JPS58115634A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS58115634A JPS58115634A JP21291181A JP21291181A JPS58115634A JP S58115634 A JPS58115634 A JP S58115634A JP 21291181 A JP21291181 A JP 21291181A JP 21291181 A JP21291181 A JP 21291181A JP S58115634 A JPS58115634 A JP S58115634A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- substrate
- recording medium
- magnetic recording
- thin film
- Prior art date
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- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録媒体の製造方法に関するものであって
、その目、的とするところは磁気記録媒体の走行性２巻
き取り性、磁気へラドタッチ等に悪影響を及ぼすカール
の発生を防止した製造方法を提供するものである。
、その目、的とするところは磁気記録媒体の走行性２巻
き取り性、磁気へラドタッチ等に悪影響を及ぼすカール
の発生を防止した製造方法を提供するものである。
従来、磁気記録媒体としては、非磁性基板上に磁性粉を
塗布した塗布形媒体が用いられてきた。
塗布した塗布形媒体が用いられてきた。
現在、磁気記録再生装置は小型化、高密度化の傾向にあ
るか、塗布形媒体では高密度化に限界かある。この限界
を越えるものとして強磁性金属薄膜よりなる薄膜形媒体
が注目されている。強磁性金属薄膜よりなる薄膜形媒体
を製造する方法には、メッキ法、スパッタリング法、お
よび真空蒸着法等があるが、量産性や安定性を考慮する
と真空蒸着法が最も優れている。真空蒸着法にて生産性
が良くかつ安定に薄膜形媒体を形成するには、第１図に
示すように、円筒状キャン２め周側面に沿わせて高分子
材料よりなる基板１を矢印入方向へ移動させつつ蒸着を
行なえばよい。なお、３，４はそれぞれ基板１の供給ロ
ールおよび巻き取りロール、５は蒸発源である。
るか、塗布形媒体では高密度化に限界かある。この限界
を越えるものとして強磁性金属薄膜よりなる薄膜形媒体
が注目されている。強磁性金属薄膜よりなる薄膜形媒体
を製造する方法には、メッキ法、スパッタリング法、お
よび真空蒸着法等があるが、量産性や安定性を考慮する
と真空蒸着法が最も優れている。真空蒸着法にて生産性
が良くかつ安定に薄膜形媒体を形成するには、第１図に
示すように、円筒状キャン２め周側面に沿わせて高分子
材料よりなる基板１を矢印入方向へ移動させつつ蒸着を
行なえばよい。なお、３，４はそれぞれ基板１の供給ロ
ールおよび巻き取りロール、５は蒸発源である。
しかし、上記の方法で薄膜を形成すると、一般に第２図
に示す強磁性金属薄膜６が内側になるようなカール（以
下この様なカールを正カールと称す）を生じ、磁気記録
媒体として使用する際に走行性９巻き取り性、磁気へラ
ドタッチ等か悪くなるという問題を生じる。磁気記録媒
体として使用するためには、カールの社を第２図に示し
たｔ。
に示す強磁性金属薄膜６が内側になるようなカール（以
下この様なカールを正カールと称す）を生じ、磁気記録
媒体として使用する際に走行性９巻き取り性、磁気へラ
ドタッチ等か悪くなるという問題を生じる。磁気記録媒
体として使用するためには、カールの社を第２図に示し
たｔ。
ノを用いて１／２で表わしたとき、負が１０％以下にな
ることが必要である。この条件を満たすためには、第３
図に示すように磁気記録媒体において強磁性金属薄膜６
と反対側に非磁性層７を形成するか、あるいは薄膜形成
後に熱処理を施して基板１を収縮させればよいが、いず
れにしても工程が少な（とも一つ増加してしまう。
ることが必要である。この条件を満たすためには、第３
図に示すように磁気記録媒体において強磁性金属薄膜６
と反対側に非磁性層７を形成するか、あるいは薄膜形成
後に熱処理を施して基板１を収縮させればよいが、いず
れにしても工程が少な（とも一つ増加してしまう。
本発明の方法は、このように工程を増加させずに、蒸着
時に基板を熱収縮させることによりカールを減少させ、
Ｖ）を１０％以下にすることができるものである。
