DE3046564C2 - - Google Patents

Info

Publication number
DE3046564C2
DE3046564C2 DE19803046564 DE3046564A DE3046564C2 DE 3046564 C2 DE3046564 C2 DE 3046564C2 DE 19803046564 DE19803046564 DE 19803046564 DE 3046564 A DE3046564 A DE 3046564A DE 3046564 C2 DE3046564 C2 DE 3046564C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
gap
carrier tape
evaporator
evaporation
carrier
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE19803046564
Other languages
English (en)
Other versions
DE3046564A1 (de
Inventor
Goro Akashi
Ryuji Shirahata
Masaru Odawara Kanagawa Jp Sekine
Kazuyuki Minato Tokio/Tokyo Jp Masugane
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP16010379A external-priority patent/JPS608305B2/ja
Priority claimed from JP16010279A external-priority patent/JPS608304B2/ja
Priority claimed from JP4717480A external-priority patent/JPS6043915B2/ja
Priority claimed from JP6997080A external-priority patent/JPS6043916B2/ja
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Publication of DE3046564A1 publication Critical patent/DE3046564A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE3046564C2 publication Critical patent/DE3046564C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/84Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
    • G11B5/851Coating a support with a magnetic layer by sputtering
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F41/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
    • H01F41/14Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates
    • H01F41/20Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates by evaporation

