JPH05120680A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH05120680A JPH05120680A JP30678091A JP30678091A JPH05120680A JP H05120680 A JPH05120680 A JP H05120680A JP 30678091 A JP30678091 A JP 30678091A JP 30678091 A JP30678091 A JP 30678091A JP H05120680 A JPH05120680 A JP H05120680A
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- Japan
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- recording medium
- magnetic
- magnetic recording
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
非磁性基体上に電子ビーム連続蒸着法によって金属薄膜
の磁性層を形成することからなる磁気記録媒体の製造方
法において、該非磁性基体表面内で非磁性基体走行方向
と直角方向の金属膜厚分布を電子ビーム照射時間で制御
し、非磁性基体走行方向の金属膜厚分布を非磁性基体巻
取速度で制御することにより、媒体の長手方向の膜厚分
布が均一な磁気記録媒体を製造することができる。酸素
を導入しながら蒸着を行う場合、膜厚分布が均一なため
に、酸素含有量も媒体の長手方向に沿って均一となり、
その結果、長手方向に沿って一定の保磁力を有する磁気
記録媒体が得られる。
の磁性層を形成することからなる磁気記録媒体の製造方
法において、該非磁性基体表面内で非磁性基体走行方向
と直角方向の金属膜厚分布を電子ビーム照射時間で制御
し、非磁性基体走行方向の金属膜厚分布を非磁性基体巻
取速度で制御することにより、媒体の長手方向の膜厚分
布が均一な磁気記録媒体を製造することができる。酸素
を導入しながら蒸着を行う場合、膜厚分布が均一なため
に、酸素含有量も媒体の長手方向に沿って均一となり、
その結果、長手方向に沿って一定の保磁力を有する磁気
記録媒体が得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体の製造方法
に関する。更に詳細には、本発明は金属薄膜の膜厚分布
が均一な磁気記録媒体の製造方法に関する。
に関する。更に詳細には、本発明は金属薄膜の膜厚分布
が均一な磁気記録媒体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来から一般に普及している磁気記録媒
体は、針状の磁性粉と高分子結合剤とを主体とする磁性
塗料を非磁性基体上に塗布して磁性層を形成した塗布型
の磁気記録媒体である。現在、磁気記録再生装置はます
ます高密度化の傾向にあり、短波長記録特性に優れた磁
気記録媒体が要望されている。
体は、針状の磁性粉と高分子結合剤とを主体とする磁性
塗料を非磁性基体上に塗布して磁性層を形成した塗布型
の磁気記録媒体である。現在、磁気記録再生装置はます
ます高密度化の傾向にあり、短波長記録特性に優れた磁
気記録媒体が要望されている。
【０００３】しかし、塗布型磁気記録媒体における短波
長記録特性の改善には限界がある。これに対して、Ｃ
ｏ，ＣｏＮｉ，ＣｏＮｉＰ，ＣｏＣｒなどのＣｏを主成
分とする強磁性体を真空蒸着法によって長尺テープから
なる非磁性基体上に形成する金属薄膜型の磁気記録媒体
は、その磁性層中に非磁性の結合剤が混入されていない
ので著しく高い残留磁束密度を得ることができ、かつ、
磁性層を極めて薄く形成することができるために、高出
力で短波長応答性に優れているという利点を有する。こ
の特徴により、最近は金属薄膜型磁気記録媒体が磁気媒
体の主流となりつつある。
長記録特性の改善には限界がある。これに対して、Ｃ
ｏ，ＣｏＮｉ，ＣｏＮｉＰ，ＣｏＣｒなどのＣｏを主成
分とする強磁性体を真空蒸着法によって長尺テープから
なる非磁性基体上に形成する金属薄膜型の磁気記録媒体
は、その磁性層中に非磁性の結合剤が混入されていない
ので著しく高い残留磁束密度を得ることができ、かつ、
磁性層を極めて薄く形成することができるために、高出
力で短波長応答性に優れているという利点を有する。こ
の特徴により、最近は金属薄膜型磁気記録媒体が磁気媒
