JPH0244520A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH0244520A JPH0244520A JP19409988A JP19409988A JPH0244520A JP H0244520 A JPH0244520 A JP H0244520A JP 19409988 A JP19409988 A JP 19409988A JP 19409988 A JP19409988 A JP 19409988A JP H0244520 A JPH0244520 A JP H0244520A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は耐久性、走行性に優れた薄膜型磁気記録媒体の
製造方法に関するものである。
製造方法に関するものである。
従来の技術
基板上に磁性粉を塗布した塗布型磁気記録媒体が、現在
主に使用されている。しかし磁気記録再生装置は年々高
密度化してお９、塗布型磁気記録媒体の高密度化は限界
に近づきつつある。
主に使用されている。しかし磁気記録再生装置は年々高
密度化してお９、塗布型磁気記録媒体の高密度化は限界
に近づきつつある。
そこで更に高密度な磁気記録媒体として短波長記録再生
特性に優れた薄膜型磁気記録媒体が開発されつつある。
特性に優れた薄膜型磁気記録媒体が開発されつつある。
薄膜型磁気記録媒体は、真空蒸着法、スパッタリング法
、メツキ法等により作製される。薄膜型磁気記録媒体に
おける磁性層としては、Ｃｏ 、Ｃｏ−Ｎｉ 、Ｃｏ−
Ｎｉ −Ｐ 、Ｃｏ−０，Ｃｏ−Ｎｉ −０、Ｆｅ−０
等の面内記録用薄膜、 Ｃｏ−Ｃｒ 、 Ｃｏ −Ｎｉ
−Ｃｒ 、Ｃｏ−Ｃｒ −Ｍｏ 、 Ｃｏ−Ｃｒ−Ｗ、
Ｃｏ−０ｒ−Ｎｂ。
、メツキ法等により作製される。薄膜型磁気記録媒体に
おける磁性層としては、Ｃｏ 、Ｃｏ−Ｎｉ 、Ｃｏ−
Ｎｉ −Ｐ 、Ｃｏ−０，Ｃｏ−Ｎｉ −０、Ｆｅ−０
等の面内記録用薄膜、 Ｃｏ−Ｃｒ 、 Ｃｏ −Ｎｉ
−Ｃｒ 、Ｃｏ−Ｃｒ −Ｍｏ 、 Ｃｏ−Ｃｒ−Ｗ、
Ｃｏ−０ｒ−Ｎｂ。
Ｃｏ−Ｃｒ−Ｔａ、Ｃｏ−Ｖ等のＣｏ基合金からなる垂
直記録用薄膜が有望である。
直記録用薄膜が有望である。
このような薄膜型磁気記録媒体は記録再生特性は優れて
いるが、耐久性に難点があり、これらを解決すべく様々
な手段が検討されている。
いるが、耐久性に難点があり、これらを解決すべく様々
な手段が検討されている。
これらの手段の一つに、基板上に薄膜磁性層を形成する
工程と、前記薄膜磁性層上に薄膜を形成する工程と、前
記２工程の後に薄膜が形成された薄膜磁性層表面をエツ
チングする工程から成る磁気記録媒体の製造方法（特願
昭６２−２５６５５８号：がある。
工程と、前記薄膜磁性層上に薄膜を形成する工程と、前
記２工程の後に薄膜が形成された薄膜磁性層表面をエツ
チングする工程から成る磁気記録媒体の製造方法（特願
昭６２−２５６５５８号：がある。
発明が解決しようとする課題
しかし上記先行技術においてエツチング工程を物理エツ
チングによって行なう場合、高分子フィルム基板をしわ
なく安定に走行させることは困難である。
チングによって行なう場合、高分子フィルム基板をしわ
なく安定に走行させることは困難である。
また、前記エツチング工程において、薄膜形成工程によ
って形成された薄膜磁性層表面の凹凸が保たれたままエ
ツチングされることが必要であるが、物理エツチングに
より磁性層表面の凹凸が少なくなったり、なくなったシ
する問題があった。
って形成された薄膜磁性層表面の凹凸が保たれたままエ
ツチングされることが必要であるが、物理エツチングに
より磁性層表面の凹凸が少なくなったり、なくなったシ
する問題があった。
課題を解決するための手段
本発明は、高分子フィルム基板上に作成された薄膜磁性
層を物理エツチングする際、前記基板を円筒状キャンの
周面に沿わせ、かつ薄膜磁性層とキャンの間に電位差を
設けて基板をキャンに密着させることを特徴とする。
層を物理エツチングする際、前記基板を円筒状キャンの
周面に沿わせ、かつ薄膜磁性層とキャンの間に電位差を
設けて基板をキャンに密着させることを特徴とする。
作 用
高分子フィルム基板とキャンを密着させると、しわなく
長尺に渡って安定に薄膜磁性層の表面を物理エツチング
することができる。
長尺に渡って安定に薄膜磁性層の表面を物理エツチング
することができる。
またこのとき、薄膜磁性層に負の電位をかけると、正イ
オンが薄膜表面により垂直に近い角度で入射し、磁性層
表面の凹凸を保ったまま磁性層表面をエツチングするこ
とができる。
オンが薄膜表面により垂直に近い角度で入射し、磁性層
