JPH06176360A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH06176360A JPH06176360A JP4324092A JP32409292A JPH06176360A JP H06176360 A JPH06176360 A JP H06176360A JP 4324092 A JP4324092 A JP 4324092A JP 32409292 A JP32409292 A JP 32409292A JP H06176360 A JPH06176360 A JP H06176360A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/225—Oblique incidence of vaporised material on substrate
-
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- C23C14/24—Vacuum evaporation
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Metallurgy (AREA)
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- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 蒸着による磁気記録媒体の製造方法におい
て、再生出力および蒸着効率を低下させることなく、高
い保磁力の磁気記録媒体を製造する。 【構成】 蒸発粒子３ａがベースフイルム10ａに最大入
射角θmax で入射する際のベースフイルム10ａと蒸発源
３との距離ｒ（θmax ）と、最小入射角θminで入射す
る際の距離ｒ（θmin ）とが下記条件式(1) を満足する
ように設定する。 0.25≦（ｒ（θmin ）／
ｒ（θmax ））2 (1) ベースフイルム10ａが矢印方向に搬送されるされる間
に、ベースフイルム10ａ上に蒸着する蒸発粒子３ａは、
ベースフイルム10ａに近い部分と遠い部分とでほぼ均一
の蒸着量の柱状粒子に成長する。
て、再生出力および蒸着効率を低下させることなく、高
い保磁力の磁気記録媒体を製造する。 【構成】 蒸発粒子３ａがベースフイルム10ａに最大入
射角θmax で入射する際のベースフイルム10ａと蒸発源
３との距離ｒ（θmax ）と、最小入射角θminで入射す
る際の距離ｒ（θmin ）とが下記条件式(1) を満足する
ように設定する。 0.25≦（ｒ（θmin ）／
ｒ（θmax ））2 (1) ベースフイルム10ａが矢印方向に搬送されるされる間
に、ベースフイルム10ａ上に蒸着する蒸発粒子３ａは、
ベースフイルム10ａに近い部分と遠い部分とでほぼ均一
の蒸着量の柱状粒子に成長する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、蒸着による磁気テープ
等の磁気記録媒体の製造方法に関し、詳細には加熱蒸発
された蒸着材料の蒸発粒子を、円筒状の冷却キャンの周
壁に沿わせて搬送される帯状の基板部材に連続的に蒸着
することにより磁気記録媒体を製造する方法の改良に関
するものである。
等の磁気記録媒体の製造方法に関し、詳細には加熱蒸発
された蒸着材料の蒸発粒子を、円筒状の冷却キャンの周
壁に沿わせて搬送される帯状の基板部材に連続的に蒸着
することにより磁気記録媒体を製造する方法の改良に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より磁気テープ等の磁気記録媒体に
記録し得る情報量の増大化および高音質化、高画質化が
要望されていて、この要望に応えるためには高密度記録
が必要であることは周知のとおりである。
記録し得る情報量の増大化および高音質化、高画質化が
要望されていて、この要望に応えるためには高密度記録
が必要であることは周知のとおりである。
【０００３】近年この高密度記録を行なう磁気記録媒体
として蒸着テープが開発されて、Ｈｉ８ＭＥテープとし
て実用化されている。この蒸着テープはＰＥＴ（ポリエ
チレンテレフタレート）やＰＥＮ（ポリエチレンナフタ
レート）などの基板部材上に鉄、コバルト、ニッケル等
の強磁性金属を蒸着させたものであり、実行磁束密度Ｂ
