DE3328896A1 - Magnetischer aufzeichnungstraeger - Google Patents

Magnetischer aufzeichnungstraeger

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DE3328896A1
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magnetic metal
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DE19833328896
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English (en)
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Kenichi Yokohama Kanagawa Baba
Kenji Yazawa
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Original Assignee
Sony Corp
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Description

TER MEER. MÜLLER. STEINUEISTER-...··..· 'SPNY. ·/ SÖ2P170
BESCHREIBUNG
Die Erfindung betrifft einen magnetischen Aufzeichnungsträger gemäß dem Oberbegriff des Hauptanspruchs und ein Verfahren zum Herstellen solcher Träger.
Herkömmliche magnetische Aufzeichnungsträger sind so ausgebildet, daß ein magnetischer Anstrich im wesentlichen aus einem nadeiförmigen ferromagnetischen Pulver wie Gamma-Eisenoxyd (Gamma-FegO-,), Chromdioxyd CrO2, FeCo-Legierungspulver oder dergleichen und einem polymeren Binder auf ein unmagnetisches Substrat als magnetische Aufzeichnungsschicht aufgetragen ist.
Es. sind auch magnetische Aufzeichnungsträger bekannt, bei denen ein ferromagnetisches Metall als Dünnfilm auf einem unmagnetischen Substrat durch Aufdampfen, Sputtern oder lonenplattieren im Vakuum aus einem ferromagnetischen Metall oder einer Legierung hergestellt wird und dieser Film als magnetische Aufzeichnungsschicht dient. Ein so hergestellter Aufzeichnungsträger mit einem Dünnfilm aus einem ferromagnetischen Metall ohne Binder weist eine hohe Packungsdichte des magnetischen Materials auf, wodurch es selbst bei einer sehr dünnen Schicht möglich ist, eine hohe Remanenz des magnetischen Flusses zu erhalten. Da die magnetische Schicht darüberhinaus als Dünnschicht ausgebildet ist, ist es möglich, Signale von kurzer Wellenlänge mit ausgezeichneter Empfindlichkeit aufzuzeichnen, was besonders für eine hohe Aufzeichnungsdichte erwünscht ist.
Zum Herstellen eines magnetischen Aufzeichnungsträgers mit einem ferromagnetischen Metalldünnfilm wird die sogenannte 'Schrägaufdampfung verwendet. Bei dieser wird Dampf eines ferromagnetischen Metalls wie Fe und/oder Co schräg auf
TER MEER · MÜLLER · STEINMEISfER ··
ein unmagnetisches Substrat aufgebracht, wobei der Dampf abgeschieden wird und zum Wachstum der Schicht fUhrt. Mit dieser Schrägaufdampfung ist es möglich, einen Aufzeichnungsträger mit hoher Koerzitivkraft zu erhalten. Um aber hohe Koerzitivkraft zu erhalten, muß der Dampfteilchenstrahl von Pe und/oder Co mit einem Winkel im Bereich zwischen ^0° und 80° auf das unmagnetische Substrat auftreffen, was dazu führt, daß die Abscheidung nur geringen Wirkungsgrad aufweist. Wird aber die Schrägaufdampfung nicht benutzt, so ist es schwierig, einen Aufzeichnungsträger mit hoher Koerzitivkraft zu erhalten. Da zum Beispiel Kobalt eine große magnetische Anisotropie im kristallinen Zustand aufweist, wird Kobalt als Magnetmaterial für Magnetschichten mit hoher Koerzitivkraft geschätzt. Wenn Kobalt aber schlecht aufgedampft ist, das heißt, wenn es im wesentlichen rechtwinklig zur Hauptfläche eines unmagnetischen Substrates aufgedampft ist, ist die Koerzitivkraft der so erzielten Schicht kMner als 100 Oe. Ein Aufzeichnungsträger mit so geringer Koerzitivkraft kann aber für Träger mit hoher Aufzeichnungsdichte
20 nicht verwendet werden.
Um eine magnetische Materialschicht hoher Koerzitivkraft unabhängig von der S chräg-/>uf dampf-Methode herzustellen, ist schon vorgeschlagen worden, ein Verfahren zu verwenden, bei dem die magnetische Metallschicht nicht direkt auf dem unmagnetischen Substrat ausgebildet wird, sondern eii.o Grui.dschicht zwischen dem Substrat und der magnetischen Metallschicht liegt. Es ist ein magnetischer Aufzeichnungsträger bekannt, bei dem die Grundschicht aus aufgedampftem Chrom besteht und Kobalt auf diese- Grundschicht aufgedampft ist.