表面の凹凸を保ったまま磁性層表面をエツチングするこ
とができる。
実施例
以下、本発明の実施例を第１図に基づいて説明する。
まず高分子フィルム基板上に薄膜磁性層を形成し、更に
薄膜磁性層上に薄膜層を形成する。
薄膜磁性層上に薄膜層を形成する。
上記２つの工程によシ作成された薄膜型磁気記録媒体１
を、第１図に示すように、ローラー２゜３を介してキャ
ン６に沿うように巻出しポビン４゜巻取りポビン６にか
ける。このとき薄膜磁性層はキャン６と接触せずローラ
ー２．３と接触するようにする。
を、第１図に示すように、ローラー２゜３を介してキャ
ン６に沿うように巻出しポビン４゜巻取りポビン６にか
ける。このとき薄膜磁性層はキャン６と接触せずローラ
ー２．３と接触するようにする。
真空槽７内を排気した後、Ａ ｒ 、 Ｈ２＋ ０２
＋ Ｈｅ 。
＋ Ｈｅ 。
Ｎｅ等のガスを導入し、正電極８と、薄膜型磁気記録媒
体１の薄膜磁性層表面との間で放電させ、薄膜磁性層表
面と物理エツチングする。
体１の薄膜磁性層表面との間で放電させ、薄膜磁性層表
面と物理エツチングする。
磁石９はキャン６と共に回転しないように回転しない軸
１０に固定されている。このためキャン６の上側で発生
した電子は電場とそれに直交する磁場により電場と磁場
の直交する方向にサイクロイド曲線を描きながらドリフ
ト運動を行うのでプラズマのイオン密度が高まシ、エツ
チングの速度が上がる。
１０に固定されている。このためキャン６の上側で発生
した電子は電場とそれに直交する磁場により電場と磁場
の直交する方向にサイクロイド曲線を描きながらドリフ
ト運動を行うのでプラズマのイオン密度が高まシ、エツ
チングの速度が上がる。
またローラー２，３で負の電位が、薄膜型磁気記録媒体
１の磁性層表面にかけられ、磁性層表面とキャンｅの間
に電位差が設けられるので、薄膜型磁気記録媒体１はキ
ャン６の表面に密着し、しわが入らずにエツチングする
ことができる。さらに磁性層表面を負の電位にすること
により、正イオンが垂直に近い角度で磁性層表面に衝突
し、エツチング前の磁性層表面の凹凸を保ったままエツ
チングすることが可能となる。
１の磁性層表面にかけられ、磁性層表面とキャンｅの間
に電位差が設けられるので、薄膜型磁気記録媒体１はキ
ャン６の表面に密着し、しわが入らずにエツチングする
ことができる。さらに磁性層表面を負の電位にすること
により、正イオンが垂直に近い角度で磁性層表面に衝突
し、エツチング前の磁性層表面の凹凸を保ったままエツ
チングすることが可能となる。
このときキャン６の入側および出側のローラ２．３で電
極に接触させることにすると、薄膜の破壊を防止するこ
とができ、片方だけで電極に接触する場合の２倍までの
電流を流すことができる。
極に接触させることにすると、薄膜の破壊を防止するこ
とができ、片方だけで電極に接触する場合の２倍までの
電流を流すことができる。
正電極８を用いず、イオン銃を用いた場合も、薄膜磁気
記録媒体１とキャン６の間に電位差を設けると同様の効
果がある。
記録媒体１とキャン６の間に電位差を設けると同様の効
果がある。
次に本実施例を詳細に説明する。
高分子フィルム基板として膜厚１ｏμｍのポリイミドフ
ィルムを使用し、真空蒸着法により、膜厚０．０２／Ａ
ｍのＴｉ膜を介して、膜厚０．２４μｍのＣｏ−Ｃｒ垂
直磁気異方性膜を形成した。Ｔｉ膜はＣｏ−Ｃｒ垂直磁
気異方性膜の垂直異方性エネルギーを改善するために設
けたものである。
ィルムを使用し、真空蒸着法により、膜厚０．０２／Ａ
ｍのＴｉ膜を介して、膜厚０．２４μｍのＣｏ−Ｃｒ垂
直磁気異方性膜を形成した。Ｔｉ膜はＣｏ−Ｃｒ垂直磁
気異方性膜の垂直異方性エネルギーを改善するために設
けたものである。
次にＣｏ−Ｃｒ垂直磁気異方性膜上に、基板温度を３０
０ｔｌ；として、平均膜厚５０人のＡＩを蒸着した。走
査型電子顕微鏡によシ観察すると、このＡＩは島状購偕
を有しており、島の間隔は約１５００人であった。この
ようにして薄膜型磁気記録媒体１を得た。
０ｔｌ；として、平均膜厚５０人のＡＩを蒸着した。走
査型電子顕微鏡によシ観察すると、このＡＩは島状購偕
を有しており、島の間隔は約１５００人であった。この
ようにして薄膜型磁気記録媒体１を得た。
次に、第１図に示すような装置に前記媒体１を装着し、
真空槽７内をＩ Ｘ １０−３Ｔｏｒｒ以下に排気した
後Ａｒガスを流し、５Ｘ１０−６Ｔｏｒｒ程度の圧力を
保つようにし、１ｍ／Ｍで媒体１を走行させながら物理
エツチングを行なった。このとき正電極８には＋２００
Ｖ 、ローラー２，３には一２Ｏ０Ｖ、キャン６には＋
１Ｑｏｖの電位を与えると正電極８とＣｏ −Ｃｒ垂直
磁気異方性膜との間で１Ａの電流が流れ、しれなく走行
