JPS5922234A - 垂直磁気記録用媒体の製造方法 - Google Patents
垂直磁気記録用媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPS5922234A JPS5922234A JP13083082A JP13083082A JPS5922234A JP S5922234 A JPS5922234 A JP S5922234A JP 13083082 A JP13083082 A JP 13083082A JP 13083082 A JP13083082 A JP 13083082A JP S5922234 A JPS5922234 A JP S5922234A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- substrate
- horizontal component
- electron beam
- electron
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は垂直磁気記録方式に適した媒体の製造方法に関
する。
する。
短波長記録特性の優れた磁気記録方式として、垂直磁気
記録方式がある。この方式においては、媒体の膜面に垂
直方向が磁化容易軸である垂直記録媒体が必要となる。
記録方式がある。この方式においては、媒体の膜面に垂
直方向が磁化容易軸である垂直記録媒体が必要となる。
このような媒体に信号を記録すると残留磁化は媒体の膜
面に垂直方向を向き、したがって、信＞、＞が短波長に
なる程媒体内反６丑Ｗは減少１優れた再生出力がイ４１
ら涯る。垂直記録媒体は高分子材料あるいは非磁性金属
等の非研性材料からなる基板上に、直接に、あるいはノ
々−マロイ等の軟磁性１曽を介して、ＣＯとＯｒを主成
分とし膜面に垂直方向に磁化容易軸を有する磁性層（以
下この磁性層をＧｏ−Ｏｒ垂直磁化膜と呼４ζ）をスパ
ッタリング法あるいは真窒蒸虐法により形成したもので
ある。
面に垂直方向を向き、したがって、信＞、＞が短波長に
なる程媒体内反６丑Ｗは減少１優れた再生出力がイ４１
ら涯る。垂直記録媒体は高分子材料あるいは非磁性金属
等の非研性材料からなる基板上に、直接に、あるいはノ
々−マロイ等の軟磁性１曽を介して、ＣＯとＯｒを主成
分とし膜面に垂直方向に磁化容易軸を有する磁性層（以
下この磁性層をＧｏ−Ｏｒ垂直磁化膜と呼４ζ）をスパ
ッタリング法あるいは真窒蒸虐法により形成したもので
ある。
スパッタリング法、真空族Ｍ法のいずれの方法において
も−Ｇｏ−Ｏｒ垂直磁化膜が得られるが、特に後者によ
れは、数１０００人／秒という非常に生産性の１愛れた
析出速度で膜が得られる。真空蒸着法ＶＣおいては、基
板を円筒状キャンの周側面Ｖこ沿わせて移動させつつＧ
ｏ−Ｏｒの蒸着を行なうと、安フ「に長尺の垂直磁化膜
を作製することができる。第１図にこのような方式を用
いた真空蒸着装置の概略図を示す。
も−Ｇｏ−Ｏｒ垂直磁化膜が得られるが、特に後者によ
れは、数１０００人／秒という非常に生産性の１愛れた
析出速度で膜が得られる。真空蒸着法ＶＣおいては、基
板を円筒状キャンの周側面Ｖこ沿わせて移動させつつＧ
ｏ−Ｏｒの蒸着を行なうと、安フ「に長尺の垂直磁化膜
を作製することができる。第１図にこのような方式を用
いた真空蒸着装置の概略図を示す。
図において１は基板であり、円筒状キャン２の周側面に
沿って走行する。薄膜月料であるＧｏ −Ｏｒ合金イン
ゴット５はるつぼ４の中に入っており、電子銃６から発
生する電子ビーム了によって、加熱され蒸発する。なお
、るつぼ４と電子銃６を１とめて蒸発源と称する。蒸発
したＧｏ及びＯｒ原子が移動しつつある基板１に付着し
、Ｇｏ −Ｃｒ垂直磁化膜が形成される。８，９は基板
１を巻くロールである。３は不要な原子が基板に付着す
るのを防ぐためのマスクである。１０．１１はそれぞれ
真空槽及び排気系である。なお、蒸発源として電子ビー
ム蒸発源を用いるのは、高析出速度が安定に得られるた
めである。
沿って走行する。薄膜月料であるＧｏ −Ｏｒ合金イン
ゴット５はるつぼ４の中に入っており、電子銃６から発
生する電子ビーム了によって、加熱され蒸発する。なお
、るつぼ４と電子銃６を１とめて蒸発源と称する。蒸発