Die magnetischen Eigenschaften eines so hergestellten Aufzeichnungsträgers hängen aber von der Substrattemperatür ab, bei der die magnetische Metallschicht aufgedampft ist. Um zum Beispiel eine Koerzitivkraft von über 400 Oe mit
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einer Kobaltschicht von 4θ nm als Deckschicht zu erhalten, ist es erforderlich, das Substrat auf JOO 0C aufzuheizen* Soll ein magnetischer Aufzeichnungsträger mit einer Koerzitivkraft von 400 Oe auf einem unmagnetischen Substrat hergestellt werden, so ist es schwierig, einen Polymerfilm wie aus Polyäthylen-Terephthalat als Substrat zu verwenden.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen magnetischen Aufzeichnungsträger der eingangs genannten Art so auszubilden, daß er auf einem organischen Substratfilm bei niedrigeren Temperaturen als bisher hergestellt werden kann und dennoch hohe Koerzitivkraft aufweist.
Die erfindungsgemäße Lösung ist im Hauptanspruch gekennzeichnet. Vorteilhafte Ausgestaltungen sind Gegenstand von Unteransprüchen.
Der erfindungsgemäße magnetische Aufzeichnungsträger weist eine bestimmte Schichtfolge mit einer ersten urimagnetischen Grundschicht, einer ersten magnetischen Schicht, einer zweiten magnetischen Grundschicht und einer zweiten magnetischen Schicht auf. Vorteilhafterweise liegt zwischen der ersten magnetischen Metallschicht und der zweiten unmagnetischen Grundschicht eine Verbindungsschicht aus einer chemischen Verbindung des Metalls der ersten magnetischen Schicht. Solche magnetischen Aufzeichnungsträger weisen hohe Koerzitivkraft und isotrope magnetische Eigenschaften in der Trägerebene auf.
Der erfindungsgemäße Aufbau hat als vreiteren Vorteil, daß das Aufdampfen des magnetischen Materials im wesentlichen rechtwinklig zur Substratoberfläche erfolgen kann. Es kann also nicht nur bei niedrigeren Temperaturen, sondern auch schneller gearbeitet werden als bisher.
TER MEER · MÜLLER · STEINMeiS»TER
Die Erfindung und Ausgestaltungen derselben werden im folgenden an Hand von Figuren näher veranschaulicht. Es zeigen:
Pig. 1-4 vergrößerte Teilquerschnitte von erfindungsgemäßen magnetischen Aufζeichnungsträgern;
Fig. 5 ein schematisches Diagramm eines Vakuum-Abscheidungsgerätes zum erfindungsgemäßen Herstellen eines magnetischen Aufzeichnungsträgers.
Bei dem in Fig. 1 dargestellten magnetischen Aufzeichnungsträger ist eine erste Grundschicht 2 aus Wismut Bi auf einem unmagnetischen Substrat 1 abgeschieden. Darüber befindet sich eine erste magnetische Metallschicht 3 aus Kobalt Co oder Co-
Ni-Legierung. Eine zweite Grundschicht 4 aus Wismut Bi ist über der ersten magnetischen Metallschicht 3 und über der ersteren wiederum eine zweite magnetische Metallschicht aus Kobalt Co, Co-Ni-Legierung oder dergleichen angeordnet. Im praktischen Gebrauch stellt sich jedoch heraus, daß ein so aufgebauter magnetischer Aufzeichnungsträger nicht die erwünschte hohe Koerzitivkraft der zweiten Magnetschicht aufweist. Der Grund hierfür kann der folgende sein. Da die Grundschicht 4 aus Wismut unter der zweiten magnetischen Metallschicht 5 hohe Affinität zur ersten Metallschicht 3 beim Aufbringen aufweist, diffundiert das V.'imut in die metallische Magnetschicht 3, weswegen die dann aufgebrachte zweite magnetische Metallschicht 5 keine, hohe Koerzitivkraft
25 aufweist.
Eine Verbesserung wird dadurch erzielt, daß gemäß Fig. 2 auf der ersten magnetischen Metallschicht 3 eine Zwischenschicht 6 aus Silizium Si oder einer Siliziumverbindung und auf dieser die Wismut-Grundschicht 4 abgeschieden ist.
