DE3527259C2 - Vorrichtung zur Herstellung von Dünnschichten - Google Patents
Vorrichtung zur Herstellung von DünnschichtenInfo
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Description
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung
zum Aufbringen eines gleichmäßigen dünnen Films aus Metall,
anorganischem Material oder organischem Material auf einem
Grundmaterial oder Substrat mittels Vakuumaufdampfen gemäß dem
Oberbegriff des Anspruchs 1.
Vakuumaufdampftechniken werden in großem Umfang in vielen
technischen Gebieten eingesetzt, um dünne Filme auf band
förmigen Grundmaterialien aufzubringen. Insbesondere werden
sie zur Herstellung von dünnen Filmen bei der Fertigung von
magnetischen Aufzeichnungsmedien verwendet. Ein großer Vorteil
der Vakuumaufdampftechniken liegt darin, daß diese für eine
industrielle Anwendung aufgrund ihrer hohen Ablagerungsraten
äußerst geeignet sind. Zum gegenwärtigen Zeitpunkt werden
Filme bzw. Überzüge zu dekorativen Zwecken, Zinkelektroden
filme (für Kondensatoren) und Aluminiumfilme in großem Umfang
mittels Vakuumaufdampftechniken hergestellt.
Die Verwendung von Vakuumaufdampftechniken wurde vor kurzem
auf die Herstellung von magnetischen Aufzeichnungsmaterialien
ausgedehnt, wobei intensive Studien bezüglich magnetischer
Aufzeichnungsmedien vom Dünnmetallfilm-Typ durchgeführt worden
sind, die mittels Ablagerung dünner Filme magnetischer Metalle
auf Grundmaterialien hergestellt werden.
Im Vergleich mit üblichen magnetischen Aufzeichnungsmedien,
die vom sogenannten "Umzugs-Typ" sind, die durch Beschichten
oder Überziehen und Trocknen von Dispersionen magnetischer
Teilchen hergestellt werden und Zusätze, wie z. B. Bindermittel
benötigen, haben die neuen Medien unter
Verwendung dünner magnetischer Metallfilme als Aufzeich
nungsschichten einen deutlichen Vorteil, nämlich deutlich
höhere Aufzeichnungsdichten. Legierungen auf Kobalt-Basis
werden gegenwärtig verwendet, um dünne Metallfilme herzu
stellen, jedoch haben Medien, die durch einfaches Ablagern
dünner Filme dieser Legierungen auf Substraten bzw. Grund
materialien gebildet werden, den Nachteil niedriger Dauer
haftigkeit und hoher Rauschpegel. Ein wirksames Verfahren,
das zum Beseitigen dieser Probleme vorgeschlagen worden
ist, verwendet ein Gas, das während der Dünnfilmablagerung
in das Vakuumsystem eingebracht wird (z. B. wird auf die
ungeprüfte, veröffentlichte japanische Patentanmeldung
Nr. 41443/1983 verwiesen, die im Namen der vorliegenden
Erfinder eingereicht worden ist). Bei diesem Verfahren, bei
dem ein Gas in die Vakuumarbeitskammer mittels geeigneter
Einrichtungen eingebracht wird, muß eine gleichmäßige Gas
verteilung in der Querrichtung eines länglichen, bandför
migen Grundmaterials gewährleistet werden.
Fig. 1 zeigt ein schematisches Diagramm eines üblichen
Dünnfilmherstellungsgerätes. Das Gerät enthält eine Vakuum
kammer 1 mit einer zylindrischen Kühltrommel 2. Ein band
förmiges Grundmaterial 3 bewegt sich um die Trommel 2, wo
bei ein durch die Verdampfungsquelle 4 verdampftes Mate
rial auf der Oberfläche des sich bewegenden Grundmaterials
3 abgelagert wird. Düsen 5 bis 10 sind quer zur Breite des
Grundmaterials 3 vorgesehen, mit denen ein ausgewähltes
Gas in die Vakuumkammer 1 eingeblasen wird. Tore bzw.
Durchtritte 11 bis 16 sind in der Wand der Kammer 1 vorge
sehen. Ein Gasstrom, der von einem Gasbehälter 17 ausgeht,
läuft durch die Flußregeleinheiten 18 bis 21, wobei je
weilige Gasströme, die diese Einheiten erregen, durch die
Tore bzw. Durchtrittsöffnungen 11 bis 16 zu den Düsen 5
bis 10 geführt werden.
