JPS5914106B2 - 蒸着フイルム製造装置 - Google Patents
蒸着フイルム製造装置Info
- Publication number
- JPS5914106B2 JPS5914106B2 JP15029381A JP15029381A JPS5914106B2 JP S5914106 B2 JPS5914106 B2 JP S5914106B2 JP 15029381 A JP15029381 A JP 15029381A JP 15029381 A JP15029381 A JP 15029381A JP S5914106 B2 JPS5914106 B2 JP S5914106B2
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- JP
- Japan
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- film
- base material
- vapor deposited
- substance
- vapor
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/024—Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプラスチックフィルム等のフィルム状基材の表
面に真空蒸着法により連続的に金属薄膜を形成する蒸着
フィルム製造装置に関し、その目５ 的とするところは
フィルム状基材の往、復いずれの移送時にも蒸着を行え
るようにしてフィルム状基材に多層構造の薄膜を効率よ
く形成するようにしたものである。
面に真空蒸着法により連続的に金属薄膜を形成する蒸着
フィルム製造装置に関し、その目５ 的とするところは
フィルム状基材の往、復いずれの移送時にも蒸着を行え
るようにしてフィルム状基材に多層構造の薄膜を効率よ
く形成するようにしたものである。
一般に、フィルム状基材に多層構造の金属薄膜１０を連
続的に形成しようとした場合、対になつた多くの円筒状
キヤンと蒸発源により行う方法と、一つの円筒状キヤン
の下部に分離板を設け、その左、右に配した蒸発源とに
より行う方法とがあるが、本発明は後者に属し、一つの
円筒状キヤンにより１５装置を有効に利用して多層薄膜
を形成できるようにするものであり、以下にその一実施
例について図面と共に説明する。
続的に形成しようとした場合、対になつた多くの円筒状
キヤンと蒸発源により行う方法と、一つの円筒状キヤン
の下部に分離板を設け、その左、右に配した蒸発源とに
より行う方法とがあるが、本発明は後者に属し、一つの
円筒状キヤンにより１５装置を有効に利用して多層薄膜
を形成できるようにするものであり、以下にその一実施
例について図面と共に説明する。
ます第１図は本実施例の基本となるフィルム状基材に一
つの円筒状キヤンにより２種類の蒸発物ク０ 質を連続
的に蒸着する装置を示している。
つの円筒状キヤンにより２種類の蒸発物ク０ 質を連続
的に蒸着する装置を示している。
図において、真空槽１内は排気装置２により真空雰囲気
で所定の圧力に保持される。この真空槽１内において円
筒状キヤン３の周側面に沿つて走行移動するフィルム状
基材４に、分離板５の左、右に共通２５受け台１５−ヒ
に設けた蒸発源容器６、６’内の種類が相異なる蒸発物
質７、７’を加熱蒸発させて得た蒸気流８、８’を差し
向け、適当な防着板９に設けられた開孔部分を通して目
的の金属薄膜を形成する。１０、１口′は模式的に示し
た電子ビ３０−ム発生源であり、１１、１１’はそこか
ら出力された電子ビームである。
で所定の圧力に保持される。この真空槽１内において円
筒状キヤン３の周側面に沿つて走行移動するフィルム状
基材４に、分離板５の左、右に共通２５受け台１５−ヒ
に設けた蒸発源容器６、６’内の種類が相異なる蒸発物
質７、７’を加熱蒸発させて得た蒸気流８、８’を差し
向け、適当な防着板９に設けられた開孔部分を通して目
的の金属薄膜を形成する。１０、１口′は模式的に示し
た電子ビ３０−ム発生源であり、１１、１１’はそこか
ら出力された電子ビームである。
加熱蒸発源は電子ビームに限定されるものではなく、公
知の方式によつてもよい。図中、１２はフィルム状基材
の供給ロール、１３は巻取ロールを示す。図に示す円筒
状３５キヤン３の回転方向が逆になれば供給および巻き
取りの意味は逆になるが、本説明では繁雑化を避ける為
、用語は統一して用いるものとする。斯かる装置により
多層構造の金属薄膜を形成するには、まず、フイルム状
基材４に蒸発源容器６，６２からの蒸気流８，８′をあ
てて、該基材４に２層構造の金属薄膜を形成し、この作
業が終つて基材４が巻取ロール１３に巻き取られた後、
蒸発源容器６，６２よりの蒸気流８，８２が円筒状キヤ
ン３上のフイルム状基材４に到達するのを、蒸発物質７