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Vakuumbe­ dampfung von Trägerbändern, bei dem Trägerband durch mindestens einen Bereich entlang zweier Kreisbögen un­ ter Bildung eines Spaltes, in dem Trägerbandoberflä­ chen einander gegenüberliegen, transportiert und das Bedampfungsmaterial von einer Seite des Spaltes her auf die Trägerbandoberflächen aufgedampft wird, sowie eine Vorrichtung zur Vakuumbedampfung eines Trägerbandes mit mindestens einem Paar drehbarer, einen Spalt be­ grenzender Führungswalzen, die das Trägerband umschlingt, sowie einem, das Bedampfungsmaterial enthaltenden Ver­ dampfer, der auf einer Seite des Spaltes derart ange­ ordnet ist, daß beidseitig des Spaltes Bedampfungsma­ terial auf die Trägerbandoberflächen aufgedampft wird, zur Durchführung des Verfahrens.
Ein solches Verfahren und eine solche Vorrichtung sind aus der US-PS 26 64 853 bekannt. In dieser Druck­ schrift ist sehr allgemein der Aufbau einer Vorrichtung zur Vakuumbedampfung eines Trägerbandes beschrieben. Ins Einzelne gehend, wird eine Dampfquelle beschrieben, die zur Bedampfung des Trägerbandes mit Metall, ins­ besondere Aluminium, geeignet ist. Ausführungen feh­ len darüber, auf welche Weise eine wirkungsvolle Be­ dampfung des Trägerbandes erhalten werden kann.
Aus der DE-OS 27 58 772 ist eine Vorrichtung zur Va­ kuumbedampfung von Trägerbändern bekannt. Das Trä­ gerband wird über eine Walze geführt, unter der ein Verdampfer derart versetzt angeordnet ist, daß die auf diesem errichtete Normale nicht durch den Mittel­ punkt der Walze hindurchgeht. Die Versetzung wird der­ art gewählt, daß der von der Normalen auf den Ver­ dampfer und der Normalen am Bedampfungspunkt auf dem Trägerband eingeschlossene Winkel kleiner als 30° ist. Dadurch wird bei der Herstellung von Magnetbändern eine Erhöhung der Koerzitivkraft verglichen mit der Be­ dampfung, bei der der genannte Winkel Null ist, er­ reicht. In dieser Druckschrift ist auch angegeben, daß ein Trägerband um mehrere Walzen geführt werden kann, unter denen jeweils ein Verdampfer angeordnet ist, um das Trägerband mit Bedampfungsmaterial zu bedampfen. Damit kann eine mehrschichtige Bedampfung erzielt wer­ den.
Die Forderung nach magnetischen Aufzeichnungsmitteln hoher Speicherdichte hat in jüngster Zeit zugenommen. Gleichzeitig wurde ein besonderes Augenmerk auf hoch­ magnetische Metallschichten gelegt, die durch Verfahren wie Vakuumbedampfung, Aufstäubung, Ionenbeschichtung oder ähnliches, gebildet worden sind, die kein Bin­ demittel benötigen und als bindemittelfrei magneti­ sche Aufzeichnungsmedien bezeichnet werden. Es wurden Anstrengungen unternommen, solche bindemittelfreien Arten von Aufzeichnungsmedien in den Handel zu bringen. Von den vorgeschlagenen Verfahren zur Bedampfung bin­ demittelfreier Aufzeichnungsmedien wurde wegen sei­ ner Einfachheit ein Schrägbedampfungsverfahren be­ vorzugt.
Wenn Bedampfungsmaterial unter einem spitzen Winkel auf ein Trägerband aufgedampft wird, so nimmt der Auf­ dampfungswirkungsgrad umso stärker ab, je größer der Winkel zwischen der Normalen auf der Trägerband und der Bedampfungsrichtung ist. Der Grund hierfür be­ steht darin, daß sich die Enddicke der aufgedampf­ ten Schicht mit dem Kosinus des Winkels zwischen der Normalen auf das Trägerband und der Bedampfungs­ richtung ändert.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfah­ ren und eine Vorrichtung der eingangs genannten Art derart weiter zu bilden, daß durch eine entsprechende Bandführung trotz Schrägbedampfung eine größere Schicht­ dicke pro Zeiteinheit erhalten werden kann.
Diese Aufgabe wird in bezug auf das Verfahren dadurch gelöst, daß die Bedampfung von einer Stelle außerhalb des Winkelbereiches, den die beiden durch den Spalt hindurchgehenden, gemeinsamen Tangenten an die Kreis­ bögen begrenzen, ausgeführt wird.
Im Hinblick auf die Vorrichtung wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß der Verdampfer außerhalb des Win­ kelbereiches angeordnet ist, den die beiden durch den Spalt hindurchgehenden, gemeinsamen Tangenten an die Führungswalzen begrenzen.
In vorteilhafter Weise wird durch die Erfindung der Bedampfungswirkungsgrad stark erhöht, da eine Bedamp­ fung gleichzeitig auf beide Abschnitte des durch den Spalt geführten Trägerbands erfolgt. Ferner wird der Schrägbedampfungseffekt, der auf dem Trägerband­ abschnitt der von der Seite des Verdampfers her in den Spalt einläuft, praktisch kompensiert, wenn dieser Trägerbandabschnitt aus diesem Spalt heraus wieder ausläuft.
Vorteilhafte Weiterbildungen des Erfindungsgegenstandes ergeben sich aus den Unteransprüchen.
Der Erfindungsgegenstand wird im folgenden anhand von Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die Zeichnun­ gen näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 eine Schnittdarstellung einer Ausführungs­ form einer Aufdampfungsvorrichtung mit Schrägbedampfung nach der Erfindung,
Fig. 2 eine Schnittdarstellung einer anderen Aus­ führungsform einer Aufdampfungsvorrichtung mit Schrägbedampfung nach der Erfindung, und
Fig. 3 eine Schnittdarstellung eines Trägerbandes, bei dem zusätzlich eine Zwischenschicht aufgedampft wurde.
Fig. 1 zeigt eine Schnittdarstellung einer Aufbedamp­ fungsvorrichtung gemäß einer ersten Ausführungsform nach der Erfindung, wobei eine Vakuumkammer in eine obere Kammer 1 mit einem Unterdruck und eine untere Kam­ mer 2 mit einem Unterdruck unterteilt ist, der einen kleineren Wert als derjenige in der oberen Kammer auf­ weist. Durch nichtdargestellte Teilungswände sind die beiden Kammern 1 und 2 voneinander getrennt. In der oberen Kammer sind Vorrats- und Aufwickelwalzen, die nicht dargestellt sind, für das Trägerband 3 vorge­ sehen. Zwei zylinderförmige Führungswalzen 4 und 5 sind im wesentlichen horizontal nebeneinander unter Begrenzung eines Spaltes 7 und auf etwas unterschied­ lichen Höhen angeordnet. Die Mitten der benachbarten Führungswalzen 4 und 5 sind in senkrechter Richtung versetzt. Das Trägerband 3 wird längs der Führungs­ walze 4, einer Umlenkwalze 8 und der Führungswalze 5 gefördert.
Da der Spalt 7 zwischen den beiden Führungswalzen 4 und 5 ausgebildet ist, gibt es zwischen ihnen zwei gemein­ same Tangenten A und B. Die gemeinsame Tangente A berührt die Führungswalze 4 an einer hohen Stelle und die Führungswalze 5 an einer niederen Stelle, wohin­ gehend die gemeinsame Tangente B die Führungswalze 5 an einer hohen Stelle und die Führungswalze 4 an einer niederen Stelle berührt. Eine Dampfquelle 9 ist unter­ halb des Spalts 7 angeordnet und gleichzeitig ist ein Auslaß 78 der Dampfquelle 9 außerhalb eines Bereiches positioniert, der durch die vorhergehend angegebenen, gemeinsamen Tangenten A und B begrenzt ist, d. h. der schraffierte Bereich in Fig. 1. Insbesondere ist der Auslaß 78 der Dampfquelle 9 an der Seite der gemein­ samen Tangente A, wo sich die Führungswalze 5 be­ findet, unterhalb des Spaltes 7 positioniert. Die Schrägbedampfung des Trägerbandes 3 wird durch die Blenden 10′ und 11′ hindurch durchgeführt.
Der Bedampfungswirkungsgrad ist besonders groß, weil beide Oberflächen des Trägerbandes 3 gleichzeitig be­ dampft werden. Da der Auslaß 78 der Dampfquelle 9 außerhalb des vorhergehend angegebenen, schraffierten Bereiches positioniert ist, wird verhindert, daß der Dampfstrahl durch den Spalt 7 nach oben hindurchtritt. Wie bereits angegeben wurde, wird der Dampfstrahl von der Dampfquelle 9 nach oben ausgesandt, da die Dampfverteilung durch eine cos n -Verteilung (n < 1) beschrieben wird. Dadurch wird der nach oben gerichte­ te Dampfstrahl äußerst wirkungsvoll ausgenutzt. Wenn ein magnetisches Aufzeichnungsmedium hergestellt wer­ den soll, sollte die Dicke des aufgedampften, magne­ tischen Materials im allgemeinen 0,2 µm bis 3,0 µm und vorzugsweise 0,05 µm bis 1,0 µm betragen.
Die folgenden Materialien werden zur Herstellung einer dünnen, magnetischen Schicht vorzugsweise verwendet:
Reine Metalle, Fe, Co, Ni oder ähnliches, ferromagneti­ sche Legierungen unter Einschluß von Fe-Co, Fe-Ni, Co-Ni, Fe-Co-Ni, Fe-Rh, Fe-Cu, Co-Cu, Co-Au, Co-Y, Co-La, Co-Pr, Co-Gd, Co-Sm, Co-Pt, Ni-Cu, Mn-Bi, Mn-Sb, Mn-Al, Fe-Cr, Co-Cr, Ni-Cr, Fe-Co-Cr und Fe- Co-Ni-Cr oder ähnliches. Da eine magnetische Schicht dick sein muß, um bei einem magnetischen Aufzeichnungs­ medium ein ausreichend großes Ausgangssignal zu erhal­ ten und dünn sein muß, um mit großer Dichte aufzu­ zeichnen, sollte die Dicke des aufgedampften magneti­ schen Materials im allgemeinen 0,05 µm bis 1,0 µm und vorzugsweise 0,1 µm bis 0,4 µm betragen. Ein Kunststoff­ träger wie z. B. Polyäthylenterephthalat, Polyimid, Polyamid, Polyvinylchlorid, Cellulose-Triacetat, oder ähnliches, oder ein Metall­ streifen, wie z. B. aus Al, Aluminiumlegierung, Ti, Titanlegierung, nichtrostender Stahl oder ähnliches kann als flexibler Träger verwandt werden.
Die Erhitzung der Verdampfungsquelle kann mittels einer Widerstandserwärmung, mit Hilfe eines Laser­ strahls, mittels einer Hochfrequenzinduktionsheizung, mittels eines Elektronenstrahls oder ähnliches erfolgen. Um das Verdampfungsmaterial zuzuführen, wird vorzugs­ weise das Material in der Form eines Drahtes oder ähnlichem zugeführt.
Fig. 2 zeigt eine andere Ausführungsform einer Vorrich­ tung zur Vakuumbedampfung nach der Erfindung. In ei­ ner Vakuumkammer 111 sind Führungswalzen 112, 113 und 114 horizontal und unter Bildung jeweils eines Spal­ tes 115 und 116 angeordnet. Die Führungswalze 113 ist relativ zu den Führungswalzen 112 und 114 nach unten verschoben. Zu beschichtendes Trägerband 105 wird von einer nichtdargestelltenVorratsrolle zugeführt und nach Durchlaufen der Vorrichtung zur Vakuumbedampfung einer nichtgezeigten Aufwickelrolle zugeführt. Durch Drehung der Führungswalzen 112 bis 114 wird das Trä­ gerband 105 längs der Umfangsflächen der Führungs­ walzen 112 bis 114 gefördert. In dem Spalt 115 wird das Trägerband 105 längs der Führungswalze 112 nach oben und längs der Führungswalze 113 jedoch nach unten bewegt. In der gleichen Weise wird das Trägerband im Spalt 116 längs der Führungswalze 113 nach oben und längs der Führungswalze 114 wiederum nach unten bewegt. Unterhalb der Spalte 115 und 116 sind Verdampfer 137 bzw. 117 angeordnet. Die Auslässe der Verdampfer 137 und 117 sind außerhalb der Bereiche positioniert, die durch die gemeinsamen Tangenten C und D bzw. E und F, nämlich die in Fig. 2 schraffierten Bereiche, begrenzt sind. Gleichzeitig sind die Auslässe der Verdampfer auf der Seite der Führungswalze 113 positioniert. Ferner sind oberhalb der Spalte 115 und 116 zweite Verdampfer 120 bzw. 121 angeordnet. Die Bedampfung erfolgt auf das Trägerband 105, welches sich von der Führungswalze 112 über eine Umlenkwalze 122, längs ei­ ner Führungswalze 118 bzw. auf das Trägerband 105, welches sich von der Führungswalze 113 über eine Um­ lenkwalze 123 längs der Führungswalze 119 bewegt. Jeder bedampfte Abschnitt des Trägerbandes 105 bewegt sich von der Führungswalze 118 bzw. 119, über eine Umlenkwalze 124 bzw. 125 zu der Führungswalze 113 bzw. 114. Wenn erforderlich, sind unterhalb der Führungs­ walzen 112 und 114 weitere Verdampfer 126 bis 128 angeordnet. Eine Vielzahl geeigneter Blenden 129 bis 136 ist vorgesehen, wie es in der Fig. 2 dargestellt ist, um eine unerwünschte Bedampfung anderer Teile zu vermeiden.
