JPS61187127A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS61187127A JPS61187127A JP2864285A JP2864285A JPS61187127A JP S61187127 A JPS61187127 A JP S61187127A JP 2864285 A JP2864285 A JP 2864285A JP 2864285 A JP2864285 A JP 2864285A JP S61187127 A JPS61187127 A JP S61187127A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は強磁性金属薄膜を磁気記録層とする磁気記録媒
体の製造方法に関するものである。
体の製造方法に関するものである。
従来の技術
近年磁気記録媒体の製造方法は、高密度磁気記録に適す
る強磁性金属薄膜を磁気記録層とする、磁気記録媒体を
真空蒸着法で得る方法が開発され一部、この方法で製造
された磁気テープが実用化明細書の浄書（内容に変更な
し） され注目され七いる。
る強磁性金属薄膜を磁気記録層とする、磁気記録媒体を
真空蒸着法で得る方法が開発され一部、この方法で製造
された磁気テープが実用化明細書の浄書（内容に変更な
し） され注目され七いる。
以下図面を参照しながら、上述した従来の磁気記録媒体
の製造方法の一例について説明する。
の製造方法の一例について説明する。
第２図はプロダクションコーターとして文献〔プロシー
ディングオプアイイーアールイー（Ｐｒｏｃ ｏｆ Ｉ
ＥＥＥ）Ｎ１１５９ Ｐ、Ｐ、４５〜５１（１９８４）
〕に示されている蒸着法による磁気記録層の形成に用い
ることの出来る装置の一例である。第２図で１は電子ビ
ームガン、２は蒸発源容器、３は防着板、４は円筒状キ
ャン、５はガイドロール、６はグロー放電電極、７はシ
ャッター、８は送り出し軸、９は巻取軸である。
ディングオプアイイーアールイー（Ｐｒｏｃ ｏｆ Ｉ
ＥＥＥ）Ｎ１１５９ Ｐ、Ｐ、４５〜５１（１９８４）
〕に示されている蒸着法による磁気記録層の形成に用い
ることの出来る装置の一例である。第２図で１は電子ビ
ームガン、２は蒸発源容器、３は防着板、４は円筒状キ
ャン、５はガイドロール、６はグロー放電電極、７はシ
ャッター、８は送り出し軸、９は巻取軸である。
この装置を用いる上で重要なことのひとつに。
用いられるポリエステル等の高分子基板が熱で溶ける不
具合を防止するために円筒状キャン４の内部は冷却され
た媒体が循環される構造になっていて、０℃以下に冷却
されるのが好ましいと考えられている。しかし一方では
、これと同様の装置全利用して製造可能な垂直磁気記録
に用いる磁気記録媒体は、４００ＣＯ６３以上の保磁力
を得るためにはキャン表面温度１１２０℃以上の高温に
する必要があることが知られており〔アイイーイーイー
磁Ｘ学会報（ＩＩＪＥ ＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳ Ｏ
Ｎ ＭＡＧＮＩ！：ＴｌＣ３）ＶＯＬ、 ＭＡＧ−２０
、ＮＯ５、６８７頁〜６９２頁（１９８４））そのため
、しわが発生し、高密度記録再生を行う上で問題が発生
する。
具合を防止するために円筒状キャン４の内部は冷却され
た媒体が循環される構造になっていて、０℃以下に冷却
されるのが好ましいと考えられている。しかし一方では
、これと同様の装置全利用して製造可能な垂直磁気記録
に用いる磁気記録媒体は、４００ＣＯ６３以上の保磁力
を得るためにはキャン表面温度１１２０℃以上の高温に
する必要があることが知られており〔アイイーイーイー
磁Ｘ学会報（ＩＩＪＥ ＴＲＡＮＳＡＣＴＩＯＮＳ Ｏ
Ｎ ＭＡＧＮＩ！：ＴｌＣ３）ＶＯＬ、 ＭＡＧ−２０
、ＮＯ５、６８７頁〜６９２頁（１９８４））そのため
、しわが発生し、高密度記録再生を行う上で問題が発生
する。
この問題を解決するひとつの提案として特開昭５９−２
０１２３０号に示されるように、温度勾配全緩和する方
法が最近試みられて一部で成功している。
０１２３０号に示されるように、温度勾配全緩和する方
法が最近試みられて一部で成功している。
発明が解決しようとする問題点
しかしながらこの方法では、基板の熱膨張、熱収縮の条
件、テンション条件の狭い範囲で、かつ定常走行時に於
