KR940000259A - 테이프 지지체상에서의 다층 필름 제조 시스템 및 방법 - Google Patents
테이프 지지체상에서의 다층 필름 제조 시스템 및 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR940000259A KR940000259A KR1019930010149A KR930010149A KR940000259A KR 940000259 A KR940000259 A KR 940000259A KR 1019930010149 A KR1019930010149 A KR 1019930010149A KR 930010149 A KR930010149 A KR 930010149A KR 940000259 A KR940000259 A KR 940000259A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- deposition
- support
- web support
- raw material
- web
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims abstract description 30
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims abstract description 27
- 239000002994 raw material Substances 0.000 claims abstract description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 6
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims abstract 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 6
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/66—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent the record carriers consisting of several layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/568—Transferring the substrates through a series of coating stations
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
본 발명은 웨브 지지체(36, 206)에 원료 물질(60, 210)을 순차적으로 증착시키는 방법에 관한 것이다. 지지체 전달 메카니즘(62, 202)은 지지체(36, 206)를 연속적으로 움직이게하여 증착 원료 물질을 증착시키는 동안 다수의 증착 원료(60, 210)를 통과하게 한다. 지지체(36, 206)의 모든 부위를 주기적으로 번갈아가면서 증착 원료(60, 210)에서의 증착 플럭스에 노출시킨다. 원료 노출 횟수는 원료의 수보다 클 수 있다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도 웨브 시이트 지지체상에 원료 물질을 증착시키는 종래 기술 시스템의 개략도이다.
제2도 지지체 및 이의 표면상의 다층구조 지지체의 수직 단면도이다.
제3도 다수의 롤러를 포함하는 본 발명 시스템의 한 구체예의 평면도이다.
제4도 제3도에 도시한 것과 유사한 본 발명 구체예의 단면도이다. 제4도는 제3도에 도시한 것과 유사한 본 발명 구체예의 단면도이다.
제5도 제3도의 배치에 따른 롤러의 다른 구체예의 단면도이다.
제6도 경사지고 마디가 있는 롤러와 마디가 있는 롤러를 사용한 다른 구체예를 포함하는 제5도에 도시된 부분품의 평면도이다.
제7도 경사지고 마디가 있는 롤러의 측면도이다.
제8도 마디가 있는 롤러의 측면도이다.
제9도 직선 통과 증착 시스템에 대한 본 발명 시스템의 다른 구체예의 평면도이다.
제10도 제9도에 도시된 시스템의 단면도이다.
제11도 회전식 셔터를 사용하는 연속 릴-대-릴의 단일 통과 증착시스템의 투시도이다.
제12도 각각 다수의 셔터식 원료를 도시하는 연속 단일 통과 증착 시스템 일부의 개략도이다.
제13도 연장된 원료 및 모여 있는 셔터를 사용하는 연속 단일 통과 증착 시스템의 개략도이다.
제14도 제11도의 시스템을 사용하여 제조한 자기 광 박막 적층들의 단면도이다.
제15도 제14도에 나타낸 제품의 자화 상태와 교류 잔류자기 수치를 비교한 곡선의 그래프이다.
Claims (10)
- 하기 a)-c) 단계를 포함하는 웨브 지지체의 표면에 원료 물질을 순차적으로 증착시키는 방법 : a) 지지체를 연속적으로 움직이게 하여 다수의 증착 원료를 통과하게 하는 지지체 운반 수단을 제공하는 단계 : b) 지지체 운반 수단으로 지지되는 지지체와 마주하는 다수의 증착 원료를 배치하는 단계 : c) 지지체 운반 수단을 작동시켜 웨브 지지체를 속적으로 움직이게 하여 증착 원료 물질이 증착될 동안 증착 원료를 통과하게 하여 지지체의 모든 부분을 주기적으로 번갈아가면서 증착 원료로부터의 증착 플럭스에 노출시키고, 상기 번갈아가면서 원료를 노출시킨 횟수가 원료의 수를 초과하는 단계.
- 제1항에 있어서, 원료 물질의 증착을 실시하여 노출된 적어도 하나의 원료가 원료 물질의 전체 단층의 일부를 증착시키는 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 지지체가 다른 지지체에 대해 운반체로 작용하는 방법.