したＧｏ及びＯｒ原子が移動しつつある基板１に付着し
、Ｇｏ −Ｃｒ垂直磁化膜が形成される。８，９は基板
１を巻くロールである。３は不要な原子が基板に付着す
るのを防ぐためのマスクである。１０．１１はそれぞれ
真空槽及び排気系である。なお、蒸発源として電子ビー
ム蒸発源を用いるのは、高析出速度が安定に得られるた
めである。
ところで第１図に示されるような真空蒸着装置にてＧｏ
−Ｃｒ膜を作製すると、垂直磁化膜が得られるが、得ら
れた膜の特性が蒸着時の基板移動方向によって差がある
ことが、実験の結果明らかになった。すなわち、蒸発源
の配置が第１図に示されるようになっている真空蒸着装
置にてＧｏ−Ｃｒ膜を作製すると、蒸着時の基板移動方
向が矢印１２の場合と、矢印１３の場合とでは、得られ
た膜の特性が異なり、特性の優れたＧｏ−Ｃｒ垂直磁化
膜を得るためには、基板移動方向を定める必要のあるこ
とが明らかになった。本発明は真空蒸着法によりＧｏ−
Ｃｒ垂直磁化膜を作製する際に、電子銃の配置に対する
基板移動方向を定めることにより、特性の優れた膜を得
る手段を提供するものである。
−Ｃｒ膜を作製すると、垂直磁化膜が得られるが、得ら
れた膜の特性が蒸着時の基板移動方向によって差がある
ことが、実験の結果明らかになった。すなわち、蒸発源
の配置が第１図に示されるようになっている真空蒸着装
置にてＧｏ−Ｃｒ膜を作製すると、蒸着時の基板移動方
向が矢印１２の場合と、矢印１３の場合とでは、得られ
た膜の特性が異なり、特性の優れたＧｏ−Ｃｒ垂直磁化
膜を得るためには、基板移動方向を定める必要のあるこ
とが明らかになった。本発明は真空蒸着法によりＧｏ−
Ｃｒ垂直磁化膜を作製する際に、電子銃の配置に対する
基板移動方向を定めることにより、特性の優れた膜を得
る手段を提供するものである。
第２図及び第３図を用いて本発明を説明する。
第２図の矢印１４は基板の移動方向が矢印１２の方向で
ある場合の、移動方向の水平成分の向きを示し、矢印１
５は基板の移動方向が矢印１３の方向である場合の、移
動方向の水平成分の向きを示す。寸だ、矢印１６は電子
ビーム７のＧｏ −Ｏｒ材料５への飛来方向の水平成分
の向きを示す。基板の移動方向を、その水平成分の向き
が矢印１４あるいは１５のようにして、第２図に示され
るような真空蒸着装置にて、Ｇｏ−Ｃｒ垂直磁化膜を作
製した場合の、垂直磁気異方性定数Ｋｕ と蒸着時の基
板温度Ｔｓｕｂとの関係を第３図に示す。ただし、基板
としては耐熱性の高分子材料から成るフィルムを用いて
おり、第３図ｐ曲線１ア及び１８ば、基板の移動方向が
１２及び１３の場合に得られた膜に関する関係を示す。
ある場合の、移動方向の水平成分の向きを示し、矢印１
５は基板の移動方向が矢印１３の方向である場合の、移
動方向の水平成分の向きを示す。寸だ、矢印１６は電子
ビーム７のＧｏ −Ｏｒ材料５への飛来方向の水平成分
の向きを示す。基板の移動方向を、その水平成分の向き
が矢印１４あるいは１５のようにして、第２図に示され
るような真空蒸着装置にて、Ｇｏ−Ｃｒ垂直磁化膜を作
製した場合の、垂直磁気異方性定数Ｋｕ と蒸着時の基
板温度Ｔｓｕｂとの関係を第３図に示す。ただし、基板
としては耐熱性の高分子材料から成るフィルムを用いて
おり、第３図ｐ曲線１ア及び１８ば、基板の移動方向が
１２及び１３の場合に得られた膜に関する関係を示す。
寸だ、Ｋｕが正であれば膜は垂直磁化膜であるが、Ｋｕ
が負の場合には砂止容易軸は膜面内を向いてしまう。Ｋ
ｕの大きい膜はど、垂直異方性が強く、従って特性の優
れた垂直磁化膜になる。
が負の場合には砂止容易軸は膜面内を向いてしまう。Ｋ
ｕの大きい膜はど、垂直異方性が強く、従って特性の優
れた垂直磁化膜になる。
第３図から、いずれの基板温度においても、基板の移動
方向を矢印１２の方向にした方が、矢印１３の移動方向
に比べＫｕが大きくなっており、特性の優れた垂直磁化
膜が得られることがわかる。
方向を矢印１２の方向にした方が、矢印１３の移動方向
に比べＫｕが大きくなっており、特性の優れた垂直磁化
膜が得られることがわかる。
すなわち、第１図に示すようにＧｏ（！：βｒを同一の
電子ビー゛ム蒸発源から蒸発さ老て析出する際に、電子
ビームの薄膜材料への飛来方向の水平成分の向きと、−
該相反の移動方向の水平成分の向きを反対であるような
構成にすることにより、特性の優れた垂直磁化膜が得ら
れる。
電子ビー゛ム蒸発源から蒸発さ老て析出する際に、電子
ビームの薄膜材料への飛来方向の水平成分の向きと、−
該相反の移動方向の水平成分の向きを反対であるような
構成にすることにより、特性の優れた垂直磁化膜が得ら
れる。
以上では１個の蒸発源からＣＯとＯｒを蒸発させて、連
続的に長尺の膜を作製する場合について述べたが、ＣＯ
とＯｒを別々の蒸発源から蒸発させる二源蒸着法により
Ｃ０−Ｃｒ膜を作製しても、垂直磁化膜が得られ、この
場合にも蒸着時の基板移動方向が異なると、得られた膜
の特性に差のあることが実験の結果明らかになった。こ
のことを第４図を用いて以下に説明する。
続的に長尺の膜を作製する場合について述べたが、ＣＯ
とＯｒを別々の蒸発源から蒸発させる二源蒸着法により
Ｃ０−Ｃｒ膜を作製しても、垂直磁化膜が得られ、この
場合にも蒸着時の基板移動方向が異なると、得られた膜
の特性に差のあることが実験の結果明らかになった。こ
のことを第４図を用いて以下に説明する。
第４図において１９．２０はそれぞれＯｒ材料２１及び
Ｇｏ利科料２２入れるためのるつぼであり、２３．２４
はそれぞれＯｒ材料２１及びＧ。
Ｇｏ利科料２２入れるためのるつぼであり、２３．２４
はそれぞれＯｒ材料２１及びＧ。
材料２２を加熱し、蒸発させるための電子銃である。２
６．２６はそれぞれ電子銃２３及び２４から発生する電
子ビームである。このよつな二源蒸着装置にてＧｏ −
Ｃｒ垂直磁化膜を作製すべく検討を行なった結果、基板
の移動方向を矢印２５の方向にした方が、逆の場合より
もＫｕが大きくなることがわかった。すなわち、二源蒸
着法を用いて蒸着を行なう際に、ＣＯ材料を加熱し蒸発
させるための電子ビームの、ｃｏ拐刺への飛来方向の水
平成分の向きと、基板の移動力向の水平成分の向きとが
反対であるような構成にすることにより、特性の険れた
Ｇｏ−Ｃｒ垂直磁化膜が得られる。実際に第４図に示さ
れるような構成の真空蒸着装置にて、膜厚２０００人の
Ｇｏ−Ｃｒ垂直磁化膜を高分子材料からなる基板上に形
成すると、Ｋｕ ＝４．２ Ｘ １０５ｅｒｇ ／ Ｃ
Ｃなる値が得られた。筐だ、この膜の膜面に垂直方向の
保磁力ＨＣ土は８５００ｅであった。これに対し、第４
図と構成が殆ど同一であるが、基板の移動方向を逆にし
てＣｏ−１Ｏｒ膜を形成した場合には、膜のＫｕ、ＨＣ
土はそれぞれ３ Ｘ １０５ｅｒｇ ／ ＣＣおよび７
０００ｅであり、本発明の方法で作製した膜よりも特性
が悪かった０以上述べたように、本発明の方法によれば
特性の優れた長尺のｃｏ −（３ｒ垂直磁化膜が容易に
得られる。
６．２６はそれぞれ電子銃２３及び２４から発生する電
子ビームである。このよつな二源蒸着装置にてＧｏ −
Ｃｒ垂直磁化膜を作製すべく検討を行なった結果、基板
の移動方向を矢印２５の方向にした方が、逆の場合より
もＫｕが大きくなることがわかった。すなわち、二源蒸
着法を用いて蒸着を行なう際に、ＣＯ材料を加熱し蒸発
させるための電子ビームの、ｃｏ拐刺への飛来方向の水
平成分の向きと、基板の移動力向の水平成分の向きとが
反対であるような構成にすることにより、特性の険れた
Ｇｏ−Ｃｒ垂直磁化膜が得られる。実際に第４図に示さ
れるような構成の真空蒸着装置にて、膜厚２０００人の
Ｇｏ−Ｃｒ垂直磁化膜を高分子材料からなる基板上に形
成すると、Ｋｕ ＝４．２ Ｘ １０５ｅｒｇ ／ Ｃ
Ｃなる値が得られた。筐だ、この膜の膜面に垂直方向の
保磁力ＨＣ土は８５００ｅであった。これに対し、第４
図と構成が殆ど同一であるが、基板の移動方向を逆にし
てＣｏ−１Ｏｒ膜を形成した場合には、膜のＫｕ、ＨＣ
土はそれぞれ３ Ｘ １０５ｅｒｇ ／ ＣＣおよび７
０００ｅであり、本発明の方法で作製した膜よりも特性
が悪かった０以上述べたように、本発明の方法によれば
特性の優れた長尺のｃｏ −（３ｒ垂直磁化膜が容易に
得られる。
第１図は真空蒸着装置め概略を示す図、第２図は本発明
による製造方法を説明するための図、第３図はＧｏ−Ｏ
ｒ蒸着膜の垂直磁気異方性定数Ｋｕと蒸着時の基板温度
Ｔｓｕｂとの関係を示す図、第４図は二源蒸着装置の概
略を示す図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・同筒状キャン、６
・・・・・Ｃ０−Ｃｒ合金材料、６，２３．２４・・・