Ein Nachteil des in Fig. 1 gezeigten Gerätes besteht darin,
daß bei Grundmaterialien mit einer hohen Breite das Gerät
kompliziert ist, da eine Vielzahl von Düsen in der Vakuum
kammer vorgesehen werden muß. Darüber hinaus muß eine Anzahl
von Flußsteuereinheiten, die der Anzahl von Düsen oder Röhr
chen entspricht, vorgesehen sein, das nicht nur den Betrieb
des gesamten Systems kompliziert gestaltet, sondern was eben
falls die Betriebskosten anhebt. Darüber hinaus sind unver
meidbare Variationen in den Eigenschaften der einzelnen Fluß
steuereinheiten oder in ihren Sitzen vorhanden, die zu einer
Variation der Charakteristika des abgelagerten Dünnfilms in
der Querrichtung des Grundmaterials führen.
Aus der JP-A-54-053685 ist eine Vorrichtung zum Herstellen von
Dünnfilmen bekannt mit einer Vakuumapparatur, in der ein band
förmiges Substrat an einer Aufdampfeinrichtung unter Gegenwart
eines Gases zum Bilden eines magnetischen Aufzeichnungsmediums
vorbeibewegt wird. Das Gas tritt dabei durch ein Nadelventil
in die Vakuumapparatur ein.
Aus der JP-A-56-016667 ist ein Elektronenstrahlverfahren zum
Bilden eines dünnen Kobaltfilms mit verbesserten Eigenschaften
bekannt. Es wird dabei ein Filmsubstrat an einer Verdampfungs
quelle vorbeibewegt, wobei eine Vorrichtung vorgesehen ist, um
den Auftreffwinkel der verdampften Partikel auf das Filmsub
strat auf einen bestimmten Winkelbereich einzuschränken. Der
Vorgang wird unter Bereitstellen von Sauerstoffgas während der
Kobaltabscheidung ausgeführt.
Aus der US-PS 4 450 186 ist ein Verfahren und eine Vorrichtung
zum Herstellen eines magnetischen Aufzeichnungsmediums be
kannt, bei dem ein Gas in eine Vakuumeinheit eingespeist wird,
wobei die Einspeisevorrichtung aus einer plattenförmigen Vor
richtung besteht, die einen einzigen Gaszuleitungskanal und
eine Vielzahl von Gasausgangskanälen aufweist. Ein Verzwei
gungsmechanismus in der Plattenvorrichtung ist weder aus den
Zeichnungen noch aus der Beschreibung der Patentschrift zu
entnehmen.
Bei den im Stand der Technik bekannten Vorrichtungen und Ver
fahren zum Herstellen von dünnen Filmen ist es ein Problem,
die Gaskonzentration in der Nähe des Substrats und damit die
resultierende Filmdicke zufriedenstellend zu kontrollieren.
Es ist daher eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine ver
besserte Vorrichtung zur Herstellung von Dünnschichten auf
einem sich bewegenden, handförmigen Grundmaterial durch Vakuum
aufdampfen in Gegenwart eines in ein Vakuumsystem eingebrachten
Gases zu schaffen, das in der Lage ist, eine Dicke der herge
stellten Dünnschicht in Richtung der Breite des Bandes zu kon
trollieren.
Diese Aufgabe wird durch eine eingangs genannte Vorrichtung zum
Herstellen von Dünnschichten mit den im Kennzeichen des An
spruchs 1 genannten Merkmalen gelöst.
Erfindungsgemäß wird ein Gerät geschaffen, um einen Dünnfilm
auf einem sich bewegenden bandförmigen Grundmaterial durch
Vakuumaufdampfen mittels eines in ein Vakuumsystem durch wenig
stens einen Kanal eingebrachten Gases zu bilden, wobei der sich
ergebende Gasstrom an vielen Stufen symmetrisch verzweigt wird,
um einen in der Querrichtung des bandförmigen Grundmaterials
gleichmäßigen Gasstrom eines Gases von einer Verdampfungsquelle
mittels einer Mehrzahl von Düsen zu bilden.
