DE2758772C2 - Verfahren zur Herstellung eines bandförmigen, magnetischen Aufzeichnungsträgers - Google Patents
Verfahren zur Herstellung eines bandförmigen, magnetischen AufzeichnungsträgersInfo
- Publication number
- DE2758772C2 DE2758772C2 DE2758772A DE2758772A DE2758772C2 DE 2758772 C2 DE2758772 C2 DE 2758772C2 DE 2758772 A DE2758772 A DE 2758772A DE 2758772 A DE2758772 A DE 2758772A DE 2758772 C2 DE2758772 C2 DE 2758772C2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- substrate
- magnetic
- drum
- vapor deposition
- tape
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
- H01F41/14—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/851—Coating a support with a magnetic layer by sputtering
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines bandförmigen, magnetischen Aufzeichnungsträgers
durch Schräg-Bedampfung eines Suostrates mit einer magnetischen Schicht.
Aus der DE-OS 21 46 008 ist ein Verfahren zur Herslellung einer magnetischen Schicht bekannt, bei dem
Elsen in einer Sauerstoffatmosphäre auf ein Substrat
aufgedampft wird. Dadurch kann eine aus Eisenoxid bestehende, ferromagnetische Schicht auf dem Substrat
abgelagert werden.
Ein Verfahren zur Herstellung eines bandförmigen, magnetischen Aufzeichnungsträgers der angegebenen
Gattung ist aus der US-PS 33 42 632 bekannt und soll im folgenden unter FI g. 1 näher erläutert werden, die einen
senkrechten Querschnitt durch die entsprechende Vorrichtung zur Aufdampfung einer dünnen ferromagnetlschen
Schicht auf ein Substrat zeigt. Ein Beil-Gefäß 1 wird durch eine Vakuumpumpe 2 auf 1,33 χ ΙΟ"3 PA bi.
1,33 χ 10"* PA evakuiert; das zu bedampfende Substrat
wird von einer Vorratsrolle 4 über Metallrollen 5 zu einer Aufnahmerolle 6 In der durch den Pfeil angedeuteten
Richtung transportiert. Die auf das Substrat 2 aufzudampfende,
ferromagnetische Substanz wird durch die Joule'sche Wärme, die durch eine über Isolierte
Anschlüsse 13 mit einer Stromquelle 12 verbundene Heizeinrichtung 8 erzeugt wird, verdampft, so daß der
über eine ötfnung 10 In einer Maske 9 gesteuerte Strahl
11 der verdampften ferromagnetlschen Substanz In einem
Winkel auf das Substrat 3 auftrifft. Bei dieser „Schräg-Bedampfung"
handelt es sich also um ein Verfahren, bei dem der Winkel zwischen der Normalen auf dem Substrat
3 und dem einfallenden Strahl der verdampften Substanz größer als 30° 1st; diese Definition wird jedoch
nicht streng gehandhabt, da manchmal auch Verfahren als ,,Schräg-Bedampfung" bezeichnet werden, bei denen
der verdampfte Strahl in einem von 90° abweichenden Winkel auf das Substrat auftrifft.
Nachteilig ist bei diesem bekannten Verfahren, daß die
magnetische Schicht nur relativ langsam gebildet werden kann. Denn bei Verwendung von Polyethylenterephthalat
als Material für das Substrat können bei der Aufdampfung von Eisen nur Schichten mit einer Dicke von
ungefähr 20 mm hergestellt werden, da bei der weiteren Aufdampfuüg das Substrat aufgrund der von der Heizeinrichtung
erzeugten Wärme zerstört wird. Um eine für die audiomagnetische Aufnahme und Wiedergabe ausreichende
Remanenz zu erhalten, muß dieser Arbeitsgang zur Herstellung der 20 mm dicken magnetischen Schicht
10- bis ISmal wiederholt werden, bis eine ausreichende
Schichtdicke erreicht ist. Die Unterbrechung und Wiederaufnahme der Bedampfung führt jedoch zu Löchern
in der Schicht und damit zu Rauschen bei der Wiedergabe, so daß die auf diese Welse hergestellten magnetischen
Aufzeichnungsträger nicht die angestrebte hohe Qualität haben.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zur Herstellung eines bandförmigen, magnetischen
Aufzeichnungsträgers zu schaffen, mit dem auch relativ dicke magnetische Schichten in kurzer Zelt, insbesondere
ohne Unterbrechung der Aufdampfung, aufgebracht werden können.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Bedampfung auf das an einer heiz- oder kühlbaren Trommel anliegende Substrat erfolgt, wobei die
Bedampfungsquelle so angeordnet wird, daß die Verdampfernormale die Trommelachse nicht schneidet.
Gemäß einem alternativen Verfahren wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß die Bedampfung auf das an
einer heiz- oder kühlbaren Trommel anliegende Substrat erfolgt, wobei die Bedampfungsquelle so angeordnet
wird, daß die Verdampfernormale die Trommelachsen schneidet, und wobei In der Verdampfernormale eine
Blende vorgesehen wird.