てしわの発生の確率を小さくできるが、加減速時、特に
加速時にしわが発生するとその上に巻回するフィルムは
そのしわの形状転写が起り、やはシ高密度記録できない
という問題がある。
件、テンション条件の狭い範囲で、かつ定常走行時に於
てしわの発生の確率を小さくできるが、加減速時、特に
加速時にしわが発生するとその上に巻回するフィルムは
そのしわの形状転写が起り、やはシ高密度記録できない
という問題がある。
本発明は上記事情に鑑みなされたもので、各種の高分子
基板を用いて１円筒状キャンの表面温度を高温にして磁
気記録層の形成全しわなしに高速でかつ長尺物として行
うことの出来る磁気記録媒体を提供するものである。
基板を用いて１円筒状キャンの表面温度を高温にして磁
気記録層の形成全しわなしに高速でかつ長尺物として行
うことの出来る磁気記録媒体を提供するものである。
問題点を解決するだめの手段
上記問題点を解決するために本発明の磁気記録媒体の製
造方法は、高分子基板を円筒状キャンに沿った状態で走
行させる時、円筒状キャンの表面温度をＴ（℃）として
、円筒状キャンに接する前に配したフリーローラ及びエ
キスパンダローラの表面温度を１．３Ｔ〜０．６ Ｔの
範囲に制御することを特徴とするものである。
造方法は、高分子基板を円筒状キャンに沿った状態で走
行させる時、円筒状キャンの表面温度をＴ（℃）として
、円筒状キャンに接する前に配したフリーローラ及びエ
キスパンダローラの表面温度を１．３Ｔ〜０．６ Ｔの
範囲に制御することを特徴とするものである。
作用
本発明は上記した構成によって、高分子基板がテンショ
ンによって、長手方向に伸び、ボアソノ比例関係によっ
て幅方向に収縮するのが、熱膨張によシバランスする傾
向をもっと同時に、エキスパンダによシ幅方向に拡がる
方向の力が基板に作用するので、円筒状キャンに沿った
時に基板フィルムが殆んど寸法変化を起こしにくい状態
になるので、加減速時に於てもしわの発生はなくなるの
である。
ンによって、長手方向に伸び、ボアソノ比例関係によっ
て幅方向に収縮するのが、熱膨張によシバランスする傾
向をもっと同時に、エキスパンダによシ幅方向に拡がる
方向の力が基板に作用するので、円筒状キャンに沿った
時に基板フィルムが殆んど寸法変化を起こしにくい状態
になるので、加減速時に於てもしわの発生はなくなるの
である。
実施例
以下本発明の実施例の磁気記録媒体の製造方法について
図面を参照しながら説明する。
図面を参照しながら説明する。
第１図は本発明の実施例の製法を実施するのに用いるこ
との出来る蒸着装置の要部構成図である。
との出来る蒸着装置の要部構成図である。
第１図において１０は円筒状キャン、１１は温調付ロー
ラ−，１２は温調付エキスパンダローラ、１３は温調付
ローラ−，１４，１５，１６はガイドローラ、１７は送
シ出し軸、１８は巻取シ軸、１９は蒸着前の高分子基板
（これを以下生基板と呼ぶ）、２０は蒸着後の複合基板
（これを以下蒸着基板を呼ぶ）、２１は蒸発源容器、２
２は蒸着材料、２３は蒸気流、２４はマスクである。
ラ−，１２は温調付エキスパンダローラ、１３は温調付
ローラ−，１４，１５，１６はガイドローラ、１７は送
シ出し軸、１８は巻取シ軸、１９は蒸着前の高分子基板
（これを以下生基板と呼ぶ）、２０は蒸着後の複合基板
（これを以下蒸着基板を呼ぶ）、２１は蒸発源容器、２
２は蒸着材料、２３は蒸気流、２４はマスクである。
以下、第１図の装置を用いて実施した本発明の製造方法
について詳述する。
について詳述する。
実施に轟って、円筒状キャンは５０ＣＩｒＬと１００儂
の直径の２種類についての差を検討を行ったが、格別の
差違は見出せなかったので、直径５ｏ儂に固定して実験
を行った。
の直径の２種類についての差を検討を行ったが、格別の
差違は見出せなかったので、直径５ｏ儂に固定して実験
を行った。
円筒状キャンは表面温度をＯ℃から２５０’ｃ−ｉ’で
制御できるようにヒーターと冷却媒体循環路を備えたも
のを用いた。
制御できるようにヒーターと冷却媒体循環路を備えたも
のを用いた。
温調付ロー２１１，１３は、直径９．５ ｃｌｌｔで、
ヒーターと冷媒循環路を備えたものを用い、温調付エキ
スパンダローラは、耐熱ゴムの上に透明電導膜を高周波
スパッタコーティングしたもので、該透明電導膜を用い
た通電加熱法で温調できる構成のものを用いた。
ヒーターと冷媒循環路を備えたものを用い、温調付エキ