Ein Dünnfilmherstellungsgerät gemäß der vorliegenden Erfindung
enthält eine Vakuumkammer, die mit einer Verdampfungseinrich
tung ausgerüstet ist, eine Transportmechanik zum Bewegen des
bandförmigen Grundmaterials, wenigstens einen Kanal zum Ein
bringen von Gas in die Vakuumkammer und eine vielstufige symme
trische Gasverzweigungsmechanik, die zwischen dem Kanal und den
Düsen nahe des Weges des Grundmaterials innerhalb der Vakuum
kammer angeordnet ist.
Der Begriff "Vakuumverdampfung", der in der vorliegenden Be
schreibung verwendet wird, bezeichnet sämtliche Techniken, bei
denen ein Material, mit dem ein dünner Film herzustellen ist,
thermisch in einem Niederdruckgas oder in einem Vakuum ver
dampft wird, wobei der sich ergebende Dampfstrom gegen ein
Grundmaterial gerichtet wird, um auf diesem einen Dünnfilm aus
zubilden. Derartige Techniken beinhalten nicht nur die Vakuum
verdampfung in dem engen Sinne dieses Begriffs, sondern ebenso
eine Vielzahl von Ionen-Plattierungs-Techniken.
Ein Ausführungsbeispiel nach dem Stand der Technik sowie bevor
zugte Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden
nachfolgend unter Bezugnahme auf die beiliegenden Zeichnungen
näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Ansicht eines bekannten Dünnfilmher
stellungsgerätes;
Fig. 2 eine schematische Darstellung eines Dünnfilmherstel
lungsgerätes gemäß der vorliegenden Erfindung;
Fig. 3A bis 3C verschiedene Ausführungsformen von vielstufigen
Gasverzweigungsmechanismen, die einen Teil
des erfindungsgemäßen Gerätes gemäß Fig. 2 bilden;
und
Fig. 4A und 4B graphische Darstellungen vom Prüfergebnissen
von magnetischen bandförmigen Medien, die mit dem
bekannten Gerät und mit dem erfindungsgemäßen Ge
rät hergestellt worden sind.
Fig. 2 zeigt eine schematische Darstellung eines Dünnfilm
herstellungsgerätes, das gemäß der vorliegenden Erfindung
aufgebaut ist. Eine Vakuumkammer 22 (von der lediglich ein
Teil dargestellt ist), enthält eine zylindrische Kühltrom
mel 23, auf der ein bandförmiges Trägermaterial 24 in der
durch den Pfeil 25 angegebenen Richtung transportiert wird.
Unterhalb der Trommel 23 ist eine Verdampfungsquelle 26 an
geordnet, die mit einem zu verdampfenden Material geladen
ist. Der Dampfstrom von der Quelle 26 wird gegen das Träger
material 24 gerichtet, das sich längs der Trommel 23 be
wegt. Nahe der Trommel 23 sind Düsen 27 bis 32 angeordnet,
die ein Gas ausblasen. Außerhalb der Kammer 22 ist eine
Flußsteuereinheit 33 angeordnet, die einen konstanten Gas
fluß in die Kammer 22 über ein Gaseinlaßtor 34 bewirkt.
Eine sich vielfach verzweigende Gasaufteilungsmechanik (die
nicht dargestellt ist) liegt zwischen dem Tor 34 und den
Düsen 28 bis 32. Eine Gasflußsteuereinheit 33 ist an einem
Gasbehälter 35 angeschlossen, der strömungsmäßig oberhalb
der Einheit 33 angeordnet ist.
Die Fig. 3A und 3B zeigen zwei Ausführungsbeispiele der
Gasverzweigungsmechanismen. Die Fig. 3A zeigt eine Röhren
anordnung mit einer vielfach verzweigten Struktur, während
die Fig. 3B eine einfache Metallschicht darstellt, in der
ein vielfach verzweigter Kanal ausgebildet ist. In jedem
Fall wird der Kanal, der sich vom Tor 34 aus erstreckt, in
zwei Äste unterteilt, von denen sich jeder wiederum in zwei
weitere Äste unterteilt, usw., bis die Anzahl der Äste der
letzten Stufe der Anzahl der Düsen 36 entspricht. Der
Kanal, der sich von dem Tor aus erstreckt, sowie die nach
folgenden Äste, können mit Röhren realisiert sein oder in
Abweichung hiervon als mehrstufige Kerbenstruktur herge
stellt sein, die in einer Metallfolie 27 ausgebildet ist,
welche mit einer Überzugsschicht 38 abgeschlossen ist.