Die mit der Erfindung erzielten Vorteile beruhen insbesondere
darauf, daß die Aufdampffu'.che des Substrates
nicht frei zwischen zwei Stützrollen geführt wird, wie es bei dem bekannten Verfahren nach der US-PS 33 42 632
der Fall war, sondern daß das Substrat an einer heiz- oder kühlbaren Trommel anliegt.
In Abhängigkeit von den jeweils gewünschten Bedampfungsbedlngungen
kann also das Substrat durch entsprechende Beaufschlagung der Trommel entweder geheizt oder gekühlt werden, um beispielsweise die oben
erläuterte Wärmewirkung der Heizeinrichtung zu verringern oder ganz auszuschalten. Das Substrat und damit
auch die magnetische Schicht werden also immer auf einer Temperatur gehalten, die die Aufbringung einer
gleichmäßigen Schicht ermöglicht. Es 1st insbesondere nicht mehr erforderlich, die Bedampfung wegen einer zu
starken Erwärmung des Substrates zu unterbrechen, so daß In einem einzigen, relativ kurzen Arbeitsgang auch
relativ dicke magnetische Schichten aufgebracht werden können.
Dadurch lassen sich wiederum die erwähnten Löcher
und Hohlräume In der magnetischen Schicht vermelden,
die auf die Unterbrechung der Bedampfung zurückzuführen
sind.
Der.für die Schrägbedampfung erforderliche Winkel zwischen dem auf das Substrat auftreffenden Strahl und
der Normalen auf der Substratoberfläche kann gemäß der Variante nach Anspruch 1 dadurch erreicht werden, daß
die Bedampfungsquelle so angeordnet wird, daß die Verdampfernormale
die Trommelachse nicht schneidet.
Gemäß der Variante nach Anspruch 2 ist In der Verdampfernormale
eine Blende vorgesehen, die den senkrechten Einfall des Strahls auf die Trommeloberfläche
verhindert.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von Ausführungsbeisplelen
unter Bezugnahme auf die beiliegenden schematischen Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen
Fig. 2 einen senkrechten Schnitt durch eine erste Ausführungsform
einer Vorrichtung zur Durchführung des erflndungsgemäßim Verfahrens,
Fig. 3 und 4 zur Erläuterung der Funktionswelse der Vorrichtung nach Flg. 2,
Fig. 5 eine grafische Darstellung des Verhältnisses zwischen der Koerzitivkraft Oe und dem Abstand χ für
die Ansicht nach F i g. 3,
Fig. 6 einen senkrechten Schnitt durch sine zweite
Ausführungsform einer Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens,
F i g. 7 einen senkrechten Schnitt durch eine dritte
Ausführungsform einer Vorrichtung zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens, und
Fig. 8 einen senkrechten Schnitt durch eine vierte Ausführungsform einer Vorrichtung zur Dur.hführung
des erfindungsgemäßen Verfahrens.
Wie man aus den Figuren 2 und 3 erkennen kann, wird ein Substrat S aus einer hochmolekularen Verbindung,
beispielsweise einer Kunststoff-Folie, von einer Vorratsrolle 22 über Metallrollen 23 zu einer Aufnahmerolle
25 transportiert und dabei über einen großen Teil der Transportstrecke in Anlage an dem Umfang einer
drehbaren Trommel 24 gehalten, in der ein geeignetes Heiz- oder Kühlmittel umgewälzt wird, um die Trommel
24 und damit auch das Substrat 15 zu erwärmen oder abzukühlen.
Gegenüber dem Aufdampfbereich des Substrates 15, gemäß der Darstellung In Fl g. 2 also gegenüber dem tiefsten
Punkt der Trommel 24, Ist eine Bedampfungsquelle für eine magnetische Substanz 18, wie beispielsweise CO,
Fe, Ni, angeordnet, die einen wassergekühlten Schmelzraum 16 aus Kupfer, eine Elektronenkanone 17 und ein
Ablenkungs- und Abtastsystem (nicht dargestellt) enthält. Der Schmelzraum 16 1st so angeordnet, daß die
Hauptachse seiner Verdampfungsoberfläche senkrecht zur Transportrichtung des Substrates 15 an der Trommel
24 liegt.
Die Elektronenkanone 17 erzeugt einen Elektronenstrahl
19, dei auf die zu verdampfende, magnetische Substanz
18 auftrifft und diese dadurch bis zur Verdampfung erwärmt, wodurch ein Strahl 20 aus der magnetischen
Substanz entsteht. Die Einfallsrichtung des Strahls 20 aus der verdampften magnetischen Substanz auf das Substrat
15 auf der drehbaren Trommel 24 wird durch eine Blende 21 gesteuert. Das Vakuumgefäß 14 wird durch eine
Vakuumpumpe 26 auf einen Druck von 1,33 χ 10° PA bis 1,33χ10·4ΡΑ evakuiert; bei Bedarf wird in dem
Vakuumgefäß noch eine geeignete Gasatmosphäre, beispielsweise eine Sauerstoff-Atmosphäre, hergestellt.