体の主流となりつつある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】金属薄膜型磁気記録媒
体は例えば、電子ビーム蒸着により製造することができ
る。優れた高出力性と短波長応答性を得るために、金属
薄膜型磁気記録媒体では薄膜の膜厚分布ができるだけ均
一でなければならない。従来、この種の磁気記録媒体の
製造においては、非磁性基体走行方向の膜厚を電子ビー
ムのパワーによって制御していた。
体は例えば、電子ビーム蒸着により製造することができ
る。優れた高出力性と短波長応答性を得るために、金属
薄膜型磁気記録媒体では薄膜の膜厚分布ができるだけ均
一でなければならない。従来、この種の磁気記録媒体の
製造においては、非磁性基体走行方向の膜厚を電子ビー
ムのパワーによって制御していた。
【０００５】しかし、このような方法では、電子ビーム
のパワーを変化させてから実際に膜厚が変化するまでの
応答時間が長過ぎるために、制御方法が複雑になり、膜
厚変動も大きく、均一な膜厚分布を有する磁気記録媒媒
体を製造することが困難であった。また、電子銃による
電子ビームパワーは作業する日によりしばしば変動し、
前日の電子銃操作条件を当日そのまま使用しても、前日
と全く異なる成膜結果になることが度々経験されてい
る。
のパワーを変化させてから実際に膜厚が変化するまでの
応答時間が長過ぎるために、制御方法が複雑になり、膜
厚変動も大きく、均一な膜厚分布を有する磁気記録媒媒
体を製造することが困難であった。また、電子銃による
電子ビームパワーは作業する日によりしばしば変動し、
前日の電子銃操作条件を当日そのまま使用しても、前日
と全く異なる成膜結果になることが度々経験されてい
る。
【０００６】また、薄膜型磁気記録媒体では保磁力（Ｈ
ｃ）を高めるため、蒸着時に真空槽内に酸素ガスを導入
し、磁性体粒子間に酸化物を介在させる方法が提案され
ている。磁気記録媒体の磁性膜の膜厚にバラツキがある
と、Ｈｃも変動する。例えば、膜厚の厚い部分は磁性体
に対して酸素含有量が低くなるのでＨｃが低下し、一
方、膜厚の薄い部分は磁性体に対して酸素含有量が高く
なるのでＨｃが高くなる。このようなＨｃの変動は磁気
記録媒体の性能を低下させるので絶対に避けなければな
らない。
ｃ）を高めるため、蒸着時に真空槽内に酸素ガスを導入
し、磁性体粒子間に酸化物を介在させる方法が提案され
ている。磁気記録媒体の磁性膜の膜厚にバラツキがある
と、Ｈｃも変動する。例えば、膜厚の厚い部分は磁性体
に対して酸素含有量が低くなるのでＨｃが低下し、一
方、膜厚の薄い部分は磁性体に対して酸素含有量が高く
なるのでＨｃが高くなる。このようなＨｃの変動は磁気
記録媒体の性能を低下させるので絶対に避けなければな
らない。
【０００７】従って、本発明の目的は、均一な膜厚分布
を有し、それにより一定の保磁力を有する磁気記録媒体
の新規な製造方法を提供することである。
を有し、それにより一定の保磁力を有する磁気記録媒体
の新規な製造方法を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に、本発明では、非磁性基体上に電子ビーム連続蒸着法
によって金属薄膜の磁性層を形成することからなる磁気
記録媒体の製造方法において、該非磁性基体表面内で非
磁性基体走行方向と直角方向の金属膜厚分布を電子ビー
ム照射時間で制御し、非磁性基体走行方向の金属膜厚分
布を非磁性基体巻取速度で制御することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法を提供する。
に、本発明では、非磁性基体上に電子ビーム連続蒸着法
によって金属薄膜の磁性層を形成することからなる磁気
記録媒体の製造方法において、該非磁性基体表面内で非
磁性基体走行方向と直角方向の金属膜厚分布を電子ビー
ム照射時間で制御し、非磁性基体走行方向の金属膜厚分
布を非磁性基体巻取速度で制御することを特徴とする磁
気記録媒体の製造方法を提供する。
【０００９】金属薄膜磁性層の主成分はＣｏであること
が好ましい。この場合、Ｃｏ金属蒸気中に酸素ガスを導
入し、そのガスの流量を非磁性基体巻取速度に比例する
ように制御することが好ましい。
が好ましい。この場合、Ｃｏ金属蒸気中に酸素ガスを導
入し、そのガスの流量を非磁性基体巻取速度に比例する
ように制御することが好ましい。
【００１０】
【作用】前記のように、本発明の方法によれば、非磁性
基体走行方向の膜厚を非磁性基体巻取速度によって制御