ｍ、保磁力Ｈｃ、角型比ＳＱが大きく、また短波長領域
における電磁変換特性に優れ、さらに形成される磁性層
を薄くすることができるために記録減磁や再生時の厚み
損失を効果的に低減でき、さらにまた塗布型の磁気テー
プのように添加剤やバインダなどの介在物を含有してい
ないために磁性材料の充填密度を高めるなどの特長があ
る。
として蒸着テープが開発されて、Ｈｉ８ＭＥテープとし
て実用化されている。この蒸着テープはＰＥＴ（ポリエ
チレンテレフタレート）やＰＥＮ（ポリエチレンナフタ
レート）などの基板部材上に鉄、コバルト、ニッケル等
の強磁性金属を蒸着させたものであり、実行磁束密度Ｂ
ｍ、保磁力Ｈｃ、角型比ＳＱが大きく、また短波長領域
における電磁変換特性に優れ、さらに形成される磁性層
を薄くすることができるために記録減磁や再生時の厚み
損失を効果的に低減でき、さらにまた塗布型の磁気テー
プのように添加剤やバインダなどの介在物を含有してい
ないために磁性材料の充填密度を高めるなどの特長があ
る。
【０００４】そしてこの蒸着テープを製造する方法は通
常、るつぼに収容された鉄、コバルト、ニッケル等の強
磁性金属やこれらの合金等の蒸着材料を電子ビーム等の
加熱手段によって加熱蒸発させ、この蒸着材料の蒸発粒
子を、円筒状の冷却キャンの周壁に沿わせて搬送される
ＰＥＴやＰＥＮなどの高分子フイルムに、この高分子フ
イルムに対する蒸発粒子の入射角が大きい位置から小さ
い位置へ移動する間に連続的に蒸着することによって行
なわれている。
常、るつぼに収容された鉄、コバルト、ニッケル等の強
磁性金属やこれらの合金等の蒸着材料を電子ビーム等の
加熱手段によって加熱蒸発させ、この蒸着材料の蒸発粒
子を、円筒状の冷却キャンの周壁に沿わせて搬送される
ＰＥＴやＰＥＮなどの高分子フイルムに、この高分子フ
イルムに対する蒸発粒子の入射角が大きい位置から小さ
い位置へ移動する間に連続的に蒸着することによって行
なわれている。
【０００５】ところで蒸着テープの電磁変換特性におい
て保磁力Ｈｃをさらに向上させることは、特に再生信号
出力を増大させるために重要な課題である。
て保磁力Ｈｃをさらに向上させることは、特に再生信号
出力を増大させるために重要な課題である。
【０００６】そこで上述の蒸着による磁気テープの製造
方法において保磁力Ｈｃを向上させる方法が種々提案さ
れている。
方法において保磁力Ｈｃを向上させる方法が種々提案さ
れている。
【０００７】例えば特公平2-27732 号公報によれば、上
記高分子フイルムに対する蒸発粒子の入射角が小さい位
置近傍からＯ2 ガス等の酸化性ガスを蒸着部に吹き付け
て、コバルト−ニッケル合金の磁性層の表面に酸化膜を
形成させ、それによって保磁力Ｈｃを向上させることが
できる。
記高分子フイルムに対する蒸発粒子の入射角が小さい位
置近傍からＯ2 ガス等の酸化性ガスを蒸着部に吹き付け
て、コバルト−ニッケル合金の磁性層の表面に酸化膜を
形成させ、それによって保磁力Ｈｃを向上させることが
できる。
【０００８】また上記入射角の最小値（最小入射角）を
大きく設定することによって保磁力Ｈｃを向上させる方
法が知られている。
大きく設定することによって保磁力Ｈｃを向上させる方
法が知られている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記Ｏ2 ガス等
の酸化性ガスを蒸着部に吹き付けて保磁力を向上させる
製造方法によれば、保磁力は酸化性ガスの吹付量を増大
させるのに応じてアップするが、それとともに磁性層の
表面に形成される上記酸化膜の厚さも増大する。この厚
さの増大された酸化膜は、この上記磁性層に記録時およ
び再生時に当接するヘッドと磁性層との間の介在物とな
るため、出力の低下を招くという弊害を生ずる。
の酸化性ガスを蒸着部に吹き付けて保磁力を向上させる
製造方法によれば、保磁力は酸化性ガスの吹付量を増大
させるのに応じてアップするが、それとともに磁性層の
表面に形成される上記酸化膜の厚さも増大する。この厚
さの増大された酸化膜は、この上記磁性層に記録時およ
び再生時に当接するヘッドと磁性層との間の介在物とな
るため、出力の低下を招くという弊害を生ずる。
【００１０】また、蒸発粒子の最小入射角を大きく設定
して保磁力を向上させる製造方法によれば、最小入射角
を大きくするのに応じて、蒸着効率が低下し、また蒸発
