JPS62295219A - 垂直磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

垂直磁気記録媒体の製造方法

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JPS62295219A
JPS62295219A JP13798986A JP13798986A JPS62295219A JP S62295219 A JPS62295219 A JP S62295219A JP 13798986 A JP13798986 A JP 13798986A JP 13798986 A JP13798986 A JP 13798986A JP S62295219 A JPS62295219 A JP S62295219A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
evaporation
source
film
evaporating source
magnetic recording
Prior art date
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Pending
Application number
JP13798986A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Katahira
片平 拓
Riichi Tanaka
田中 利一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
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  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3、発明の詳細な説明 〔産業上の利用分野〕 本発明は、記録媒体磁性面に対して垂直方向の残留磁化
を利用して信号記録を行う、いわゆる垂直磁気記録方式
において使用される垂直磁気記録媒体の製造方法に関す
るものであり、詳細には二源蒸着法によるCo−Cr垂
直磁気記録媒体の作製技術に関するものである。
〔発明の概要〕
本発明は、非磁性支持体上に二源1着法によりCo−C
r磁性膜を形成するに際し、Cr蒸発源を板状蒸発源と
することにより、 Co−Cr合金組成の制御精度を改善し特に長尺状の垂
直磁気記録媒体の組成ムラの抑制を図ろうとするもので
ある。
〔従来の技術〕
従来、磁気記録の分野においては高密度記録化や短波長
記録化等が要望され、これに応えるべく垂直磁気記録方
式が提案され、開発が進められていることは周知である
上記垂直磁気記録方式によれば、記録波長が短波長にな
るに従い反磁界が小さくなり、したがって短波長記録を
行った際に残留磁束密度が減衰し再生出力が低下すると
いう虞れがなくなり、高密度記録化という点で面内方向
磁化による記録方式よりも有利である。
ところで、この垂直磁気記録方式に使用する垂直磁気記
録媒体の磁性層は、膜面に対して垂直方向に磁化容品軸
を有することが必要であり、例えばCo−Cr合金薄膜
に代表される垂直異方性膜の連続作製が試みられている
この場合、垂直異方性膜の作製方法としては、スパッタ
リング法や真空蒸着法が代表的なものであるが、特に真
空蒸着法によれば成膜速度を大きくすることができ、生
産性の点で有利である。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、真空蒸着法においてCo−Cr合金を蒸
発源とする通常の方法では、Crの蒸気圧がCoの蒸気
圧と比べて6〜7倍大きいことから、膜組成が蒸発源組
成からずれ、しがもそのずれの程度は蒸発の経過と共に
変化することが知られている。したがって、長尺状の媒
体を作製するとその長手方向で組成が変化し、それに伴
って飽和磁化、保磁力、磁気異方性等の磁気特性が変化
する等、磁気記録媒体として好ましいものではない。C
OCr合金を蒸着源とする場合の上記難点を避けるため
、いわゆるロンドライード法等も提案されているが、フ
ィード速度や投入電力等の条件の設定が難しい。
一方、Co−Cr膜の膜組成を制御するにコよ、Coと
Crを別々の蒸発源から独立に蒸発速度を制御して蒸発
させる所謂二源蒸着法が原理的に優れていると言われて
いる。ところが、本発明者等の実験によれば、Crは昇
華性物質であるため、通常の入手形態である粒状のCr
蒸発源を用いたのでは蒸発速度を安定に制御することが
できないことが判明した。したがって、粒状のCr蒸発
源を用いた真空蒸着法では、膜組成の制御を充分に行う
ことも困難である。
そこで本発明は、かかる従来の実情に鑑みて提案された
ものであって、膜組成の朋I御状態の改善を図り、膜の