- 하기 a)-b)를 포함하는 다층 구조물을 갖는 웨브 지지체를 제조하기 위한 장치 : a) 웨브 지지체 전달수단으로 지지된 지지체와 마주하는 다수의 증착 원료를 함유하도록 배열된 증착 원료 부위; 및 b) 웨브 지지체를 지지하고, 웨브 지지체를 연속적으로 움직이게하여 증착 원료 부위를 통가하게 함으로써 증착되는 동안 웨브 지지체에 다층 구조물을 생성시키고, 상기 층의 수가 증착 원료의 수를 초과하는 웨브 지지체 전달 수단.
- 제4항에 있어서, 상기 장치가 증착 원료를 차단시키는 수단을 가져서 상기 원료 물질이 순차적으로 증착될 수 있는 장치.
- 제5항에 있어서, 상기 차단 수단이 셔터인 장치.
- 제4항에 있어서, 상기 웨브 지지체 전달 수단이 2차 전달 메카니즘과 함께 웨브 지지체를 연속 공급하고 수용하는 수단을 갖는 1차 전달 메카니즘을 포함하는 장치.
- 제7항에 있어서, 상기 1차 전달 메카니즘이 다수의 마디가 있는 롤러를 포함하는 장치.
- a) 웨브 지지체; 및 b) 상기 웨브 지지체에 증착된 다수의 증착 원료 물질 층의 수가 원료물질을 제공하는 증착 원료의 수를 초과하는 다층 박막 구조물을 형성하게 되는 다수의 증착 원료 물질층을 포함하는 상기 웨브 지지체상의 다층 박막.
- a) 증착 원료의 다증 층을 수용하기 위한 특정 표면을 갖는 웨브 지지체; 및 b) 다수의 증착 원료 물질 층이 웨브 지지체에 증착되어 각 층이 특정 표면에 대해서 경사진 각도로 다층 박막 지지체를 형성하는 상기 다수의 증착 원료 물질 층을 포함하는 웨브 지지체 상의 다층 박막.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US89803492A | 1992-06-12 | 1992-06-12 | |
US7/898,034 | 1992-06-12 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR940000259A true KR940000259A (ko) | 1994-01-03 |
Family
ID=25408824
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019930010149A KR940000259A (ko) | 1992-06-12 | 1993-06-05 | 테이프 지지체상에서의 다층 필름 제조 시스템 및 방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5460853A (ko) |
EP (1) | EP0574020B1 (ko) |
JP (1) | JPH0657415A (ko) |
KR (1) | KR940000259A (ko) |
CN (1) | CN1083544A (ko) |
DE (1) | DE69310024T2 (ko) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5951769A (en) * | 1997-06-04 | 1999-09-14 | Crown Roll Leaf, Inc. | Method and apparatus for making high refractive index (HRI) film |
DE19959972A1 (de) * | 1999-12-13 | 2001-06-21 | Basf Ag | Herstellung von Materialbibliotheken durch Sputterverfahren |
DE19960465A1 (de) * | 1999-12-15 | 2001-06-21 | Alcatel Sa | Flachleiter-Bandleitung |
US7161894B2 (en) * | 2001-06-21 | 2007-01-09 | Quantum Corporation | Optical recording article |
JP4336869B2 (ja) * | 2001-11-27 | 2009-09-30 | 日本電気株式会社 | 真空成膜装置、真空成膜方法および電池用電極の製造方法 |
DE60326429D1 (de) * | 2003-03-20 | 2009-04-16 | Agfa Healthcare Nv | Herstellungsverfahren für Phosphor- oder Szintillatorfolien und Platten geeignet für eine Abtastvorrichtung |
US7501155B2 (en) | 2003-03-20 | 2009-03-10 | Agfa Healthcare | Manufacturing method of phosphor or scintillator sheets and panels suitable for use in a scanning apparatus |
DE102005058869A1 (de) * | 2005-12-09 | 2007-06-14 | Cis Solartechnik Gmbh & Co. Kg | Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Bändern |
JP4731354B2 (ja) * | 2006-02-24 | 2011-07-20 | 株式会社アルバック | 表面処理装置 |
ATE507320T1 (de) | 2006-03-26 | 2011-05-15 | Lotus Applied Technology Llc | Atomlagenabscheidungssystem und verfahren zur beschichtung von flexiblen substraten |
US20070281089A1 (en) * | 2006-06-05 | 2007-12-06 | General Electric Company | Systems and methods for roll-to-roll atomic layer deposition on continuously fed objects |
EP2099964B1 (de) * | 2006-11-13 | 2018-02-14 | Serge Ferrari Tersuisse AG | Beschichteter fadenförmiger gegenstand mit verbesserter elektrischer leitfähigkeit und/oder verbesserter optischer reflexion und vorrichtung und verfahren zum behandeln der oberfläche eines fadenförmigen gegenstandes |
KR100910613B1 (ko) * | 2007-03-08 | 2009-08-04 | 한국과학기술원 | 초전도 테이프 선재의 연속 제조장치 |
