JPS58199440A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS58199440A JPS58199440A JP8340382A JP8340382A JPS58199440A JP S58199440 A JPS58199440 A JP S58199440A JP 8340382 A JP8340382 A JP 8340382A JP 8340382 A JP8340382 A JP 8340382A JP S58199440 A JPS58199440 A JP S58199440A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- incidence
- vapor deposition
- recording medium
- magnetic recording
- polymer substrate
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
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- Metallurgy (AREA)
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
２ページ
本発明は、連続式真空蒸着法による金属薄膜型の磁気記
録媒体の製造方法に係るものである。この本発明の製造
方法によれば、高抗磁力、高角形比の金属薄膜を高速で
かつ連続で制御すること力゛できる。
録媒体の製造方法に係るものである。この本発明の製造
方法によれば、高抗磁力、高角形比の金属薄膜を高速で
かつ連続で制御すること力゛できる。
現在、磁気記録媒体はテープレコーダー、ビデオテープ
レコーダー、コンピュタ−９磁気カードなど各方面で多
種、多量に用いられている。これらの磁気記録媒体の特
性は、確実に高密度記録。
レコーダー、コンピュタ−９磁気カードなど各方面で多
種、多量に用いられている。これらの磁気記録媒体の特
性は、確実に高密度記録。
長時間記録などが要求される方向にあシ、これらの要求
に対して磁気記録媒体の全厚低下、磁性層を薄くか９均
Ｔにし不表面性を良くすること・また磁束密度の向上な
どで多くの研究、開発がなされている。そして高密度記
録用媒体として塗布型磁気記録媒体においては磁性層中
の磁性体密度の向上、磁性体をより微粒子とする磁性体
の改良、各種改良がなされている。
に対して磁気記録媒体の全厚低下、磁性層を薄くか９均
Ｔにし不表面性を良くすること・また磁束密度の向上な
どで多くの研究、開発がなされている。そして高密度記
録用媒体として塗布型磁気記録媒体においては磁性層中
の磁性体密度の向上、磁性体をより微粒子とする磁性体
の改良、各種改良がなされている。
一方１．塗布型と別の方法として金属薄膜による磁気記
録媒体が提案され、一部には磁気テープとし３ベージ で市販されている。金属薄膜で磁性層を形成することに
よシこの磁性層は１００％磁性体となって磁束密度か高
文なシ、゛また塗布型に比べて磁性層が薄（（０，５’
、ｃｍ以下）かつ均一となシ、さらに表面性が良好、高
抗磁力、６高角形比が得られるなどの特徴を有し、＋短
波長記録向きの磁気記録媒体が得られる。一般的に金属
薄膜を得る方法としてはメッキ、イオンブレーティング
、スパッター。
録媒体が提案され、一部には磁気テープとし３ベージ で市販されている。金属薄膜で磁性層を形成することに
よシこの磁性層は１００％磁性体となって磁束密度か高
文なシ、゛また塗布型に比べて磁性層が薄（（０，５’
、ｃｍ以下）かつ均一となシ、さらに表面性が良好、高
抗磁力、６高角形比が得られるなどの特徴を有し、＋短
波長記録向きの磁気記録媒体が得られる。一般的に金属
薄膜を得る方法としてはメッキ、イオンブレーティング
、スパッター。
蒸着などの方法が提案されているが、工業的に検討する
と蒸着法が最も量産性が高い。
と蒸着法が最も量産性が高い。
本発明はこの量産性の高い真空蒸着法に着目し、後述の
実施例に示す方法により金属薄膜型の磁気記録媒体とし