粒子の上記高分子フイルムに付着する強度が低下して耐
久性が悪化するするという問題がある。例えば45°の最
小入射角を60°にすると、蒸着効率は45°のときの50％
以下まで低下する。
して保磁力を向上させる製造方法によれば、最小入射角
を大きくするのに応じて、蒸着効率が低下し、また蒸発
粒子の上記高分子フイルムに付着する強度が低下して耐
久性が悪化するするという問題がある。例えば45°の最
小入射角を60°にすると、蒸着効率は45°のときの50％
以下まで低下する。
【００１１】本発明の目的は上記事情に鑑みなされたも
のであって、出力および蒸着効率を低下させることなく
保磁力を向上させる、磁気記録媒体の製造方法を提供す
ることにある。
のであって、出力および蒸着効率を低下させることなく
保磁力を向上させる、磁気記録媒体の製造方法を提供す
ることにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体の
製造方法は、るつぼに収容された蒸着材料を電子ビーム
等の加熱手段により加熱蒸発させ、この加熱蒸発された
蒸着材料の蒸発粒子を、円筒状の冷却キャンの周壁に沿
わせて搬送される帯状の基板部材に、この基板部材が冷
却キャンの周壁に沿って、この基板部材に対する上記蒸
発粒子の入射角が大きい位置から入射角が小さい位置へ
移動する間に、連続的に蒸着する磁気記録媒体の製造方
法において、上記蒸発粒子が上記冷却キャン上の基板部
材に対して、通常40°〜50°程度の最小入射角で入射す
る際の基板部材と上記るつぼに収容された蒸着材料との
距離ｒ（θmin ）と、通常90°程度の最大入射角で入射
する際の、通常300 〜７００ ｍｍ程度の、基板部材と
上記るつぼに収容された蒸着材料との距離ｒ（θｍａｘ
）とが下記条件式(1) を満足するように設定すること
を特徴とするものである。
製造方法は、るつぼに収容された蒸着材料を電子ビーム
等の加熱手段により加熱蒸発させ、この加熱蒸発された
蒸着材料の蒸発粒子を、円筒状の冷却キャンの周壁に沿
わせて搬送される帯状の基板部材に、この基板部材が冷
却キャンの周壁に沿って、この基板部材に対する上記蒸
発粒子の入射角が大きい位置から入射角が小さい位置へ
移動する間に、連続的に蒸着する磁気記録媒体の製造方
法において、上記蒸発粒子が上記冷却キャン上の基板部
材に対して、通常40°〜50°程度の最小入射角で入射す
る際の基板部材と上記るつぼに収容された蒸着材料との
距離ｒ（θmin ）と、通常90°程度の最大入射角で入射
する際の、通常300 〜７００ ｍｍ程度の、基板部材と
上記るつぼに収容された蒸着材料との距離ｒ（θｍａｘ
）とが下記条件式(1) を満足するように設定すること
を特徴とするものである。
【００１３】 0.25≦（ｒ（θmin ）／ｒ（θmax ））2 (1) 上記入射角とは、上記冷却キャンの周壁に沿わせた基板
部材の上記蒸発粒子が付着した付着点における、基板部
材の法線と蒸発粒子の入射線との角度を意味する。
部材の上記蒸発粒子が付着した付着点における、基板部
材の法線と蒸発粒子の入射線との角度を意味する。
【００１４】
【作用および発明の効果】蒸着による磁気記録媒体の製
造方法によれば、電子ビーム等の加熱手段によって加熱
蒸発された蒸発粒子は、最初基板部材に対して大きい入
射角で入射して付着する。つまり最初に付着した蒸発粒
子は基板部材の移動方向に対してほぼ０°の角度で付着
する。蒸発粒子は冷却キャンの周壁に沿って搬送される
基板部材に連続的に付着するが、微視的には最初に付着
した蒸発粒子上に次々に蒸発材料が堆積して柱状粒子を
形成していく。そしてこの柱状粒子は、基板部材が冷却
キャンの周壁に沿って搬送されるのに従って、基板部材
上で基板部材の移動方向に対して垂直になるように成長
する。
造方法によれば、電子ビーム等の加熱手段によって加熱
蒸発された蒸発粒子は、最初基板部材に対して大きい入
射角で入射して付着する。つまり最初に付着した蒸発粒
子は基板部材の移動方向に対してほぼ０°の角度で付着
する。蒸発粒子は冷却キャンの周壁に沿って搬送される
基板部材に連続的に付着するが、微視的には最初に付着
した蒸発粒子上に次々に蒸発材料が堆積して柱状粒子を
形成していく。そしてこの柱状粒子は、基板部材が冷却
キャンの周壁に沿って搬送されるのに従って、基板部材
上で基板部材の移動方向に対して垂直になるように成長
する。
【００１５】ところでこの蒸発粒子が入射角度θにおい
て基板部材に付着する付着量Ｍは一般に下記式(2) によ
って与えられる。
て基板部材に付着する付着量Ｍは一般に下記式(2) によ
って与えられる。
【００１６】 Ｍ＝k ×（cos n φ）×（cos θ）×Ｔ4 ／ｒ2 (2) ただし、k ; 定数、n ；加熱手段の種類によって決定さ
れる定数 φ; 蒸着材料から蒸発粒子が拡散する角度 Ｔ; 蒸発材料の温度、 ｒ; 基板部材とるつぼに収容された蒸着材料との距離ｒ 上記式(2) により上記柱状粒子の形状は、蒸発粒子の、
基板部材に最小入射角θmin で入射したときの付着量Ｍ
（θmin ）が多量で、また基板部材に最大入射角θmax
で入射したときの付着量Ｍ（θmax ）が少量であるた
め、基板部材に近い部分が細く、基板部材から遠い部分
が太いティアドロップ形状となる。
れる定数 φ; 蒸着材料から蒸発粒子が拡散する角度 Ｔ; 蒸発材料の温度、 ｒ; 基板部材とるつぼに収容された蒸着材料との距離ｒ 上記式(2) により上記柱状粒子の形状は、蒸発粒子の、
基板部材に最小入射角θmin で入射したときの付着量Ｍ
（θmin ）が多量で、また基板部材に最大入射角θmax
で入射したときの付着量Ｍ（θmax ）が少量であるた
め、基板部材に近い部分が細く、基板部材から遠い部分
が太いティアドロップ形状となる。
【００１７】本発明の磁気記録媒体の製造方法によれ
ば、上記冷却キャン上の基板部材に対して、最小入射角
θmin で入射する際の基板部材と上記るつぼに収容され
た蒸着材料との距離ｒ（θmin ）と、最大入射角θmax
で入射する際の基板部材と上記るつぼに収容された蒸着
材料との距離ｒ（θmax ）とを上記条件式(1) を満足す
るように設定することにより、上記蒸発粒子の、基板部
材に最小入射角θmin で入射したときの付着量Ｍ（θmi
n ）を減少させ、また基板部材に最大入射角θmax で入
射したときの付着量Ｍ（θmax ）を増大させて上記柱状
粒子の形状を、基板部材に近い部分と、基板部材から遠
い部分との付着量が均一化された形状にする。上述の作
用により付着量の均一化された形状の柱状粒子からなる
磁性層は、上記ティアドロップ形状の柱状粒子からなる
磁性層よりも保磁力が高いことが実験により示されてい
る。
ば、上記冷却キャン上の基板部材に対して、最小入射角
θmin で入射する際の基板部材と上記るつぼに収容され
た蒸着材料との距離ｒ（θmin ）と、最大入射角θmax
で入射する際の基板部材と上記るつぼに収容された蒸着
材料との距離ｒ（θmax ）とを上記条件式(1) を満足す
るように設定することにより、上記蒸発粒子の、基板部
材に最小入射角θmin で入射したときの付着量Ｍ（θmi
n ）を減少させ、また基板部材に最大入射角θmax で入
射したときの付着量Ｍ（θmax ）を増大させて上記柱状
粒子の形状を、基板部材に近い部分と、基板部材から遠
い部分との付着量が均一化された形状にする。上述の作
用により付着量の均一化された形状の柱状粒子からなる
磁性層は、上記ティアドロップ形状の柱状粒子からなる
磁性層よりも保磁力が高いことが実験により示されてい
る。
【００１８】本発明の磁気記録媒体の製造方法によれ
ば、上述のように、酸化膜等の介在物を形成することが
ないため出力の低下がなく、また蒸着効率を低下させる
こともなく保磁力を向上させることができる。
ば、上述のように、酸化膜等の介在物を形成することが
ないため出力の低下がなく、また蒸着効率を低下させる
こともなく保磁力を向上させることができる。
【００１９】
【実施例】以下図面を用いて本発明の実施例について説
明する。
明する。
【００２０】図１は、本発明の磁気記録媒体の製造方法
を実施する具体的な製造装置を示す概略図、図２は蒸着
材料と基板部材との位置関係を示す詳細図である。
を実施する具体的な製造装置を示す概略図、図２は蒸着
材料と基板部材との位置関係を示す詳細図である。
【００２１】図示の蒸着装置１は、図示されないクライ
オポンプによって真空度1.0 ×10-4Torr以下まで排気さ
れたチャンバ11内に、巻出しロール６に巻き付けられた
ＰＥＴからなる帯状のベースフイルム10ａを懸架して矢
印方向に搬送する冷却キャン２、この冷却キャン２の下
方にＣｏ80Ｎｉ20合金などの蒸着材料３を収容したるつ
ぼ９、この蒸着材料３を加熱蒸発させる電子ビーム５を
射出する電子銃４が設けられている。さらに上記蒸着材
料３が蒸発された蒸発粒子３ａが、ベースフイルム10ａ
に入射する際の最小入射角θmin を略40°に規制する最
小入射角規制部材８ａと、最大入射角θmax を略90°に
規制する遮蔽部材８ｂとが、冷却キャン２に懸架された
ベースフイルム10ａを覆うように設けられている。また
上記るつぼ９は詳しくは図２に示すように、蒸発粒子３
ａがベースフイルム10ａに最大入射角θmax で入射する
際のベースフイルム10ａとるつぼ９に収容された蒸発材
料３ａとの距離ｒ（θmax ）と、最小入射角θmin で入
射する際のベースフイルム10ａとるつぼ９に収容された
蒸発粒子３ａとの距離ｒ（θmin ）とが下記条件式(1)
を満足する位置に設けられている。
オポンプによって真空度1.0 ×10-4Torr以下まで排気さ
れたチャンバ11内に、巻出しロール６に巻き付けられた
ＰＥＴからなる帯状のベースフイルム10ａを懸架して矢
印方向に搬送する冷却キャン２、この冷却キャン２の下
方にＣｏ80Ｎｉ20合金などの蒸着材料３を収容したるつ
ぼ９、この蒸着材料３を加熱蒸発させる電子ビーム５を
射出する電子銃４が設けられている。さらに上記蒸着材
料３が蒸発された蒸発粒子３ａが、ベースフイルム10ａ
に入射する際の最小入射角θmin を略40°に規制する最
小入射角規制部材８ａと、最大入射角θmax を略90°に
規制する遮蔽部材８ｂとが、冷却キャン２に懸架された
ベースフイルム10ａを覆うように設けられている。また
上記るつぼ９は詳しくは図２に示すように、蒸発粒子３
ａがベースフイルム10ａに最大入射角θmax で入射する
際のベースフイルム10ａとるつぼ９に収容された蒸発材
料３ａとの距離ｒ（θmax ）と、最小入射角θmin で入
射する際のベースフイルム10ａとるつぼ９に収容された
蒸発粒子３ａとの距離ｒ（θmin ）とが下記条件式(1)
を満足する位置に設けられている。
【００２２】 0.25≦（ｒ（θmin ）／ｒ（θmax ））2 (1) 次に本実施例の作用について説明する。
【００２３】図３はベースフイルムが冷却キャンの周壁
上を矢印方向に移動するに従って、上記ベースフイルム
上に蒸発粒子が蒸着する様子を示す作用説明図、図４は
蒸発粒子が成長して形成された柱状粒子からなる磁性層
の様子を示す詳細図である。
上を矢印方向に移動するに従って、上記ベースフイルム
上に蒸発粒子が蒸着する様子を示す作用説明図、図４は
蒸発粒子が成長して形成された柱状粒子からなる磁性層
の様子を示す詳細図である。
【００２４】電子ビーム５によって加熱蒸発された蒸発
粒子３ａは、微視的には図３(a) に示すように最初ベー
スフイルム10ａに対して大きい入射角θ1 で入射して付
着する。つまり最初に付着した蒸発粒子はベースフイル
ム10ａの移動方向に対して０°に近い角度で付着する。
そして蒸発粒子３ａは冷却キャン２の周壁に沿って搬送
されるベースフイルム10ａに連続的に付着するが、この
連続的に付着する蒸発粒子３ａは図３(b) 〜(e) に示す
ように、ベースフイルム10ａが矢印方向に搬送されるの
に従って、ベースフイルム10ａの移動方向に対して垂直
になるように、最初に付着した蒸発粒子上に次々に堆積
して柱状粒子３ｂを形成する。この柱状粒子３ｂの形状
は、蒸発粒子３ａがベースフイルム10ａに入射する入射
角度θごとの蒸発粒子３ａの付着量によって決定され、
その付着量は蒸発粒子３ａが入射角θでベースフイルム
10ａに入射する際のベースフイルム10ａと上記るつぼ９
に収容された蒸着材料３との距離ｒによって決定され
る。そのため、蒸発粒子３ａが最小入射角θmin で入射
する際のベースフイルム10ａと上記るつぼ９に収容され
た蒸着材料３との距離ｒ（θmin ）と、最大入射角θma
x で入射する際のベースフイルム10ａと上記るつぼ９に
収容された蒸着材料３との距離ｒ（θmax ）とが上記条
件式(1) を満足するように設定されている本実施例の装
置１により形成される柱状粒子３ｂの形状は、図４(a)
に示すようにベースフイルム10ａに近い部分と、ベース
フイルム10ａから遠い部分との付着量がほぼ均一化され
たものとなる。このように付着量の均一化された形状の
柱状粒子３ｂからなる磁性層10ｂは、ベースフイルム10
ａに近い部分の付着量が少なく、ベースフイルム10ａか
ら遠い部分の付着量が多い、図４(b) に示すような従来
のティアドロップ形状の柱状粒子３ｂ' からなる磁性層
10b'よりも保磁力が高い。
粒子３ａは、微視的には図３(a) に示すように最初ベー
スフイルム10ａに対して大きい入射角θ1 で入射して付
着する。つまり最初に付着した蒸発粒子はベースフイル
ム10ａの移動方向に対して０°に近い角度で付着する。
そして蒸発粒子３ａは冷却キャン２の周壁に沿って搬送
されるベースフイルム10ａに連続的に付着するが、この
連続的に付着する蒸発粒子３ａは図３(b) 〜(e) に示す
ように、ベースフイルム10ａが矢印方向に搬送されるの
に従って、ベースフイルム10ａの移動方向に対して垂直
になるように、最初に付着した蒸発粒子上に次々に堆積
して柱状粒子３ｂを形成する。この柱状粒子３ｂの形状
は、蒸発粒子３ａがベースフイルム10ａに入射する入射
角度θごとの蒸発粒子３ａの付着量によって決定され、
その付着量は蒸発粒子３ａが入射角θでベースフイルム
10ａに入射する際のベースフイルム10ａと上記るつぼ９
に収容された蒸着材料３との距離ｒによって決定され
る。そのため、蒸発粒子３ａが最小入射角θmin で入射
する際のベースフイルム10ａと上記るつぼ９に収容され
た蒸着材料３との距離ｒ（θmin ）と、最大入射角θma
x で入射する際のベースフイルム10ａと上記るつぼ９に
収容された蒸着材料３との距離ｒ（θmax ）とが上記条
件式(1) を満足するように設定されている本実施例の装
置１により形成される柱状粒子３ｂの形状は、図４(a)
に示すようにベースフイルム10ａに近い部分と、ベース
フイルム10ａから遠い部分との付着量がほぼ均一化され
たものとなる。このように付着量の均一化された形状の
柱状粒子３ｂからなる磁性層10ｂは、ベースフイルム10
ａに近い部分の付着量が少なく、ベースフイルム10ａか
ら遠い部分の付着量が多い、図４(b) に示すような従来
のティアドロップ形状の柱状粒子３ｂ' からなる磁性層
10b'よりも保磁力が高い。
【００２５】このように本実施例の装置１によれば、酸
化膜等の介在物を形成することがないため出力の低下が
なく、また蒸着効率を低下させることもなく保磁力を向
上させることができる。
化膜等の介在物を形成することがないため出力の低下が
なく、また蒸着効率を低下させることもなく保磁力を向
上させることができる。
【００２６】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、上記
実施例の態様に限るものではなく、例えば上記条件式
(1) を満足する、基板部材とるつぼに収容された蒸着材
料との距離を設定する方法としては、蒸発源の位置を変
動させる方法のほか、冷却キャンの直径を変化させる方
法を採ることができる。
実施例の態様に限るものではなく、例えば上記条件式
(1) を満足する、基板部材とるつぼに収容された蒸着材
料との距離を設定する方法としては、蒸発源の位置を変
動させる方法のほか、冷却キャンの直径を変化させる方
法を採ることができる。
【００２７】また上記最小入射角を規制する最小入射角
規制部から少量のＯ2 ガス等の酸化性ガスを蒸着部に吹
き付けて、コバルト−ニッケル合金の磁性層の表面に酸
化膜を形成させることができる。
規制部から少量のＯ2 ガス等の酸化性ガスを蒸着部に吹
き付けて、コバルト−ニッケル合金の磁性層の表面に酸
化膜を形成させることができる。
【００２８】以下、本実施例の装置１による具体的な実
験結果を示す。
験結果を示す。
【００２９】本実験は、チャンバ内の真空度が1.0 ×10
-4Torr以下の状態において、幅500mm 、厚さ６μm のＰ
ＥＴフイルムを、搬送スピード60ｍ／min で、直径800m
m 、温度-25 ℃に維持された冷却キャンの周壁に沿わせ
て搬送させた。そしてこのＰＥＴフイルムに蒸着させる
蒸着材料としてＣｏ80Ｎｉ20合金を用い、この蒸着材料
を蒸発面が750mm ×120mm のるつぼに収容し、これに出
力90〜100kW の電子ビームを走査した。るつぼの位置は
最大入射角が90°、最小入射角が45°になる位置に設置
した。さらに最低入射角規制部からＯ2 ガスを1.5slm導
入し、Ｃｏ・Ｎｉ−Ｏ膜を厚さ約2000Å成膜させた。
-4Torr以下の状態において、幅500mm 、厚さ６μm のＰ
ＥＴフイルムを、搬送スピード60ｍ／min で、直径800m
m 、温度-25 ℃に維持された冷却キャンの周壁に沿わせ
て搬送させた。そしてこのＰＥＴフイルムに蒸着させる
蒸着材料としてＣｏ80Ｎｉ20合金を用い、この蒸着材料
を蒸発面が750mm ×120mm のるつぼに収容し、これに出
力90〜100kW の電子ビームを走査した。るつぼの位置は
最大入射角が90°、最小入射角が45°になる位置に設置
した。さらに最低入射角規制部からＯ2 ガスを1.5slm導
入し、Ｃｏ・Ｎｉ−Ｏ膜を厚さ約2000Å成膜させた。
【００３０】そして上記蒸発源（るつぼに収容された蒸
着材料）の位置を、最大入射角が90°、最小入射角が45
°を維持させたうえで、蒸発粒子がＰＥＴフイルムに最
大入射角90°で入射する際のＰＥＴフイルムと蒸発源と
の距離ｒ（θmax ）と、最小入射角45°で入射する際の
ＰＥＴフイルムと蒸発源との距離ｒ（θmin ）との比の
自乗（ｒ（θmin ）／ｒ（θmax ））2 を種々変化させ
て、柱状粒子の形状を変化させた。なお、この柱状粒子
の形状の確認は、超薄切片解析によりその断面形状を観
察することによって行った。
着材料）の位置を、最大入射角が90°、最小入射角が45
°を維持させたうえで、蒸発粒子がＰＥＴフイルムに最
大入射角90°で入射する際のＰＥＴフイルムと蒸発源と
の距離ｒ（θmax ）と、最小入射角45°で入射する際の
ＰＥＴフイルムと蒸発源との距離ｒ（θmin ）との比の
自乗（ｒ（θmin ）／ｒ（θmax ））2 を種々変化させ
て、柱状粒子の形状を変化させた。なお、この柱状粒子
の形状の確認は、超薄切片解析によりその断面形状を観
察することによって行った。
【００３１】この実験の評価は、形成された磁性層の保
磁力Ｈｃを計測して行なった。
磁力Ｈｃを計測して行なった。
【００３２】表１に実験結果を示す。
【００３３】
【表１】
【００３４】上記のとおり本発明の磁気記録媒体の製造
方法により製造された磁気テープ（実験Ｎｏ．３、４、
５、６、７、８）は、従来の製造方法により製造された
磁気テープ（実験Ｎｏ．１、２）に対して、保磁力Ｈｃ
が向上したことが示された。
方法により製造された磁気テープ（実験Ｎｏ．３、４、
５、６、７、８）は、従来の製造方法により製造された
磁気テープ（実験Ｎｏ．１、２）に対して、保磁力Ｈｃ
が向上したことが示された。
【００３５】なお、保磁力Ｈｃを顕著に向上させるた
め、すなわち1000Ｏｅ以上の保磁力を得るため、上記
（ｒ（θmin ）／ｒ（θmax ））2 を0.3 以上とするこ
とが望ましい。
め、すなわち1000Ｏｅ以上の保磁力を得るため、上記
（ｒ（θmin ）／ｒ（θmax ））2 を0.3 以上とするこ
とが望ましい。
【図１】本発明の磁気記録媒体の製造方法を実施する具
体的な製造装置を示す概略図
体的な製造装置を示す概略図
【図２】蒸着材料と基板部材との位置関係を示す詳細図
【図３】ベースフイルム上に蒸発粒子が蒸着する様子を
示す作用説明図
示す作用説明図
【図４】蒸発粒子が成長して形成された柱状粒子からな
る磁性層の様子を示す詳細図
る磁性層の様子を示す詳細図
１ 蒸着装置 ２ 冷却キャン ３ 蒸着材料 ３ａ 蒸発粒子 ３ｂ、３ｂ' 柱状粒子 ４ 電子銃 ５ 電子ビーム ６ 巻出ロール ７ 巻取ロール ８ａ 最小入射角規制部材 ８ｂ 遮蔽部材 ９ るつぼ 10 蒸着テープ 10ａ ベースフイルム 10ｂ、10ｂ' 磁性層 11 チャンバ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成５年１月６日
【手続補正１】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図１
【補正方法】変更
【補正内容】
【図１】
【手続補正２】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図２
【補正方法】変更
【補正内容】
【図２】
Claims (1)
- 【請求項１】 るつぼに収容された蒸着材料を加熱蒸発
させ、該加熱蒸発された蒸着材料の蒸発粒子を、円筒状
の冷却キャンの周壁に沿わせて搬送される帯状の基板部
材に、該基板部材が該基板部材に対する前記蒸発粒子の
入射角が大きい位置から小さい位置へ移動する間に連続