するので、制御応答時間が短縮され、膜厚分布が均一に
なる。また、酸素導入量を非磁性基体巻取速度と比例さ
せることにより、磁性膜内のＣｏに対する酸素含有量が
一定になり、媒体の長手方向に沿って保磁力（Ｈｃ）が
殆ど変動しない優れた磁気記録媒体が得られる。
基体走行方向の膜厚を非磁性基体巻取速度によって制御
するので、制御応答時間が短縮され、膜厚分布が均一に
なる。また、酸素導入量を非磁性基体巻取速度と比例さ
せることにより、磁性膜内のＣｏに対する酸素含有量が
一定になり、媒体の長手方向に沿って保磁力（Ｈｃ）が
殆ど変動しない優れた磁気記録媒体が得られる。
【００１１】
【実施例】以下、実施例により本発明を更に詳細に説明
する。 実施例 図１に示されるような電子ビーム連続蒸着装置を使用し
て蒸着原反を作製した。すなわち、真空槽１において、
回転ドラム４に沿ってポリエチレンテレフタレート（Ｐ
ＥＴ）フィルム３を走行させながら、蒸発源６から防着
板９により入射角を５０°以上に制限して、電子銃１０
によりＣｏＮｉ（８０−２０）合金を膜厚２０００Åに
なるように蒸着した。この時、フィルム走行速度を図２
に示されるような回路で制御し、膜厚センサ８からの検
出信号出力に比例して変化させ、更に、同様に制御され
た量の酸素ガスをパイプ７から金属蒸気に吹き付けた。
する。 実施例 図１に示されるような電子ビーム連続蒸着装置を使用し
て蒸着原反を作製した。すなわち、真空槽１において、
回転ドラム４に沿ってポリエチレンテレフタレート（Ｐ
ＥＴ）フィルム３を走行させながら、蒸発源６から防着
板９により入射角を５０°以上に制限して、電子銃１０
によりＣｏＮｉ（８０−２０）合金を膜厚２０００Åに
なるように蒸着した。この時、フィルム走行速度を図２
に示されるような回路で制御し、膜厚センサ８からの検
出信号出力に比例して変化させ、更に、同様に制御され
た量の酸素ガスをパイプ７から金属蒸気に吹き付けた。
【００１２】図２の回路において、膜厚センサ出力信号
は回路１２に伝達される。回路１２で設定膜厚と膜厚セ
ンサ出力との差信号を検出し、その信号は回路１３、１
４、１５のＰＩＤ制御回路に伝達される。この制御回路
で膜厚が設定値になるように適当な制御電圧を発生し、
その信号は回路１６を経て、巻取りロール５の駆動電圧
制御信号として送出される。
は回路１２に伝達される。回路１２で設定膜厚と膜厚セ
ンサ出力との差信号を検出し、その信号は回路１３、１
４、１５のＰＩＤ制御回路に伝達される。この制御回路
で膜厚が設定値になるように適当な制御電圧を発生し、
その信号は回路１６を経て、巻取りロール５の駆動電圧
制御信号として送出される。
【００１３】本発明の方法では、巻取ロール５の速度が
高まる（すなわち、巻取ロール駆動電圧が増大する）場
合、真空槽１内の酸素流量を高めなければならない。一
方、巻取ロール５の速度が低下する（すなわち、巻取ロ
ール駆動電圧が低下する）場合、真空槽１内の酸素流量
を低めなければならない。従って、図２の回路におい
て、送出されたＰＩＤ制御回路出力はメインルートから
分岐され、回路１７に伝達される。この出力は、回路１
７で設定されている酸素流量と非磁性基体巻取り速度の
比例係数を乗算されて、酸素導入量調節バルブ駆動制御
信号として送出される。
高まる（すなわち、巻取ロール駆動電圧が増大する）場
合、真空槽１内の酸素流量を高めなければならない。一
方、巻取ロール５の速度が低下する（すなわち、巻取ロ
ール駆動電圧が低下する）場合、真空槽１内の酸素流量
を低めなければならない。従って、図２の回路におい
て、送出されたＰＩＤ制御回路出力はメインルートから
分岐され、回路１７に伝達される。この出力は、回路１
７で設定されている酸素流量と非磁性基体巻取り速度の
比例係数を乗算されて、酸素導入量調節バルブ駆動制御
信号として送出される。
【００１４】比較例 フィルム走行速度を一定とし、膜厚センサ出力に比例す
るように電子銃出力を制御したこと以外は実施例と同様
にして磁気記録媒体を作製した。
るように電子銃出力を制御したこと以外は実施例と同様
にして磁気記録媒体を作製した。
【００１５】前記のようにして得られた各磁気記録媒体
の磁性膜の断面をＴＥＭにより観察し、膜厚分布を測定
した。図３に蒸着原反幅方向の膜厚分布を示す。この図
から明らかなように、原反幅方向の膜厚分布に関して
は、本発明の方法と比較例の方法との間に殆ど差はな
い。しかし、図４に示されるように、蒸着原反の長さ方
向（中央部基準）の膜厚分布の場合、本発明の方法によ