て高抗磁力（７，００α以上）、高角形比（０，９以上
）の特性が得られた。これらは高密度記録の要求に対応
できる磁気記録媒体として十分であシ、ビデオテープや
ディジタル用テープとして良好な結果が得られる。
実施例に示す方法により金属薄膜型の磁気記録媒体とし
て高抗磁力（７，００α以上）、高角形比（０，９以上
）の特性が得られた。これらは高密度記録の要求に対応
できる磁気記録媒体として十分であシ、ビデオテープや
ディジタル用テープとして良好な結果が得られる。
以下実施例を掲げて本発明の詳細な説明する。なお実施
例中に記述する材料、形状９寸法は本発明の範囲を限定
するものではない。
例中に記述する材料、形状９寸法は本発明の範囲を限定
するものではない。
〔実施例１〕
、第、１図に本発明の磁気記録媒体の製造に用いる装置
を示す。本実施例では真空蒸着法を用いた。
を示す。本実施例では真空蒸着法を用いた。
□ 真空蒸着装置は巻取軸１１巻巻出軸円筒ドラム”
４．高分子基板３などの走行系と４、蒸着源、９゜１
ｏを設置しである。真空条件は１０ ’ Ｔｏｒｒ
以下までの排気系と雰囲気ガスの導入系により設定され
る。巻出軸２に巻回された高分子基板３は円筒ドラム４
に密着して走行し、巻取４，７．、、、；巻取られる。
４．高分子基板３などの走行系と４、蒸着源、９゜１
ｏを設置しである。真空条件は１０ ’ Ｔｏｒｒ
以下までの排気系と雰囲気ガスの導入系により設定され
る。巻出軸２に巻回された高分子基板３は円筒ドラム４
に密着して走行し、巻取４，７．、、、；巻取られる。
各軸の回転方向はそれぞれ矢印１０，１１゜１２で示し
てあ仝。蒸発源９，１０は円筒ドラム４の下部に設置し
たベース７、・８上に置かれ、この蒸発源９及び１０は
Ｃｏ、：８０％、Ｎｉ：２５％を主成分とした合金磁性
材料からなる。蒸発材料は加熱源１１，１２によシ刀ロ
熱され蒸発するものである。各蒸発源９，１ｏからの蒸
発原子１３゜１４は高分子基板３への最少入射角を制限
するためのマスク５，６によシ入射角が制限される。こ
のときの最大入射角θ１は９０’であり、最小入射角は
マスク６．６にょシθ２．θ３に制限される５ページ 射角は交らないようにしている。この最少入射角依存性
することは第２図に示すように抗磁力の最少入射角依存
性が大手あるためである。一般的に、上を得ようとする
場合は、最少入射角を５０’以上にすることがのぞまし
い。一方、蒸着源９，１０からの蒸気分布は一般的にγ
μｓθもしくはｒ ｃｏｓ ２θの分布をしておシ、最
少入射角を５０°以上にすることは蒸着効率を著しく低
下させる二従って蒸着速度は１０ ｍ１ｍ程度になって
しまい、工業性が失なわれてしまう。本発明は蒸発源を
複数とすることにより、特性の維持を確保した上で蒸着
速度を向上させた製造方法である。この実施例では高分
子基板３の速度を２０ ｍ／ｓａｇで、膜厚′６ｏＯ人
のの抗磁力は７９００ｅ、角形比は０．９５で、あった
。
てあ仝。蒸発源９，１０は円筒ドラム４の下部に設置し
たベース７、・８上に置かれ、この蒸発源９及び１０は
Ｃｏ、：８０％、Ｎｉ：２５％を主成分とした合金磁性
材料からなる。蒸発材料は加熱源１１，１２によシ刀ロ
熱され蒸発するものである。各蒸発源９，１ｏからの蒸
発原子１３゜１４は高分子基板３への最少入射角を制限
するためのマスク５，６によシ入射角が制限される。こ
のときの最大入射角θ１は９０’であり、最小入射角は
マスク６．６にょシθ２．θ３に制限される５ページ 射角は交らないようにしている。この最少入射角依存性
することは第２図に示すように抗磁力の最少入射角依存
性が大手あるためである。一般的に、上を得ようとする
場合は、最少入射角を５０’以上にすることがのぞまし
い。一方、蒸着源９，１０からの蒸気分布は一般的にγ
μｓθもしくはｒ ｃｏｓ ２θの分布をしておシ、最
少入射角を５０°以上にすることは蒸着効率を著しく低
下させる二従って蒸着速度は１０ ｍ１ｍ程度になって
しまい、工業性が失なわれてしまう。本発明は蒸発源を
複数とすることにより、特性の維持を確保した上で蒸着
速度を向上させた製造方法である。この実施例では高分
子基板３の速度を２０ ｍ／ｓａｇで、膜厚′６ｏＯ人
のの抗磁力は７９００ｅ、角形比は０．９５で、あった
