispielsweise sind 8 g/l
Amin Nr. 23 oder 20 g/l Amin Nr. 26 erforderlich.
409825/1033
Amine, die nur gesättigte Ringe enthalten, und zwar mit Ausnahme der Sulfolahringe (Amine 32 bis 34·) erfordern noch höhere
Konzentrationen für ein erfolgreiches Cooperieren mit ■
Sulfoalkylsulfiden, beispielsweise 4-0 g/l Amin Nr. 29oder
10 g/l Amin Nr. JO, abernur 2 g/l für die Sulfolanylderivate
(Amine 32 bis 34·)· '
Die Einführung einer SuIfonsäuregruppe in den aromatischen
Ring oder das Anknüpfen einer Sulfoalkylgruppe an das Aminostickstoffatom
ist im allgemeinen vorteilhaft. Vgl. beispielsweise
Amine 7, 12 oder 13 mit Amin Nr." 6, oder Amin Nr. 10
mit Amin Nr. 9, oder Amin '.Nr. 11 mit- Amin Nr. 8, oder Amin
Nr. 16 mit dem unzureichend badlöslichen Diphenylamin, oder Amin Nr. 18 mit Amin Nr. .17, oder Amin Nr. 31 mit Amin Nr. 30,
.oder Amin Nr. 54- mit Amin Nr. 53» oder Amin Nr. 57 mit Amin
Nr..56. Jedoch sind die Dibenzylamine (Amine Nr. 1 bis Nr. 5)
sehr wirksame cooperierende Amine, obwohl sie keine SuIfön- ·
säuregruppen enthalten. Diese kationischen Amine zeigen eine größere Toleranz für kationische Einebner, wie z.B. Janus-Grün-B,
Polyäthylenimine, PoIyvinylpyridine usw., als einige
Amine,' die Sulfonsauregruppen enthalten.
Unter den cooperierenden Sulfoalkylsulfiden sind diejenigen, die
zwei oder mehr.Atome an zweiwertigem Schwefel je Molekül
enthalten (Sulfoalkylsulfide 1 bis 5, 9 bis 11, 13, 14-,
18 bis 21), häufig wirksamer, und zwar insbesondere zur Erzielung
von stark eingeebneten Kupferniederschlägen nach Zusatz
eines Einebnungsmittels, als diejenigen, die nur ein
zweiwertiges Schwefelatom je Molekül enthalten (Nr. 6, 7, v
12, 15, 16, 17, 19). -
Das Sulfoalkylsulfid Nr* 8 eignet sich sehr zur Erzielung
eines duktilen^ weichen, ziemlich glänzenden, nicht-eingeebneten Kupferniederschlags. Es eignet sich aber weniger zur
4098 25/1033
Herstellung von harten.halbglänzenden Niederschlägen für
Rotogravure-Anwendungen oder zur Erzielung von glänzenden eingeebneten Kupferniederschlägen nach Zusatz von Einebnungsmitteln.
Andere Sulfoalkylsulfide, beispielsweise Nr. 1, 3, 4-, 5, 9
und 10, können für verschiedene Zwecke verwendet werden, wenn ihre Konzentrationen und wenn gegebenenfalls auch die
Konzentrationen der entsprechenden Amine verändert werden, wie es sich beispielsweise aus den Beispielen 4·, 5 und 7 ergibt.
Bei sehr niedrigen Konzentrationen, beispielsweise 0,05 bis 0,15 mg/1, ergeben Sulfoalkylsulfide (gev/isse Sulfoalkylsul-
_fide sogar bis zu 0,5 mg/1) in Kombination mit geeigneten
Aminen halbglänzende, verhältnismäßig harte Kupfernieder— schlage (Mikrohärte DPH^q von ungefähr 150 bis 165) mit
guter Härtebeständigkeit. Sie sind deshalb sehr geeignet für die rasche Abscheidung von- verhältnismäßig dicken Kupferniederschlägen
auf Rotogravure-Zylindern oder Ballard—Hülsen.
Die. Erhöhung der Sulfoalkylsulfidkonzentration auf beispielsweise
1,5 bis 2 mg/1 (für einige Sulfoalkylsulfide wie z.B. Nr. 9 sogar nur bis zu 0,5 mg/1) macht die Niederschläge
ohne wesentliche Beeinträchtigung der Streu- und Deckkraft weicher, duktiler und glänzender. Diese Bedingungen werden
für die Verwendung des Bads der Type 2 mit hoher Streukraft oder bei Fluoborat oder gemischten Säurebädern mit niedrigem
Metall- und hohem Säuregehalt empfohlen, wie z.B. beim Beschichten der Innenseiten der Löcher von gedruckten Schaltungen*
.....
