DE3324933C2 - Keramische Mehrschicht-Leiterplatte - Google Patents
Keramische Mehrschicht-LeiterplatteInfo
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Abstract
Bei einer keramischen Mehrschicht-Leiterplatte, bei der elektrisch leitende Muster und keramische isolierende Schichten abwechselnd aufeinandergestapelt sind, besteht jede keramische isolierende Schicht aus einem Sinterprodukt mit einem oder mehreren Arten Siliziumoxid und einem Glas. Da das Glas einen Erweichungspunkt unter dem Schmelzpunkt des Materials der elektrisch leitenden Muster aufweist, wird das Sintern der keramischen Mehrschicht-Platinen bei niedrigen Temperaturen ermöglicht. Das Siliziumoxid dient zur Reduktion der Dielektrizitätskonstante jeder keramischen isolierenden Schicht.
Description
Die Erfindung betrifft eine keramische Mehrschicht-Leiterplatte oder eine keramische Mehrschicht-Platine
mit keramischen Substraten mit einer niedrigen Dielektrizitätskonstante und mit Leitern mit einem niedrigen
spezifischen Widerstand, und sie betrifft insbesondere ein keramisches Substrat zum Aufbringen von LSI-Schaltkreisen.
Um mit einer Verschiebung von elektronischen Schaltkreisen hin zu höherer Packungsdichte Schritt zu halten,
kamen in großem Umfang Mehrschicht-Platinen zur Anwendung, wobei die Halbleiterbauelemente auf keramischen Substraten aufgebracht werden. Als solche keramischen Substrate fanden bislang aus Gesichtspunkten
der thermischen Leitfähigkeit ihrer mechanischen Festigkeit der elektrischen Isolationseigenschaft usw. Aluminiumoxid-Keramiken Verwendung.
Aluminiumc-id-Keramiken weisen relative Dielektrizitätskonstanten in der Größenordnung von ungefähr 9
auf und werden durch Sintern bei hohen Temperaturen von ungefähr 1500° C bis 1650° C hergestellt.
Es ist bekannt, daß die relative Dielektrizitätskonstante eines Keramiksubstrats die Signalübertragungsgeschwindigkeit eines elektronischen Schaltkreises beeinflußt Dieser Zusammenhang wird durch folgende Gleichung wiedergegeben:
ld=\fer ■ l/c
konstante eines Keramiksubstrates, / den Übertragungsabstand der elektrischen Signale und c die Lichtgeschwindigkeit. Eine große relative Dielektrizitätskonstante bedeutet eine Verzögerung in der Übertragung von
Signalen entsprechend der Größe der relativen Dielektrizitätskonstante. Demgemäß ist die Tatsache, daß
Aluminiumoxid-Keramiken große relative Dielektrizitätskonstanten aufweisen, ein Nachteil für Aluminiumoxid-Keramik-Substrate. Die Tatsache, daß Aluminiumoxid-Keramiken hohe Sintertemperaturen erfordern,
schränkt die anwendbaren Leitermaterialien auf Materialien wie Wolfram, Molybdän und ähnliche, die hohe
Schmelzpunkte aufweisen, ein, weil die Aluminiumoxid-Keramik-Substrate und die auf den Substraten ausgebildeten Leiterbahnkreise zusammen dem Sintervorgang ausgesetzt werden. Sowohl Wolfram als auch Molybdän
als Leitermaterialien sind sinterbeständig, aber sie weisen hohe spezifische Widerstände in der Größenordnung
von 52 bis 5,5 μΩ · cm bei Raumtemperatur auf. Werden in gedruckten Schaltungen die Schaltkreise in hoher
Packungsdichte ausgeführt, wird eine geringere Breite der Leitungen erforderlich, wodurch die Leitungswiderstände der Schaltkreise größer werden, was zu einem Anwachsen des Spannungsabfalls und zu einer Verzögerung der Signalübertragungsgeschwindigkeit führt. Daher 'st die Verwendung dieser Materialien mit hohen
spezifischen Widerstandswerten als Leitermaterialien nicht günstig.
unvorteilhaft bei der Übertragung von Schaltkrcissignalen mit hoher Geschwindigkeit.
Oie Aufgabe der Erfindung liegt darin, eine Mehrschicht-Leiterplatte aus einem keramischen Substratmaterial
anzugeben, das eine kleine relative Dielektrizitätskonstante aufweist und auf einer relativ niedrigen Temperatur
gesintert werden kann, wobei sein thermischer Ausdehnungskoeffizient gezielt einzustellen und zu verändern ist,
ohne damit gleichzeitig eine Veränderung der Dielektrizitätskonstante zu bedingen.
Diese Aufgabe wird durch die im Patentanspruch 1 angegebene Erfindung gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen sind den Ansprüchen 2 bis 5 zu entnehmen.
Als keramische Materialien sind solche mit kleinen relativen Dielektrizitätskonstanten erforderlich. Es ist
bekannt, daß zwischen der relativen Dielektrizitätskonstante fr und der Verzögerung im elektrischen Signal tj
folgende Gleichung gilt:
In obiger Gleichung bezeichnet U eine Übertragungsverzögerung des elektrischen Signals, er die relative
Dielektrizitätskonstante eines Materials, / den Übertragungsabstand von Signalen und c die Lichtgeschwindigkeit
Demgemäß kann durch die Wahl von Materialien mit kleinen relativen Dielektrizitätskonstanten die
Übertragungsgeschwindigkeit von Signalen erhöht werden.
Von den anorganischen Materialien weist Siliziumoxid die kleinste relative Dielektrizitätskonstante von 3,8
auf. Siliziumoxid selbst kann bei einer Temperatur unter 14000C nicht gesintert werden. Andererseits sind Silber
mit einem spezifischen Durchgangswiderstand von 1,6 μΩ · cm, Kupfer mit einem spezifischen Durchgangswiderstand
von 1,7 μΩ · cm und Gold mit einem spezifischen Durchgangswiderstand von 2,2 μΩ · cm Leitermaterialien
mit jeweils hervorragender elektrischer Leitfähigkeit und sie schmelzen bei 961°C, 10830C bzw. 10630C.
Die Erfinder äer vorliegenden Anmeldung waren der Ansicht, daß, um eines dieser Leitermaterialien in gedruck- ι ο
ten Schaltungen zu verwenden, Keramikmaterialien ausgewählt werden müssen, die bei Temperaturen unter
dem Schmelzpunkt des Leitermaterials gesintert werden können. Wenn Keramikmaterialien nicht bei so niedrigen
Temperaturen gesintert werden können, schmelzen die Leiterbahnen eines Schaltkreismusters, die vorher
mittels der Drucktechnik auf einem Substrat ausgebildet wurden während der Sinterzeit der Keramikmaterialien,
wodurch ein Durchbrennen der Leitungen oder ein Kurzschluß verursacht werden kann. Daher wird eine
Technik benötigt in der die kleine relative Dielektrizitätskonstante von Siliziumoxid genutzt wird und in der
gleichzeitig Sintern auf niedrigen Temperaturen möglich ist
In dieser Erfindung wird ein Weg gewählt, nach dem ein Glas mit einem niedrigen Erweichungspunkt zum
Siliziumoxid hinzugefügt und der Sintervorgang vom Glas bewirkt wird. Gemäß dieser Erfindung kann beliebiges
Glas verwendet werden, wenn es chemisch stabil ist und einen Erweichungspunkt unter dem Schmelzpunkt
eines Materials für ein elektrisch leitendes Muster aufweist. Besonders günstig sind Gläser r,--M. Erweichungspunkten
von 105ܰC oder darunter, und unter diese Giäser fäiit z. B. Borsiiicatgias, Bariumborsiiieatqias, Magnesiumborsiiicatglas,
Aluminiumphosphatglas und ähnliche. Es sind auch Gläser mit niedrigem Erweichungspunkt
verwendbar, die BIei-(II)-oxid (Bleiglätte) enthalten. Darüber hinaus können zwei oder mehr Arten von Gläsern
mit niedrigem Erweichungspunkt in Verbindung verwendet werden. Natürlich wird bei der Auswahl des Glases
die Höhe der relativen Dielektrizitätskonstante des Glases berücksichtigt.