JP5678297B2 (ja) * | 2008-06-10 | 2015-02-25 | 友寄 壹 | リチウムイオン電池の製法及びリチウム電池の製法 |
DE102009038519B4 (de) * | 2009-08-25 | 2012-05-31 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Stöchiometriegradientenschichten |
KR101791033B1 (ko) | 2010-07-23 | 2017-10-27 | 로터스 어플라이드 테크놀로지, 엘엘씨 | 롤-투-롤 박막 증착을 위한 유연한 웹 기재의 한쪽 측면과 접촉하는 기재 이동 메커니즘 |
JP5604525B2 (ja) * | 2010-10-06 | 2014-10-08 | 株式会社アルバック | 真空処理装置 |
JP5776054B2 (ja) * | 2011-04-07 | 2015-09-09 | 株式会社アルバック | 真空処理装置 |
JP2013139621A (ja) * | 2011-12-09 | 2013-07-18 | Toray Eng Co Ltd | 搬送製膜装置 |
WO2013100062A1 (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-04 | 東レ株式会社 | 微多孔プラスチックフィルムロールの製造装置及び製造方法 |
JP2013227643A (ja) * | 2012-03-28 | 2013-11-07 | Toray Eng Co Ltd | 製膜装置 |
JP6045922B2 (ja) * | 2013-01-21 | 2016-12-14 | 東レエンジニアリング株式会社 | 搬送製膜装置 |
JP2014152362A (ja) * | 2013-02-08 | 2014-08-25 | Nitto Denko Corp | 透明ガスバリアフィルムの製造方法、及び透明ガスバリアフィルムの製造装置 |
US9435028B2 (en) | 2013-05-06 | 2016-09-06 | Lotus Applied Technology, Llc | Plasma generation for thin film deposition on flexible substrates |
JP5664814B1 (ja) * | 2014-06-24 | 2015-02-04 | 三菱マテリアル株式会社 | コーティング膜付き切削工具の成膜装置、切削工具用コーティング膜の成膜方法 |
CN104152844A (zh) * | 2014-08-11 | 2014-11-19 | 江南石墨烯研究院 | 一种在真空中搭载衬底的方式 |
JP2023551406A (ja) * | 2020-11-19 | 2023-12-08 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド | 保護層源 |
Family Cites Families (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4013539A (en) * | 1973-01-12 | 1977-03-22 | Coulter Information Systems, Inc. | Thin film deposition apparatus |
GB1596385A (en) * | 1976-12-29 | 1981-08-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Methods and apparatus for manufacturing magnetic recording media |
US4303489A (en) * | 1978-08-21 | 1981-12-01 | Vac-Tec Systems, Inc. | Method and apparatus for producing a variable intensity pattern of sputtering material on a substrate |
US4403002A (en) * | 1979-12-10 | 1983-09-06 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Vacuum evaporating apparatus |
JPS5930230A (ja) * | 1982-08-12 | 1984-02-17 | Sony Corp | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
JPH0670858B2 (ja) * | 1983-05-25 | 1994-09-07 | ソニー株式会社 | 光磁気記録媒体とその製法 |
JPS6111936A (ja) * | 1984-06-28 | 1986-01-20 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
US4690857A (en) * | 1984-08-14 | 1987-09-01 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Magnetic recording medium |
CA1254385A (en) * | 1985-07-26 | 1989-05-23 | Noboru Sato | Magneto-optical recording medium having amorphous artificially layered structure of rare earth element and transition metal element |
JPH0766584B2 (ja) * | 1986-04-11 | 1995-07-19 | 富士写真フイルム株式会社 | 光磁気記録媒体の製造方法 |
US4929320A (en) * | 1986-04-11 | 1990-05-29 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Method of making magneto-optical recording medium |
EP0263380A3 (de) * | 1986-10-08 | 1990-02-28 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren zur Herstellung eines magnetooptischen Aufzeichnungsmediums |
DE3811684A1 (de) * | 1987-04-10 | 1988-10-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | Verfahren zur herstellung eines magneto-optischen aufzeichnungsmediums |
US5045676A (en) * | 1987-12-08 | 1991-09-03 | Kime Milford B | Optical media having interlaced data rings |