スパンダローラは、耐熱ゴムの上に透明電導膜を高周波
スパッタコーティングしたもので、該透明電導膜を用い
た通電加熱法で温調できる構成のものを用いた。
蒸発源は３ ｏ ＫｅＶの加速電子ビーム加熱によるい
わゆる電子ビーム加熱蒸発源を用いた。
わゆる電子ビーム加熱蒸発源を用いた。
実験は、斜め蒸着法による面内磁化膜、垂直蒸着法によ
る垂直磁化膜を各種の高分子基板上に形成して、全蒸着
面積に対して、しわの影響のない有効蒸着面積の比率を
比較した。
る垂直磁化膜を各種の高分子基板上に形成して、全蒸着
面積に対して、しわの影響のない有効蒸着面積の比率を
比較した。
尚従来法に対する優位性についても検討したが従来法と
しては、一番改良の進んでいる゛と考えられる特開昭６
９−２０１２３０号に開示された方法を採用した。
しては、一番改良の進んでいる゛と考えられる特開昭６
９−２０１２３０号に開示された方法を採用した。
即ちエキスパンダローラーを通常のガイドローラーに置
き換え、代シにニップローラを追加した構成に部分改造
した装置によったものである。
き換え、代シにニップローラを追加した構成に部分改造
した装置によったものである。
厚み１８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上
に２０００人のＧｏ−Ｏｒ （Ｏｒ ２０ ｗｔ％）垂
直磁化膜全形成した。フィルム幅は１５Ｃ！Ｉｔで長さ
は１０ＦｉＯｍ一定とした。
に２０００人のＧｏ−Ｏｒ （Ｏｒ ２０ ｗｔ％）垂
直磁化膜全形成した。フィルム幅は１５Ｃ！Ｉｔで長さ
は１０ＦｉＯｍ一定とした。
円筒状キャン温度ｆｆ１Ｔ（”Ｃ）とし温調付フリーロ
ーラー、温調付エキスパンダローラーの温度全天々Ｔ、
じＣ）、ＴＲ（”Ｃ）とした。
ーラー、温調付エキスパンダローラーの温度全天々Ｔ、
じＣ）、ＴＲ（”Ｃ）とした。
Ｔ（”Ｃ）を６５°Ｃから１５５°Ｃまで可変して実験
を各温度設定条件下で２回ずつくり返した。
を各温度設定条件下で２回ずつくり返した。
その結果、ＴＦ ｒ Ｔｌが０．６ Ｔから１．３Ｔま
での範囲では有効蒸着面積化率が１００％であった。
での範囲では有効蒸着面積化率が１００％であった。
尚０．４Ｔ〜０．６ Ｔ 、 １．３ Ｔ〜１．４５Ｔ
の範囲では、加減速時にしわが発生することがあり、不
安定なので、０．６ Ｔから１．３Ｔの範囲にて実施す
るのが好ましい。
の範囲では、加減速時にしわが発生することがあり、不
安定なので、０．６ Ｔから１．３Ｔの範囲にて実施す
るのが好ましい。
特にフィルム厚みが１０μ程度になるとこの傾向が強い
。
。
従来法は、厚み１８μｍの前記フィルムでは、有効蒸着
面積が８８％であった。
面積が８８％であった。
尚厚み１２μｍ 、 ９．５μｍのフィルムを用いた時
は夫々７６％、６４％と低下した。これは、しわの形状
転写による悪影響が厚みがうすくなる程、大きくなるた
めで、媒体全厚の薄型化は業界の動向であり、この面か
らも本発明の優位性が知れる。
は夫々７６％、６４％と低下した。これは、しわの形状
転写による悪影響が厚みがうすくなる程、大きくなるた
めで、媒体全厚の薄型化は業界の動向であり、この面か
らも本発明の優位性が知れる。
以上のべたことは、膜厚１６０ｏ人の斜め蒸着膜を最小
入射角ヲ４３°にして形成した場合も同じであった。
入射角ヲ４３°にして形成した場合も同じであった。
尚いずれも優れた短波長記録特性が得られていることは
当然である。
当然である。
次に耐熱性の大きいポリアミドフィルム（厚みが９μ、
６μの２水準）で、０．２５ μｍ ノＧｏ−Ｏｒ垂直
磁化膜、０．１９μｍのＣｏ−０ｒ斜め蒸着膜を、ＴＱ
ｌ ５０°Ｃから２６０°Ｃの間で設定して形成した。
６μの２水準）で、０．２５ μｍ ノＧｏ−Ｏｒ垂直
磁化膜、０．１９μｍのＣｏ−０ｒ斜め蒸着膜を、ＴＱ
ｌ ５０°Ｃから２６０°Ｃの間で設定して形成した。
この場合でもＴ、 、 Ｔ、は０．６ Ｔから１．３Ｔ
（７）範囲に安定領域があった。
（７）範囲に安定領域があった。
比較例の場合は、有効蒸着面積が、Ｔが２３０°Ｃの場
合、９４％（フィルム厚み９μの場合）、７９％（フィ
ルム厚み６μの場合）であった。
合、９４％（フィルム厚み９μの場合）、７９％（フィ
ルム厚み６μの場合）であった。
尚いずれの場合も温調付ローラ１３の温調条件は、用い