Wenn eine maximale Streukraft nicht erforderlich ist, dann
kann die Sulfoalkylsulfidkonzentration weiter gesteigert wer-
409825/1033
den, beispielsweise auf 10 bis 20 mg/1, ohne daß der obere Grenzwert irgendwie-scharf einzuhalten wäre, denn das Kupferbad
spricht/am besten auf die weitere Zugabe von Einebnungs—
mitteln an, d.k. von diffusionsgesteuerten Inhibitoren", .welche
im allgemeinen ebenfalls eine gewisse Glanzwirkung besitzen.
' ._■■■--.
Die erforderlichen Konzentrationen der Amine können beträchtlich verringert werden und/oder andere nützliche Effekte können
erhalten werden, wenn neben Amin und Sulfoalkylsulfid und
gegebenenfalls Einebner, auch Kondensationsprodukte aus Aldehyden und Naphthalinsulfonsäuren, beispielsweise Methylen-bis-(2-naphthalinsu.lfonsäur.e),
oder deren Salze und/oder kleine Mengen Polyäther zugegeben werden (vgl. Beispiele 1, 2, 5» 6,
.7, 8, 10 und 20).
409825/1033
Claims (5)
- PatentansprücheWäßriges saures galvanisches Kupferbad, dadurch gekennzeichnet, daß es mindestens eine Verbindung aus einer ^eden der folgenden Gruppen enthält:(A) badlösliche Arylamine, Aralkylamine, Alkaryl— ■ amine und cycloaliphatische Amine; und(B) Sulfoalkylsulfidverbindungen, welche die Gruppierung -S-AIk-SCUM enthalten, worin M für Λ Grammäquivalent eines Kations steht und -Alk— für eine zweiwertige aliphatisch^ Kohlenwasserstoff gruppe mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen steht.
- 2. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das cooperierende Amin einen oder zwei aromatische oder cycloaliphatische Ringe je Aminogruppe enthält.
- J. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das cooperierende Amin mindestens eine Aralkylgruppe $e Amino— gruppe enthält.
- 4-, Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das cooperierende Amin ein Reaktionsprodukt aus einem aromatischen, alkylaromatischen, cycloaliphatisehen oder araliphatischen Amin mit 1,3-Propan- oder 1,4— oder 1,3-Butansulton ist.
- 5. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das cooperierende Amin ein Reaktionsprodukt aus einem aromatischen, alkylaromatisch'en, araliphatischen oder cycloaliphatischen Amin mit einem Halogenalkansulfonat ist.409825/ 10336. Bad nach. Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das cooperierende Amin durch Verbinden von zwei aromatischen, araliphatischen oder alkylaromatischen Aminen durch 1 oder 2 zweiwertige, dreiwertige oder vierwertige Radikale gebildet ist. .--..■■■-'■■- ".■-■."".--7. Bad nach Anspruch 4-, dadurch gekennzeichnet, daß das cooperierende Amin 4· bis 8 aromatische Ringe, 2 bis 5 Aminostickstoffatome und 1 bis 6 SuIfonsäuregruppen je Molekül enthält. ■ " . ■ .8. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das cooperierende Amin zwei Benzylgruppen je Molekül enthält.-9. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das cooperierende Amin zwei Benzylgruppen und 1 oder mehr SuIfonsäuregruppen je Molekül enthält.10. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das cycloaliphatische Amin "eine Sulfonylgruppe im cycloaliphatische^ Rins enthält. ' ,11» Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet," daß das cooperierende SuIfoalkyl'sulfid ein Disulfid ist, das mindestens eine Sulfoalkylgruppe trägt. .12. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das cooperierende Sulfoalkylsulfid ein Reaktionsprodukt aus
einem Alkalimetallthiosulfat mit 1 ,J'-Propansulton, 1,blöder 1,5-Butansuiton oder einem Halogenalkansülfonat ist.13· Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es
zusätzlich eine Komponente (G) entnält, die ein diffusions-0 9 8 2 5/1033gesteuerter Inhibitor ist, welcher als Einebnungsmittel wirkt.lh. Bad nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Inhibitor mindestens eine Gruppe der Formel-C=N- oder ein Tautomer davon, nämlich eineSH
Gruppe der Formel - C - NH - enthält.15· Bad nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet,, daß der Inhibitor aus einer kationischen organischen Verbindung mit einem Molekulargewicht von mehr als 500 besteht, die aus Phenazinazofarbstoffen, Polyäthyleniminen, alkylierten Polyäthyleniminen, Polyvinylpyridin, Polyvinylalkylpyridinen und derenlQuaternisierungsprodukten besteht.16. Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es auch Kondensationsprodukte von Formaldehyd und Naphthalinsulfonsäure umfaßt.17· . Bad nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es auch Polyäther mit mindestens 5. Ätheratomen je Molekül und mit Molekulargewichten zwischen 300 und 5 000 000 umfaßt.IW6409825/1033
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