Das elektrisch leitende Material für die elektrisch leitenden Muster ist vorzugsweise eines der Metalle Gold,
Silber und Kupfer oder deren Legierungen.
Rohstoffe für Siliziumoxide sind z. B. Quarz, Quarzglas, Tridymit und Cristobalit. Werden wenigstens zwei
Arten von sich in der Kristallform unterscheidenden Siliziumoxiden zusammen verwendet, finde;: als Materia-Iien,
die bei Raumtemperatur stabil sind, Quarzglas, «-Quarz, «-Cristobalit, A-Tridymit und ähnliche und als
Materialien, die bei hohen Temperaturen stabil sind, _tf-Quarz, /-Cristobalit, /9-Tridymit und ähnliche Anwendung.
Bei gemeinsamer Verwendung von wenigstens zwei Arten von sich in der Kristallform unterscheidenden
Siliziumoxiden kann der thermische Ausdehnungskoeffizient des sich ergebenden keramischen Materials gesteuert
werden. Ist die Zusammensetzung des keramischen Materials festgelegt, Kann der thermische Ausdehnungskoeffizient
des keramischen Materials im allgemeinen annähernd abgeschätzt werden. Bei gemeinsamer
Verwendung von wenigstens zwei Arten von sich in der Kristallform unterscheidenden Siliziumoxiden kann der
thermische Ausdehnungskoeffizient der sich ergebenden Keramik wahlweise im Bereich von 1 χ 10-6/°C bis
2Ox 10-'/0C z. B. im Temperaturbereich von Raumtemperatür bis 4000C festgeiegt werden. Der Grund d^für,
daß man in der Lage ist, den thermischen Ausdehnungskoeffizienten zu steuern, liegt darin, daß jede Kristallform
des Siliziumoxids einen verschiedenen thermischen Ausdehnungskoeffizienten aufweist. Quarzglas hat einen
thermischen Ausdehnungskoeffizienten von 0,5 χ 10-ö/°C und Quarz hat einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten
von 12 bis 15 χ 10-6/°C. Cristobaiit hat im Temperaturbereich von Raumtemperatur bis 2000C einen
thermischen Ausdehnungskoeffizienten von 1Ox 10-VC und bei Hinzutreten einer anomalen thermischen
Ausdehnung, die bei ungefähr 2000C in Verbindung mit einem Phasenübergang von Λ-Cristobalit ζπ/7-Cristobalit
auftritt, einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten von 23 χ 10-VC im Temperaturbereich von Raumtemperatur
bis 4000C. Tridymit weist einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten von 23 χ 10"V0C im selben
Temperaturbereich auf, wenn eine thermische Ausdehnung hinzukommt, die in Verbindung mit einem Phasenübergang
von einer «-Kristallform zu einer/?-Kristallform auftritt. Die thermischen Ausdehnungskoeffizienten
dieser Siliziumoxidarten sind in Tabelle 1 zusammengefaßt
Siliziumoxidart Thermischer Ai'.Jrhnungskoeffizieni( χ 10-°/°C)
25°Cbis2OO°C 25° C bis 400° C
| 0.5 | 0.6 |
| 12 bis 15 | 12 bis !5 |
| 10 | 23 |
| 10 | 23 |
Quarzglas
Quarz
Cristobalit
Tridymit 10 23
Daher kann durch Vermischen von wenigstens zwei Arten von sich in ihrer Kristallform untersche'denden
Siliziumoxiden der thermische Ausdehnungskoeffizient des sich ergebenden keramischen Materials wahlweise
gesteuert werden.
Um eine Mehrschicht-Platine herzustellen, wird weiterhin ein elektrisch leitendes Material für die Leiterbah- es
nen auf jedem isolierenden Keramiksubstrat und ein elektrisch leitendes Material für die Durchgangslöcher zur
Verbindung jeder Leiterbahn benötigt. Silber, Kupfer und Gold, die als Leitermaterialien Verwendung finden,
weisen thermische Ausdehnungskoeffizienten von 1,91 χ 10-V0C. 17,0x 10~VC bzw. 14.2 χ 10-VC auf. Falls
das keramische Substrat einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten hai, der sich zu stark von denen de
obigen Leitermaterialien unterscheidet, treten während des Abkühlschrittes nach dem Sintern Risse der Kera
mik und/oder ein Abreißen der Leiterbahnen auf, was für die Mehrschicht-Platinc nachteilig wird. 1Jm dies<
Nachteile zu überwinden, ist es notwendig, die thermischen Ausdehnungskoeffizienten des keramischen Materi
als wahlweise einstellen zu können. Gemäß dieser Erfindung kann der thermische Ausdehnungskoeffizient de
keramischen Materials stark an die der elektrischen Leitermaterialien angenähert werden.
Was die Teilchengrößen der keramischen Ausgangsmaterialien anlangt, so führt ein kleinerer Teilchendurch
messer zu einem keramischen Substrat mit einer höheren Dichte und mit einer geringeren Oberflächenuneben
heit. Idealerweise werden keramische Alisgangsmaterialien mit Teilchendurchmessern von 10 μπι oder kleine
ίο und mit Teilchengrößen von 325 Mesh oder kleiner verwendet.
Das Mischungsverhältnis zwischen Siliziumoxid und Glas ist nicht kritisch, mit der Ausnahme, daß ein zi
geringer Glasanteil Siliziumoxid nicht verbinden kann. Daher wird ein Siliziumoxidanteil von 5 bis 95 Gew.-°/(
und idealerweise von 20 bis 80 Gew.-% angestrebt.
Als nächstes wird ein Beispiel für einen Herstellungsprozeß einer keramischen Mehrschicht-Platine beschrie ben, die das Endziel der Erfindung ist.
Als nächstes wird ein Beispiel für einen Herstellungsprozeß einer keramischen Mehrschicht-Platine beschrie ben, die das Endziel der Erfindung ist.
Zuerst werden ein Siliziumoxidpulver und ein Glaspulver in einem vorgegebenen Mischungsverhältnis abge
wogen. Daraufhin werden ein Bindemittel, ein Weichmacher und ein Lösungsmittel beigegeben, um eine breiige
Masse auszubilden. Als Bindemittel finden Polyvinylbutyralharz, Polymethacrylatharz oder ähnliches Verwendung.
Als Weichmacher u/irH Dioctylphthala! verwendet. Als Lösungsmittel finden Methanol, Trichloräthy'cn
Toluol oder ähnliches Verwendung. Die breiige Masse wird nach der Ziehklingen-Methode (Doctor-Bladc
Method) auf einen Harzfilm, z. B. einen Polyester-Harzfilm, in einer Plattenform mit entsprechender Dicke (ζ. Β
0,1 bis 1,0 mm) aufgestrichen. Durch den Entzug des Lösungsmittels über einen Trockenprozeß erhält man eine
grüne (ungesinterte oder ungebundene) keramische Platte mit gewünschter Dicke. An vorgegebenen Positioner
der grünen keramischen Platte werden Löcher mit gegebenem Durchmesser durch Stanzen, Bohren odei
ähnlichem hergestellt. Weiterhin wird auf die Oberfläche der Platte eine Leiterpaste aus Silber, Gold oder derer
Legierungen nach vorgegebenen Mustern aufgedruckt. Die Paste wird entsprechend der Druckmethode auch in
die Löcher gefüllt, um Duchgangslöcher auszubilden, die später die gestapelten grünen Platten durchdringen
und die Leiterbahnmuster verbinden. Die grüne Platte, in der Leiter''3hnmuster und Durchgangslöcher ausgebildet
wurden, wird nach der Multilayer-Technik gestapelt und dann gesintert. Beim Sintern grüner Platten, auf die
ein Kupferleiter aufgedruckt wurde, findet eine Formiergas-Atmosphäre, die eine Mischung aus Stickstoff und
Wasserstoff ist, Verwendung. Diesem Gas wird Wasser als Oxidationsquelle für das Bindemittel, den Weichmacher
und ähnliches beigegeben. Beim Sintern grüner Platten, auf die ein Silber- oder Gok/ieiter aufgedruckt
wurde, kann Stickstoffgas oder eine Luftatmosphäre Verwendung finden. Diese Atmosphäre wird verwendet,
weil sowohl Silber als auch Gold nicht oxidiert werden. Die Sintertemperatur schwankt abhängig von der
Zusammensetzung des verwendeten Glases, der Teilchengrößen der Ausgangsmaterialien und der Art des
Leitermaterials; es wird jedoch angestrebt, daß sie bei wenigstens 900°C und nicht über 10500C liegt Wenn die
Sintertemperatur über 1050°C hinausgeht, schmilzt Kupfer, und es treten Leitungsdurchbrand und Kurzschluß
auf. Der eigentliche Sintervorgang wird in wenigen Minuten bis zu etwa einer Stunde abgeschlossen, obwohl
sich die Zeitdauer des Sintervorgangs mit der Sintertemperatur verändert. Idealerweise beträgt die Sintertemperatur
800° bis 900"C für Silber und 800° bis 1000°C für Gold. Findet ein tunnelförmiger Ofen für das Sintern
Verwendung, treten unabhängig von der Art des Leiters Fäile auf, in denen die gesamte Sinterzeit von der
Beschickung bis zur Entladung des Ofens 24 Stunden beträgt.
Mit obigem Prozeß wird eine keramische Mehrschicht-Platine hergestellt, die elektrisch leitende Durchgangslöcher und Leiterbahnen zwischen den Schichten aufweist.
Die anliegende Zeichnung zeigt eine perspektivische, teilweise im Schnitt dargestellte Ansicht einer keramischen
Mehrschicht-Platine nach einer Ausführungsform dieser Erfindung.
Im folgenden werden Beispiele dieser Erfindung dargestellt. In jedem Beispiel bezeichnet das Wort »Anteile«
die Gewichtsanteile und das Zeichen »%« Gewichtsprozent.
Die Zusammensetzung und die charakteristischen Merkmale aller als Ausgangsmaterial verwendeten Gläser
so mit niedrigem Erweichungspunkt sind in Tabelle 2 gezeigt. In Tabelle 3 sind (a) das Mischungsverhältnis der
Ausgangsmaterirüen jedes keramischen Materials, nämlich eines Glases mit niedrigem Erweichungspunkt und
zweier oder dreier Arten von Siliziumoxid, die sich in ihrer Kristallform unterscheiden, (b) die Sintertemperatur
jeder Mischung und (c) die charakteristischen Merkmale jedes Sinterprodukts gezeigt Wie aus Tabelle 3
deutlich wird, liegen die relativen Dielektrizitätskonstanten der erhaltenen Sinterprodukte alle zwischen 4,0 und
5,0 und unterscheiden sich nicht viel voneinander, wohingegen ihre thermischen Ausdehnungskoeffizienten in
einem großen Bereich zwischen 3,2 χ 10-VC und 103 x 10-VC liegen. Der thermische Ausdehnungskoeffizient
eines gesinterten Keramikmaterials kann durch die Veränderung des Mischungsverhältnisses von Glas und
Siliziumoxid sowie der Arten der sich in ihrer Kristallform unterscheidenden Siliziumoxide eingestellt werden.