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Da es in diesem Pall möglich ist, das Wismut an der Diffusion in die darunter liegende Schicht zu hindern, wenn die zweite magnetische Metallschicht 5 auf die Wismutschicht 4 abgeschieden wird, kann die zweite magnetische Metallschicht 5 hohe Koerzitivkraft aufweisen.
Es ist auch möglich, gemäß Fig. 3 auf dem unmagnetischen Substrat 1 zunächst eine Grundschicht 7 aus Silizium Si oder einer Siliziumverbindung aufzubringen und auf dieser die Wismutschicht 2 abzuscheiden. Ein so hergestellter magnetischer Aufzeichnungsträger hat den Vorteil, daß die Abhängigkeit vom Material des unmagnetischen Substrates nich.t mehr besteht und dadurch ein billiges Material wie z. B. Polyäthylen-Terephthalat als Film für das unmagnetische Substrat 1 verwendet werden kann.
In Bezug auf die remanente Flußstärke Br ist jedoch gegenüber den Ausführungsformen 2 und 3 noch eine Verbesserung möglich, bei denen die unmagnetische Zwischenschicht 6 zwischen der ersten magnetischen Metallschicht 3 und der zweiten Metallschicht 5 liegt.
Bei der Ausführungsform gemäß Fig. 4 ist eine erste unmagnetische Metallschicht 2 auf einem unmagnetischen Substrat zum Beispiel durch Abscheidung aus dem Vakuum aufgebracht. Zwischen diesen .beiden Schichten kann eine kontinuierliche Schicht 7 aus Silizium Si oder einer Siliziumverbindung liegen, die aber auch weggelassen sein kann. Eine erste magnetische Schicht 3 ist als kontinuierliche Schicht auf der ersten unmagnetischen Metallschicht 2 ausgebildet. Die erste magnetische Metallschicht 3 ist mit anderen Verfahren als dem der Schrägaufdampfung hergestellt. Die erste magnetische Metallschicht 3 ist so hergestellt, daß die Dampfteilchen des magnetischen Metalls im wesentlüien rechtwinklig zur Substratoberfläche auftreffen.
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In Pig.5 ist schematisch ein Beispiel eines Vakuum-Abscheidegerätes dargestellt, mit dem das anmeldegemäße Verfahren durchgeführt werden kann. In einer Vakuumkammer 21 wird zwischen einer Versorgungsrolle 23 und einer Aufnahmerol-Ie 24' ein unmagnetisches Substrat 22 in der durch den Pfeil a dargestellten Richtung transportiert. In zwei Materialquellen 25 und 26 befinden sich die aufzudampfenden Substanzen, das heißt zum Beispiel Wismut Bi für die Grundsehicht und Kobalt oder eine Co-Ni-Legierung als magnetisches Metall. Hinter dem Substrat 22 angeordnete Heizlampen 27 dienen zum Regeln der Temperatur des Substrats. Zwischen den Materialquellen 25 und 26 ist eine Abschirmung 28 angeordnet.
Die Oberfläche der ersten Magnetschicht 3 des Trägers gemäß Pig. 4 wird einer Oxydationsbehandlung unterworfen, bei der das Material der ersten magnetischen Metallschicht zum Beispiel oxydiert wird, wodurch ein Oxydfilm 15 extrem geringer Dicke auf der ersten Metallschicht 3 ausgebildet wird. Auf dem OxydfÜm 15 wird dann eine 2v;eite unmagnetische Metallschicht 4 aus demselben Material wie dem der ersten unmagnetischen Metallschicht 2 zum Beispiel durch Vakuumabscheidung aufgebracht. Darauf wird dann eine zweite magnetische Schicht 5 zum Beispiel aus demselben Material wie dem der ersten magnetischen Metallschicht 3 abgeschieden. Die erste und die zweite unmagnetische Grundschicht 2 und 4 können aus Wismut Bi, Antimon Sb, Thallium Tl, Selen Se, Cadmium Cd, Indium In, Zinn Sn, Tellur Te, Blei Pb, Pollonium Po, oder Legierungen derselben hergestellt sein. Es hat sich herausgestellt, daß insbesondere beim Verwenden von Wismut Bi die Koerzitivkraft Hc abgeschiedener Metallschichten 3 und 5 erheblich erhöht werden konnte. Vorzugsweise wird daher für die unmagnetischen Metallschichten 2 und 4 verwendet. Die Dicke dieser Schichten wird so eingestellt, daß die
TER MEER -MÜLLER . STEIN*MelS"f ER'-" "-' S©NY·^' S83PI7O w w "~ w w w w
mittlere Filmdicke im Bereich zwischen 1 und 100 nm (lug/cm bis 100 ug/cm ) bevorzugt im Bereich zwischen 10 und 100 nm liegt. Die Schichten 2 und 4 aus Wismut können eine Inselstruktur aufweisen.