Eine symmetrische Verzweigung ist wichtig unter dem Ge
sichtspunkt eines Gleichgewichts in der Flußmenge des
Gases, das die beiden Kanäle in der Querrichtung des band
förmigen Grundmaterials durchläuft. Wie in Fig. 3C darge
stellt ist, kann eine Gasfalle 39 an jedem Verzweigungs
punkt der letzten Stufe vorgesehen sein. Die Anzahl der
Ausblasdüsen sollte in Übereinstimmung mit der Breite des
bandförmigen Grundmaterials bestimmt werden, wobei als
Richtschnur für die Festlegung eine einzelne Düse eine
Breite von ungefähr 10 bis 50 mm abdeckt. Es sei angenommen,
daß die Kühltrommel einen Radius R hat, und daß die Ent
fernung vom Mittelpunkt der Trommel bis zu jeder Düse r
beträgt, wobei in diesem Fall die Düsen derart angeordnet
sein sollen, daß das Verhältnis r/R im Bereich von 1,01
bis 1,20 liegt.
Wenn magnetische Aufzeichnungsmedien mit diesem erfindungs
gemäßen Gerät hergestellt werden sollen, können dünne mag
netische Filme aus ferromagnetischen Materialien herge
stellt werden, wie z. B. aus Fe, Co und Ni, oder können aus
folgenden ferromagnetischen Legierungen hergestellt wer
den: Fe-Co, Fe-Ni, Co-Ni, Fe-Co-Ni, Fe-Rh, Fe-Cu,
Co-Cu, Co-Au, Co-Y, Co-La, Co-Pr, Co-Gd, Co-Sm, Co-Pt, Ni-
Cu, Mn-Bi, Nn-Sb, Mn-Al, Fe-Cr, Co-Cr, Ni-Cr, Fe-Co-Cr,
und Fe-Co-Ni-Cr.
Der magnetische Film muß dick genug sein, um ein ausrei
chend starkes Ausgangssignal für die magnetische Wiedergabe
und Aufzeichnung zu gewährleisten, sollte jedoch auch dünn
genug sein, um ein Aufzeichnen mit hoher Dichte zu ermög
lichen. Als Kompromiß zwischen diesen gegenläufigen Forde
rungen wird die magnetische Filmdicke üblicherweise zwi
schen 0,02 und 5,0 µm, vorzugsweise zwischen 0,05 und
2,0 µm eingestellt.
Geeignete bandförmige Grundmaterialien sind Kunststoff
grundmaterialien aus Polyäthylen-Terephthalat, Polyimid,
Polyamid, Polyvinylchlorid, Triacetylzellulose, Poly
äthylennaphthalat, sowie aus Metallstreifen, die aus
Aluminium, Aluminiumlegierungen, Titan, Titanlegierungen
sowie Edelstahl bestehen.
Die Aufdampfquelle kann mittels jeglicher, bekannter Heiz
techniken beheizt werden, wie beispielsweise mittels einer
Widerstandsheizung, einer Hochfrequenzheizung, einer Elek
tronenstrahlheizung und einer Laserstrahl-Heizung.
Eine Vielzahl von Gasen kann in die Vakuumkammer einge
bracht werden, einschließlich O2, N2, Ar, He, Ne, Kr, Xe,
Rn, CO2, CO, NO2 und Ozon, wobei diese Gase entweder an
sich oder in einer gemischten Form verwendet werden können.
Die Geschwindigkeit, mit der diese Gase in die Kammer ein
gebracht werden, können nicht auf jeglichen beliebigen
Wert eingestellt werden, da die Geschwindigkeit in hohem
Maße abhängig ist von der Kapazität der Vakuumkammer, der
Verdrängungsgeschwindigkeit der Vakuumpumpe, der Auslegung
der Kammer, der Verdampfungsmenge des magnetischen Materials,
der Transportgeschwindigkeit des Grundmaterials und der
Breite des Grundmaterials sowie von der Art des magneti
schen Materials.