| Tabelle | 2 | Zusammensetzung ((ic w 11.1Ii(S-11Zu) | AI2O, | K2O | N2O | MgO | Bi2O1 | 1IaO | IM» ι | AII1O4 | Relative |
| No. | SiO2 | 20-25 | 10-15 | 5~ 15 | Dielektrizitäts | ||||||
| 40-50 | 15-20 | 5-10 | — | 30-50 | _ | konstante | |||||
| ] | 20-30 | 15-20 | 5-10 | — | 40-60 | _ | (bei 1 MHz) | ||||
| 2 | 20-30 | 10-20 | _ | _ | — | 5-15 | 20-25 | 30-50 | _ | 5.0 - 6,0 | |
| 3 | 15-30 | 15-23 | — | — | — | 5-15 | 25-30 | 20-30 | 4,5 - 5,5 | ||
| 4 | 20-30 | 5-15 | — | — | — | — | 7,5-15 | 25-40 | _ | 4,0 - 5,0 | |
| 5 | 35-50 | 5-15 | — | _ | — | — | 5-15 | 20-30 | 4,8-5,5 | ||
| 6 | 40-60 | — | — | — | — | — | — | 20-40 | 20-40 | 5,0-5,7 | |
| 7 | 20-40 | 0-2 | 0-0.1 | 0-0,1 | — | — | — | 20-30 | _ | 4,1-4,5 | |
| 8 | 60-80 | — | 1-4.5 | 1-4,5 | — | _ | — | 20-40 | 20-40 | 4,5 - 5,3 | |
| 9 | 30-50 | 15-20 | — | _ | 5-10 | — | — | 30-50 | _ | 4,0 - 5,0 | |
| 10 | 30-40 | 5-15 | 1-3 | 1-3 | 2,5-7,5 | — | - | 30-50 | - | 4,0 - 5,0 | |
| Il | 35-45 | — | — | — | 4,0-5,0 | ||||||
| 12 | 2 (Fortsetzung) | Zusammensetzung (Gewichts-%) | — | — | — | Charakteristische Merkmale | 4,0-5,0 | ||||
| Tabelle | MgF2 | 1.5-5 | _ | Erweichungs | 4,6 - 5,0 | ||||||
| No. | punkt ("C) | ||||||||||
| _ | 900-1000 | ||||||||||
| _ | 700 - 800 | ||||||||||
| 1 | — | 700-800 | |||||||||
| 2 | — | 650-740 | |||||||||
| 3 | — | 750-800 | |||||||||
| 4 | — | 700-800 | |||||||||
| 5 | — | 650-750 | |||||||||
| 6 | 5-15 | 650-750 | |||||||||
| 7 | — | 700-800 | |||||||||
| 8 | — | 730 - 820 | |||||||||
| 9 | _ | 700-800 | |||||||||
| 10 | 650-750 | ||||||||||
| 11 | |||||||||||
| 12 |
| Tabelle 3 | Mischungsverhältnis (Gewiehts- | % | Siliziumoxid | %) | 33 24 | 933 | Sinter | Charakteristische Merkmale | Keramik | |
| No. | Glasmit | 60 | temperatur | der gesinterten | Thermischer | |||||
| niedrigen | 60 | ("C) | Relative | Ausdehnungs | ||||||
| 60 | Dielek | koeffizient | ||||||||
| 1 | 60 | Name | trizitäts | (XlO-V0C) | ||||||
| 5 | Erweichungs | 60 | Quarzglas | % | konstante | 32 | ||||
| punkt | 40 | Quarzglas | 35 | 800 | 4,0 | 4,0 | ||||
| 14 | Glas Nr. | 40 | Quarzglas | 30 | Name | % | 800 | 4.2 | 55 | |
| IO | 15 | 4 | 50 | Quarzglas | 20 | Quarz | 5 | 800 | 4,5 | 7,0 |
| 16 | 4 | 50 | Quarzglas | 10 | Quarz | 10 | 800 | 45 | 7,8 | |
| 17 | 4 | 70 | Quarzglas | 5 | Quarz | 20 | 800 | 5,0 | 6.3 | |
| 18 | 4 | 80 | Quarzglas | 30 | Quarz | 30 | 900 | 4.2 | 9,2 | |
| 19 | 4 | 90 | Quarzglas | 10 | Quarz | 35 | 900 | 4,8 | 5,2 | |
| 15 | 20 | 4 | 40 | Quarzglas | 30 | Quarz | 30 | 850 | 4,5 | 8,0 |
| 21 | 4 | 40 | Oii!ir7ojac | 10 | Quarz | 50 | 850 | 4,6 |
ς 1
^t» |
|
| 22 | 7 | 40 | Quarzglas | 15 | Quarz | 20 | 800 | 5,0 | 4,8 | |
| 23 | 7 | 40 | Quarzglas | 10 | Quarz | 40 | 800 | 5.0 | 45 | |
| 24 | 7 | 40 | Quarzglas | 5 |
Γ>ιιαι"»
^ UM· U |
15 | 800 | 5,0 | 35 | |
| 20 | 25 | 7 | 60 | Quarzglas | 50 | Quarz | 10 | 850 | 4.0 | 45 |
| 26 | 7 | 80 | Quarzglas | 40 | Quarz | 5 | 850 | 4,3 | 6,4 | |
| 27 | 12 | 90 | Quarzglas | 30 | Quarz | 10 | 850 | 4,6 | 85 | |
| 28 | 12 | 60 | Quarzglas | 20 | Quarz | 20 | 850 | 4,8 | 9,0 | |
| 29 | 12 | 60 | Quarzglas | 10 | Quarz | 30 | 850 | 4,8 | 6,0 | |
| 25 | 30 | 12 | 60 | Quarzglas | 20 | Quarz | 40 | 800 | 4.7 | 6.2 |
| 31 | 12 | 60 | Quarzglas | 5 | Quarz | 50 | 800 | 4.7 | 6,1 | |
| 32 | 12 | 60 | Quarzglas | 5 | Quarz | 20 | 800 | 4.5 | 53 | |
| 33 | 12 | 60 | Quarzglas | 20 | Quarz | 15 | 800 | 4,6 | 63 | |
| 34 | 12 | 60 | Quarzglas | 10 | Quarz | 5 | 800 | 4,7 | 6.1 | |
| 30 | 35 | 12 | 60 | Quarzglas | 10 | Cristobalit | 20 | 800 | 43 | 5.0 |
| 36 | 12 | 60 | Quarzglas | 20 | Cristobalit | 30 | 800 | 4.2 | 6.0 | |
| 37 | 2 | 60 | Quarzglas | 10 | Cristobalit | 30 | 800 | 4,4 | 5,2 | |
| 38 | 2 | 60 | Quarzglas | 20 | Cristobalit | 30 | 800 | 4.2 | 8,0 | |
| 39 | 2 | 60 | Quarzglas | 20 | Tridymit | 30 | 800 | 4.7 | 8.2 | |
| 35 | 40 | 2 | 60 | Cristobalit | 20 | Tridymit | 20 | 800 | 4.7 | 7,0 |
| 41 | 12 | 60 | Quarzglas | 20 | Cristobalit | 20 | 800 | 4.8 | 6,0 | |
| 42 | 12 | 60 | Quarzglas | 10 | Tridymit | 20 | 850 | 4.5 | 5,2 | |
| 43 | 12 | 60 | Quarzglas | 20 | Tridymit | 20 | 850 | 4,5 | 5,1 | |
| 44 | 5 | QL-nrz | 20 | Cristobalit | 30 | 850 | 4,6 | 8.2 | ||
| 40 | 45 | 5 | 60 | Quarz | 20 | Cristobalit | 20 | 850 | 5,0 | 8,3 |
| 46 | 5 | Cristobalit | 20 | Tridymit | 20 | 850 | 4,9 | 75 | ||
| 47 | 5 | 50 | Quarzglas | 20 | Cristobalit | 20 | 850 | 4.8 | 6,0 | |
| 48 | 5 | 40 | 10 | Tridymit | 20 | 800 | 4.5 | |||
| 49 | 5 | 30 | Quarzglas | Tridymit | 20 | 7,5 | ||||
| 45 | 7 | 50 | 5 | Quarz | 20 | 800 | 4.6 | |||
| 50 | 50 | Quarzglas | Cristobalit | 10 | 95 | |||||
| 7 | Quarzglas | 5 | Quarz | 20 | 800 | 43 | 103 | |||
| 51 | Quarzglas | 5 | Cristobalit | 15 | 850 | 4.6 | 8,2 | |||
| 52 | 7 | Quarz | 5 | Quarz | 45 | 900 | 4,6 | 9,7 | ||
| 50 | 53 | 7 | Cristobalit | 45 | Quarz | 55 | 850 | 45 | 75 | |
| 54 | 7 | 25 | Cristobalit | 65 | 850 | 4,6 | ||||
| 55 | 12 | Cristobalit | 5 | |||||||
| 12 | Tridymit | 25 | ||||||||
| 55 | Beispiel 1 | |||||||||
Gemäß des in Tabelle 3 gezeigten Mischungsverhältnisses wurden insgesamt 100 Anteile von keramischen
Ausgangsmaterialien abgewogen und für 24 Stunden in einer Kugelmühle gemischt Dazu wurden 6,0 Anteile
von Polyvinylbutyralharz, 2,4 Anteile von Dioctylphthalat, 23,0 Anteile von Trichlorethylen, 9,0 Anteile von
Perchloräthylen und 6.0 Anteile von Butylalkohol hinzugegeben und alle Materialien für zehn Stunden in der
Kugelmühle gemischt, wodurch die Mischung zu einer breiigen Masse wurde. Die breiige Masse wurde nach
dem Ziehklingen-Verfahren auf einen Polyesterfilm in einer Plattenform von 0,25 mm Dicke aufgestrichen. Zum
Verdampfen der Lösungsmittel wurde die Platte auf eine Höchsttemperatur von 120° C erhitzt, um eine grüne
Platte zu gewinnen. Die grüne Platte wurde auf vorgegebene Abmessungen geschnitten. An vorgegebenen
h5 Positionen jeder Platte wurden durch Stanzen Durchgan^-Jöcher hergestellt und über die Druckmethode eine
Leiterpaste aus Silber in diese Löcher geffillt um einen Leiter zur Verbindung der Leiterbahnen in jeder
keramischen Schicht auszubilden. Auf die obere Oberfläche jeder Platte wurde nach einem vorgegebenen
Muster eine elektrische Leiterbahn aufgedruckt Sechs grüne Platten, auf jede von denen der Silberleiter
uuff^druckt worden war, wurden unter Verwendung von Kilhningslodiern .iiifeinandiiigi>M.iiH·!! iiiu! mil I.'Dl
bei einem Druck von IO bar zwangsweise miteinander vtrklebt.