，７′の加熱蒸発を停止するかまたはフイルム状基材４
の前面にシヤツタ一１４を突出させることによつて阻止
した状態で、フイルム状基材４を再び供給ロール１２側
へ巻き戻し、ここで加熱蒸発を再開またはシヤツタ一１
４を外して前記と同様の蒸着を繰り返し、多層構造の薄
膜形成を行なう。特に蒸気流のフイルム状基材４への入
射角、即ち円筒状キヤン３上のフイルム状基材に立てた
法線と蒸気流のなす角度に制約を受ける場合には必ずｌ
回目の蒸着後、フイルム状基材４を供給ロール１２に巻
き戻した後、再度蒸着を繰り返すことが余儀なくされる
ものである。このように本装置では、巻き戻しの間は蒸
着が行なえず、これは時間的な損失が大きく、生産性に
大きな支障を及ぼすと共に、品質面においても不安定性
を増大させる一つの要因となる。本発明はこのような欠
点を排除し、１つの円筒状キヤンによるフイルム状基材
の往、復いずれの方向への移送時にも蒸着を行なわせ連
続的に多層構造の薄膜を形成することができるようにし
たものである。
知の方式によつてもよい。図中、１２はフィルム状基材
の供給ロール、１３は巻取ロールを示す。図に示す円筒
状３５キヤン３の回転方向が逆になれば供給および巻き
取りの意味は逆になるが、本説明では繁雑化を避ける為
、用語は統一して用いるものとする。斯かる装置により
多層構造の金属薄膜を形成するには、まず、フイルム状
基材４に蒸発源容器６，６２からの蒸気流８，８′をあ
てて、該基材４に２層構造の金属薄膜を形成し、この作
業が終つて基材４が巻取ロール１３に巻き取られた後、
蒸発源容器６，６２よりの蒸気流８，８２が円筒状キヤ
ン３上のフイルム状基材４に到達するのを、蒸発物質７
，７′の加熱蒸発を停止するかまたはフイルム状基材４
の前面にシヤツタ一１４を突出させることによつて阻止
した状態で、フイルム状基材４を再び供給ロール１２側
へ巻き戻し、ここで加熱蒸発を再開またはシヤツタ一１
４を外して前記と同様の蒸着を繰り返し、多層構造の薄
膜形成を行なう。特に蒸気流のフイルム状基材４への入
射角、即ち円筒状キヤン３上のフイルム状基材に立てた
法線と蒸気流のなす角度に制約を受ける場合には必ずｌ
回目の蒸着後、フイルム状基材４を供給ロール１２に巻
き戻した後、再度蒸着を繰り返すことが余儀なくされる
ものである。このように本装置では、巻き戻しの間は蒸
着が行なえず、これは時間的な損失が大きく、生産性に
大きな支障を及ぼすと共に、品質面においても不安定性
を増大させる一つの要因となる。本発明はこのような欠
点を排除し、１つの円筒状キヤンによるフイルム状基材
の往、復いずれの方向への移送時にも蒸着を行なわせ連
続的に多層構造の薄膜を形成することができるようにし
たものである。
即ち第２図、第３図に示すように、フイルム状基材４の
往方向移送時と復方向移送時とで分離板５の左右に設け
た一対の蒸発源容器６Ａ，６Ａ２を他の一対の蒸発源容
器６Ｂ，６Ｂ２と置き替えるようにしたものである。す
なわち、共通受け台１５上で分離板５の左右にそれぞれ
左右にスライド可能なスライド板１６，１６２を設け、
このそれぞれのスライド板１６，１６″上にそれぞれ蒸
発源容器６Ａ，６Ｂ，６Ａ２，６Ｂ′を設け、そして蒸
発源容器６Ａ′と６Ｂに同一種類の蒸発物質７２を収納
し、また蒸発源容器６Ａと６Ｂ′に前記蒸発物質７′と
は異なる種類の蒸発物質７を収納し、そして前記スライ
ド板１６，１６２をスライド駆動機構１７，１７４によ
つて左右にスライドさせるようにしたものである。
往方向移送時と復方向移送時とで分離板５の左右に設け
た一対の蒸発源容器６Ａ，６Ａ２を他の一対の蒸発源容
器６Ｂ，６Ｂ２と置き替えるようにしたものである。す
なわち、共通受け台１５上で分離板５の左右にそれぞれ
左右にスライド可能なスライド板１６，１６２を設け、
このそれぞれのスライド板１６，１６″上にそれぞれ蒸
発源容器６Ａ，６Ｂ，６Ａ２，６Ｂ′を設け、そして蒸
発源容器６Ａ′と６Ｂに同一種類の蒸発物質７２を収納
し、また蒸発源容器６Ａと６Ｂ′に前記蒸発物質７′と
は異なる種類の蒸発物質７を収納し、そして前記スライ
ド板１６，１６２をスライド駆動機構１７，１７４によ
つて左右にスライドさせるようにしたものである。
以上のような構成により、フイルム状基材４が供給ロー
ル１２から巻取ロール１３に向けて移送される時は、ス
ライド板１６，１６′はともに離れる方向にスライドさ
れ、これにより第２図に示すように電子ビーム１１，１
「は蒸発源容器６Ａ，６Ａ２内の蒸発物質７，７２に照
射されるため、この蒸発物質７，７′による蒸気流にて
フイルム状基材４に蒸着が行われるものであり、一方フ
イルム状基材４を巻取ロール１３から供給ロール１２に
向けて移送させる時は、スライド駆動機構１７，１７２
によりスライド板１６，１６′を互いに接近する方向に
スライドさせる。すると第３図に示すように電子ビーム