るとあまりバラツキがないが、比較例の方法では膜厚分
布が大きく変動する。
の磁性膜の断面をＴＥＭにより観察し、膜厚分布を測定
した。図３に蒸着原反幅方向の膜厚分布を示す。この図
から明らかなように、原反幅方向の膜厚分布に関して
は、本発明の方法と比較例の方法との間に殆ど差はな
い。しかし、図４に示されるように、蒸着原反の長さ方
向（中央部基準）の膜厚分布の場合、本発明の方法によ
るとあまりバラツキがないが、比較例の方法では膜厚分
布が大きく変動する。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
非磁性基体走行方向と直角方向の膜厚を電子ビーム照射
時間で制御し、非磁性基体走行方向の膜厚制御を非磁性
基体巻取速度で行うことからなる簡単な制御方法によ
り、媒体の長手方向の膜厚分布が均一な磁気記録媒体を
製造することができる。酸素を導入しながら蒸着を行う
場合、膜厚分布が均一なために、酸素含有量も媒体の長
手方向に沿って均一となり、その結果、長手方向に沿っ
て一定の保磁力を有する磁気記録媒体が得られる。
非磁性基体走行方向と直角方向の膜厚を電子ビーム照射
時間で制御し、非磁性基体走行方向の膜厚制御を非磁性
基体巻取速度で行うことからなる簡単な制御方法によ
り、媒体の長手方向の膜厚分布が均一な磁気記録媒体を
製造することができる。酸素を導入しながら蒸着を行う
場合、膜厚分布が均一なために、酸素含有量も媒体の長
手方向に沿って均一となり、その結果、長手方向に沿っ
て一定の保磁力を有する磁気記録媒体が得られる。
【図１】本発明の方法を実施するのに使用できる電子ビ
ーム式真空蒸着装置の一例の模式的構成図である。
ーム式真空蒸着装置の一例の模式的構成図である。
【図２】非磁性基体長手方向の膜厚制御を行うための回
路の一例のブロック図である。
路の一例のブロック図である。
【図３】実施例および比較例で得られた蒸着原反の幅方
向における膜厚分布を示すグラフ図である。
向における膜厚分布を示すグラフ図である。
【図４】実施例および比較例で得られた蒸着原反の長手
方向における膜厚分布を示すグラフ図である。
方向における膜厚分布を示すグラフ図である。
１ 真空槽 ２ 巻出ロール ３ ＰＥＴフィルム ４ 回転ドラム ５ 巻取ロール ６ 蒸発源 ７ 酸素導入パイプ ８ 膜厚センサ ９ 防着板 １０ 電子銃
Claims (3)
- 【請求項１】 非磁性基体上に電子ビーム連続蒸着法に
よって金属薄膜の磁性層を形成することからなる磁気記
録媒体の製造方法において、該非磁性基体表面内で非磁
性基体走行方向と直角方向の金属膜厚分布を電子ビーム
照射時間で制御し、非磁性基体走行方向の金属膜厚分布
を非磁性基体巻取速度で制御することを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。 - 【請求項２】 前記金属薄膜磁性層の主成分がＣｏであ
る請求項１の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 金属蒸気中に酸素ガスを導入し、該酸素
ガスの流量を非磁性基体巻取速度に比例するように制御
する請求項１の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30678091A JPH05120680A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30678091A JPH05120680A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05120680A true JPH05120680A (ja) | 1993-05-18 |
Family
ID=17961176
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30678091A Pending JPH05120680A (ja) | 1991-10-25 | 1991-10-25 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05120680A (ja) |
-
1991
- 1991-10-25 JP JP30678091A patent/JPH05120680A/ja active Pending
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20010313 |