Auf diese Weise läßt sich ohne weiteres eine mehrschich­ tige Beschichtung, die eine Vielzahl magnetischer Schichten aufweist, durch die Schrägbedampfung mittels der Quellen 137 und 117 und eine Vielzahl von Zwi­ schenschichten zwischen ihnen herstellen. Die hier be­ schriebene Vorrichtung ist sehr kompakt und einfach. Beispielsweise wird, wenn ein magnetisches Aufzeich­ nungsmedium mittels Vakuumaufdampfung hergestellt wer­ den soll, magnetisches Material in die Verdampfer 137 und 117 eingebracht, um dadurch die Schrägbe­ dampfung auf das Trägerband zu erzielen. Ein Bedamp­ fungsmaterial für eine Unterschicht wird in den Ver­ dampfer 126 eingebracht, und Bedampfungsmaterialien für Zwischenschichten werden in die Verdampfer 120, 121 und 127 eingebracht, und ein Bedampfungsmaterial für eine Schutzschicht wird in den Verdampfer 128 eingebracht.
Als Material für eine Unterschicht oder eine Zwi­ schenschicht wird Cr, Si, Al, Mn, Bi, Ti, Sn, Pb, In, Zn, Cu, deren Oxide oder Nitride verwandt. Als Material für eine Schutzschicht wird Rh, Cu, Cr, Cr- Oxid, Si, Si-Oxid, Al, Al-Oxid, Pt, Au, Pb, Ti, Bn, Ni-Cr, In, In-Oxid, Ti, Ti-Oxid, MgF2 oder andere or­ ganische Materialien verwandt.
Vorzugsweise hat der Verdampfer die Form eines Schiff­ chens, eines Schmelztiegels oder eine ähnliche Form. Es ist möglich, einen bessere Richtungseigenschaften für den Dampfstrom aufweisenden Verdampfer zu verwen­ den, wie er in dem JP-GM 56/4 124, der JP-PS 63/24 220 oder der JP-OS 75/1 081 angegeben ist.
Die schraffierten Bereiche, die durch die gemeinsamen Tangenten A und B, C und D und E und F entsprechend den Spalten 7, 115 und 116 begrenzt sind, können, wenn dieses erwünscht ist, durch Änderung des Durchmessers einen der gegenüberliegenden Führungswalzen verändert werden.
Fig. 3 zeigt im größeren Maßstab eine Schnittdarstellung eines Beispiels eines magnetischen Aufzeichnungsmediums, welches mehrere Aufdampfungsschichten 62, 63 und 64 auf­ weist, die auf ein Trägerband 61 aufgebracht sind, wel­ ches aus einem hochmolekularen Material wie z. B. einer Polyäthylenterephthalatfolie besteht. Ein magnetisches Material, wie z. B. Co, Ni, Fe oder eine Legierung davon, wird z. B. in den Verdampfer 137 der in Fig. 2 dargestellten Vorrichtung eingebracht. Wenn das Träger­ band längs der Führungswalze 112 gefördert wird, er­ folgt eine Schrägbedampfung, durch die eine magneti­ sche Schicht 62 aufgedampft wird. Ein nichtmagneti­ sches Material wie z. B. Al, Cr, Cu oder ähnliches, kann in den zweiten Verdampfer 120 eingebracht werden, der der Führungswalze 118 gegenüberliegt. Das von der Führungswalze 118 wieder in den Ausgangsspalt zurück­ laufende und durch die Führungswalze 113 geförderte Trägerband wird im Spaltbereich erneut mit dem Be­ dampfungsmaterial aus dem Verdampfer 137 schräg be­ dampft, wodurch eine weitere magnetische Schicht 64 ausgebildet wird. Da die jeweiligen durch den Spalt­ bereich bewegten Trägerbandabschnitte eine entgegen­ gesetzte Bewegungsrichtung aufweisen, ist die Rich­ tungsstruktur der Schicht 62 zu derjenigen der Schicht 64 entgegengesetzt.
Es ist offensichtlich, daß z. B. mit der in Fig. 2 dar­ gestellten Vorrichtung eine Vielzahl von magnetischen Schichten und Zwischenschichten wiederholt erzeugt werden kann, so daß eine Mehrschichtausbildung erhal­ ten wird. Auch kann statt einer Vakuumaufdampfung ein Ionenbeschichtungsverfahren o. ä. verwendet werden, um die Zwischenschicht auszubilden.

Claims (10)

1. Verfahren zur Vakuumbedampfung von Trägerbändern, bei dem Trägerband durch mindestens einen Bereich ent­ lang zweier Kreisbögen unter Bildung eines Spaltes, in dem Trägerbandoberflächen einander gegenüberliegen, transportiert und das Bedampfungsmaterial von einer Seite des Spaltes her auf die Trägerbandoberflächen aufgedampft wird, dadurch gekennzeichnet, daß die Bedampfung von einer Stelle außerhalb des Winkelbereiches, den die beiden durch den Spalt hin­ durchgehenden, gemeinsamen Tangenten an die Kreisbö­ gen begrenzen, ausgeführt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Trägerband unter Berüh­ rung der einander gegenüberliegenden Oberflächen durch den Spalt transportiert wird und daß die einander gegenüberliegenden Trägerbandoberflächen in der gleichen Richtung durch den Spalt bewegt werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß sich die einander gegenüber­ liegenden Trägerbandoberflächen in entgegengesetzte Richtung durch den Spalt bewegen und daß das aus dem Spalt herauslaufende Trägerband derart über parallele Wal­ zen mit in der Höhe versetzten Mittelachsen geführt wird, daß ein direkter Durchtritt des Dampfstrahls durch den Spalt verhindert wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1 bis 3, dadurch ge­ kennzeichnet, daß das Trägerband zwischen dem Herauslaufen aus dem Spalt und dem erneuten Ein­ treten in denselben Spalt mit einem Zwischenschicht­ material bedampft wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Trä­ gerband durch mehrere Spalte geführt wird, in denen sich die Trägerbandoberflächen jeweils in entgegenge­ setzte Richtung bewegen, und daß für jeden Spalt ein eigener Verdampfer für das Bedampfungsmaterial verwendet wird.
6. Vorrichtung zur Vakuumbedampfung eines Träger­ bandes mit mindestens einem Paar drehbarer, einen Spalt begrenzender Führungswalzen, die das Trägerband um­ schlingt, sowie einem das Bedampfungsmaterial ent­ haltenden Verdampfer, der auf einer Seite des Spal­ tes derart angeordnet ist, daß beidseitig des Spal­ tes Bedampfungsmaterial auf die Trägerbandoberflä­ chen aufgedampft wird, nach den Ansprüchen 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß der Ver­ dampfer (137, 117) außerhalb des Winkelbereiches angeordnet ist, den die beiden durch den Spalt (115, 116) hindurchgehenden, gemeinsamen Tangenten (C, D; W, F) an die Führungswalzen (112, 113, 114) begrenzen.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch ge­ kennzeichnet, daß nebeneinander mehrere, von dem Trägerband (105) umschlungene, drehbare Füh­ rungswalzen (112, 113, 114) unter Bildung eines Spaltes (115, 116) zwischen jeweils benachbarten Führungswalzen (112, 113 und 113, 114) angeordnet sind, daß auf der gleichen Seite der Spalte (115, 116) für jeden Spalt (115, 116) ein Verdampfer (137, 117) vorgesehen ist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch ge­ kennzeichnet, daß der Winkel, der von dem aus dem Spalt (7) herauslaufenden und in den­ selben Spalt (7) einlaufenden Trägerbandes (3) ein­ geschlossen und von den gemeinsamen Tangenten A und B begrenzt ist, außerhalb der Austrittsöffnung der Dampf­ quelle (9) liegt.
9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 6 und 7, dadurch gekennzeichnet, daß das aus einem Spalt (115; 116) auslaufende Trägerband (105) an einem weiteren Verdampfer (120; 121) vorbeiführ­ bar ist, durch den auf das Trägerband (105) ein Zwi­ schenschichtmaterial aufdampfbar ist.
10. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch ge­ kennzeichnet, daß die Spalten so bemessen sind, daß sich in den Spalten die zueinander weisen­ den Trägerbandoberflächen berühren und daß das sich durch einen Spalt bewegende Trägerband in dem Spalt die gleiche Bewegungsrichtung aufweist.
DE19803046564 1979-12-10 1980-12-10 "verfahren und vorrichtung zur vakuum-bedampfung" Granted DE3046564A1 (de)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP16010379A JPS608305B2 (ja) 1979-12-10 1979-12-10 真空蒸着法
JP16010279A JPS608304B2 (ja) 1979-12-10 1979-12-10 真空蒸着法
JP4717480A JPS6043915B2 (ja) 1980-04-10 1980-04-10 真空蒸着方法
JP6997080A JPS6043916B2 (ja) 1980-05-26 1980-05-26 真空蒸着法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE3046564A1 DE3046564A1 (de) 1981-09-17
DE3046564C2 true DE3046564C2 (de) 1987-10-22