Die Substrattemperatur, das heißt die Temperatur des unmagnetischen Substrats beim Aufdampfen der unmagnetischen Metallschichten 2 und 4 wird vorzugsweise höher als 2/3 des Schmelzpunktes des unmagnetischen Materials ausgedrückt in der absoluten Temperaturskala, jedoch niedriger als der Schmelzpunkt gewählt. Es ist klar, daß dann die Hitzebeständigkeit des unmagnetischen Substrates 1 berücksichtigt werden muß.
Die erste magnetische Metallschicht 3 und die zweite entsprechende Schicht 5 werden vorzugsweise als aus dem Vakuum abgeschiedene Filme eines Metalles wie Kobalt Co oder einer Kobaltlegierung wie Co-Ni mit weniger als 40 Gewichtsprozent Nickel hergestellt. Die Filmdicke wird im Bereich zwischen 10 - 100 nm, bevorzugt im Bereich von 25 - 50 nm, eingestellt. Wenn die Dicke der Magnetschichten 3 und 5 zu dünn wird, wird keine ausreichende remanente Flußdichte Br erzielt. Wird die Dicke dagegen zu dick, wird die Koerzitivkraft Hc zu gering und ebenso das Rechteckverhältnis Rs.
Die auf der Oberfläche der ersten magnetischen Schicht 3 ausgebildete Verbindungsschicht 15 wird vorzugsweise aus einem Material hergestellt, das die Benetzung oder Affinität für die zweite unmagnetische Schicht 4 heruntersetzt und mit dem es möglich ist, die Schicht dünn genug auszubilden. Vorzugsweise wird die Verbindungsschicht 15 daher als Oxydschicht ausgebildet, die durch Oxydieren der Oberfläche der ersten magnetischen Metallschicht 3 selbst hergestellt wird.
Die Dicke der Oxydschicht 15 liegt vorzugsweise im Bereich zwischen 1 und 10 nm. Die Verbindungsschicht 15 kann auch eine Nitrid- oder Karbid-Schicht sein.
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Zum Herstellen der Verbindungsschicht I5 als Oxydschicht des magnetischen Materials wird nach dem Abscheiden der Magnetschicht 3 Sauerstoff in die Vakuumkammer geleitet und dann die Magnetschicht 3 einer Oxydierungsbehandlung in einem Gleichstrom-Wechselstrom- oder Hochfrequenzplasma unterworfen, das dadurch erzeugt wird, daß eine bestimmte Gleich-, Wechsel- oder Hochfrequenzspannung zwischen einem Paar von Elektroden zu beiden Seiter, eines unmagnetischen Trägers angelegt wird, wobei die Verbindungsschicht 15 entsteht. Die Dicke der Oxydschicht kann dadurch eingestellt werden, indem der Partialdruck des zugeführten Sauerstoffs oder die Stärke der angelegten Spannung, die Form der Elektroden, der Abstand zwischen den Elektroden, die Zeit des angelegten elektrischen Feldes oder andere Größen geregelt werden.
Das unmagnetische Substrat 1 kann aus einem Polymerfilm wie aus Polyimid, Polyäthylen-Terephthalat oder dergleichen, Keramik oder Glas oder einem Metallfilm mit oxydierter Oberfläche oder dergleichen hergestellt sein. Ein so hergestellter magnetischer Aufzeichnungsträger weist magnetische Eigenschaften auf, die in seiner Ebene isotrop sind.
Beispiel 1
Wismut Bi wurde auf einem unmagnetischen Substrat 1 aus Polyimid bei einer Temperatur von I50 C mit einer mittleren Dicke von 5 nm abgeschieden. Dann wurde eine Nl-Co-Magnetschicht 3 mit 20 Gewichtsprozent Ni mit einer Dicke von 30 nm abgeschieden. Daraufhin wurde Sauerstoff in die Vakuumkammer mit einem Druck von 0,06 Torr eingeleitet. Plasmabehandlung erfolgte für eine Minute bei einer Gleichspannung von 1 kV und einem Strom von 12OmA zum Oxydieren der Oberfläche der Magnetschicht 3·
TER MEEK · MÖLLER
Dann wurde·wiederum Wismut mit einer mittleren Filmdicke von 5 nm bei einer Temperatur von I50 0C abgeschieden, um so die zweite nichtmagnetische Grundschicht 4 auszubilden. Auf dieser wurde eine Ni-Co-Legierung mit 20 Gewichtsprozent Ni mit einer Dicke von 30 nm als zweite Magnetschicht 5 abgeschieden. Dann wurde wiederum Sauerstoff in die Vakuumkammer mit einem Druck von 0,06 Torr eingeleitet. Die Plasmabearbeitung erfolgte wieder für eine Minute bei einer Gleichspannung von 1 kV und 120 mA zum Ausbilden eines Oxydfilms auf der zweiten .Magnetschicht 5.
Die magnetischen Eigenschaften des so hergestellten magnetischen Aufzeichnungsträgers wurden wie folgt ermittelt: Koerzitivkraft Hc 860 Oe, Rechteckverhältnis Rs 82,6 und magnetische Flußdichte Br 11000 Gauss.
Die Dickeder auf der Magnetschicht ausgebildeten Verbindungsschicht wurde zu etwa 4 nm berechnet. Die Berechnung wurde wie folgt ausgeführt. Um die Filmdicke der.durch die Plasmaabscheidung im Sauerstoff hergestellten Oxydschicht zu überprüfen, wurde die Magnetisierung des Films ohne Oxydation aber mit aufeinanderfolgendem Aufdampfen von Wismut mit 5 nm, einer Nickel-KobalkLegierung von 30 nm, einer Wismutschicht von 5 nm und einer Nickel-Kobalt-Legierung mit 20 Gewichtsprozent Nickel von 30 nm mit einem Schwingungsmagnetometer ^T-SM) im Vergleich zum oxydierten Film gemessen, so daß die Dicke des Oxydfilms aus der Abnahme der Magnetisierung berechnet werden konnte.
Vergleichsbeispiel 1
Wie beim Beispiel 1 wurde Silizium mit 20 nm, Wismut mit 50 nm und Ni-Co mit 20 Gewichtsprozent Ni von 30 nm aufeinanderfolgend auf einem unmagnetischen Substrat 1 aus
TER MEER - MÖLLER . STEIJJ JerL' '"**>&*.&W7O 33 288 96
Polyimid bei 150 C Substrattemperatur abgeschieden. Darauf wurden wiederum Silizium mit 20 nm, Wismut mit 5 nm und Ni-Co mit 20 Gewichtsprozent Ni mit 30 nm abgeschieden, um so einen magnetischen Aufzeichnungsträger herzustellen. Die magnetischen Eigenschaften dieses Trägers waren die folgenden: Koerzitivkraft Hc 890 Oe, Rechteckverhältnis Rs 81,5 und remanente Flufldichte Br 7000 Gauss. Die remanente Flußdichte Br des Vergleichsbeispiels 1 ist geringer als beim Beispiel 1. Dies rührt von der unmagnetischen Siliziumschicht als Zwischenschicht im Vergleichsbeispiel her.
Wenn also eine der Zwischenschicht entsprechende Verbindungsschicht 15 also Oxydschicht durch Oxydieren der Oberfläche der ersten Magnetschicht 3 hergestellt wird, kann die Dicke dieser Zwischenschicht sehr gering ausgebildet werden, was dazu führt,daß die remanente Flußdichte des Aufzeichnungsträgers erhöht werden kann.
Da die Verbindungsschicht 15 als Zwischenschicht vorliegt, kann darüberhinaus das Material der darauf ausgebildeten unmagnetischen Schicht H- nicht in die darunter liegende Schicht diffundieren, was zu einem Erhöhen der Koerzitivkraft der zweiten, darüber ausgebildeten magnetischen Metallschicht 5 führt. Auch ist es möglich, die Koerzitivkräfte der ersten und der zweiten magnetischen Schichten 3 und 5 so einzustellen, daß sie einander gleich sind,
Der Anmeldegegenstand ist nicht auf die Verwendung in einem magnetischen Aufzeichnungsträger von Mehrfachstruktur mir nur zwei magnetischen Schichten beschränkt, sondern die Anwendung 1st auch bei Mehrschichtstrukturen mit mehr als drei Schichten möglich, die jedoch die erste und die zweite genannte Magnetschicht aufweisen.
