JPS5914129A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、金属強磁性薄膜を磁性層とする磁気テープ、
磁気ディスク等の磁気記録媒体の製造方法に関し、耐蝕
性の改良を図ることを目的とする。

耐蝕性の改良のために、短波長記録に用いる媒体の表面
に、非磁性の保護層を配することがよく行われているが
、この方法はあまり得策でｄ：ない。

それは、例え０．０５μｍ厚の保護層であっても、記録
波長が０．５μｍになれば、約６ｄＢの出力低下を招く
からである。

したがって蒸着膜そのものの耐蝕性の向上が必要になり
、蒸着時に真空槽の内部に系外より、酸化性の気体を導
入して、結晶粒の表面を、磁性層を構成する材料自体の
酸化物層で被覆する方法が有効である。

しかし、ヘリカル走査方式のビデオテープレコーダに適
合させる蒸着テープに対する面ｊ蝕性能の要求を満足す
るにはこれでは不十分であり、さらに酸化性のグロー放
電雰囲気にさらすことが行われる。

グロー放電の発生方法には、いくつかあるが、そのどれ
をとっても、微視的に欠陥が残ることが問題点として明
らかになってきた。

かかる問題は、各種の環境に保存したあと記録再生する
と、目づまりの現象となってあられれ、蒸着条件の均一
化では解決し得なかった。

そこで、グロー放電による酸化の過程を詳ｗｒＫ検討し
、この問題が磁性薄膜の処理において顕著であることを
つきとめ本発明に到達したものである。

磁壁移動形の磁性薄膜は、磁壁より磁束が洩れミクロ的
に表面の磁界は不均一になる。

この影響は、蒸着過程で何らかの外部磁界の作用を受け
るとさらに強調される。この状態でグロー処理するとク
ロープラズマ中のｔ子イオンカコの磁場に」＝り集中す
ることが部分的にでて、不均一な作用を施すことになる
。これに対する有益な対策ｔｒｉ処理直前に一方向に磁
化することで、この不均一性を解消させてやることであ
る。

以下に本発明の説明を行う。

まずどこで本発明の実施例において用いた処理装置ｔを
図を用いて説明する。

図において、被処理基板１ば、ポリエチレンテレフタレ
ート等の高分子フィルム上に、磁性層を配したものか、
非磁性層を介して磁性層を配した磁気記録媒体の原反で
ある。被処理基板１は、回転ロール２に沿って移動する
時、その周側面近傍に配設されたクロー処理機構にてグ
ロー処理される。

１えでは、幅方向に伸ひた棒状のグロー処理電極３．４
を交互に絶縁し、同一電位となるよう接続し、外部電源
５により電力を供給する場合を示す。

ここで商用周波数かそれに近い周波数、あるいは高周波
の交流か直流かの選択は適宜行えはよい。

また、グロー放電は特別これにこだわるものでないのは
勿論である。被処理基板１は送り出し軸６より、巻き取
り軸７・＼移っていくが、処理前に直流磁化する。なお
磁界発生用として電磁石８を図示したが、処理対象の磁
性層の特性、特に抗磁力か決れは、永久磁石でもいい。

９は電磁石の電源である。

真空槽１０は、真空排気系１１により排気されニードル
弁１２の調節により、外部より導入される酸素なとの放
電体で一定の圧力に制（財）される。

１３はフリーローラ、１４Ｕエキスパンダローラである
。１５幻、絶縁導入端子である。

〔実施例１〕 次に具体的に本発明の詳細な説明する。

ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚す１０μｍ）
上に、最小入射角６５°でＣｏ　１００　％を、２×１
Ｏ−６Ｔｏｒｒ　の酸素中で蒸着した。厚みは０．１３
！ｚｍ、抗磁力は１０６０〔ｂｅ〕テ、４８０　ｍｍ幅
（ｌこわたり、各特性は１６％の均一性を有しており、
長さは４，０００ｍ　　である。

各処理条件と、テープにして６０℃９５％ＲＨに４週間
放置後のへノド目づ捷り（ヘッドはフェライトヘッドで
ある。）の頻度を比較した結果を次の表に示す。

以下余白 実施例 ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ１２７ｌｍ
　）上に最小入射角４００でＣｏ　８２　％　Ｎｉ１８
チを酸素分圧３．３×１０　　Ｔｏｒｒで０．１４１ｒ
ｍ蒸着しまた。抗磁力は９００〔１ｌ）ｅ）である。処
理した’ｌ’ｉ？ｉは４８０　ｒｎｍ長さは６，０００
ｍである。

実験の結果を次の表に示す。

以下余白 その他、ポリアミド、ポリイミド基板、下地にＳｉｎ、
Ｔｉ、ＴｉＯ２等を蒸着した上に磁性層を形成した場合
についても、本発明の効果は明らかであつ　／こ０ また、１み付層の形成を行った後、同一の真空槽で本発
明の処理を行っても同様の効果があり、他の加熱処理と
組み合わせても同様の効果を発揮するものである。

Ｃｏ　、Ｃｏ−Ｎｉ　、Ｃｏ−Ｃｒ　、Ｃｏ−Ｔｉ　、
Ｃｏ−９ｎ　、Ｃ。

−Ｗ、Ｃｏ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｒｅ等の
磁性層を厚さ０．０５μｍから０．２７ｌｍの範囲で斜
め蒸着、スパンタリン久イオンブレーティング等の形成
手段により、抗磁力６６０〔′６ｅ〕、角形比０．６６
〜０．９９の範囲の磁性層について本発明の効果を確認
した。膜質にもよるがひとつの［１安として、抗磁力の
約倍の直流磁界をかけてやれは、本発明の効果を得るこ
とができる。

なお、本発明の実施に当って注意しなければならないの
は被処理基板の移動速度の変動で、変動は好ましくは、
１０．２％以下に抑えるへきである。

これは、スピード変動により、逆に不均一に磁化される
からである。

以上のように本発明により、極めて４蝕性の優れた磁気
記録媒体が容易に得られ、瘤本発明の工業的有価値性は
犬である。

【図面の簡単な説明】

図は本発明の実施例において用いられる処理装置の一例
を示す図である。 １・・・・・・被処理基板、２・・・・・・回転ロール
、３，４・・・・・グロー処理電極、８・・・・磁界発
生用電磁石、１０・・・・・・Ｉ−〔空イν々。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 高分子フィルム基板上に形成した強磁性薄膜を酸化性の
   グロー放電雰囲気にさらし、かつその際上記強磁性薄膜
   を一方向に磁化した状態に保持することを特徴とする磁
   気記録媒体の製造方法。