的に蒸着する磁気記録媒体の製造方法において、 前記蒸発粒子が前記冷却キャン上の基板部材に対して、
最小入射角で入射する際の前記基板部材と前記るつぼに
収容された蒸着材料との距離ｒ（θmin ）と、最大入射
角で入射する際の前記基板部材と前記るつぼに収容され
た蒸着材料との距離ｒ（θmax ）とが下記条件式を満足
するように設定することを特徴とする磁気記録媒体の製
造方法。 0.25≦（ｒ（θmin ）／ｒ（θmax ））2
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4324092A JPH06176360A (ja) | 1992-12-03 | 1992-12-03 | 磁気記録媒体の製造方法 |
| DE4341319A DE4341319A1 (de) | 1992-12-03 | 1993-12-03 | Verfahren zum Herstellen eines magnetischen Aufzeichnungsmediums |
| US08/161,265 US5378496A (en) | 1992-12-03 | 1993-12-03 | Method of manufacturing magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4324092A JPH06176360A (ja) | 1992-12-03 | 1992-12-03 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06176360A true JPH06176360A (ja) | 1994-06-24 |
Family
ID=18162074
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4324092A Pending JPH06176360A (ja) | 1992-12-03 | 1992-12-03 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5378496A (ja) |
| JP (1) | JPH06176360A (ja) |
| DE (1) | DE4341319A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH087859B2 (ja) * | 1991-09-06 | 1996-01-29 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション | 磁気記録媒体及びその製造方法 |
| KR20150041321A (ko) * | 2013-10-08 | 2015-04-16 | 엘지이노텍 주식회사 | 자성시트 및 이를 포함하는 무선충전용 자성부재 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0227732A (ja) * | 1988-07-15 | 1990-01-30 | Nec Corp | 低抵抗配線接続加工方法 |
| JP3148835B2 (ja) * | 1990-04-21 | 2001-03-26 | 株式会社リコー | 感熱記録装置 |
| JP2594380B2 (ja) * | 1990-10-11 | 1997-03-26 | 松下電器産業株式会社 | 磁気記録媒体 |
-
1992
- 1992-12-03 JP JP4324092A patent/JPH06176360A/ja active Pending
-
1993
- 1993-12-03 US US08/161,265 patent/US5378496A/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-12-03 DE DE4341319A patent/DE4341319A1/de not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4341319A1 (de) | 1994-06-09 |
| US5378496A (en) | 1995-01-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 19990202 |