Es wurden Probekörper magnetischer Bandmaterialien unter
Verwendung von Vakuumaufdampfsystemen des sogenannten
Windungs-Types hergestellt, dessen wesentliche Teile in den
Fig. 1 und 2 dargestellt sind. Das Grundmaterial war ein
Polyäthylenterephthalat-Film mit 300 mm Breite und 12
µm Dicke, auf dem ein Dünnfilm aus einer Legierung
Kobalt-20-Gew.-%-Nickel schräg aufgedampft worden ist (in
einem schrägen Winkel bezüglich der Oberfläche des Grund
materials). Bei jedem Ablagerungssystem waren die das Gas
ausblasenden Düsen in 30 mm-Abständen längs der Breite des
Substrates angeordnet. Die Kühltrommel hatte einen Radius
R von 250 mm, wobei jede Düse die Bedingung r/R = 1,1
erfüllt. Der Polyäthylen-Terephthalat-Film wurde mit einer
Geschwindigkeit von 40 m/min transportiert, wobei ein
O2-Gas ständig mit einer Geschwindigkeit von 1,000 ml/min
während des Aufdampfprozesses zugeführt worden ist. Unter
diesen Bedingungen wurde ein magnetischer Film mit einer
Dicke von 0,12 µm aufgebracht.
Um die Gleichförmigkeit der Charakteristika eines jeden
Bandes in der Querrichtung zu überprüfen, wurden die
optische Dichte (O.D.) und die magnetische Flußdichte
(Br) quer zur Bandbreite gemessen. Die optische Dichtemes
sung wurde mit einem Mikrophotometer ausgeführt, das von
der Firma Union Optical Company, Limited hergestellt wird,
mittels einer Quecksilberlampe mit einer Zielfläche von
15 µm auf einer Seite. Die Ergebnisse sind in der Fig.
4A festgehalten. Die Flußdichtemessung wurde bezüglich
ausgeschnittenen Bandprobekörpern der Größe 5 mm × 10 cm
mit einem Magnetometer mit sich bewegendem Probekörper
ausgeführt. Die Ergebnisse dieser Messung sind in der Fig.
4B dargestellt. In jeder graphischen Darstellung bezieht
sich die gepunktete Linie auf die Probekörper, die mit dem
üblichen Gerät nach dem Stand der Technik hergestellt wor
den sind, wobei die durchgezogene Linie diejenigen Probe
körper bezeichnet, die mit dem erfindungsgemäßen Gerät her
gestellt worden sind. Offensichtlich weisen die Probekörper,
die mit dem erfindungsgemäßen Gerät hergestellt worden sind,
gleichmäßigere Charakteristika in der Querrichtung der
Bandbreite auf wie diejenigen Probekörper, die auf übliche
Art und Weise hergestellt worden sind. Das bekannte Gerät
verwendet zehn Durchflußsteuereinheiten, was offensichtlich
die Ursache der Variationen der Charakteristika quer zur
Bandbreite entweder aufgrund von Variationen in den Eigen
schaften einer jeden Steuereinheit oder aufgrund von Varia
tionen in der Einstellung der einzelnen Steuereinheiten
ist.
Die Wirkung einer verlängerten Aufdampfung auf die Band
stabilität wurde durch Amplitudenmessung des Modulations
rauschens (4 MHz) überprüft, das bei Signalen mit einer
Trägerfrequenz von 5 MHz auftritt, die auf Probekörper, die
in der Mitte aufgeschnitten worden sind, mittels eines
Videobandgerätes vom VMS-Typ aufgezeichnet worden sind.
Drei Punkte des Bandes wurden für die Rauschmessung ausge
wählt, von denen einer in der Mitte des Bandes und die
anderen beiden 100 µm von der Mitte in der Richtung der
Breite des Bandes entfernt liegen. Die Stabilität des
Probekörpers, der gemäß der vorliegenden Erfindung herge
stellt worden ist, wurde mit derjenigen des üblichen, nach
dem Stand der Technik gefertigen Probekörpers verglichen.
Vollständig gleiche Ergebnisse wurden nicht nur erzielt,
wenn das O2-Gas durch N2-Gas oder durch Styrol-Gas ersetzt
wird, sondern ebenso, wenn ein Ionen-Beschichten mit einer
Hochfrequenzspule ausgeführt wird, die zwischen der Kühl
trommel und der Verdampfungsquelle angeordnet ist.
Wie oben beschrieben ist, geht das erfindungsgemäße Gerät
von einem ziemlich einfachen Mechanismus zum Erzeugen eines
magnetischen Aufzeichnungsmediums mit gleichmäßigem Charak
teristika quer zu seiner Breite aus. Das Gerät ermöglicht
ebenfalls eine einfache Steuerung der Flußgeschwindigkeit
des zugeführten Gases während der Bandherstellung aufgrund
der Tatsache, daß das Gerät lediglich eine Flußsteuereinheit
verwendet, die eingestellt und überwacht werden muß.