させることができた。
真空槽７内をＩ Ｘ １０−３Ｔｏｒｒ以下に排気した
後Ａｒガスを流し、５Ｘ１０−６Ｔｏｒｒ程度の圧力を
保つようにし、１ｍ／Ｍで媒体１を走行させながら物理
エツチングを行なった。このとき正電極８には＋２００
Ｖ 、ローラー２，３には一２Ｏ０Ｖ、キャン６には＋
１Ｑｏｖの電位を与えると正電極８とＣｏ −Ｃｒ垂直
磁気異方性膜との間で１Ａの電流が流れ、しれなく走行
させることができた。
この状態でも従来の媒体に比べ耐久性が大幅に向上する
が、より高い信頼性を確保するために、形成されたＣｏ
−Ｃｒ垂直磁気異方性膜上にプラズマＣＶＤ法により膜
厚１ｏＯ人のカーボン膜を形成し、その上に湿式法によ
り膜厚１０〜３ｏへのふっ素糸有機物からなる潤滑層を
塗布した。
が、より高い信頼性を確保するために、形成されたＣｏ
−Ｃｒ垂直磁気異方性膜上にプラズマＣＶＤ法により膜
厚１ｏＯ人のカーボン膜を形成し、その上に湿式法によ
り膜厚１０〜３ｏへのふっ素糸有機物からなる潤滑層を
塗布した。
この媒体１を２０′Ｃ，ＳＲＨの条件で市販の８ミＩＪ
ビデオデツキにかけてスチル再生を行なったが、１時間
以上経過しても媒体１に傷は発生せず安定な再生出力が
得られた。
ビデオデツキにかけてスチル再生を行なったが、１時間
以上経過しても媒体１に傷は発生せず安定な再生出力が
得られた。
これに対して、円筒状キャン６の周面に沿わせ薄膜磁性
層とキャン６の間に電位差を設けることをしないで作成
した媒体１は上記と同じ評価方法で５分で傷が入り使用
不可能となった。
層とキャン６の間に電位差を設けることをしないで作成
した媒体１は上記と同じ評価方法で５分で傷が入り使用
不可能となった。
発明の効果
以上の説明のように本発明の薄膜型磁気記録媒体の製造
方法によれば、媒体表面に制御された凹凸をもつ長尺の
媒体をしわなく作製できる。よって従来のものと比べ大
幅に耐久性の向上した媒体を提供できる。
方法によれば、媒体表面に制御された凹凸をもつ長尺の
媒体をしわなく作製できる。よって従来のものと比べ大
幅に耐久性の向上した媒体を提供できる。
第１図は本発明の詳細な説明するための物理エツチング
装置の概略図である。 １・・・・・・薄膜型磁気記録媒体、２，３・・・・・
・ローラ、６・・・・・・キャン、８・・・・・・正電
極、９・・・・・・磁石。
装置の概略図である。 １・・・・・・薄膜型磁気記録媒体、２，３・・・・・
・ローラ、６・・・・・・キャン、８・・・・・・正電
極、９・・・・・・磁石。
Claims (4)
- （１）高分子フィルム基板上に作成された薄膜磁性層を
物理エッチングする際に、前記基板を円筒状キャンの周
面に沿わせ、かつ薄膜磁性層とキャンの間に電位差を設
けて基板をキャンに密着させることを特徴とする磁気記
録媒体の製造方法。 - （２）薄膜磁性層に接地電位に対して負の電位を与える
ことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方
法。 - （３）長尺の磁気記録媒体の磁性層表面を物理エッチン
グする際、キャンの入側及び出側において磁性層表面を
電極に接触させることを特徴とする請求項１又は請求項
２記載の磁気記録媒体の製造方法。 - （４）回転する円筒状キャンの内方に磁石を固定配置す
ることを特徴とする請求項１、請求項２又は請求項３記
載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19409988A JPH0244520A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19409988A JPH0244520A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0244520A true JPH0244520A (ja) | 1990-02-14 |
Family
ID=16318931
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19409988A Pending JPH0244520A (ja) | 1988-08-03 | 1988-08-03 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0244520A (ja) |
-
1988
- 1988-08-03 JP JP19409988A patent/JPH0244520A/ja active Pending
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