時に基板を熱収縮させることによりカールを減少させ、
Ｖ）を１０％以下にすることができるものである。
一般に高分子材料よりなる基板は加熱すると熱収縮を生
じるが、本発明はキャンの温度を上げることにより基板
を加熱し、それに蒸発原子の付着時の基板の温度上昇を
加えることにより基板を熱収縮させ、その収縮量をカー
ル賃が１０Ｘ以下になるようにするものである。実験の
結果、基板を１０分間放置した後の熱収縮率が０．１〜
６％になる温度よりも１ｏｏ’ｃ低い温度に設定して蒸
着を行なうと、ｔ７１が１Ｑ％以下になることが明らか
になった。この熱収縮率か０．１％よりも小さい値にな
る温度にキャンの温度を設定して蒸着を行なう巷と、得
られる磁気記録媒体は第２図のように正カールしており
、（句か１０％以上となる。また、熱収縮率が６％より
大きな値となる温度にキャンの温度を設定り、て蒸着を
行なうと、得られる磁気記録媒体は第４図のように磁性
薄膜６が外側になる形でカール（以下このようなカール
を逆カールと称す）しており、いが１０％以上となる。
じるが、本発明はキャンの温度を上げることにより基板
を加熱し、それに蒸発原子の付着時の基板の温度上昇を
加えることにより基板を熱収縮させ、その収縮量をカー
ル賃が１０Ｘ以下になるようにするものである。実験の
結果、基板を１０分間放置した後の熱収縮率が０．１〜
６％になる温度よりも１ｏｏ’ｃ低い温度に設定して蒸
着を行なうと、ｔ７１が１Ｑ％以下になることが明らか
になった。この熱収縮率か０．１％よりも小さい値にな
る温度にキャンの温度を設定して蒸着を行なう巷と、得
られる磁気記録媒体は第２図のように正カールしており
、（句か１０％以上となる。また、熱収縮率が６％より
大きな値となる温度にキャンの温度を設定り、て蒸着を
行なうと、得られる磁気記録媒体は第４図のように磁性
薄膜６が外側になる形でカール（以下このようなカール
を逆カールと称す）しており、いが１０％以上となる。
次に本発明の実施例を述べる。
実施例１
斜め蒸着法によりＮｉを２０％含むＣｏ −Ｎｉ薄膜を
第６図に示す構成の装置で作製した。図において、８は
マスクである。基板１として１ｏＩ１ｍ厚のポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを用い蒸着時の基板１０走行
速度を２０ｍ／分１強磁性金属薄膜としての蒸着膜の膜
厚を１２００Ｘとして、キャン２の温度８０’Ｃにて蒸
着膜を形成した。
第６図に示す構成の装置で作製した。図において、８は
マスクである。基板１として１ｏＩ１ｍ厚のポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを用い蒸着時の基板１０走行
速度を２０ｍ／分１強磁性金属薄膜としての蒸着膜の膜
厚を１２００Ｘとして、キャン２の温度８０’Ｃにて蒸
着膜を形成した。
なお、用いたポリエチレンテレフタレートは１８ｏ０Ｃ
で１０分間放置した後の熱収縮率が１．２（Ｘである。
で１０分間放置した後の熱収縮率が１．２（Ｘである。
得られた磁気記録媒体は逆カールをしており、そのνｔ
は２％であった。
は２％であった。
実施例２
第６図に示す装置にて、膜の垂直方向に磁化容易軸を有
するＣｏ −Ｏｒ垂直磁化膜を作製した。基板１として
ポリアミド系の耐熱性高分子材料よりなるフィルムを用
い、蒸着時の基板１の走行速度を１０ ｍ７分９強磁性
金属薄膜としての蒸着膜の膜厚を２０００ムとしてキャ
ン２の温度２３０°Ｃにて膜を形成した。−なお、この
フィルムは３３００Ｇで１０分間放置した後の熱収縮率
は２．４％である。得られた磁気記録媒体は正カールを
しており、そのｔ／Ｊは３％であった。
するＣｏ −Ｏｒ垂直磁化膜を作製した。基板１として
ポリアミド系の耐熱性高分子材料よりなるフィルムを用
い、蒸着時の基板１の走行速度を１０ ｍ７分９強磁性
金属薄膜としての蒸着膜の膜厚を２０００ムとしてキャ
ン２の温度２３０°Ｃにて膜を形成した。−なお、この
フィルムは３３００Ｇで１０分間放置した後の熱収縮率
は２．４％である。得られた磁気記録媒体は正カールを
しており、そのｔ／Ｊは３％であった。
以」二のように、本発明の方法は、強磁性金属薄膜より
なる磁性層を、円筒状キャンの周側面に移動している高
分子材料よりなる基板上に真空蒸着法により形成する際
に、基板を１０分間放置した後の熱収縮率が０．１〜６
％である温度に前記キャンの温度を設定しているので、
カールのほとんど
なる磁性層を、円筒状キャンの周側面に移動している高
分子材料よりなる基板上に真空蒸着法により形成する際
に、基板を１０分間放置した後の熱収縮率が０．１〜６