厚み方向の組成ムラ、長手方向の組成ムラが少なく、磁
気特性の均一性に優れた垂直磁気記録媒体の製造方法を
提供することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明者等は、上述の目的を達成せんものと鋭意研究の
結果、Cr蒸発源の形態が蒸発状態に影響を及ぼしてい
るとの結論を得るに至った0本発明はこのような知見に
基づいて完成されたものであって、非磁性支持体上に二
a蒸着法によりC。
−Cr磁性膜を形成するに際し、Cr蒸発源を板状蒸発
源としたことを特徴とするものである。
ここで、板状蒸発源とは、それぞれがス発a総面積の1
/10以上の面積を有する蒸発源を言うものとする。
〔作用〕
第1図に示すように、蒸発面の法線と角ψをなし、蒸発
a(1)から距^ilrだけ離れ、蒸発分子の方向と法
線がθだけ傾いた基板(2)面に付着する単位面積当た
りの物質の質量m、は、下記の(1)式によって与えら
れる。
πr2 (但し、Sは付着係数を表し、M8は蒸発した物質の全
質量である。) したがって、基板(2)上の位置が決まっても、蒸発a
 (1)に対する傾きψが変化すれば付着量m。
は変化することになる。そこで、板状の1発源を用いて
傾きψを常に一定に保つことによってCrの蒸発量を一
定に保とうとするのが本発明の趣旨である。板状蒸発源
の具体的な形としては、傾きψをなるべく一定にするも
のが良く、本発明者等の実験によれば蒸着源(,8面積
のl/10以上の面積を有する板状Cr蒸発源を使用す
れば良いことがわかった。
これに対して、粒状のCr蒸発源を使用した場合には、
傾きψが分布しており、また蒸発の進行に伴って傾きψ
の分布状態が変化することが安定な蒸発状態が得られな
い理由であると考えられる。
(実施例) 以下、具体的な実験結果に基づいて本発明を説明するが
、本発明がこれに限定されるものでないことは言うまで
もない。
先ず、粒状Cr蒸発源と板状Cr蒸発源を用い、電子線
加熱方式でCrを蒸発(昇華)させ、蒸発速度制御をセ
ンチネル200 (Inficon社製)で行いながら
、蒸発速度を310人/secに設定したときの蒸発速
度の制御状態(蒸発速度のバラツキ)を調べた。結果を
次表に示す。
表 表より、板状のCr蒸発源を用いることによって蒸発速
度の制御状態が改善されたことがわがつた。
次に、CoとCrの二源1着法によってCo−Cr合金
膜を作製したときに、蒸発速度比(Crの蒸発速度(設
定値)とCOとCrの蒸発速度の和(設定値)の比〕と
得られるCo−Cr合金膜中のCr量(重量%)との関
係を調べた。なお、得られたCo−Cr合金膜の膜組成
は、EP八へA法(Electron Probe M
icro−Analysis)によって分析した。結果
を第2図に示す。
第2図において、・は板状Cr蒸発源を使用した場゛合
を、Cは粒状Cr蒸発源を使用した場合をそれぞれ示す
。この第2回より、板状のCr蒸発源を蒸発源として用
いることにより、蒸発速度比に対する膜組成のバラツキ
が大幅に改善されたことがわかった。
〔発明の効果〕
以上の説明からも明らかなように、本発明においては、
Co−Cr合金膜を二源窯着するに際し、Cr蒸発源を
板状蒸発源としているので、Crの蒸発状態が大幅に改
善され、得られるCo−Cr合金膜は膜組成の均一性に
優れたものとなる。したがって本発明によれば、磁気特
性の均一性に優れた垂直磁気記録媒体の作製が可能であ
る。特に、長尺状の垂直磁気記録媒体を作製する場合に
長手方向の組成ムラが少なくなり、効果が高い。
【図面の簡単な説明】
第1図は基板面における蒸発分子の入射方向を説明する
模式図であり、第2図は蒸発速度比と得られるCo−C
r合金膜の膜組成の関係を板状蒸発源を使用した場合と
粒状藩発源を使用した場合とを比較して示す特性図であ
る。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】  非磁性支持体上に二源蒸着法によりCo−Cr磁性膜
    を形成するに際し、 Cr蒸発源を板状蒸発源としたことを特徴とする垂直磁
    気記録媒体の製造方法。
JP13798986A 1986-06-13 1986-06-13 垂直磁気記録媒体の製造方法 Pending JPS62295219A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1993023586A1 (en) * 1992-05-11 1993-11-25 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Vapor deposition material and production method thereof

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