In einer Realisierung der Ausführungsform nach Flg. 2 wurde eine drehbare Trommel 24 mit einem
Durchmesser von 50 cm und einer Breite von 50 cm benutzt, Die Nebenachse der Verdampfungsoberfläche
betrug 3 cm und die Hauptachse 40 cm; das Substrat 15 hatte einen Abstand von 30 cm von der Bedampfungsquelle.
Das Vakuumgefäß 14 wurde auf 6,65 χ ία3 PA
evakuiert und CO durch eine kW-Elektronenkanone 17 aufgeheizt und verdampft, so daß eine dünne magnetische
Schicht von 120nm auf einem als Substrat 15 dienenden
Polyesterfilm von <·Λ cm Breite hergestellt wurde.
(Der Polyesterfilm wurde vorher mit einer dünnen AIumlniumschlcht
von 50 ,im Dicke beschichtet.)
Der auf diese Welse Hergestellte bandförmige, magnetische
Aufzeichnungsträger wurde in Magnetbänder von 3,80 mm Breite geschnitten, auf die Signale von 1 kHz
aufgenommen und wiedergegeben wurden. Im Vergleich mit herkömmlichen magnetischen Aufzeichnungsträgern
mit entsprechenden dünnen ferromagnetischen Schichten, die mit dem bekannten Verfahren hergestellt worden
waren, hatte das Ausgangssignal bei der Wiedergabe eine Verbesserung von 4 bis 6 dB. Dieser magnetische Aufzeichnungsträger
hat also eine sehr hohe Aufnahmedichte pro Volumeneinheit, d. h., dieses Verfahren ist
insbesondere für die Herstellung von Magnetbändern mit langer Aufnahmezeit geeignet. Dieses sehr günstige magnetische
Verhalten wird durch die genaue Verteilung der Koerzitivkräfte erreicht, die wiederum auf die Verwendung
der Blende 21 zurückzuführen Ist, die den Strahl des verdampften Materials so einstellt, daß er
unter einem Winkel von mehr als 22° auf das Substrat 15 fällt.
Wie man in Fig. 3 erkennen kann, schneidet eine im
Zentrum der Verdampfungsoberfläche errichtete Normale die Achse O der drehbaren Trommel nicht. Die
räumliche Anordnung und die Abmessungen der drehbaren Trommel und der Bedampfungsquelle können in
Abhängigkeit von den angestrebten Eigenschaften der magnetischen Aufzeichnungsträger variiert werden.
Wenn das Substrat ajs einer hochmolukularen Verbindung besteht, sollte der Abstand /' (siehe Fig. 3) zwischen
dem Substrat und der Bedampfungsquelle so klein wie möglich gemacht werden, wobei selbstverständlich
eine Beschädigung des Substrates aufgrund der Strahlungshitze der Verdampfungsquelle 16 vermieden werden
muß; andererseits sollt der Abstand χ zwischen der Senkrechten durch die Achse der drehbaren Trommel 24 und
der Normalen auf der Mitte der Bedampfungsquetie 18 seitlich versetzt zur Vorratsrolle 22 hin (siehe Fig. 3) so
groß wie in der Praxis möglich gemacht werden.
Bei den hier beschriebenen Ausführungsformen Ist die
Verdampfungsoberfläche im allgemeinen nicht so flach, so 0 JJ sich der Begriff ,,Verdampfungsoberfläche" allgemein
auf eine Projektion auf eine Ebene bezieht, wie man in Fi g. 4 erkennen kann. Dabei wird dit Senkrechte
g, der Verdampfungsoberfläche im Mittelpunkt dieser Ebene konstruiert.
Flg. 5 zeigt ein Beispiel der mit der ersten Ausführungsform
des Verfahrens erzielten Wirkung, nämlich das Verhältnis zwischen der Koerzitivkraft Oe und dem
Abstand x, wenn die Entfernung / (siehe Fig. 3) 250 mm beträgt. Es läßt sich erkennen, daß die Koerzitivkraft
im Vergleich mit einem Verfahren, bei dem der Abstand x = 0 Ist, um nahezu das Zweifache ansteigt.
Bei Bedarf kann ein nicht dargestelltes Einlaßventil
vorgesehen werden, um Ströme geeigneter Gase in die Nähe des Bereiches des Substrates zu bringe,1, In dem die
dünne ferromagnetische Schicht abgelagert wird. Ais-Gase
können beispielsweise Sauerstoff, O2 + Ar oder O2 + H2 verwendet werden.