。
゛蒸発源を３個とし、他は実施例１と同じ条件で製造し
た。その膜厚は９６０人で、抗磁力は７７６６ベーン ）、角形比は０．９２であった。
た。その膜厚は９６０人で、抗磁力は７７６６ベーン ）、角形比は０．９２であった。
以上実施例で示すように本発明は蒸発源を複数にするこ
とによシ、蒸着速度を低下させることなく、金属薄−の
膜厚を厚くでき、かつ抗磁力、角形比ともに高く保つこ
とができるものである。尚１、実施例においては蒸発源
容態に竺無機質ルツボ、又加熱源に電子ビームを用いた
。このことによシ蒸発１／−）７％安定し・高分子８板
′）″宣薄膜”“巾方向、長手方向とも安定したものが
得られた。
とによシ、蒸着速度を低下させることなく、金属薄−の
膜厚を厚くでき、かつ抗磁力、角形比ともに高く保つこ
とができるものである。尚１、実施例においては蒸発源
容態に竺無機質ルツボ、又加熱源に電子ビームを用いた
。このことによシ蒸発１／−）７％安定し・高分子８板
′）″宣薄膜”“巾方向、長手方向とも安定したものが
得られた。
本発明はこれらにより、
（１）工業性が高く、生産性が良い。
（２）高抗磁力、高角形比で高磁束密度の磁気記録媒体
が得られる。
が得られる。
（３）装置の構成が簡単である。
な、どの特徴を有する？
４、図面の簡単な説明 。
第１図は本発明の一実施例？磁気記録媒体の製造装置を
示す概略図、第２図は同装置を用いて製造した磁気記録
媒体の特性図である。 。
示す概略図、第２図は同装置を用いて製造した磁気記録
媒体の特性図である。 。
３・・・・・・高分子基板、４・・・・・・円筒ドラム
、５，６７ページ ・・・・・・マスク、９，１０・・・・・・蒸発源、１
３，１４・・・・・・蒸発原子。
、５，６７ページ ・・・・・・マスク、９，１０・・・・・・蒸発源、１
３，１４・・・・・・蒸発原子。
代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 ？ 第２図 １８５−
図 ？ 第２図 １８５−
Claims (2)
- （１）真空条件下で高分子基板上に鉄、弓バルト。 ニッケル、クロムなどの磁性材料を単一もしくは混合し
て連続的に蒸着させることにより金属薄膜型磁気記録媒
体を得る製造方法であって、円筒ドラムの外表面に密着
して走行される高分子基板の下方に、上記磁性材斡よシ
選択された同一の磁性材料を電子ビームで加熱蒸発させ
る少なくとも２つの蒸発源を設け、この少なくとも２つ
の蒸発源からともに磁性材料を蒸発させて金属薄膜を形
成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。 - （２） 各蒸発源から蒸発する原子群と高分子基板表
面のなす角が最大入射角９ｏ０．最少入射角が、。・以
上−Ｃあ、。■特徴とす鼠特許請求の範囲第１項記載の
磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8340382A JPS58199440A (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8340382A JPS58199440A (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58199440A true JPS58199440A (ja) | 1983-11-19 |
Family
ID=13801457
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8340382A Pending JPS58199440A (ja) | 1982-05-17 | 1982-05-17 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58199440A (ja) |
-
1982
- 1982-05-17 JP JP8340382A patent/JPS58199440A/ja active Pending
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