る生基板が厚みムラのない場合は、蒸着基板は、機械強
度が増しているため特別温度コントロールしなくても何
ら問題ないのであえて、この条件には触れなかった。
る生基板が厚みムラのない場合は、蒸着基板は、機械強
度が増しているため特別温度コントロールしなくても何
ら問題ないのであえて、この条件には触れなかった。
しかし、生基板の幅が５０１から１００αと拡大する業
界動向全勘案すると、この調整ローラー金配しておく方
が好ましい。
界動向全勘案すると、この調整ローラー金配しておく方
が好ましい。
以上の例でも明らかなように、温度条件とエキスパンダ
ーの作用により、本願では、しわは発生しないため、高
密度記録用の磁気テープ、磁気ディスク等を量産するこ
とができる。
ーの作用により、本願では、しわは発生しないため、高
密度記録用の磁気テープ、磁気ディスク等を量産するこ
とができる。
発明の効果
以上のように本発明によれば、従来高分子基板上に昇温
状態で垂直磁化膜、面内磁化膜全形成する原生じていた
しわを除去することが可能であり、高密度記録に適する
条件で磁気記録媒体を量産することができる。
状態で垂直磁化膜、面内磁化膜全形成する原生じていた
しわを除去することが可能であり、高密度記録に適する
条件で磁気記録媒体を量産することができる。
第１図は本発明全実施する際に用いた蒸着装置の要部構
成図、第２図は従来の磁気記録媒体製造に用いる蒸着装
置の要部構成図である。 １ｏ・・・・・・円筒状キャン、１１・・・・・・温調
付ローラ−，１２・・・・・・温調付エキスパンダロー
７−１１９・・・・・・生基板、２３・・・・・・蒸気
流。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／θ
−Ｆｌ廁状キτン ｔ７−−−：、量調付ローラー 第 １ ｒＩＡｔ２−−−５祷寸エキスバンタ白−ラ
ー／ｑ−−一生、基板。 Ｚ３−ｍ−蒸気流 第２因 手続補正書（方式） ％式％ 特許庁長官殿 で １事件の表示 昭和６０年特許願第２８６４２ 号 ２発明の名称 磁気記録媒体の製造方法 ３補正をする者 事１′１との関係 特 許 出 願
人住 所 大阪府門真市大字門真１００６番地名
称 （５８２）松下電器産業株式会社代表者 山
下 俊 彦 ４代理人 〒５７１ 住 所 大阪府門真市大字門真１００６番地松下電器
産業株式会社内 ６補正命令の日付 昭和６０年５月２８日
成図、第２図は従来の磁気記録媒体製造に用いる蒸着装
置の要部構成図である。 １ｏ・・・・・・円筒状キャン、１１・・・・・・温調
付ローラ−，１２・・・・・・温調付エキスパンダロー
７−１１９・・・・・・生基板、２３・・・・・・蒸気
流。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか１名／θ
−Ｆｌ廁状キτン ｔ７−−−：、量調付ローラー 第 １ ｒＩＡｔ２−−−５祷寸エキスバンタ白−ラ
ー／ｑ−−一生、基板。 Ｚ３−ｍ−蒸気流 第２因 手続補正書（方式） ％式％ 特許庁長官殿 で １事件の表示 昭和６０年特許願第２８６４２ 号 ２発明の名称 磁気記録媒体の製造方法 ３補正をする者 事１′１との関係 特 許 出 願
人住 所 大阪府門真市大字門真１００６番地名
称 （５８２）松下電器産業株式会社代表者 山
下 俊 彦 ４代理人 〒５７１ 住 所 大阪府門真市大字門真１００６番地松下電器
産業株式会社内 ６補正命令の日付 昭和６０年５月２８日
Claims (1)
- 高分子基板を円筒状キャンに沿った状態で走行させなが
ら磁気記録層を蒸着する方法にあって、円筒状キャンの
表面温度をＴ（℃）とした時、前記高分子基板が円筒状
キャンに接する前に配設された、フリーローラ及びエキ
スパンダローラの表面温度が、１．３Ｔから０．６Ｔの
範囲で制御されていることを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2864285A JPS61187127A (ja) | 1985-02-15 | 1985-02-15 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2864285A JPS61187127A (ja) | 1985-02-15 | 1985-02-15 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61187127A true JPS61187127A (ja) | 1986-08-20 |
Family
ID=12254172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2864285A Pending JPS61187127A (ja) | 1985-02-15 | 1985-02-15 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61187127A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63149133A (ja) * | 1986-12-12 | 1988-06-21 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | プラスチツクフイルム等の膨張皺防止方法 |
| JPH02166280A (ja) * | 1988-12-21 | 1990-06-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フイルムの温度処理方法 |
| JP2013224470A (ja) * | 2012-04-23 | 2013-10-31 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 長尺体の表面処理装置と表面処理方法および銅張積層樹脂フィルム基板の製造方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58118034A (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS59172161A (ja) * | 1983-03-18 | 1984-09-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜状磁気記録媒体作製装置 |
| JPS59201230A (ja) * | 1983-04-28 | 1984-11-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
-
1985
- 1985-02-15 JP JP2864285A patent/JPS61187127A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58118034A (ja) * | 1981-12-29 | 1983-07-13 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS59172161A (ja) * | 1983-03-18 | 1984-09-28 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜状磁気記録媒体作製装置 |
| JPS59201230A (ja) * | 1983-04-28 | 1984-11-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 垂直磁気記録媒体の製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63149133A (ja) * | 1986-12-12 | 1988-06-21 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | プラスチツクフイルム等の膨張皺防止方法 |
| JPH02166280A (ja) * | 1988-12-21 | 1990-06-26 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | フイルムの温度処理方法 |
| JP2013224470A (ja) * | 2012-04-23 | 2013-10-31 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 長尺体の表面処理装置と表面処理方法および銅張積層樹脂フィルム基板の製造方法 |
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