Family

ID=27462003

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19803046564 Granted DE3046564A1 (de) 1979-12-10 1980-12-10 "verfahren und vorrichtung zur vakuum-bedampfung"

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE3046564A1 (de)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5968815A (ja) * 1982-10-12 1984-04-18 Sony Corp 磁気記録媒体
JPS59148137A (ja) * 1983-02-14 1984-08-24 Fuji Photo Film Co Ltd 磁気記録媒体の製造方法
JP2523279B2 (ja) * 1986-05-02 1996-08-07 ティーディーケイ株式会社 磁気記録媒体およびその製造方法
DE4112095A1 (de) * 1991-04-12 1992-10-15 Basf Magnetics Gmbh Verfahren zur herstellung eines magnetischen aufzeichnungstraegers
IT1261918B (it) * 1993-06-11 1996-06-04 Cetev Cent Tecnolog Vuoto Struttura per deposizione reattiva di metalli in impianti da vuoto continui e relativo processo.
WO2012072132A1 (en) * 2010-12-01 2012-06-07 Applied Materials, Inc. Evaporation unit and vacuum coating apparatus

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2664853A (en) * 1952-05-12 1954-01-05 Nat Res Corp Apparatus for vapor coating
DE1078402B (de) * 1956-12-06 1960-03-24 Heraeus Gmbh W C Vorrichtung zum Vakuumbedampfen von Baendern
US3227132A (en) * 1962-12-31 1966-01-04 Nat Res Corp Apparatus for depositing coatings of tin on a flexible substrate
DE2141723B2 (de) * 1971-08-20 1976-03-04 Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart Vakuum-bedampfungsanlage zur kontinuierlichen bedampfung von baendern
GB1596385A (en) * 1976-12-29 1981-08-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Methods and apparatus for manufacturing magnetic recording media

Also Published As

Publication number Publication date
DE3046564A1 (de) 1981-09-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2758772C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines bandförmigen, magnetischen Aufzeichnungsträgers
DE3113559C2 (de)
DE3247831C2 (de) Verfahren und Gerät zur Herstellung eines abriebfesten magnetischen Aufzeichnungsprodukts
DE3212381C2 (de) Magnetische Aufzeichnungsmedien und Verfahren zu ihrer Herstellung
EP0062764B1 (de) Verfahren zur Herstellung einer metallischen Dünnfilm-Magnetplatte und Anordnung zur Durchführung dieses Verfahrens
DE3212202C2 (de) Magnetisches Aufzeichnungsmedium
DE3121910A1 (de) Magnetisches aufzeichnungsmedium
DE3214827C2 (de) Verfahren zur Herstellung eines magnetischen Aufzeichnungsträgers und Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens
DE3232520C2 (de)
DE3046564C2 (de)
DE3132106A1 (de) Vorrichtung zur herstellung eines magnetischen aufzeichungsmediums
DE4106579A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur vakuumverdampfung
DE3226639A1 (de) Magnetisches aufzeichnungsmedium
DE3335165C2 (de)
DE3120988A1 (de) Verfahren zur herstellung eines magnetischen aufzeichnungsmediums
DE3527259C2 (de) Vorrichtung zur Herstellung von Dünnschichten
DE3336987A1 (de) Magnetisches aufzeichnungsmedium
DE3340535A1 (de) Magnetisches aufzeichnungsmittel und verfahren zu dessen herstellung
DE2007842A1 (de)
DE4134517A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung eines magnetischen aufzeichnungsmediums
DE3740483A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum beschichten von materialbahnen mit einer offenen tiefenstruktur
DE19648749A1 (de) Magnetisches Dünnfilm-Aufzeichnungsmedium und Verfahren zu seiner Herstellung
DE4227588C2 (de) Verfahren zum Aufbringen einer dünnen Metallschicht auf ein polymeres Trägermaterial
DE3534907A1 (de) Verfahren zum herstellen eines magnetaufzeichnungstraegers
DE3501561A1 (de) Magnetisches aufzeichnungsmedium

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee