JPS58161138A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS58161138A JPS58161138A JP4501182A JP4501182A JPS58161138A JP S58161138 A JPS58161138 A JP S58161138A JP 4501182 A JP4501182 A JP 4501182A JP 4501182 A JP4501182 A JP 4501182A JP S58161138 A JPS58161138 A JP S58161138A
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- JP
- Japan
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- base film
- ion beam
- recording medium
- ion
- evaporation source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は真空蒸着法を用にだ磁気記録媒体の製造方法に
関するものである。
関するものである。
磁気記録はオーディオ用をはじめ広い分野で使用されて
いる記録方式であり、これに用いる記録媒体の代表的な
ものとして磁気テープがある。現在、この磁気テープに
おいては、酸化鉄系、酸化クロム系あるいはコバルト酸
化鉄系の磁性体粉末をバインダーに分散し、これを基体
となるベースフィルム上にコーティングしたものが主流
となっている。しかし、より記録密度を向上させるため
には、このバインダーの存在しない磁性体のみの磁性層
を有する金属薄膜形の磁気テープが最も有効であり、こ
のため、近年、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、コバル
） （Ｃｏ） ｔたはこれらの合金からなる連続蒸着薄
膜がいわゆる斜め蒸着法にて製造されるようになってき
ている。
いる記録方式であり、これに用いる記録媒体の代表的な
ものとして磁気テープがある。現在、この磁気テープに
おいては、酸化鉄系、酸化クロム系あるいはコバルト酸
化鉄系の磁性体粉末をバインダーに分散し、これを基体
となるベースフィルム上にコーティングしたものが主流
となっている。しかし、より記録密度を向上させるため
には、このバインダーの存在しない磁性体のみの磁性層
を有する金属薄膜形の磁気テープが最も有効であり、こ
のため、近年、鉄（Ｆｅ）、ニッケル（Ｎｉ）、コバル
） （Ｃｏ） ｔたはこれらの合金からなる連続蒸着薄
膜がいわゆる斜め蒸着法にて製造されるようになってき
ている。
第１図には、このような斜め蒸着法を採用した磁気テー
プ製造装置の概略構成を示す。図において、１は冷却ロ
ーラ、２は巻出しローラ、３は巻取りローラ、４は基体
となるベースフィルム、６はじゃへい板、６は蒸発源で
ある。このような構成の磁気テープ製造装置において、
円筒状冷却ローラ１にそって矢印方向に搬送されてくる
ベースフィルム４に、蒸発源６から飛来する磁性材料の
蒸発原子を、冷却ローラ１の円筒の法線とθの角度をな
す方向から入射させると、ベースフィルム４の表面に磁
性材料の層を形成することができる。
プ製造装置の概略構成を示す。図において、１は冷却ロ
ーラ、２は巻出しローラ、３は巻取りローラ、４は基体
となるベースフィルム、６はじゃへい板、６は蒸発源で
ある。このような構成の磁気テープ製造装置において、
円筒状冷却ローラ１にそって矢印方向に搬送されてくる
ベースフィルム４に、蒸発源６から飛来する磁性材料の
蒸発原子を、冷却ローラ１の円筒の法線とθの角度をな
す方向から入射させると、ベースフィルム４の表面に磁
性材料の層を形成することができる。
この斜め蒸着法においては、ベースフィルム４に当る蒸
発原子の入射角θを連続的に変化させて磁ｆ斗材料を斜
め方向に蒸着させることにより、バルりの値以上の保磁
力を得て高密度磁気配録を達成している。
発原子の入射角θを連続的に変化させて磁ｆ斗材料を斜
め方向に蒸着させることにより、バルりの値以上の保磁
力を得て高密度磁気配録を達成している。
しかしながら、この方法においては、第１図かられあ・
るようにしゃへい板６を置いて、斜めにＣＯ等の原子を
蒸着させているために、蒸発源の利用効率が非常に悪い
という欠点を有している。また高速で蒸着しようと思え
ば、電子ビーム加熱による真空蒸着法を採用することが
考えらｎるが、犬゛衿の部分かじゃへい板に蒸着される
ために、実効蒸着速度を十分早くすることが難しく、し
かも基体との付着力が弱いと云う欠点砕有している。
るようにしゃへい板６を置いて、斜めにＣＯ等の原子を
蒸着させているために、蒸発源の利用効率が非常に悪い
という欠点を有している。また高速で蒸着しようと思え
ば、電子ビーム加熱による真空蒸着法を採用することが
考えらｎるが、犬゛衿の部分かじゃへい板に蒸着される
ために、実効蒸着速度を十分早くすることが難しく、し
かも基体との付着力が弱いと云う欠点砕有している。
本発明はこのような従来の欠点を解消し、蒸発源の利用
効率が高く、しかも蒸着速度の速い磁気記録媒体の製造
方法を提供するものである。すなわち本発明は、蒸発源
から蒸発してくる原子に７・１してイオンビームを斜め
方向から照射することによって蒸発原子にイオンビーム
のエネルギーを付加し、基体に対して斜めに蒸着された
磁性薄膜を作成するようにしたものである。
効率が高く、しかも蒸着速度の速い磁気記録媒体の製造
方法を提供するものである。すなわち本発明は、蒸発源
から蒸発してくる原子に７・１してイオンビームを斜め
方向から照射することによって蒸発原子にイオンビーム
のエネルギーを付加し、基体に対して斜めに蒸着された
磁性薄膜を作成するようにしたものである。
以下、本発明の製造方法につき詳細に説明する。
一般に、電子ビーム加熱や抵抗加熱等の真空蒸着法にお
いては、その蒸発原子の運動エイ・ルギーは、＋ｉｒ＋
々１ｅｖ（エレクトロンボルト）等度である。
いては、その蒸発原子の運動エイ・ルギーは、＋ｉｒ＋
々１ｅｖ（エレクトロンボルト）等度である。
−Ｊ、イオンビームでは、イオンを加速することにより
大きな運動エネルギーを得ることが出来、比効的小型の
装置でも１ｏｅＶ〜数１０ｅＶ程度の運動エネルギーを
有している。そのため、この高エネルギーのイオンビー
ムを蒸発原子に対して斜めに照射することによって蒸発
原子を斜めにはじき飛はすことか可能となり、しかも、
はじき飛ばされた蒸発原子は、イオンビームのエネルギ
ーを受けとって数ｅＶ以上のエネルギーで基体上に飛来
するため、基体との付着力が増大する。このように、斜
めにはじき飛ばされた蒸発原子は結果的に基体に対して
斜めに蒸着されるため、高い保磁力の膜が得られる。
大きな運動エネルギーを得ることが出来、比効的小型の
装置でも１ｏｅＶ〜数１０ｅＶ程度の運動エネルギーを
有している。そのため、この高エネルギーのイオンビー
ムを蒸発原子に対して斜めに照射することによって蒸発
原子を斜めにはじき飛はすことか可能となり、しかも、
はじき飛ばされた蒸発原子は、イオンビームのエネルギ
ーを受けとって数ｅＶ以上のエネルギーで基体上に飛来
するため、基体との付着力が増大する。このように、斜
めにはじき飛ばされた蒸発原子は結果的に基体に対して
斜めに蒸着されるため、高い保磁力の膜が得られる。
第２図は、本発明によるイオンビームを用いた斜め蒸着
装置の基本的な構成を示す概略図である。
装置の基本的な構成を示す概略図である。
図において、７は冷却ローラ、８は巻出しローラ、９ｉ
ｊｕｌリロ−ラ、１０はベースフィルム、１１は蒸発源
、１２はイオン源である。第２図の製造装置においては
、しやへい板がないためベースフィルム１０上に効率よ
く蒸着される。しかもイオン源１２をベースフィルム面
の法線に対してθの角度で照射することにより、ベース
フィルム−ににイぢンのエネルギーを利用して、磁性材
料を斜めに蒸着することができる。−またこの装置では
、角度θを変えることにより磁性膜の保磁力を連続的に
変化させることができ、しかもしゃへい板がないので、
蒸着速度と蒸着効率は、従来のしやへい板を置く場合に
比べ大巾に改、善される。なお、イオンビームの入射角
θは４００〜８０°が適当であり、４００未満では斜め
蒸着の効果が少なく、すなわち保磁力が増大せず、８０
°を越えるとイオン照射の効率が落ちる。
ｊｕｌリロ−ラ、１０はベースフィルム、１１は蒸発源
、１２はイオン源である。第２図の製造装置においては
、しやへい板がないためベースフィルム１０上に効率よ
く蒸着される。しかもイオン源１２をベースフィルム面
の法線に対してθの角度で照射することにより、ベース
フィルム−ににイぢンのエネルギーを利用して、磁性材
料を斜めに蒸着することができる。−またこの装置では
、角度θを変えることにより磁性膜の保磁力を連続的に
変化させることができ、しかもしゃへい板がないので、
蒸着速度と蒸着効率は、従来のしやへい板を置く場合に
比べ大巾に改、善される。なお、イオンビームの入射角
θは４００〜８０°が適当であり、４００未満では斜め
蒸着の効果が少なく、すなわち保磁力が増大せず、８０
°を越えるとイオン照射の効率が落ちる。
以下、本発明の実施例について説明する。
Ｎ１５ｏ重量係を含むＣＯを、電子ビーム蒸発源を用い
て１．５Ｘ１０−６ＴＯｒτの真空度の下でポリエステ
ルベースフィルム 速度で蒸着させ、同時にアルゴンのイオンビームを入射
角６０度で照射した（２．ＯｍＡ層 のイオン電流）。
て１．５Ｘ１０−６ＴＯｒτの真空度の下でポリエステ
ルベースフィルム 速度で蒸着させ、同時にアルゴンのイオンビームを入射
角６０度で照射した（２．ＯｍＡ層 のイオン電流）。
このようにして得られたＮｉ−Ｃｏ合金（膜厚ｉ ｏｏ
ｏ人）の保磁力はｅｓｏＱｅであった。壕だ、この際の
蒸発源の利用効率（付着量／蒸発［Ｉｔ）は約３３．５
％であった。この結果を試料＆１として次表に示す。
ｏ人）の保磁力はｅｓｏＱｅであった。壕だ、この際の
蒸発源の利用効率（付着量／蒸発［Ｉｔ）は約３３．５
％であった。この結果を試料＆１として次表に示す。
以Ｆ、−Ｆ記実施例と同様にして、入射角θおよびイオ
ン源の種類を変化させた時の保磁力および蒸発源の利用
効率を次表の試料屋２〜６に示す。
ン源の種類を変化させた時の保磁力および蒸発源の利用
効率を次表の試料屋２〜６に示す。
比較のため、イオンを照射しなかった場合および従来例
による斜め蒸着法のデータを試料番号６。
による斜め蒸着法のデータを試料番号６。
７に併せて示す。ただし、これらの試料は、それぞれ膜
厚１０００Ａ，蒸着速度３００人／秒，蒸着チャンバー
内の真空度１，５ Ｘ １ ０ ’ Ｔｏｒｒ の同
一条件で作成し、得られるＮｉ−Ｃｏ合金の組成は全て
一定であった。表において、入射角θは、小さ過ると保
磁力が向上せず、逆に犬き過るとイオンエネルギーの吸
収効率が低下する。イオンビームの種類については、不
活性ガスのイオンであイればどれでも効果があるが、特
にアルゴンイオンとヘリウムイオンが本目的に適してい
る。
厚１０００Ａ，蒸着速度３００人／秒，蒸着チャンバー
内の真空度１，５ Ｘ １ ０ ’ Ｔｏｒｒ の同
一条件で作成し、得られるＮｉ−Ｃｏ合金の組成は全て
一定であった。表において、入射角θは、小さ過ると保
磁力が向上せず、逆に犬き過るとイオンエネルギーの吸
収効率が低下する。イオンビームの種類については、不
活性ガスのイオンであイればどれでも効果があるが、特
にアルゴンイオンとヘリウムイオンが本目的に適してい
る。
米 比較例
なお、−ヒ記実施例で＋ｔｉ気テープを製造する場合に
ついて説明したが、本発明はこれに限定さｉするもので
はなく、磁気ティスフ等の製造においても同等の効果が
得られる。
ついて説明したが、本発明はこれに限定さｉするもので
はなく、磁気ティスフ等の製造においても同等の効果が
得られる。
以ヒの説明から明らかなように、本発明は直空蒸発法に
よって基体上に磁性材料を蒸着する際。
よって基体上に磁性材料を蒸着する際。
蒸発源から蒸発してくる原子に対してイオンビーｊ・を
斜めから照射するようにしたものであり一１本発明によ
ｔｌばしゃへい板なしで保磁力の高い磁気記録媒体を効
率良く製造できるｔ−め、その産業上の価値は犬なるも
のがある。
斜めから照射するようにしたものであり一１本発明によ
ｔｌばしゃへい板なしで保磁力の高い磁気記録媒体を効
率良く製造できるｔ−め、その産業上の価値は犬なるも
のがある。
第１図は従来の斜め蒸冶法を用いた磁気テープ製造装置
の基本構成を示す概略図、第２図は本発明の方法を採用
した磁気テープ製造装置の基本構成の一例を示す概略図
である。 ｔ、７′ ・・冷却ローラ、８・ ・巻出しローラ、
９ ・巻取すローラ、１０ ・ベースフィルム、１１
蒸発源、１２ ・・イオン源。
の基本構成を示す概略図、第２図は本発明の方法を採用
した磁気テープ製造装置の基本構成の一例を示す概略図
である。 ｔ、７′ ・・冷却ローラ、８・ ・巻出しローラ、
９ ・巻取すローラ、１０ ・ベースフィルム、１１
蒸発源、１２ ・・イオン源。
Claims (1)
- 真空蒸着法により磁性材料を基体に蒸着させて磁気記録
媒体を製造するに際し、飛翔中の蒸発原子に、イオンビ
ームを前記基体表面の法線となす角度が４０°〜８０°
の範囲から照射することを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4501182A JPS58161138A (ja) | 1982-03-19 | 1982-03-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4501182A JPS58161138A (ja) | 1982-03-19 | 1982-03-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58161138A true JPS58161138A (ja) | 1983-09-24 |
Family
ID=12707415
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4501182A Pending JPS58161138A (ja) | 1982-03-19 | 1982-03-19 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58161138A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61273738A (ja) * | 1985-05-29 | 1986-12-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1982
- 1982-03-19 JP JP4501182A patent/JPS58161138A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61273738A (ja) * | 1985-05-29 | 1986-12-04 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
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