Die räumliche /.nordnung, die Abmessung und die
Einstellung des Gaselnlasses werden so ausgelegt, daß die Gasströme in der Nähe des Substrates den Gleichgewichtszustand
erreichen. Die Auslegung djr Gaseinlässe
hängt also von der Breite des Substrates, dem Durchmesser der Trommel, der Entfernung Substrat/Verdampfungsquelle,
der Lage der Gaseinlässe Im Verhältnis zum Pumpensystem und von der Kapazität des Pumpensystems
ab.
Bei einer weiteren Realisierung der Vorrichtung nach
I'lg I wurde eine drehbare Trommel mit einem Durchmesser
von 300 mm ein Substrat mil einer Breite von l50nm und eine 12 kW Elektronenkanone verwendet.
Der kleinste Abstand zwischen dem Substrat und der Bedampfungsquelle lap hei 250 mm: der kleinste Absland
/wischen dem Substrat und dem Einlaß für das Gas betrug 5 mm. der kleinste Abstand zwischen der Bedampfungsquelle
und dem Gaseinlaß war 275 mm. f:.s wurde eine Vakuumkammer mit einem Volumen von
IOC I benutzt. Der Abstand von der Mitte der Auslaßöffnungen
zur Bedampfungsquelle betrug 400 mm. und der Abstand \on der MiHe der Auslaßöffnungen zum
Ciaseinlaß betrug 600 mm. Als magnetische Substanz wurde eine Mischung aus CO (1JS V.) und Ni (2'i>) oder CO
(95 ) und V (5' ) verwendet Als Substrat wurde ein
I'olyethylentherepthalal-Fllm mit einer Dicke von 15 [im
eingesetzt, auf dem im Vakuum durch Bedampfen bei 1.33 χ 10' I1A eine Kupferschicht von 30 nm hergestellt
worden war.
Die folgende Tabelle 1 /clgt einen Vergleich der magnetischen
Eigenschaften der magnetischen Aufzeichnungsträger, die mit dieser Vorrichtung hergestellt worden
sind, mit magnetischen Aufzeichnungsträgern, die mit herkömmlichen Verfahren hergestellt wurden.
Aus Tabelle I Ist ersichtlich, daß die magnetischen
Eigenschaften, die bei der Wiedergabe erzeugten Ausgang.sslgnale
und die Korrosionsbeständigkeit der mit dem erflndungsgemaßen Verfahren hergestellten magnetischen
Aufzeichnungsträgern den entsprechenden lilgenschaften der herkömmlichen magnetischen Aufzeichnungsträger
überlegen sind.
Eigenschaften
des Bandes
Magnetische-. i.inliihrung von Verrückungs- Koerzitiv Quadr.
Material Sauerstoff geschwindigkeit kraft llyste- Cieschwintligkeit
des Substrats rese-Ver- 4.75 cm/s OdB
hältnis Ware C-120
Co 98' Ni 2\ NO-,
0.05 1/miii 12 m/min
a, Co 98 Ni 2% NO-.
J 0.09 l/min 12 m/min
■f Co 9811.. Ni 2"λ NO>
— 0.12 l/min 12 m/min
Co 45" V 51O NO-.
(1.05 l/min 12 m/min
Co 95\ V 5'" NO.·.
0.09 l/min 12 m/min
Ar 0.09 /min
^. Co 48 Ni 2' keiner 12 m/min
I Co 48 - Ni 2 0.2 l/min vom 12 m/min
;= Ventil
;= Ventil
^ Co 95 V 5":· 0.2 l/min vom 12 m/min
Ventil
Ventil
Die Aufheizung des zu verdampfenden Materials muß nicht mit einem Elektronenstrahl, sondern kann auch
mit einer Widerstands- oder Induktionsheizung erfolgen.
Wie bereits erwähnt wurde, wird durch die hohle
Trommel 24 ein Heiz- oder Kühlmittel im Umlauf geführt, um die Temperatur der Trommeloberfläche und
damit des Substrates einzustellen, wodurch die Koerzitivkraft und die Remanenz der erzeugten magnetischen
Schicht exakt gesteuert werden kann.