１１，１「は蒸発源容器６Ｂ，６Ｂ′内の蒸発物質７′
，７に照射され、したがつてこのフイルム状基材４の復
移送時にも前記往移送時と同じ条件で金属薄膜の蒸着が
行われるものである。以上のように本実施例では、フイ
ルム状基材４の移送方向が往、復いずれであろうと、そ
のフイルム状基材４への金属薄膜の蒸着は同じ順序、す
なわち最初蒸発物質７２が蒸着され、その上に蒸発物質
７′が蒸着されることになり、したがつて蒸着を続けな
がらフイルム状基材４を往、復移送させることによつて
短時間で能率よく多層構造の金属薄膜を形成することが
できるものである。
ル１２から巻取ロール１３に向けて移送される時は、ス
ライド板１６，１６′はともに離れる方向にスライドさ
れ、これにより第２図に示すように電子ビーム１１，１
「は蒸発源容器６Ａ，６Ａ２内の蒸発物質７，７２に照
射されるため、この蒸発物質７，７′による蒸気流にて
フイルム状基材４に蒸着が行われるものであり、一方フ
イルム状基材４を巻取ロール１３から供給ロール１２に
向けて移送させる時は、スライド駆動機構１７，１７２
によりスライド板１６，１６′を互いに接近する方向に
スライドさせる。すると第３図に示すように電子ビーム
１１，１「は蒸発源容器６Ｂ，６Ｂ′内の蒸発物質７′
，７に照射され、したがつてこのフイルム状基材４の復
移送時にも前記往移送時と同じ条件で金属薄膜の蒸着が
行われるものである。以上のように本実施例では、フイ
ルム状基材４の移送方向が往、復いずれであろうと、そ
のフイルム状基材４への金属薄膜の蒸着は同じ順序、す
なわち最初蒸発物質７２が蒸着され、その上に蒸発物質
７′が蒸着されることになり、したがつて蒸着を続けな
がらフイルム状基材４を往、復移送させることによつて
短時間で能率よく多層構造の金属薄膜を形成することが
できるものである。
上記実施例では２種類の蒸発物質による多層薄膜の形成
に関して説明したが、蒸発源容器の数あるいは使用する
蒸発物質の数等を限定するものではなく、２種類以上の
蒸発物質の多層薄膜の形成、あるいは同種蒸発物質の使
用による連続長時間蒸着への適用等も行なえることは当
然である。以上実施例により説明したように本発明の蒸
着フイルム製造装置はフイルム状基材を往復両方向へ移
送可能とし、円筒状キヤンの下方に分離板を介して左右
に配置したスライド板を水平方向に移動可能とし、左右
のスライド板にそれぞれ第１、第２の蒸発物質を配置し
、移送方向に対応して左也のスライド板を移動させ往路
、復路いずれの場合でも第１の蒸発物質、第２の蒸発物
質を順に蒸着させることができるように構成したもので
あるから、往復いずれの場合も同一の蒸着条件すなわち
積層順序の同一化と蒸着入射角の同一化が簡単に実現で
き、フイルム状基材を１回目の蒸着後、一旦巻き戻して
から再蒸着を行うといつた面倒な作業は必要でなく、フ
イルム状基材の往、復のいずれの移送時共に蒸着をする
ことができるため、両時間で能率よく多層構造の金属薄
膜を形成することができるもので、生産性を大幅に向上
させることができるものである。
に関して説明したが、蒸発源容器の数あるいは使用する
蒸発物質の数等を限定するものではなく、２種類以上の
蒸発物質の多層薄膜の形成、あるいは同種蒸発物質の使
用による連続長時間蒸着への適用等も行なえることは当
然である。以上実施例により説明したように本発明の蒸
着フイルム製造装置はフイルム状基材を往復両方向へ移
送可能とし、円筒状キヤンの下方に分離板を介して左右
に配置したスライド板を水平方向に移動可能とし、左右
のスライド板にそれぞれ第１、第２の蒸発物質を配置し
、移送方向に対応して左也のスライド板を移動させ往路
、復路いずれの場合でも第１の蒸発物質、第２の蒸発物
質を順に蒸着させることができるように構成したもので
あるから、往復いずれの場合も同一の蒸着条件すなわち
積層順序の同一化と蒸着入射角の同一化が簡単に実現で
き、フイルム状基材を１回目の蒸着後、一旦巻き戻して
から再蒸着を行うといつた面倒な作業は必要でなく、フ
イルム状基材の往、復のいずれの移送時共に蒸着をする
ことができるため、両時間で能率よく多層構造の金属薄
膜を形成することができるもので、生産性を大幅に向上
させることができるものである。
第１図は本発明の一実施例装置の基本となる装置の内部
概略正面図、第２図、第３図は本実施例装置の構成、動
作を説明するための要部正面図である。 ３・・・・・・円筒状キヤン、４・・・・・・テープ状
基材、５・・・・・・分離板、６Ａ，６Ａ２，６Ｂ，６
Ｂ２・・・・・・蒸発源容器、７，７′・・・・・・蒸
発物質、１６，１６′・・・・・・スライド板、１７，
１７２・・・・・・スライド駆動機構。
概略正面図、第２図、第３図は本実施例装置の構成、動
作を説明するための要部正面図である。 ３・・・・・・円筒状キヤン、４・・・・・・テープ状