Eine Vielzahl der sich ergebenden grünen Mehrschichtplatten wurde in einen Ofen geladen und in einer
Luftatmojphäre gesintert. Der Sintervorgang wurde für ungefähr 30 Minuten auf einer in Tabelle 3 gezeigten
Sintertemperatur durchgeführt.
Gemäß dem obigen Prozeß wurden keramische Mehrschicht-Piatinen mit einem Querschnitt wie ar in cter
Zeichnung gezeigt ist, hergestellt. Jede grüne Platte verlor während des Sinterschrittes die Harzkomponenten
und wurde zu einer keramischen Schicht 1. Jede keramische Schicht 1 wurde gesintert, um eine gegenseitige
Verbindung herzustellen. Auf der oberen Oberfläche jeder keramischen Schicht 1 wird nach einem gewünschten
Leiterbahnmustei' eine Leiterschicht 3 ausgebildet. Die Bezugsziffer 2 bezeichnet Durchgangslöcher, die die
keramischen Schichten 1 durchdringen. Diese Durchgangslöcher 2 sind mit der Leiterschicht an vorgegebenen
Positionen auf der oberen Oberfläche jeder keramischen Schicht 1 verbunden.
Nach dem obigen Prozeß erhielt man keramische Mehrschicht-Platinen mit sechs Leiterschichten. In diesen
Schaltungsplatten fand ein Silberleiter Anwendung, und es ergaben sich Leitungsbreiten von 80 μΐη und ein
Leitungswiderstand von 0,4 Ω/cm.
Gemäß dem in Tabelle 3 gezeigten Mischungsverhältnis wurden insgesamt 100 Anteile von keramischen
Äusgangsmateriaiien abgewogen und für 24 Stunden in einer Kugelmühle gemischt. Dazu wurden 5,9 Anteile
eines Methacrylatharzes, 2,4 Anteile Dioctylphthalat, 23.0 Anteile Trichloräthylen, 9,0 Anteile Perchloräthylen
und 6,0 Aiweile Butylalkohol hinzugegeben und alle Materialien für 1-0 Stunden in der Kugelmühle gemischt,
wodurch die Mischung zu einer breiigen Masse wurde. Die breiige Masse wurde auf einem Polyesterfilm nach
dem Ziehklingen-Verfahren in einer Plattenform von 0,25 mm Dicke aufgestrichen. Zur Verdampfung der
Lösungsmittel wurde die Platte auf die Höchsttemperatur von 1200C erhitzt, um eine grüne Platte zu erhalten.
Die grüne Platte wurde auf die vorgegebenen Abmessungen geschnitten. An vorgegebenen Positionen jeder
grünen Platte wurden durch Stanzen Durchgangslöcher und Führungslöcher hergestellt. In die Durchgangslöcher
wurde zur späteren Verbindung jeder keramischen Schicht eine Kupferleiterpaste gefüllt und auf der
oberen Oberfläche jeder grünen Platte ein Leiterbahnmuster ausgebildet. Sechs grüne Platten, auf jeder von
denen die Kupferleiterpaste gebildet worden war, wurden unter Verwendung von Führungslöchern aufeinandergestapelt
und bei 120°C mit eir.em Druck von 15 bar zwangsweise miteinander verklebt.
Eine Vielzahl der sich ergebenden grünen Mehrschichtplatten wurde in einen Ofen geladen und gesintert. Die
Atmosphäre während des Sintervorgangs war ein Stickstoffgas mit 3 bis 7% Wasserstoff. In das Gas wurde ein
geringfügiger Anteil von Wasserdampf eingeführt, um die thermische Zersetzung des organischen Bindemittels
zu unterstützen. Der Sintervorgang wurde auf einer in Tabelle 3 gezeigten Sintertemperatur durchgeführt,
wodurch Keramiken erzielt wurden.
Nach dem obigen Prozeß wurden Mehrschicht-Piatinen mit sechs Leiterschichten hergestellt. In diesen
1 ιαιιιιτ.11 iaiiu\.u nupiciivnuiigvii τ vi Trcnuuiig, Uhu \.j ei gaucii 3IdI L^i.llung3LM Ciich V^Ii υν um uiiu ClIl LjCIlUIIgS-widerstand
von 0,4 Ω/cm.
Grüne Platten wurden auf eine ähnliche Art wie in Beispiel 1 hergestellt. Als Leiter fand eine Goldpaste
Verwendung.
Diese grünen Platten wurden ähnlich wie in Beispiel 1 in einer Luftatmosphäre gesintert.
Bei den sich ergebenden Mehrschicht-Platinen mit sechs Leiterschichten ergab sich eine Leitungsbreite von
80 μπι und ein Leitungswiderstand von 0,45 Ω/cm.
In den Beispielen 1 bis 3 sind die relativen Dielektrizitätskonstanten der gesinterten Keramiken klein; es
können Leiter mit einem geringen Leitungswiderstand Anwendung finden, weil die Sintertemperaturen der
keramischen Ausgangsmaterialien niedriger sind als der Schmelzpunkt von Silber, Kupfer, Gold oder deren
Legierungen, und die thermischen Ausdehungskoeffizienten der gesinterten Keramiken können in einem Bereich
von annähernd 3 χ 10-V°C bis 1Ox 10-VC eingestellt werden, wodurch keramische Mehrschicht-Piatinen
erzielt werden können, die hohe Signalübertragungsgeschwindigkeiten ergeben und frei von Rissen, Leiterbrüchen
und Kurzschlüssen sind.
55 Beispiel 4
Es wurden 20 bis 30% SiO2,15 bis 20% Al2O3,5 bis 10% MgO, 30 bis 50% B2O3 und 5 bis 15% Bi2O3 gemischt.