・・・電子銃、７こφ二 ・・・・・・電子ビーム、２１・・・・・・０ｒ４Ｊ料
、２２ＣＯ材料。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 故 男 ほか１名第１
図 第２図 第３図 丁Ｓυｂ（″’Ｃ１
による製造方法を説明するための図、第３図はＧｏ−Ｏ
ｒ蒸着膜の垂直磁気異方性定数Ｋｕと蒸着時の基板温度
Ｔｓｕｂとの関係を示す図、第４図は二源蒸着装置の概
略を示す図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・同筒状キャン、６
・・・・・Ｃ０−Ｃｒ合金材料、６，２３．２４・・・
・・・電子銃、７こφ二 ・・・・・・電子ビーム、２１・・・・・・０ｒ４Ｊ料
、２２ＣＯ材料。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 故 男 ほか１名第１
図 第２図 第３図 丁Ｓυｂ（″’Ｃ１
Claims (1)
- ＣＯとＯｒを主成分とし膜面に垂直方向に磁化容易軸を
有する磁性層を、移動しつつある基板上に電子ビーム蒸
発源を用いた真空蒸着法により形成し、かつその際に、
電子ビームのＧｏ−Ｏｒ合金材料あるいはＣＯ拐材料の
飛来方向の水平成分の向きと、上記基板の移動方向の水
平成分の向きとか反対になるようにすることを特徴とす
る垂直磁気記録用媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13083082A JPS5922234A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | 垂直磁気記録用媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13083082A JPS5922234A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | 垂直磁気記録用媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5922234A true JPS5922234A (ja) | 1984-02-04 |
| JPH0334614B2 JPH0334614B2 (ja) | 1991-05-23 |
Family
ID=15043694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13083082A Granted JPS5922234A (ja) | 1982-07-27 | 1982-07-27 | 垂直磁気記録用媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5922234A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61196441A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-08-30 | Canon Inc | 記録媒体の成膜法 |
| JPS61196442A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-08-30 | Canon Inc | 記録媒体の成膜法 |
-
1982
- 1982-07-27 JP JP13083082A patent/JPS5922234A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61196441A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-08-30 | Canon Inc | 記録媒体の成膜法 |
| JPS61196442A (ja) * | 1985-02-27 | 1986-08-30 | Canon Inc | 記録媒体の成膜法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0334614B2 (ja) | 1991-05-23 |
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