In Fig. 6 ist eine zweite Ausführungsform einer Vorrichtung
zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens dargestellt, bei der das Substrat 15 um mehrere
zylindrische Trommeln 24A-24D herumgeführt wird. Da die Temperatur jeder einzelnen drehbaren Trommel 24A-24D
unabhängig von der Temperatur der anderen Trommeln sesicuert werden kann, lassen sich die ferrorn2°netischen
dünnen Schichten bei der gleichen Temperatur ausbilden. Es Ist sehr wesentlich, das Substrat 15 wäh-1
Oe =
.τ
A/m
.τ
A/m
Oe 0.91
Oe 0.92
Oe 0.90
Oe 0,88
Oe 0.86
Oe 0.5
Oe 0.6
Oe
0.55
+ 1-2 dB
+ 2-3 dB
+ 2-4 dB
+ 1-3 dB
+ 2 dB
+ 2-3 dB
+ 2-4 dB
+ 1-3 dB
+ 2 dB
- 15 dB
- 18 dB
- 19 dB
bestancligkeit
Reist nach IfKl Stunden
keiner
keiner
keiner
keiner
keiner
keiner
keiner
keiner
keiner
Fleckiger Rost
v. 2-3 / cm-1
v. 2-3 / cm-1
Fleckiger Rost
v. 0.5 / cm2
v. 0.5 / cm2
Fleckiger Rost
v. 0.1-0.5/cm2
v. 0.1-0.5/cm2
rend der gesamten Bedampfung auf der gleichen Temoeratur
zu halten, damit magnetische Aufzeichnungsträger mit identischen magnetischen Eigenschaften erzeugt
werden können. In Fig. 6 sind außerdem eine Stromquelle 27 for eine Heizeinrichtung 28, isolierte
Anschlüsse 29 für die Verbindung der Stromquelle 27 mit der Heizeinrichtung 28, ein Pumpensystem 30 und
mehrere Blenden zu erkennen, die sich zwischen der Bedampfungsquelle und den verschiedenen Trommeln
befinden und verhindern, daß der Strahl senkrecht auf die Trommeloberfläche auftrifft.
In Fig. 1 ist eine dritte Ausführungsform einer Vorrichtung
zur Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens dargestellt, deren Aufbau im wesentlichen dem
der ersten Ausführungsform nach Fig. 1 ähnelt, wobei jedoch eine zusätzliche Blende 3V vorgesehen ist, so daß
der von der Bedampfungsquelle abgegebene Strahl in zwei getrennte Strahlen 20 aufgeteilt wird, die an der
Blende b/w. Maske .11" vorbei schriig auf die Oberfläche
des Substrates 15 auf der Trommel 24 aufircffcn und die
dünne magnetische Schicht bilden.
Selbstverständlich Ist es bei einer Modifikation tier
Vorrichtung nach Fl g. 7 auch möglich, den von der "·
Bedampfungsquelle erzeugten Strahl In mehr als zwei Teilstrahlen 20 aufzuteilen; die Aufteilung In nur zwei
Strahl; 1 20 wird jedoch bevorzugt verwendet, da so die
magnetischen Figenschaften der abgelagerten, dünnen ferromagnetlsehen Schichten verbessert werden können, ι«
Der Ablagerungsgrad, d. h. das Verhältnis der Menge
der auf dem Substrat abgelagerten l'erromaunetIschen
Substanz zur Menge der verdampften fermmagnellsehcn Substanz, kann dadurch verbessert werden, dall mehrere
drehbare Trommeln vorgesehen werden, wie Im elnzcl- ι,
nen unter Bezugnahme auf Flg. S beschrieben wird, die
eine vierte Ausfilliningsform einer Vorrichtung zur
Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens zeigt, liei dieser Auslührurmsform wi- I das Substrat 15 nn
mehreren drehbaren Trommeln 24, 24" und 24" :<>
vorbelgeführt und den Strahlen der verdampften. ferromagnetischen Substanz ausgesetzt, die durch Blenden
.M'. .11" und .T" In mehrere Teilstrahlen 20 aufgeteilt
worden sind. Die Temperaturen der verschiedenen drehbaren Trommeln 24. 24" und 24" werden jeweils unab- y,
hangig voneinander eingestellt. Dadurch können die magnetischen Eigenschaften der erzeugten ferromagnetischen
Schichten welter verbessert und stabilisiert werden. Beispielswelse werden die Temperaturen der drehbaren
Trommel 24, 24' und 24" auf - 10" C. - 15' C bzw in
-25' Γ eingestellt, so daß sich die Temperatur des Substrates 15 praktisch nicht erhöht. Dadurch kann die ferromagnetische
Substanz bei der gleichen Temperatur aulgebracht werden, so daß eine gleichmüßige Verteilung
der kocrzltlvkrafte gewährleistet Ist und das quadratische
Hysterese-Verhältnis verbessert werden kann.
Bei einer praktischen Realisierung der Vorrichtung naih Fig. 7 betrug der Durchmesser der drehbaren
Trommel 24 500 mm. während die Blende 3Γ eine Breite
von 70 mm hatte. CO wurde durch eine 15 kW Widerstandsheizung In einer Vakuumkammer mit einem
Unterdruck von 6,65XlO1FA erwärmt und verdampft
und dadurch auf ein Polyethylcnterephthalat-Substrat mit einer Dicke von 150 nm abgeschieden. Das quadratische
Hysterese-Verhältnis der hergestellten magnetischen Schicht betrug 0.87, tile Koerzitivkraft
.11.0.1 >-10'A/m und die nachgesältlgte Flußdichte
I." lesla.
Dei der Vorrichtung nach I7Ig. 7 beträgt der Ablagerungswirkungsgrad
ungefähr .10'V und ungefähr 40[v. bei der Vorrichtung nach Flg. S. Im Vergleich mit dem
Ablagerungswirkungsgrad herkömmlichen Verfahrens rrL'lht siih eine Vprhpsspmnt' um mehr ;ils rl.'S /rhn.
lache.
Mit der Hinrichtung der in I ι g. 2 gezeigten Art wurde eine dünne Cr-Sehieht mit einer Dicke von .15 nm und
eine dünne Fc-Schlcht mit einer Dicke von 50 nm abwechselnd auf ein Substrat (Polyelhylentcrphthalat-IiIm)
von Ι5μπι Dicke abgelagert, um ein magnetisches
Band mit einer Schichtdicke von l70nm zu bilden. Um
die Adhäsionskraft der dünnen Schicht zu prüfen, wurden Klebebänder bi-nutzt: es ergab sich, daß das Gewicht
nach der Prüfung .'wischen 50 und 20^ schwankt. Die
Variation im Ausgang (Empfindlichkeit) bei Wiedergabe in I iincsrichtung war - .IdB. Diese Ergebnisse wurden
erhalten, wenn das Magnetband über die ganze Länge von 2 500 m geprüft wurde.
Hierzu 5 Blatt Zcichnuncen
Claims (5)
1. Verfahren zur Herstellung eines bandförmigen, magnetischen Aufzeichnungsträgers durch Schräg-Bedampfung
eines Substrates mit einer magnetischen Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß die
Bedampfung auf das an einer heiz- oder kühlbaren Trommel anliegende Substrat erfolgt, wobei die
Bedampfungsquelle so angeordnet wird, daß die Verdampfernormale
die Trommelachse nicht schneidet.
2. Verfahren zur Herstellung eines bandförmigen, magnetischen Aufzeichnungsträgers durch Schräg-Bedampfung
eines Substrates mit einer magnetischen Schicht, dadurch gekennzeichnet, daß die Bedampfung
auf das an einer heiz- oder kühlbaren Trommel anliegende Substrat erfolgt, wobei die Bedampfungsquelle
so angeordnet wird, daß die Verdampfernormale die Trommelachse schneidet, und wobei In der
Verdampfernormale eine Blende vorgesehen wird.
3. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß mehret ε drehbare Trommeln
verwendet werden, deren Temperatur unabhänigig voneinander gesteuert wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Bedampfung bei
Anwesenheit eines Sauerstoff enthaltenden Gasstroms in der Nähe des Substrates durchgeführt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das verdampfte magnetische
Material teilweise ionisiert wird.
Applications Claiming Priority (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15959176A JPS5383709A (en) | 1976-12-29 | 1976-12-29 | Preparation of magnetic recording medium |
JP274677A JPS5387706A (en) | 1977-01-12 | 1977-01-12 | Manufacture of magnetic recording medium |
JP52074702A JPS6010370B2 (ja) | 1977-06-22 | 1977-06-22 | 磁気記録媒体の製造方法 |
JP8385177A JPS5419199A (en) | 1977-07-12 | 1977-07-12 | Magnetic recording medium porcess |
JP8637177A JPS5421309A (en) | 1977-07-18 | 1977-07-18 | Production of magnetic recording media |
JP12036277A JPS5453685A (en) | 1977-10-05 | 1977-10-05 | Forming apparatus for film in vacuum |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2758772A1 DE2758772A1 (de) | 1978-07-06 |
DE2758772C2 true DE2758772C2 (de) | 1982-09-30 |
Family
ID=27547724
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE2758772A Expired DE2758772C2 (de) | 1976-12-29 | 1977-12-29 | Verfahren zur Herstellung eines bandförmigen, magnetischen Aufzeichnungsträgers |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4220117A (de) |
CA (1) | CA1096968A (de) |
DE (1) | DE2758772C2 (de) |
FR (1) | FR2376485A1 (de) |
GB (1) | GB1596385A (de) |
NL (1) | NL181059C (de) |
Families Citing this family (49)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4301765A (en) * | 1979-01-10 | 1981-11-24 | Siemens Aktiengesellschaft | Apparatus for generating layers on a carrier foil |
CA1148655A (en) * | 1979-02-23 | 1983-06-21 | Toshinori Takagi | Magnetic recording medium and process for production thereof |
JPS6033289B2 (ja) * | 1979-07-18 | 1985-08-02 | 松下電器産業株式会社 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
DE3046564A1 (de) * | 1979-12-10 | 1981-09-17 | Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara, Kanagawa | "verfahren und vorrichtung zur vakuum-bedampfung" |
US4403002A (en) * | 1979-12-10 | 1983-09-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Vacuum evaporating apparatus |
EP0035870B2 (de) * | 1980-03-07 | 1991-12-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Verfahren zur Herstellung eines magnetischen Aufzeichnungsmediums |
JPS6037527B2 (ja) * | 1980-03-10 | 1985-08-27 | 積水化学工業株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPS56163526A (en) * | 1980-05-20 | 1981-12-16 | Fuji Photo Film Co Ltd | Production of magnetic recording medium |