％である温度に前記キャンの温度を設定しているので、
カールのほとんど
第１図は一般的な真空蒸着装置の要部の構成を示す図、
第２図は従来の真空蒸着法により得られた磁気記録媒体
のカールの状態を示す図、第３図は裏面に薄膜を形成す
ることによりカールの発生を防止した磁気記録媒体を示
す図、第４図は逆カールした磁気記録媒体を示す図、第
６図および第６図はそれぞれ本発明の方法の実施例を説
明するための図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・円筒状キャン、６
・・・・・・蒸発源、８・・・・・・マスク。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 巨戸 第２図 第３図 第５図 園〜５
第２図は従来の真空蒸着法により得られた磁気記録媒体
のカールの状態を示す図、第３図は裏面に薄膜を形成す
ることによりカールの発生を防止した磁気記録媒体を示
す図、第４図は逆カールした磁気記録媒体を示す図、第
６図および第６図はそれぞれ本発明の方法の実施例を説
明するための図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・円筒状キャン、６
・・・・・・蒸発源、８・・・・・・マスク。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名第１
図 巨戸 第２図 第３図 第５図 園〜５
Claims (1)
- 強磁性金属薄膜よりなる磁性層を、円筒状キャンの周側
面に沿って移動しつつある高分子材料よりなる基板上に
真空蒸着法により形成する際に、前記基板を１０分間放
置した後の熱収縮率が０．１〜６％である温度よりも１
ｏｏ０Ｇ低い温度に前記キャンの温度を設定することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21291181A JPS58115634A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21291181A JPS58115634A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58115634A true JPS58115634A (ja) | 1983-07-09 |
| JPH0334131B2 JPH0334131B2 (ja) | 1991-05-21 |
Family
ID=16630316
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21291181A Granted JPS58115634A (ja) | 1981-12-28 | 1981-12-28 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58115634A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60150237A (ja) * | 1984-01-14 | 1985-08-07 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS61115226A (ja) * | 1984-11-08 | 1986-06-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1981
- 1981-12-28 JP JP21291181A patent/JPS58115634A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60150237A (ja) * | 1984-01-14 | 1985-08-07 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS61115226A (ja) * | 1984-11-08 | 1986-06-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPH0542053B2 (ja) * | 1984-11-08 | 1993-06-25 | Fuji Photo Film Co Ltd |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0334131B2 (ja) | 1991-05-21 |
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