JPS62219234A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［Ｍ業との利用分野］ 本発明は、全屈薄膜型磁気記録媒体の製造方法に関する
ものである。

［従来の技術］ 年々高密度化の傾向にある磁気記録媒体のなかで、垂直
磁気記録媒体は次世代の記録媒体として有力視されてき
た。これは垂直磁気記録方式が原理的に高密度記録が可
能なためであるが、とりわけこの数年間精力的に研究が
すすめられ、垂直磁気記録媒体は現在、実用化の段階に
ある。

垂直磁気記録媒体としてはＢａフェライトを用いた塗布
媒体もあるが、Ｃｏ−Ｏｒ合金薄膜が主流となっている
。Ｃｏ−Ｏｒ合金薄膜はスパッタリング、真空蒸着、イ
オンブレーティングなどの方法により形成することがで
きるが、この中で真空ＲＨ法はその成膜速度が大きいこ
とから、金属ｇ膜媒体の製造に最も適している。

現在、真空蒸着による磁気記録媒体の製造はほとんど連
続式蒸着と呼ばれる方法をもちいている。これは、真空
槽内に円筒形キャンを設け、可撓性基体をキャンに沿っ
て移動させながら電子ビーム蒸着により、連続的に磁性
層を形成するという方法である。　Ｃｏ−旧糸蒸着媒体
はその代表例としてあげられる。

連続式蒸着法によりＣｏ−Ｃｒ垂直磁気記録媒体を製造
する場合、問題となっている点のひとつに可撓性基体の
しわ発生がある。これは基体上に磁性層を形成する際に
生じるもので、蒸発源からの輻射熱や蒸発物質の凝集熱
により急激に基体の温度が上昇することに起因する。

基体の温度が蒸着時にＬ昇するのはＣｏ−旧蒸着媒体で
も全く変わりないが、Ｃｏ−Ｎｉ蒸着媒体でしわが発生
しにくく、Ｃｏ−Ｃｒ蒸着媒体でしわが発生しやすいの
は以下の理由による。

まずＣｏ−Ｎｉ蒸着媒体は、蒸発原子が基体に対して斜
めに入射する斜め蒸着を用いているが、Ｃｏ−Ｃｒ蒸着
媒体は蒸発原子が基体に垂直に入射する通常の蒸着で膜
形成しているという点である。　Ｃｏ−Ｎｉ蒸着媒体の
製造装ごを第１図に示す。

Ｃｏ−旧蒸着媒体は磁気特性を向上させるために蒸発原
子Ｓの入射角φが大きくなるように、蒸発原子Ｓの入射
角を制限するマスク５が広くなっている。このようにす
ると、蒸着初期には成膜速度が小さく、連続的に成膜速
度が増加しながら磁性層を形成してい〈、ところがＣｏ
−Ｃｒ蒸着媒体では第２図に示すように蒸発原子Ｓの入
射角φを制限するマスク５のスリット巾が狭い、これは
Ｃａ−Ｃｒ膜の結晶配向性を高めるためであり、入射角
φが小さいほど、結晶配向性が向上する。垂直磁気記録
媒体を得るためには入射角φは３０°以下が望ましい。

従ってこの場合には成膜速度に勾配はっかない。

また、Ｃｏ一層蒸若媒体では円筒形キャン２を冷却して
いるが、Ｃｏ−Ｃｒ蒸着媒体では円筒形キャン２を加熱
している。これはＣｏ−Ｃｒ蒸着媒体の磁気特性、とり
わけ抗磁力が基体１の温度に依存するためである。良好
な垂直磁気記録媒体を得るためには基体ｌの温度は１５
０℃から３００℃の範囲にあることが望ましい。

つまり、Ｃｏ−Ｃｒ蒸着媒体を製造する場合、斜め蒸着
とは異なり、成膜速度に勾配がなく、かつキャンの温度
が１５０℃から３００’Ｃと高いため、蒸着時の基体１
の温度上昇が急激であり、しわが発生しやすいのである
。

［発明が解決しようとする問題点］ このようなしわの発生に対して従来とられてきた方法は
基体１の張力を増大させるというものであった。張力を
増大させることにより、キャン２との密着性をたかめ、
しわの発生を抑えていた。

しかし、この方法では張力を増大させたために。

ノ＾体が塑性変形をおこし、磁性層にクラックがはいっ
たり、成膜後のカールがひどくなるなどの問題点があっ
た。

本発明は上記問題点を解消するもので、基体の張力を増
大させずに、蒸着時のしわを抑えることができ、量産効
果の著しいＣｏ−Ｃｒ垂直磁気記録媒体の製造方法を提
供するものである。