US4939715A (en) * | 1987-12-29 | 1990-07-03 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Tape scanning apparatus |
JP2520684B2 (ja) * | 1988-03-04 | 1996-07-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法 |
US4876159A (en) * | 1988-03-14 | 1989-10-24 | Eastman Kodak Company | Magnetrooptical recording media and method of preparing them |
EP0367685A3 (en) * | 1988-10-31 | 1991-08-07 | Eastman Kodak Company | Magnetooptical recording element |
EP0580095A1 (en) * | 1992-07-24 | 1994-01-26 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Production of magnetic recording medium |
-
1993
- 1993-06-05 KR KR1019930010149A patent/KR940000259A/ko not_active Application Discontinuation
- 1993-06-11 JP JP5140438A patent/JPH0657415A/ja active Pending
- 1993-06-11 CN CN93107174A patent/CN1083544A/zh active Pending
- 1993-06-11 DE DE69310024T patent/DE69310024T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-06-11 EP EP93109417A patent/EP0574020B1/en not_active Revoked
-
1994
- 1994-05-24 US US08/248,579 patent/US5460853A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69310024T2 (de) | 1997-10-30 |
CN1083544A (zh) | 1994-03-09 |
US5460853A (en) | 1995-10-24 |
DE69310024D1 (de) | 1997-05-28 |
EP0574020B1 (en) | 1997-04-23 |
EP0574020A1 (en) | 1993-12-15 |
JPH0657415A (ja) | 1994-03-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR940000259A (ko) | 테이프 지지체상에서의 다층 필름 제조 시스템 및 방법 | |
KR101045515B1 (ko) | 진공 증착 장치 및 증착 필름 제조 방법 | |
US20090194505A1 (en) | Vacuum coating techniques | |
KR890007130A (ko) | 상형성 장치에 적용된 흡착형 용지 반송기구 | |
US6767439B2 (en) | High throughput thin film deposition and substrate handling method and apparatus for optical disk processing | |
KR970700591A (ko) | 고분자로 코팅된 다층물질과 그것을 생성하기 위한 공정(polymer-coated multi-layer material and process for producing it) | |
FI98619C (fi) | Menetelmä ja laitteisto sanomalehtijonon tai vastaavan väliaikaista varastointia varten | |
KR102156200B1 (ko) | 양면 코팅장치 | |
IE820435L (en) | Capacitors | |
EP3344796B1 (en) | Apparatus and method for providing a coating to a surface of a substrate | |
US4395439A (en) | Method of manufacturing magnetic recording medium | |
US6378750B1 (en) | Method and apparatus for applying stripes to a moving web | |
FI980483A0 (fi) | Foerfarande och anordning foer bestrykning av en roerlig pappers- eller kartongbana | |
JPS5914106B2 (ja) | 蒸着フイルム製造装置 | |
SU683808A1 (ru) | Установка дл нанесени многослойных покрытий на подложку | |
JPH04100568A (ja) | 単分子膜形成方法 | |
EP0940361B1 (en) | System and method for storage and transport of an elongated recording medium such as motion picture film | |
SU1173376A1 (ru) | Способ изготовлени гибкого составного электрофотографического материала и устройство дл его осуществлени | |
IT1311155B1 (it) | Procedimento per la formatura di manufatti ceramici ed impiantorelativo | |
JPH01165031A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
JP2615217B2 (ja) | 連続真空蒸着装置 | |
JPH06159523A (ja) | ガス拡散防止ゲート及び該ガス拡散防止ゲートを備えた成膜装置 | |
KR940011687A (ko) | 섬유매트 제조방법 및 장치 | |
JPH04100567A (ja) | 単分子膜形成方法 | |
KR101784669B1 (ko) | 롤투롤 기반의 다층 적층 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
WITN | Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid |