JPS58105433A - 磁気記録媒体の製造装置 - Google Patents
磁気記録媒体の製造装置Info
- Publication number
- JPS58105433A JPS58105433A JP20341381A JP20341381A JPS58105433A JP S58105433 A JPS58105433 A JP S58105433A JP 20341381 A JP20341381 A JP 20341381A JP 20341381 A JP20341381 A JP 20341381A JP S58105433 A JPS58105433 A JP S58105433A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- reactive gas
- roller
- metal
- vapor
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は抗磁力を改良した磁気記録媒体の製造鋏瞭に関
する。
する。
従来、一気記録媒体を真空蒸着装置やイオンブレーティ
ング骸麹等を用いて製造する場合、ｉａ性層ＯＫ ｍｌ
’・力１ｒｊｌ［ｌめる方法の一つとして、蒸着時に真
空槽内に酸素尋の反応性気体を導入することが行なわれ
ている。
ング骸麹等を用いて製造する場合、ｉａ性層ＯＫ ｍｌ
’・力１ｒｊｌ［ｌめる方法の一つとして、蒸着時に真
空槽内に酸素尋の反応性気体を導入することが行なわれ
ている。
し力為し真空ｍ内の′＃、囲気は場所にＬつてバラツキ
があり、反応性気体を導入しても、それが有効に利用さ
れ難い欠点がある。
があり、反応性気体を導入しても、それが有効に利用さ
れ難い欠点がある。
本発明は以上の欠点會改良した一気記録媒体の製造装置
の提供を目的とするものである。
の提供を目的とするものである。
次に、本発明の実施例を図面に基づいて説明するＯ
第１図は本発明の製造装置の実施例を示す。図において
、１は円筒状の真空蒸＊槽、２は供給ロー２で、帯状の
プラスチックフィル五郷の基体３を供給する。４は基体
３ｔ−最終的に巻取るための巻取ローラである。５ｔｉ
基体３に蒸着した物質を冷却しうるバックローラで６９
％供給ローラ２と巻権ローラ４との間に配設されている
０７はルツボからなる蒸発ｆｊｌ１１であり、強磁性体
金属８が収容されている。６は強磁性棒金ＩＩ８の蒸気
の基体３への入射角を調節するための平板状マスクであ
り、パック四−ラ５の下方に配設さｎている。９は反応
性気体を導入するためのノズルでめり、その出口はバッ
クローニア５４蒸発飯置７の中間にあシ２反応性気体を
強磁性体金属８の蒸発路に横から吹きつけることができ
るようになっている０すなわち、供給ローラ２．パック
ローラ５および巻本ローラ４を回転させて基体３を走行
させる。次に蒸発装置７を加熱し、内の強磁性体金属８
を蒸発葛せ、ノズル９から反応性気体を吹きつけながら
、マスク６の位置によって規定される所定の入射角度以
上の蒸気だけｔ走行中の基体３に斜め蒸着させる０強磁
性体金属８が斜め蒸着した基体３はバンクローラ５によ
り冷却され、巻取ローラ４に４ＩＩＩＩＬられる。
、１は円筒状の真空蒸＊槽、２は供給ロー２で、帯状の
プラスチックフィル五郷の基体３を供給する。４は基体
３ｔ−最終的に巻取るための巻取ローラである。５ｔｉ
基体３に蒸着した物質を冷却しうるバックローラで６９
％供給ローラ２と巻権ローラ４との間に配設されている
０７はルツボからなる蒸発ｆｊｌ１１であり、強磁性体
金属８が収容されている。６は強磁性棒金ＩＩ８の蒸気
の基体３への入射角を調節するための平板状マスクであ
り、パック四−ラ５の下方に配設さｎている。９は反応
性気体を導入するためのノズルでめり、その出口はバッ
クローニア５４蒸発飯置７の中間にあシ２反応性気体を
強磁性体金属８の蒸発路に横から吹きつけることができ
るようになっている０すなわち、供給ローラ２．パック
ローラ５および巻本ローラ４を回転させて基体３を走行
させる。次に蒸発装置７を加熱し、内の強磁性体金属８
を蒸発葛せ、ノズル９から反応性気体を吹きつけながら
、マスク６の位置によって規定される所定の入射角度以
上の蒸気だけｔ走行中の基体３に斜め蒸着させる０強磁
性体金属８が斜め蒸着した基体３はバンクローラ５によ
り冷却され、巻取ローラ４に４ＩＩＩＩＬられる。
上記実施例において、基体３として厚さ１０μのポリエ
チレンテレフタレートフィルム、ｗａ性体金属８として
コバルト、反応性気体として酸素を用い、鍍素の導入量
０．１１ｔ／分、蒸着時の真空度３ ｘ １０ Ｔｏ
ｒｒ ｓ強磁性体金属８の蒸気の基体３に対する入射角
度範囲４０″〜９０°、５作製した蒸着ｙｉｓ＜厚さ１
００ＯＡ）の抗磁力は１０００エルステツドであった。
チレンテレフタレートフィルム、ｗａ性体金属８として
コバルト、反応性気体として酸素を用い、鍍素の導入量
０．１１ｔ／分、蒸着時の真空度３ ｘ １０ Ｔｏ
ｒｒ ｓ強磁性体金属８の蒸気の基体３に対する入射角
度範囲４０″〜９０°、５作製した蒸着ｙｉｓ＜厚さ１
００ＯＡ）の抗磁力は１０００エルステツドであった。
一方、従来の実施例として、ノズルからの反応性気体の
出口が強磁性体金属の蒸発路から遠い位置５例えば、第
２図に示すようにパックローラ１０の上部にノズル１１
の出ロｖｉ−設置し、上記の本発明は８００エルステツ
ドであった。すなわち本発明による方が抗磁力が大きい
ことが認められる〇なお第１図の本発明の実施例におい
ては、ノズル９の位置をマスク６の下方に配置したが、
これはマスク６とバンクローラＳの間に配置しても曳く
、また、強磁性体金属８の蒸発路をはさんで、マスク６
の反対側から反応性気体を吹きつけることができるよう
にノズル９を配置しても良い。さらに、第３図に示すよ
うに、ノズル１２ｔ−幅の広い矩形状のパイプで構成し
、マスクと兼用するような構造にしても同様の効果が得
られた。
出口が強磁性体金属の蒸発路から遠い位置５例えば、第
２図に示すようにパックローラ１０の上部にノズル１１
の出ロｖｉ−設置し、上記の本発明は８００エルステツ
ドであった。すなわち本発明による方が抗磁力が大きい
ことが認められる〇なお第１図の本発明の実施例におい
ては、ノズル９の位置をマスク６の下方に配置したが、
これはマスク６とバンクローラＳの間に配置しても曳く
、また、強磁性体金属８の蒸発路をはさんで、マスク６
の反対側から反応性気体を吹きつけることができるよう
にノズル９を配置しても良い。さらに、第３図に示すよ
うに、ノズル１２ｔ−幅の広い矩形状のパイプで構成し
、マスクと兼用するような構造にしても同様の効果が得
られた。
以上説明したように、本発明によれば反応性気体ｔ１１
強磁性金属の蒸発路に横から吹きつけることができる構
造になっているので、従来のｆ！置に比べて反応性気体
の高抗磁力化作用を有効に利用することができ、高抗磁
力の磁気記録媒体を製造できるといｐ利應がＴｏ牽。
強磁性金属の蒸発路に横から吹きつけることができる構
造になっているので、従来のｆ！置に比べて反応性気体
の高抗磁力化作用を有効に利用することができ、高抗磁
力の磁気記録媒体を製造できるといｐ利應がＴｏ牽。
第１脂は本発明の実施例０ＪＩＥ面断面凶、第２幽は従
来の磁気°記録媒体の製造装置の正面断面図、無３図は
本発明の他の実施例の正面断面図であるＯｌ・・・・・
・真空蒸着槽、２・・・・・・供給ローラ、３・・・・
・・基体％４・・・・・・巻取ローラ、５．１０・・・
・・・パックロー２％ ６・・・・・・マスク、７・・
・・・・蒸発装置％８・・・・・・強磁性体金属、９．
１１・・・・・・ノズル、１２・・・・・・マスク兼用
ノズル 第１図 第２図 第３図
来の磁気°記録媒体の製造装置の正面断面図、無３図は
本発明の他の実施例の正面断面図であるＯｌ・・・・・
・真空蒸着槽、２・・・・・・供給ローラ、３・・・・
・・基体％４・・・・・・巻取ローラ、５．１０・・・
・・・パックロー２％ ６・・・・・・マスク、７・・
・・・・蒸発装置％８・・・・・・強磁性体金属、９．
１１・・・・・・ノズル、１２・・・・・・マスク兼用
ノズル 第１図 第２図 第３図
Claims (1)
- 基体上に磁性層として強磁性体金属を蒸着、イオンブレ
ーティングにより形成する磁気記録媒体の製造装置にお
いて１反応快気体を導入するためのノズル會、強磁性体
金属の蒸発路の近傍で、しかも蒸発路に向かってはは直
角方向に設けることｔ＃ＩＩＩ黴とする磁気記録媒体の
製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20341381A JPS58105433A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20341381A JPS58105433A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58105433A true JPS58105433A (ja) | 1983-06-23 |
Family
ID=16473655
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20341381A Pending JPS58105433A (ja) | 1981-12-18 | 1981-12-18 | 磁気記録媒体の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58105433A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6076024A (ja) * | 1983-10-01 | 1985-04-30 | Ulvac Corp | 垂直磁気記録体の製造装置 |
-
1981
- 1981-12-18 JP JP20341381A patent/JPS58105433A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6076024A (ja) * | 1983-10-01 | 1985-04-30 | Ulvac Corp | 垂直磁気記録体の製造装置 |
| JPH0418373B2 (ja) * | 1983-10-01 | 1992-03-27 | Ulvac Corp |
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