［問題点を解決するための手段および作用］本発明の製
造方法は、移動する可とう性基体に電子ビーム蒸着によ
り連続的にＣｏ−Ｃｒを主成分とする磁性層を形成する
垂直磁気記録媒体の製造方法において、該可とう性基体
を加熱し、かつ帯電させたのちに磁性層を形成すること
を特徴とする。

本発明の構成により帯電した基体と、円筒形キャンとの
間に静電引力がはたらき、極めて密着性が向上する。こ
の為基体の張力を増大させずともしわの発生を抑えるこ
とが可能となり、生産性が向−ヒする。

以Ｆ本発明を実施例に対応する図面を参照しながら説明
する。第３図は本発明を実現するために用いた蒸着装置
の一実施例の要部構成図である。

蒸気流の入射を制限するマスク５に開孔８が設けられて
いる。開孔８は電Ｐビーム７の反射電子を基体ｌの表面
に回り込ませる役割をはたしている。

電Ｔビーム７の反射電子を利用せず、基体ｌの帯電用に
電子ビームを設けてもよい、ここで基体ｌは、ポリイミ
ド２ポリアミド、ポリエチレンテレフタレートなどの高
分子成形物で膜厚１００　ｐ、ｍ以ドのものが適宜選択
されるがとりわけ３０ｇｍ以下の薄いフィルムの場合に
しわの発生が問題となる。

円筒形キャン２は金属製で熱媒により温度制御可能であ
る。

このように構成された製造装置で種々の条件により、基
体ｌを走行させ、蒸着を行った結果、しわの抑制効果が
確認された。

［実施例］ 以下に本発明の具体的な実施例を説明する。

実施例１ 第２図のように帯電用の開孔がない蒸着装置と第３図の
ように帯電用の開孔のある蒸着装ごで実験を行った。基
体はポリイミド（巾８ｈｍ、厚さ８　ｐ、ｔｓ　、　１
２ＩＬａ＋）を使用し、キャン温度は２００℃。

２５０℃および２８０℃と変化させた。フィルム搬送速
度は２　ｍ／ｗｉｎ、７４ルム張力は５００　ｇ／ｍｍ
２以下、蒸発源はＣｏ−Ｃｒ合金、磁性層厚は０．４μ
層とした。

第２図のような開孔のない装置の場合、蒸発原子が入射
するＡの部分からしわが発生した。しわの発生はキャン
温度が上昇すると増加する傾向にあり、キャン温度２８
０℃では８０層■の巾に１０本以上のしわが発生する場
合もあった。フィルムの厚さ８終■と１２Ｂとではしわ
の発生にほとんど差がなかった。これに対して第３図の
ように開孔がある場合はどの条件でもしわは発生しなか
った。

実施例２ 実施例１と同様、開孔のない装置と開孔のある装置で実
験を行った。基体はポリアミド（巾８０厘Ｉ、厚さｌＯ
終ｍ）を使用し、キャン温度は１５０°Ｃおよび２００
°Ｃと変化させた。フィルム搬送速度は２　ｍ／ｗｉｎ
、フィルム張力は５００ｇ／ｍｍ２以下、蒸発源はＣｏ
−Ｃｒ合金、磁性層厚は０．４μｍとした。

開孔のない装置では蒸発原子が入射するＡの部分からし
わが発生した。しわの発生はキャンの温度の高いほうが
多かった。これに対して開孔のある装置ではしわは発生
しなかった。

［）Ａ明の効果］ 以上のように本発明は電子ビーム蒸着により可撓性基体
上に磁性層を形成する際に磁性層が形成される前に基体
を帯電することによりキャンと基体の密若性をたかめ、
蒸着時のしわの発生を抑えることができ、生産性にすぐ
れた全屈薄膜型磁気記録媒体の製造方法を提供するもの
であり、その量産的効果は大きい。

【図面の簡単な説明】

第１図は斜め蒸着用連続式蒸着装δの要部構成図、第２
図は帯電用開孔のない連続式蒸着装置の要部構成図、第
３図は、帯電用開孔のある連続式Ｍ着装置の要部構成図
。 １は可撓性基体、２は円筒形キャン、３は巻き取りロー
ル、４は巻き出しロール、５はマスク、６は蒸発源、７
は電子ビーム、８は基体帯電用開孔部、Ｓは蒸発原子、
φは蒸発原子の入射角、Ａは蒸発原子の入射しはじめる
位置を示す。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　移動する可撓性基体に電子ビーム蒸着により連続的に
   、Ｃｏ−Ｃｒを主成分とする磁性層を形成する垂直磁気
   記録媒体の製造方法において、該可撓性基体を加熱し、
   かつ帯電させたのちに磁性層を形成することを特徴とす
   る磁気記録媒体の製造方法。