基材、５・・・・・・分離板、６Ａ，６Ａ２，６Ｂ，６
Ｂ２・・・・・・蒸発源容器、７，７′・・・・・・蒸
発物質、１６，１６′・・・・・・スライド板、１７，
１７２・・・・・・スライド駆動機構。
Claims (1)
- １ 円筒状キヤンに巻付けられたフィルム状基材を往復
両方向に移送する往復駆動手段と、上記円筒状キヤンの
下部に設けた分離板とを有し、上記分離板の左、右両側
に水平方向に移動自在な左スライド板、右スライド板を
それぞれ配置すると共に、左スライド板上に第１、第２
の蒸発物質を配置し、右スライド板上にも第１、第２の
蒸発物質を配置し、上記フィルム状基材の往路方向移送
時には左スライド板上の第１の蒸発物質と右スライド板
上の第２の蒸発物質をそれぞれ蒸発させ、上記フィルム
状基材に第１、第２の順で蒸着層を形成し、上記フィル
ム状基材の復路方向移送時には左右のスライド板を移動
させ右スライド板上の第１の蒸着物質と左スライド板上
の第２の蒸着物質をそれぞれ蒸発させ、上記フィルム状
基材に第１、第２の順で蒸着層を形成し、往復いずれの
方向の移送時にも同一順序、同一蒸着入射角で蒸着層を
形成するように構成したことを特徴とする蒸着フィルム
製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15029381A JPS5914106B2 (ja) | 1981-09-22 | 1981-09-22 | 蒸着フイルム製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15029381A JPS5914106B2 (ja) | 1981-09-22 | 1981-09-22 | 蒸着フイルム製造装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS57101665A JPS57101665A (en) | 1982-06-24 |
| JPS5914106B2 true JPS5914106B2 (ja) | 1984-04-03 |
Family
ID=15493819
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15029381A Expired JPS5914106B2 (ja) | 1981-09-22 | 1981-09-22 | 蒸着フイルム製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5914106B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60194769U (ja) * | 1984-05-31 | 1985-12-25 | シャープ株式会社 | 小型フロツピ−デイスクドライブユニツト |
| JPH048554Y2 (ja) * | 1984-02-29 | 1992-03-04 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0762241B2 (ja) * | 1985-12-28 | 1995-07-05 | 石川島播磨重工業株式会社 | イオンプレ−テイング装置 |
| JP2009230935A (ja) * | 2008-03-19 | 2009-10-08 | Iwate Univ | 多層膜の形成方法及び多層膜並びに半導体デバイス又は液晶デバイス |
| WO2020025102A1 (en) * | 2018-07-30 | 2020-02-06 | Applied Materials, Inc. | Method of coating a flexible substrate with a stack of layers, layer stack, and deposition apparatus for coating a flexible substrate with a stack of layers |
-
1981
- 1981-09-22 JP JP15029381A patent/JPS5914106B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH048554Y2 (ja) * | 1984-02-29 | 1992-03-04 | ||
| JPS60194769U (ja) * | 1984-05-31 | 1985-12-25 | シャープ株式会社 | 小型フロツピ−デイスクドライブユニツト |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS57101665A (en) | 1982-06-24 |
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