Diese Mischung wurde in einen Platin-Schmelztiegel gebracht und bei 1400° C geschmolzen. Die Schmelze
wurde schnell bis auf Raumtemperatur abgekühlt, um ein einheitliches Glas auszubilden. Das Glas hatte einen
niedrigen Erweichungspunkt von 850° bis 950° C. Dieses Glas wurde auf 325 Mesh oder kleiner zermahien, um
als ein keramisches Ausgangsmaterial Verwendung zu finden.
Quarzglas wurde auf 325 Mesh oder kleiner zermahlen. 5 bis 95 Anteile dieses Quarzglases und 95 bis 5
Anteile des obigen Glases wurden in vier Zusammensetzungen abgewogen. Jede Zusammensetzung wurde in
eine Kugelmühle gegeben und für 24 Stunden gemischt. Dazu wurden 5,9 Anteile Methacrylatharz, 2,4 Anteile
Dioctyl-phthälat, 23,0 Anteile Triehlorätnylen, 9,0 Anteile Perchloräihylen und 6,0 Anteile Butylaikohoi hinzugegeben
und die Materialien für drei Stunden in der Kugelmühle gemischt,, wodurch die Mischung zu einer
breiigen Masse wurde. Die breiige Masse wurde unter Verwendung des Ziehklingen-Verfahrens auf eine
Mylar-Folie aufgestrichen, um eine Platte von 0,2 mm Dicke auszubilden. Die Platte wurde zur Verdampfung dei
Lösungsmittel auf die Höchsttemperatur von 1000C erhitzt, um eine grüne Platte auszubilden. Die grüne Platt«
wurde auf vorgegebene Abmessungen (70 χ 70 mm) zugeschnitten. An vorgegebenen Positionen jeder grünei
Platte wurden durch Stanzen Durchgangslöcher hergestellt und in die Löcher zur späteren Verbindung jede:
keramischen Schicht eine Leiterpaste aus Kupfer gefüllt. Dieselbe Leiterpaste wurde über die Siebdruckmetho
de auf der oberen Oberfläche jeder grünen Platte angewandt, um ein Muster zu bilden. Sechs grüne Platten, au
jeder von denen ein Kupferleiterbahnmuster ausgebildet worden war, wurden unter Verwendung von Füh
rungslöchern aufeinandergestapelt und dann bei 120° C mit einem Druck von 7 bar zwangsweise initeinandei
verklebt.
Eine Vielzahl der sich ergebenden Vielschicht-Platten wurde in einen Ofen geladen und gesintert Als Sinterat
mosphäre fand Stickstoff mit 3 bis 7% Wasserstoff Anwendung. In das Gas wurde ein geringer Anteil vor
Wasserdampf eingeführt, um die thermische Zersetzung des organischen Bindemittels zu unterstützen. Dit
grünen Platten wurden im Ofen für wenigstens 30 Minuten auf der Höchsttemperatur von 9500C gehalten unc
dann abgekühlt.
Nach dem obigen Prozeß wurden Mehrschicht-Platinen mit sechs Leiterschichten hergestellt Bei dieser
Platinen fand ein Kupferleiter Anwendung, und es ergab sich ein spezifischer Leiterwiderstand von 2,5 μΩ ■ cm
Die relative Dielektrizitätskonstante des keramischen Materials, das aus dem Quarzglas und dem Glas mi
niedrigem Erweichungspunkt bestand, betrug 5,2 (Quarzglas/Quarz mit niedrigem Erweichungspunkt = 5/95)
4.6 (30/70). 4.5 (50/50) und 4.2 (95/5).
Quarzglas wurde in 325 Mesh oder kleiner zermahlen. 5 bis 95 Anteile dieses Quarzglases und 95 bis 5 Anteil·
eines Glases, das aus 40% SiO2.10% AI2O3,5% MgO, 40% B2Oj und 5% K2O zusammengesetzt war, wurder
ausgewogen, in eine Kugelmühle gegeben und für 24 Stunden gemischt Dazu wurden 53 Anteile eines Polyvi
nylbutyral als Bindemittel, 2.4 Anteile Dibutylphthalat als Weichmacher und als Lösungsmittel 23,0 Anteil
Trichloräthylen, 9,0 Anteile Perchloräthylen und 6,0 Anteile Butylalkohol auf der Basis von 100 Anteilen dei
keramischen Ausgangsmaterialien zugegeben. Die Materialien wurden in der Kugelmühle gemischt Mit der siel·
ergebenden breiigen Masse wurde über das Ziehklingen-Verfahren eine grüne Platte mit einer einheitlicher
Dicke von 02 mm hergestellt. Die grüne Platte wurde auf vorgegebene Abmessungen (70 χ 70 mm) zugeschnit
ten. An vorgegebenen Positionen jeder grünen Platte wurden durch Stanzen Durchgangslöcher hergestellt Ein<
Silberleiterpaste wurde zur späteren Verbindung jeder keramischen Schicht in die Löcher gefüllt Dieselb«
Leiterpaste fand auf der oberen Oberfläche jeder grünen Platte Anwendung, um nach dem Siebdruckverfahrer
ein Muster auszubilden. Sechs grüne Platten, auf jeder von denen ein Silberleiterbahnmuster ausgebildet worder
war, wurden unter Verwendung von Führungslöchern aufeinandergestapelt und dann bei 90° C mit einem Drucl
von 7 bar zwangsweise miteinander verklebt.
Eine Vielzahl der sich ergebenden grünen Mehrschichtplatten wurde in einen Ofen gegeben und gesintert AI:
Sinteratmosphäre fand Luft Verwendung. Die grünen Platten wurden im Ofen für wenigstens 15 Minuten auf de
Höchsttemperatur von 9000C gehalten und dann abgekühlt.
Nach dem obigen Prozeß wurden Mehrschicht-Platinen mit sechs Leiterschichten hergestellt. Bei diese
Platinen fand ein Silberleiter Verwendung, und es ergab sich ein spezifischer Leiterwiderstand von 2 μΩ - cm
Daher betrug die Leitungsbreite des Leiierbahnmusters 70 μπι und der Leitungswiderstand pro 1 cm Leitungs
länge 0,4fi/cm. Der bislang in Aluminiumoxid-Mehrschicht-Platinen verwendete Wolfram-Leiter zeigt eine
spezifischen Widerstand von 15μΩ · cm und sein Leitungswiderstand für dieselbe Leitungsbreite von 70 μη
und dieselbe Leitungslänge von 1 cm beträgt 1 Ω/cm. Bei Mehrschicht-Platinen dieses Beispiels ist der Leiterw
derstand und demgemäß der Spannungsabfall klein, und es ergibt sich kein Verzug bei der Signalübertragung
Weiterhin betragen die relativen Dielektrizitätskonstanten der keramischen Materialien 43 bis 5,0. Das führt zi
höheren Signalübertragungsgeschwindigkeiten im Vergleich zu denen der Aluminiumoxid-Keramikmaterialie
mit relativen Dielektrizitätskonstanten von 9.