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V/ie beschrieben, wird ein anmeldegemäßer Aufzeichnungsträger nicht durch Schragaufdampfung hergestellt und kann dennoch eine hohe Koerzitivkraft bei einem guten Wirkungsgrad der Abscheidung aufweisen. Darüber hinaus ergibt sich als Vorteil, daß wegen des Vermeidens des Schrägaufdampfens der Träger in seiner Ebene isotrope magnetische Eigenschaften aufweist und daher als Platte und dergleichen verwendet werden kann.
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Claims (8)

  1. TER MEER-MÜLLER-STEINMEISTER
    PATENTANWÄLTE — EUROPEAN PATENT ATTORNEYS
    Dipl.-Chem. Dr. N. ter Meer Dipl -Ing. H. Steinmeister Dipl.-Ing. F. E. Müller . . . . . , „
    Triftstrasse A, Artur-Ladebeck-Strasse S1
    D-8OOO MÜNCHEN 22 D-48OO BIELEFELD
    MU/J/ho 10. August 1983
    S85PI7O
    SONY CORPORATION
    7-55 Kitashinagawa 6-chome
    Shinagawa-ku, Tokyo 141, Japan
    Magnetischer Aufzeichnungsträger
    Priorität:. 12. August igSP, Japan, Nr. 140248/82
    PATENTANSPRÜCHE
    (l) Magnetischer Aufzeichnungsträger mit Schichten auf einem unmagnetischen Substrat (1), gekennzeichnet durch
    - eine erste Grundschicht (2) aus Wismut auf dem Substrat,
    - eine erste magnetische Metallschicht (J>) auf der ersten Grundschicht,
    - eine Verbindungsschicht (15) aus einer chemischen Verbindung, die auf einem Oberflächenbereich der magnetischen Metallschicht ausgebildet ist und aus dem magnetischen Metall hergestellt ist,
    ι tr-<
    : - eine zweite Grundschicht (4) aus Wismut aufder Verbindungsschicht und
    - eine zweite magnetische Metallschicht (5) auf der zweiten Grundschicht.
  2. 2. Aufzeichnungsträger nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die "Grundschichten (2, 4) eine Dicke im Bereich von 1 bis 100 nm aufweisen.
  3. J5. Aufzeichnungsträger nach Anspruch 1 oder 2, d a durch gekennzeichnet, daß das magnetische Metall Kobalt oder eine Kobalt-Nickel-Legierung ist.
  4. 4. Aufzeichnungsträger nach einem der Ansprüche 1 bis j5, dadurch gekennzeichnet, daß die magnetischen Metallschichten (J>, 5) eine Dicke im Bereich von 10 bis 100 nm aufweisen.
  5. 5. Aufzeichnungsträger nach einem der Ansprüche 1 bis 4, gekennzeichnet durch eine amorphe Schicht (7), aus Silizium oder einer Siliziumverbindung zwischen dem Substrat (1) und der. ersten Grundschicht (2).
  6. 6. Aufzeichnungsträger nach einem der Ansprüche 1 bis 5> dadurch gekennzeichnet, daß zumindest eine der beiden Grundschichten aus Wismut (2, 4) als unterbrochene Schient ausgebildet ist.
  7. 7. Aufzeichnungsträger nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die chemische Verbindung der Verbindungsschicht (15) ein Oxyd des magnetischen Metalles ist.
    TER MEER · MÖLLER · STEINtsaEfSTER '..'
  8. 8. Verfahren zum Herstellen des Aufzeichnungsträgers gemäß einem der-vorstehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch folgende Schritte:
    - Aufbringen der ersten Grundschicht (2) auf das Substrat (1),
    - Aufbringen der ersten magnetischen Metallschicht (3) durch Abscheiden aus dem Vakuum mit einem Einfallswinkel des Dampfes im wesentlichen rechtwinklig zur Substratoberfläche,
    - Ausbilden der Verbindungsschicht (15) auf einem
    Oberflächenbereich der magnetischen Metallschicht,
    - Aufbringen der zweiten Grundschicht (4) aus VJismut
    auf die Verbindungsschicht und
    - Aufbringen einer zweiten magnetischen Metallschicht durch Abscheiden aus dem Dampf, wobei der Einfallswinkel des Dampfes im wesentlichen rechtwinklig zur Substratoberfläche steht.
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