Daher kann erfindungsgemäß ein bandförmiger Körper mit
einem Dünnfilm vakuumbeschichtet werden, der gleichmäßige
Charakteristika quer zur Bandbreite aufweist. Darüber
hinaus ermöglicht die vorliegende Erfindung eine Senkung
der Kosten durch Steigerung der Herstellungsmenge an läng
lichen Bandmaterialien.
Claims (7)
1. Vorrichtung zur Herstellung von Dünnschichten auf einem
sich bewegendem, bandförmigen Grundmaterial (24) durch
Vakuumaufdampfen in Gegenwart eines in das Vakuumsystem ein
gebrachten Gases, mit
einer Vakuumkammer (22) mit einer Verdampfereinrichtung (26),
einem Transportmechanismus (23) zum Bewegen des bandförmigen Grundmaterials (24) durch die Vakuumkammer (22), und
wenigstens einem Kanal (34, 35) zum Einführen des Gases in die Vakuumkammer (22), dadurch gekennzeichnet, daß der Kanal (34, 35) über einen mehrstufigen Gasverzweigungs mechanismus (36 bis 39) mit einer Vielzahl von Gasauslaß düsen (27 bis 32), die neben dem bandförmigen Grundmaterial in der Vakuumkammer (22) angeordnet sind, verbunden ist, und daß der mehrstufige Gasverzweigungsmechanismus (36 bis 39) eine Vielzahl von sich auf symmetrische Weise von dem Kanal (34, 35) aus verzweigenden Wegen (36) aufweist.
einer Vakuumkammer (22) mit einer Verdampfereinrichtung (26),
einem Transportmechanismus (23) zum Bewegen des bandförmigen Grundmaterials (24) durch die Vakuumkammer (22), und
wenigstens einem Kanal (34, 35) zum Einführen des Gases in die Vakuumkammer (22), dadurch gekennzeichnet, daß der Kanal (34, 35) über einen mehrstufigen Gasverzweigungs mechanismus (36 bis 39) mit einer Vielzahl von Gasauslaß düsen (27 bis 32), die neben dem bandförmigen Grundmaterial in der Vakuumkammer (22) angeordnet sind, verbunden ist, und daß der mehrstufige Gasverzweigungsmechanismus (36 bis 39) eine Vielzahl von sich auf symmetrische Weise von dem Kanal (34, 35) aus verzweigenden Wegen (36) aufweist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
die Wege (36) durch erste zwei Zweige, die sich von dem
Kanal (34, 35) aus verzweigen, zweite zwei Zweige, die sich
jeweils von den ersten Zweigen aus verzweigen, dritte zwei
Zweige, die sich jeweils von den zweiten Zweigen aus ver
zweigen, usw., festgelegt sind, bis eine Anzahl von Zweigen
erreicht ist, die der Anzahl der Gasauslaßdüsen (27 bis 32)
entspricht.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die Zweige durch Röhren (36) gebildet sind.
4. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die Zweige durch Rillen (36) gebildet sind, die in einem
Metallblech (37) ausgebildet sind.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch
gekennzeichnet, daß eine Vielzahl von Gasfallen (39) vor
gesehen ist, von denen jede an jeweils einem Verzweigungs
punkt der letzten Stufe der Zweige (36) angeordnet ist.
6. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
der Transportmechanismus eine Kühltrommel (23) aufweist.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß
eine Entfernung r zwischen den Gasauslaßdüsen (27 bis 32)
und einem Zentrum der Trommel (23) derart ist, daß ein Ver
hältnis r/R, bei dem R ein Radius der Trommel (23) ist,
innerhalb des Bereichs von 1,01 bis 1,20 liegt.
Applications Claiming Priority (1)
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DE4019965A1 (de) * | 1990-06-21 | 1992-01-09 | Deutsche Forsch Luft Raumfahrt | Verfahren und vorrichtung zum beschichten von substratmaterial |
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DE10045958B4 (de) * | 2000-09-16 | 2008-12-04 | Muegge Electronic Gmbh | Vorrichtung zum Leiten eines gasförmigen Mediums in eine und/oder aus einer Prozeßkammer |
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Publication number | Publication date |
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