5 bis 95 Anteile von Quarzpulver und 95 bis 5 Anteile des in Beispiel 4 verwendeten Glases wurden abgewo
gen, in eine Kugelmühle gegeben und für 24 Stunden gemischt. Dazu wurden 5,9 Anteile Methacrylatharz. 2/
Anteile Dibutylphthalat, 23,0 Anteile Trichloräthylen, 9,0 Anteile Perchloräthylen und 6,0 Anteile Butylalkoho
zugegeben und alle Materialien für drei Stunden in der Kugelmühle gemischt, wodurch die Mischung zu einei
breiigen Masse wurde. Aus de« breiigen Masse wurde nach dem Ziehklingen-Verfahren eine grüne Platte m
0,2 mm Dicke hergestellt. Die grüne Platte wurde auf vorgegebene Abmessungen (70 χ 70 mm) zugeschnitten
An vorgegebenen Positionen der grünen Platte wurden durch Stanzen Durchgangslöcher hergestellt. Zu
bo späteren Verbindung der keramischen Schichten wurde mit der Siebdruck-Methode eine Kupferleiterpaste it
die Löcher gefüllt. Dann wurde auf der oberen Oberfläche jeder grünen Platte ein vorgegebenes Leiterbahnmu
ster ausgebildet. Zehn grüne Platten, auf jede von denen die Kupferleitcrpaste nach dem vorgegebenen Muste
aufgedruckt worden war, wurden unter Verwendung von Führungslöchern in einer vorgegebenen Reihenfolgi
aufeinandergestapelt. Diese gestapelten Platten wurden bei 1200C mit einem Druck von 7 bar zwangsweis
b5 miteinander verklebt, um eine aus zehn grünen Platten bestehende Platine herzustellen. Eine Vielzahl der sie
ergebenden grünen Mehrschichtplatten wurde in einen Ofen geladen und gesintert. Als Sinteratmosphäre fan.
ein Formiergas mit J bis 7% Wasserstoff Anwendung. Ein geringer Anteil von Wasserdampf wurde eingefühn
um die thermische Zersetzung des organischen Bindemittels zu unterstützen. Die höchste Sintcrlcmpcratu
betrug 9500C Der Anstieg auf die 9500C betrug acht Stunden; diese Temperatur wurde für eine Stunde
gehalten, und danach fand in acht Stunden eine Abkühlung auf Raumtemperatur statt, womit der Sintervorgang
abgeschlossen wurde.
Nach dem obigen Prozeß wurden Mehrschicht-Platinen mit zehn Leiterschichten hergestellt Bei diesen
Mehrschicht-Platinen ergab sich ein Leiterwiderstand von 0,4 Ω/cm (Leitungsbreite: 70 μπι), und die kerami- 5
sehen Materialien zeigten relative Dielektrizitätskonstanten von 4,6 bis 5,2. Dementsprechend wurden hohe
Signalübertragungsgeschwindigkeiten erzielt
Es wurde ein Glas mit einem Erweichungspunkt von 7300C und einer Zusammensetzung aus 20 bis 30% SiO2,
15 bis 20% Al2O3,5 bis 15% MgO und 40 bis 60% B2O3 hergestellt Zu 95 bis 5% dieses Glases wurden 5 bis 95%
Quarzglas hinzugefügt und ähnlich Beispiel 5 oder 6 Mehrschicht-Platinen hergestellt In diesen Platinen zeigten
die keramischen Materialien relative Dielektrizitätskonstanten von 4,4 bis 5,5.
Gemäß den obigen Beispielen kann ein Metall mit niedrigem Widerstand wie Kupfer oder Silber als Leiter für 15
Mehrschicht-Platinen Verwendung finden. Daher kann der Leitungswiderstand des Leiters klein gehalten werden, selbst wenn seine Leitungsbreite schmal ist, und dadurch eine Mehrschicht-Platine mit hoher richte
hergestellt werden.
Claims (5)
1. Keramische Mehrschicht-Leiterplatte, in der eine Vielzahl von keramischen Schichten (1) mit jeweils
einem Leiterbahnmuster (3) auf der oberen Oberfläche übereinandergeschichtet sind, wobei jede keramische
Schicht (1) ein Sinterprodukt ist, das (a) Siliziumoxid und (b) ein Glas enthält, dessen Erweichungspunkt unter
dem Schmelzpunkt des die Leiterbahnmuster (3) bildenden elektrisch leitenden Materials liegt, dadurch
gekennzeichnet, daß jede keramische Schicht (1) mindestens zwei Arten von Siliziumoxid enthält, die
sich in ihrer Kristallform unterscheiden.
2. Leiterplatte nach Anspruch 1. dadurch gekennzeichnet, daß die Komponenten (a) aus der aus Quarzglas,
ίο «-Quarze-Quarz, «-Cristobalit^-Cristobalit, Λ-Tridymit und /#Tridymit bestehenden Gruppe gewählt sind.
3. Leiterplatte nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das elektrisch leitende Material (3)
ein einziges aus einer aus Gold, Silber und Kupfer oder deren Legierungen bestehenden Gruppe ausgewähltes Metall ist
4. Leiterplatte nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Erweichungspunkt des
Glases bei 10500C oder darunter liegt
5. Leiterplatte nach einem der Ansprüche ! bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Sinterprodukt eine
relative Dielektrizitätskonstante von 6 oder weniger aufweist
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57119811A JPS5911700A (ja) | 1982-07-12 | 1982-07-12 | セラミツク多層配線回路板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3324933A1 DE3324933A1 (de) | 1984-01-12 |
| DE3324933C2 true DE3324933C2 (de) | 1985-01-03 |
Family
ID=14770815
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE3324933A Expired DE3324933C2 (de) | 1982-07-12 | 1983-07-11 | Keramische Mehrschicht-Leiterplatte |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4764233A (de) |
| JP (1) | JPS5911700A (de) |
| DE (1) | DE3324933C2 (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4243040A1 (de) * | 1991-12-18 | 1993-06-24 | Gen Electric |
Families Citing this family (37)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6040526B2 (ja) * | 1978-01-06 | 1985-09-11 | 東レ株式会社 | 糸処理装置 |
| JPS54138649A (en) * | 1978-04-20 | 1979-10-27 | Asahi Chemical Ind | Production of spun like processed yarn |
| JPS6028296A (ja) * | 1983-07-27 | 1985-02-13 | 株式会社日立製作所 | セラミツク多層配線回路板 |
| JPS60254697A (ja) * | 1984-05-31 | 1985-12-16 | 富士通株式会社 | 多層セラミック回路基板および製法 |
| JPS61159793A (ja) * | 1984-12-31 | 1986-07-19 | 株式会社 アサヒ化学研究所 | 基板に導電回路を形成する方法 |
| JPS61270897A (ja) * | 1985-05-25 | 1986-12-01 | 株式会社住友金属セラミックス | 多層回路基板 |
| JPS61278195A (ja) * | 1985-06-03 | 1986-12-09 | 株式会社日立製作所 | 多層回路基板及びその製造方法 |
| JPH0634452B2 (ja) * | 1985-08-05 | 1994-05-02 | 株式会社日立製作所 | セラミツクス回路基板 |
| JPS62287658A (ja) * | 1986-06-06 | 1987-12-14 | Hitachi Ltd | セラミックス多層回路板 |
| US5164342A (en) * | 1988-10-14 | 1992-11-17 | Ferro Corporation | Low dielectric, low temperature fired glass ceramics |
| US5258335A (en) * | 1988-10-14 | 1993-11-02 | Ferro Corporation | Low dielectric, low temperature fired glass ceramics |
| US5071793A (en) * | 1990-08-23 | 1991-12-10 | Aluminum Company Of America | Low dielectric inorganic composition for multilayer ceramic package |
| US5079194A (en) * | 1990-10-11 | 1992-01-07 | Aluminum Company Of America | Crystal growth inhibitor for glassy low dielectric inorganic composition |
| US5256470A (en) * | 1990-10-11 | 1993-10-26 | Aluminum Company Of America | Crystal growth inhibitor for glassy low dielectric inorganic composition |
| US5320729A (en) * | 1991-07-19 | 1994-06-14 | Hitachi, Ltd. | Sputtering target |
| JPH0723252B2 (ja) * | 1991-07-31 | 1995-03-15 | 日本電気株式会社 | 低温焼結性低誘電率無機組成物 |
| JPH05254923A (ja) * | 1992-03-10 | 1993-10-05 | Hitachi Ltd | セラミック組成物及びセラミック回路基板 |
| US5264399A (en) * | 1992-04-28 | 1993-11-23 | International Business Machines Corporation | Ceramic composite body |
| EP0575813B1 (de) * | 1992-06-08 | 1996-12-27 | NEC Corporation | Glaskeramisches Mehrschichtsubstrat und Verfahren zur seiner Herstellung |
| US5498580A (en) * | 1993-03-30 | 1996-03-12 | Sumitomo Metal Industries Ltd. | Ceramic substrate and a method for producing the same |
| US5376759A (en) * | 1993-06-24 | 1994-12-27 | Northern Telecom Limited | Multiple layer printed circuit board |
| US5744208A (en) * | 1994-06-24 | 1998-04-28 | Corning Incorporated | Glass-ceramics containing lithium disilicate and tridymite |
| US5759331A (en) * | 1994-07-15 | 1998-06-02 | Paul J. Dostart | Method of ensuring conductivity in the manufacturing of a multi-layer ceramic component containing interlayer conductive-filled via holes |
| US5763059A (en) * | 1995-03-31 | 1998-06-09 | Kyocera Corporation | Circuit board |
| US5948200A (en) * | 1996-07-26 | 1999-09-07 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Method of manufacturing laminated ceramic electronic parts |
| US6228468B1 (en) * | 1996-07-26 | 2001-05-08 | Paul L. Hickman | High density ceramic BGA package and method for making same |
| US6288344B1 (en) * | 1999-08-20 | 2001-09-11 | Cardiac Pacemakers, Inc. | Integrated EMI shield utilizing a hybrid edge |
| JP2002141248A (ja) * | 2000-11-02 | 2002-05-17 | Murata Mfg Co Ltd | セラミック電子部品およびその製造方法 |
| US6760227B2 (en) * | 2000-11-02 | 2004-07-06 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Multilayer ceramic electronic component and manufacturing method thereof |
| JP2004186665A (ja) * | 2002-10-09 | 2004-07-02 | Murata Mfg Co Ltd | 多層構造部品およびその製造方法 |
| US7387838B2 (en) * | 2004-05-27 | 2008-06-17 | Delaware Capital Formation, Inc. | Low loss glass-ceramic materials, method of making same and electronic packages including same |
| US7186461B2 (en) * | 2004-05-27 | 2007-03-06 | Delaware Capital Formation, Inc. | Glass-ceramic materials and electronic packages including same |
| US7687137B2 (en) * | 2005-02-28 | 2010-03-30 | Kyocera Corporation | Insulating substrate and manufacturing method therefor, and multilayer wiring board and manufacturing method therefor |
| JP4650794B2 (ja) * | 2005-07-01 | 2011-03-16 | 昭栄化学工業株式会社 | 積層電子部品用導体ペーストおよびそれを用いた積層電子部品 |
| CN105244324B (zh) * | 2015-11-10 | 2017-09-29 | 河北中瓷电子科技有限公司 | 电子封装用陶瓷绝缘子及其制作方法 |
| US10476142B2 (en) | 2016-12-21 | 2019-11-12 | Cts Corporation | Radio frequency antenna with granular or powder insulating material and method of making the same |
| JP2022523808A (ja) | 2019-03-07 | 2022-04-26 | コーニング インコーポレイテッド | ダイアップ・ファンアウトパッケージングのためのガラスキャリアおよびその製造方法 |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3762936A (en) * | 1967-07-31 | 1973-10-02 | Du Pont | Manufacture of borosilicate glass powder essentially free of alkali and alkaline earth metals |
| DE2460931A1 (de) * | 1974-03-08 | 1975-09-11 | Ibm | Bei niedrigen temperaturen sinterbare stoffzusammensetzung |
| DE2517743C3 (de) * | 1975-04-22 | 1980-03-06 | Jenaer Glaswerk Schott & Gen., 6500 Mainz | Passivierender Schutzüberzug für Siliziumhalbleiterbauelemente |
| US4301324A (en) * | 1978-02-06 | 1981-11-17 | International Business Machines Corporation | Glass-ceramic structures and sintered multilayer substrates thereof with circuit patterns of gold, silver or copper |
| JPS5563900A (en) * | 1978-11-08 | 1980-05-14 | Fujitsu Ltd | Multilyaer ceramic circuit board |
| JPS55133597A (en) * | 1979-04-06 | 1980-10-17 | Hitachi Ltd | Multilayer circuit board |
| US4256796A (en) * | 1979-11-05 | 1981-03-17 | Rca Corporation | Partially devitrified porcelain composition and articles prepared with same |
| JPS5729185U (de) * | 1980-07-28 | 1982-02-16 | ||
| JPS57184296A (en) * | 1981-05-09 | 1982-11-12 | Hitachi Ltd | Ceramic circuit board |
| US4415624A (en) * | 1981-07-06 | 1983-11-15 | Rca Corporation | Air-fireable thick film inks |
| JPS5817651A (ja) * | 1981-07-24 | 1983-02-01 | Hitachi Ltd | 多層回路板とその製造方法 |
| US4391914A (en) * | 1982-06-14 | 1983-07-05 | Corning Glass Works | Strengthened glass-ceramic article and method |
| JPS599992A (ja) * | 1982-07-08 | 1984-01-19 | 株式会社日立製作所 | 多層配線基板の製造方法 |
-
1982
- 1982-07-12 JP JP57119811A patent/JPS5911700A/ja active Granted
-
1983
- 1983-07-11 DE DE3324933A patent/DE3324933C2/de not_active Expired
-
1986
- 1986-05-12 US US06/862,169 patent/US4764233A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4243040A1 (de) * | 1991-12-18 | 1993-06-24 | Gen Electric | |
| DE4243040C2 (de) * | 1991-12-18 | 1999-06-17 | Gen Electric | Mehrschichtige Metall-Keramik-Leiterplatte und Verfahren zu ihrer Herstellung |
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| Publication number | Publication date |
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| DE3324933A1 (de) | 1984-01-12 |
| JPS5911700A (ja) | 1984-01-21 |
| US4764233A (en) | 1988-08-16 |
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