JPS56165932A (en) * | 1980-05-26 | 1981-12-19 | Tdk Corp | Production of magnetic recording medium |
JPS573223A (en) * | 1980-06-03 | 1982-01-08 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
JPS5736437A (en) * | 1980-08-14 | 1982-02-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Producing device of magnetic recording medium |
JPS6046182B2 (ja) * | 1980-09-17 | 1985-10-15 | 松下電器産業株式会社 | 真空内被膜形成方法ならびに装置 |
JPS5798133A (en) * | 1980-12-05 | 1982-06-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording medium |
JPS57179952A (en) * | 1981-04-24 | 1982-11-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | Method and apparatus for magnetic recording medium |
US4547398A (en) * | 1981-05-15 | 1985-10-15 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method for manufacturing magnetic recording medium |
US4450186A (en) * | 1981-08-20 | 1984-05-22 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and device for manufacturing magnetic recording medium |
US4477489A (en) * | 1981-09-03 | 1984-10-16 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of making magnetic recording medium |
JPS58111127A (ja) * | 1981-12-24 | 1983-07-02 | Ulvac Corp | 耐摩耗性磁気記録体の製造法 |
JPS5961014A (ja) * | 1982-09-29 | 1984-04-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
JPS59148137A (ja) * | 1983-02-14 | 1984-08-24 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPS59160828A (ja) * | 1983-03-01 | 1984-09-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
DE3465647D1 (en) * | 1983-03-08 | 1987-10-01 | Ulvac Corp | A magnetic recording member and a manufacturing method for such a member |
JPS59203238A (ja) * | 1983-04-30 | 1984-11-17 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
US4575475A (en) * | 1983-07-12 | 1986-03-11 | Tdk Corporation | Magnetic recording medium |
JPH0719369B2 (ja) * | 1984-02-02 | 1995-03-06 | 日本ビクター株式会社 | 磁気記録媒体及びその製造法 |
JPH0610856B2 (ja) * | 1984-08-04 | 1994-02-09 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録媒体 |
JPS6173875A (ja) * | 1984-09-17 | 1986-04-16 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 流路幅調整板付き真空蒸着装置 |
WO1987005637A1 (en) * | 1986-03-12 | 1987-09-24 | Tobi Co., Ltd. | Continuous ion plating device for rapidly moving film |
JPH0734332B2 (ja) * | 1986-03-12 | 1995-04-12 | 株式会社ト−ビ | 透明導電性フイルムの製造方法 |
DE3738722C2 (de) * | 1987-11-14 | 1995-12-14 | Leybold Ag | Vorrichtung zum beidseitigen Beschichten von Bändern |
KR940000259A (ko) * | 1992-06-12 | 1994-01-03 | 게리 리 그리스월드 | 테이프 지지체상에서의 다층 필름 제조 시스템 및 방법 |
DE4221620C2 (de) * | 1992-07-01 | 2001-05-23 | Emtec Magnetics Gmbh | Verfahren zum Aufbringen einer dünnen Metallschicht auf ein polymeres Trägermaterial |
DE4227588C2 (de) * | 1992-08-20 | 2001-05-03 | Emtec Magnetics Gmbh | Verfahren zum Aufbringen einer dünnen Metallschicht auf ein polymeres Trägermaterial |
IT1261918B (it) * | 1993-06-11 | 1996-06-04 | Cetev Cent Tecnolog Vuoto | Struttura per deposizione reattiva di metalli in impianti da vuoto continui e relativo processo. |
US5549936A (en) * | 1993-10-20 | 1996-08-27 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Manufacturing method of magnetic recording medium |
JP3614644B2 (ja) * | 1998-02-27 | 2005-01-26 | 松下電器産業株式会社 | 積層体の製造方法 |
JP3933346B2 (ja) * | 1999-05-26 | 2007-06-20 | 正路 朝本 | イオンプレーティングを用いる成膜体の製造方法及び製造装置 |
WO2002086188A1 (en) * | 2001-04-20 | 2002-10-31 | N.V. Bekaert S.A. | Apparatus and method for the deposition of metal or metal oxide coatings on an elongated substrate |
ATE507320T1 (de) * | 2006-03-26 | 2011-05-15 | Lotus Applied Technology Llc | Atomlagenabscheidungssystem und verfahren zur beschichtung von flexiblen substraten |
US8241699B2 (en) * | 2007-03-09 | 2012-08-14 | Panasonic Corporation | Deposition apparatus and method for manufacturing film by using deposition apparatus |
CN101932748B (zh) * | 2008-02-08 | 2012-02-22 | 松下电器产业株式会社 | 蒸镀膜的形成方法 |
DE102008029379A1 (de) * | 2008-06-23 | 2009-08-13 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Anordnung zum Beschichten bandförmiger Foliensubstrate |
US8545926B2 (en) * | 2009-09-09 | 2013-10-01 | Cochlear Limited | Method of forming insulated conductive element having substantially continuously coated sections separated by uncoated gaps |
US8726492B2 (en) * | 2009-09-09 | 2014-05-20 | Cochlear Limited | Insulated conductive element having a substantially continuous barrier layer formed through multiple coatings |
US8460746B2 (en) * | 2009-09-09 | 2013-06-11 | Cochlear Limited | Method of forming insulated conductive element having a substantially continuous barrier layer formed via relative motion during deposition |
CN102639749B (zh) | 2009-10-14 | 2015-06-17 | 莲花应用技术有限责任公司 | 在原子层沉积系统中抑制过量前体在单独前体区之间运送 |
JP5641877B2 (ja) * | 2010-10-29 | 2014-12-17 | 株式会社神戸製鋼所 | プラズマcvd装置 |
TWI565820B (zh) * | 2015-08-06 | 2017-01-11 | 行政院原子能委員會核能研究所 | 卷對卷模組化電漿複合製程設備 |
KR20230018518A (ko) * | 2020-06-04 | 2023-02-07 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 진공 챔버에서 기판을 코팅하기 위한 기상 증착 장치 및 방법 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2925062A (en) * | 1953-05-15 | 1960-02-16 | Heraeus Gmbh W C | Coating apparatus |
US3342632A (en) * | 1964-08-05 | 1967-09-19 | Ibm | Magnetic coating |
DE2146008A1 (de) * | 1971-09-15 | 1973-03-22 | Ibm Deutschland | Verfahren zur herstellung einer magnetischen schicht |
-
1977
- 1977-12-20 GB GB53072/77A patent/GB1596385A/en not_active Expired
- 1977-12-26 FR FR7739205A patent/FR2376485A1/fr active Granted
- 1977-12-28 CA CA294,014A patent/CA1096968A/en not_active Expired
- 1977-12-29 NL NLAANVRAGE7714538,A patent/NL181059C/xx not_active IP Right Cessation
- 1977-12-29 DE DE2758772A patent/DE2758772C2/de not_active Expired
-
1979
- 1979-01-31 US US06/008,083 patent/US4220117A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4220117A (en) | 1980-09-02 |
CA1096968A (en) | 1981-03-03 |
NL181059C (nl) | 1987-06-01 |
GB1596385A (en) | 1981-08-26 |
FR2376485B1 (de) | 1981-12-04 |
DE2758772A1 (de) | 1978-07-06 |
FR2376485A1 (fr) | 1978-07-28 |
NL7714538A (nl) | 1978-07-03 |
NL181059B (nl) | 1987-01-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2758772C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines bandförmigen, magnetischen Aufzeichnungsträgers | |
DE3247831C2 (de) | Verfahren und Gerät zur Herstellung eines abriebfesten magnetischen Aufzeichnungsprodukts | |
DE3113559C2 (de) | ||
DE3212202C2 (de) | Magnetisches Aufzeichnungsmedium | |
DE3214827C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines magnetischen Aufzeichnungsträgers und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens | |
DE3241775C2 (de) | ||
DE3205384A1 (de) | Verfahren zum herstellen eines duennen films aus einem organischen material durch bedampfen | |
DE3121910A1 (de) | Magnetisches aufzeichnungsmedium | |
DE3302900A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines magnetischen aufzeichnungstraegers | |
DE3206793C2 (de) | ||
DE102009007587A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten aus der Dampfphase | |
DE2528103B2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Kristallschicht | |
DE102019107719A1 (de) | Temperierrolle, Transportanordnung und Vakuumanordnung | |
DE3545794C2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Magnetaufzeichnungsmediums | |
DE4106579A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur vakuumverdampfung | |
US5447748A (en) | Method and apparatus for producing magnetic recording medium | |
DE3132106A1 (de) | Vorrichtung zur herstellung eines magnetischen aufzeichungsmediums | |
DE3335165C2 (de) | ||
DE3328896A1 (de) | Magnetischer aufzeichnungstraeger | |
DE3340535C2 (de) | Magnetischer Aufzeichnungsträger sowie Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE3046564C2 (de) | ||
DE3226639A1 (de) | Magnetisches aufzeichnungsmedium | |
DE3527259C2 (de) | Vorrichtung zur Herstellung von Dünnschichten | |
US4395439A (en) | Method of manufacturing magnetic recording medium | |
DE19648749A1 (de) | Magnetisches Dünnfilm-Aufzeichnungsmedium und Verfahren zu seiner Herstellung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OAP | Request for examination filed | ||
OD | Request for examination | ||
D2 | Grant after examination | ||
8363 | Opposition against the patent | ||
8328 | Change in the person/name/address of the agent |
Free format text: SCHWABE, H., DIPL.-ING. SANDMAIR, K., DIPL.-CHEM. DR.JUR. DR.RER.NAT., PAT.-ANW., 8000 MUENCHEN |
|
8331 | Complete revocation |